KR20190092275A - 투영 광학계, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법 - Google Patents

투영 광학계, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20190092275A
KR20190092275A KR1020190007383A KR20190007383A KR20190092275A KR 20190092275 A KR20190092275 A KR 20190092275A KR 1020190007383 A KR1020190007383 A KR 1020190007383A KR 20190007383 A KR20190007383 A KR 20190007383A KR 20190092275 A KR20190092275 A KR 20190092275A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
optical system
lens
projection optical
magnification
mirror
Prior art date
Application number
KR1020190007383A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102372650B1 (ko
Inventor
다카시 이케모토
Original Assignee
캐논 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 캐논 가부시끼가이샤 filed Critical 캐논 가부시끼가이샤
Publication of KR20190092275A publication Critical patent/KR20190092275A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102372650B1 publication Critical patent/KR102372650B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70275—Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B15/00—Optical objectives with means for varying the magnification
    • G02B15/14—Optical objectives with means for varying the magnification by axial movement of one or more lenses or groups of lenses relative to the image plane for continuously varying the equivalent focal length of the objective
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0626—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using three curved mirrors
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70141—Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70241—Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

물체면으로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상면에 결상시키는 투영 광학계이며, 상기 물체면과 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와, 상기 제2 평면거울과 상기 상면 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고, 상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고, 상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고, 상기 제1 방향에 평행인 제1 축 둘레로 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부와, 상기 제1 방향에 평행인 제2 축 둘레로 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 더 갖는 것을 특징으로 하는 투영 광학계를 제공한다.

Description

투영 광학계, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법{PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ARTICLE}
본 발명은 투영 광학계, 노광 장치, 및 물품의 제조 방법에 관한 것이다.
반도체 디바이스나 플랫 패널 디스플레이(FPD) 등의 디바이스는 포토리소그래피 공정을 거쳐 제조된다. 포토리소그래피 공정은, 마스크 또는 레티클(원판)의 패턴을, 레지스트(감광제)가 도포된 유리 플레이트나 웨이퍼 등의 기판에 투영하여, 이러한 기판을 노광하는 노광 공정을 포함한다. FPD의 제조에 있어서는, 반사경을 포함하는 투영 광학계(소위 오프너 광학계)를 갖는 노광 장치가 일반적으로 사용되고 있다.
노광 장치에서는, 복수의 포토리소그래피 공정을 통하여 기판 상에 복수의 패턴을 중첩하여 형성한다. 따라서 기판 상의 패턴에 대하여 마스크의 패턴을 고정밀도로 중첩하여 기판을 노광하는 것이 중요해진다. 단, 복수의 포토리소그래피 공정을 거침으로써 마스크나 기판이 신축하여 기판 상의 패턴과 마스크의 패턴 사이에 배율 오차가 생기는 경우가 있다. 이 경우, 기판 상에 복수의 패턴을 중첩하여 형성하면, 복수의 패턴 간에 중첩 오차가 생겨 버린다.
그래서, 이와 같은 배율 오차를, 비점수차의 발생을 억제하면서 보정하는 것이 가능한 투영 광학계가 일본 특허 제5595001호 공보에 제안되어 있다. 또한 부작용을 실질적으로 억제하면서 비점수차를 보정하는 것이 가능한 투영 광학계도 일본 특허 제4547714호 공보에 제안되어 있다.
그러나 일본 특허 제5595001호 공보에 개시된 투영 광학계는, 배율을 보정하는 방향(예를 들어 종횡 방향)의 비점수차의 발생을 억제할 수는 있지만, 배율을 보정하는 방향에 대하여 경사진 방향의 비점수차를 보정하지 못한다. 또한 일본 특허 제4547714호 공보에 개시된 투영 광학계는 오프너 광학계가 아니라 2회 결상계이기 때문에, 광학계 및 그것을 갖는 노광 장치의 대형화나 장치 점유 면적(풋프린트)의 확대 등을 초래해 버린다. 노광 장치에 이용되는 투영 광학계에는, 광학계를 대형화하는 일 없이 배율이나 비점수차를 고정밀도로 보정 가능할 것이 요구되고 있다.
본 발명은, 배율이나 비점수차를 보정하는 데 유리한 투영 광학계를 제공한다.
본 발명의 일 측면으로서의 투영 광학계는, 물체면으로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상면에 결상시키는 투영 광학계이며, 상기 물체면과 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와, 상기 제2 평면거울과 상기 상면 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고, 상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고, 상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고, 상기 제1 방향에 평행인 제1 축 둘레로 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부와, 상기 제1 방향에 평행인 제2 축 둘레로 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 더 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 추가적인 목적 또는 그 외의 측면은 이하, 첨부 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시 형태에 의하여 밝혀질 것이다.
본 발명에 의하면, 예를 들어 배율이나 비점수차를 보정하는 데 유리한 투영 광학계를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 있어서의 노광 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 2의 (a) 및 도 2의 (b)는 도 1에 도시하는 노광 장치의 제1 렌즈 군 및 제2 렌즈 군의 각각의 구성의 일례를 도시하는 도면이다.
도 3의 (a) 내지 도 3의 (c)는 도 1에 도시하는 노광 장치의 투영 광학계의 비점수차의 보정을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 형태에 있어서의 투영 광학계의 구성을 도시하는 개략도이다.
도 5는 도 2의 (a) 및 도 2의 (b)에 도시하는 투영 광학계의 제1 렌즈 군, 제2 렌즈 군 및 제3 렌즈 군 각각을 구동하였을 때 발생하는 비점수차 및 배율 성분의 발생량을 나타내는 도면이다.
도 6은 도 2의 (a) 및 도 2의 (b)에 도시하는 투영 광학계의 비점수차의 보정을 설명하기 위한 흐름도이다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태에 대하여 설명한다. 또한 각 도면에 있어서 동일한 부재에 대해서는 동일한 참조 번호를 붙여, 중복되는 설명은 생략한다.
<제1 실시 형태>
도 1은, 제1 실시 형태에 있어서의 노광 장치 EX의 구성을 도시하는 개략도이다. 노광 장치 EX는, 반도체 디바이스나 플랫 패널 디스플레이(FPD)의 제조 공정인 포토리소그래피 공정에 사용되는 리소그래피 장치이다. 노광 장치 EX는, 예를 들어 마스크(9)(원판)와 기판(17)을 동기하여 주사하여, 마스크(9)에 형성된 패턴을 기판(17)에 전사하는 주사형 노광 장치(스캐너)이다.
노광 장치 EX는, 도 1에 도시한 바와 같이 조명 광학계 IL과 투영 광학계 PO와 제어부 CU를 갖는다. 또한 노광 장치 EX는, 투영 광학계 PO의 물체면 OP에 배치된 마스크(9)를 보유 지지하고 이동 가능한 마스크 스테이지(도시하지 않음)와, 투영 광학계 PO의 상면 IP에 배치된 기판(17)을 보유 지지하고 이동 가능한 기판 스테이지(도시하지 않음)를 갖는다. 또한 본 실시 형태에서는 연직 방향으로 Z축(의 마이너스 방향)을 정의하고, Z축에 직교하고 또한 서로 직교하는 방향으로 X축 및 Y축을 정의한다. 본 실시 형태에서는 Y 방향은 주사 방향이고, X 방향은 주사 방향과 직교하는 방향이다.
제어부 CU는, 예를 들어 CPU나 메모리 등을 포함하는 컴퓨터(정보 처리 장치)로 구성되며, 기억부(도시하지 않음)에 기억된 프로그램에 따라 노광 장치 EX의 각 부를 통괄적으로 제어한다. 제어부 CU는, 기판(17)을 노광하는 노광 처리, 및 노광 처리에 관련되는 다양한 처리를 제어한다.
조명 광학계 IL은, 예를 들어 제1 집광 렌즈(3)와 플라이아이 렌즈(4)와 제2 집광 렌즈(5)와 슬릿 규정 부재(6)와 결상 광학계(7)와 평면 미러(8)를 포함하며, 광원 LS로부터의 광으로 마스크(9)를 조명한다. 광원 LS는, 예를 들어 수은 램프(1)와 타원 미러(2)를 포함한다. 슬릿 규정 부재(6)는 마스크(9)의 조명 범위(즉, 마스크(9)를 조명하는 슬릿 광의 단면 형상)을 규정한다. 결상 광학계(7)는 슬릿 규정 부재(6)에 의하여 규정되는 슬릿을 물체면 OP에 결상시키도록 배치되어 있다. 평면 미러(8)는 조명 광학계 IL에 있어서 광로를 절곡한다.
투영 광학계 PO는 마스크(9)의 패턴을 기판(17)에 투영하여 기판(17)을 노광한다. 투영 광학계 PO는 등배 결상 광학계, 확대 결상 광학계 및 축소 결상 광학계 중 어느 광학계로 구성되어도 되지만, 본 실시 형태에서는 등배 결상 광학계로서 구성되어 있다. 또한 투영 광학계 PO는, 물체면측 및 상면측에서 주광선이 평행으로 된다. 달리 말하면, 투영 광학계 PO는 물체면 OP 및 상면 IP에 있어서 텔레센트릭이다.
투영 광학계 PO는, 물체면 OP로부터 상면 IP까지의 광로에 있어서, 물체면 측으로부터 순서대로 배치된 제1 평면거울(11)과 제1 오목거울(12)과 볼록거울(13)과 제2 오목거울(14)과 제2 평면거울(15)을 포함한다. 투영 광학계 PO는 물체면 OP로부터의 광을 제1 평면거울(11), 제1 오목거울(12), 볼록거울(13), 제2 오목거울(14), 제2 평면거울(15)의 순으로 반사하여 상면 IP에 결상시킨다.
투영 광학계 PO에 있어서, 물체면 OP와 제1 평면거울(11) 사이의 광로와 제2 평면거울(15)과 상면 IP 사이의 광로는 평행이다. 또한 제1 평면거울(11)의 반사면을 포함하는 평면과 제2 평면거울(15)의 반사면을 포함하는 평면은 90도의 각도를 이룬다. 본 실시 형태에서는 제1 평면거울(11)과 제2 평면거울(15)이 별체로 구성되어 있지만, 제1 평면거울(11)과 제2 평면거울(15)이 일체적으로 구성되어 있어도 된다. 마찬가지로 본 실시 형태에서는 제1 오목거울(12)과 제2 오목거울(14)이 별체로 구성되어 있지만, 제1 오목거울(12)과 제2 오목거울(14)이 일체적으로 구성되어 있어도 된다.
투영 광학계 PO는, 도 1에 도시한 바와 같이, 물체면 OP와 제1 평면거울(11) 사이의 광로에 배치된 제1 렌즈 군(10)을 포함한다. 제1 렌즈 군(10)은, 물체면 OP와 제1 평면거울(11) 사이의 광로를 따른 방향, 즉, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향(Z 방향)과 직교하는 제2 방향(Y 방향)에 있어서의 투영 광학계 OP의 배율을 보정하는 제1 광학계이다. 제1 렌즈 군(10)은, 제1 방향을 따라 배열된, 제2 방향 및 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈로서 실린드리컬 렌즈(10a) 및 실린드리컬 렌즈(10b)를 포함한다. 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 실린드리컬 렌즈(10a)는 Y 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하고, 실린드리컬 렌즈(10b)는 Y 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함한다. 실린드리컬 렌즈(10a)와 실린드리컬 렌즈(10b)는 Z 방향으로 간격을 두고, 또한 Z 방향의 간격을 변경 가능하게 배치되어 있다. 또한 실린드리컬 렌즈(10a)와 실린드리컬 렌즈(10b)는, 각각의 실린드리컬면을 평행으로 대향시킨 상태(서로가 갖는 파워의 방향이 일치하는 상태)를 기준 상태로 하여 배치되어 있다.
또한 투영 광학계 PO는, 도 1에 도시한 바와 같이, 제2 평면거울(15)과 상면 IP 사이의 광로에 배치된 제2 렌즈 군(16)을 포함한다. 제2 렌즈 군(16)은, 제2 평면거울(15)과 상면 IP 사이의 광로를 따른 방향, 즉, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향(Z 방향) 및 제2 방향(Y 방향)과 직교하는 제3 방향(X 방향)에 있어서의 투영 광학계 OP의 배율을 보정하는 제2 광학계이다. 제2 렌즈 군(16)은, 제1 방향을 따라 배열된, 제2 방향 및 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈로서 실린드리컬 렌즈(16a) 및 실린드리컬 렌즈(16b)를 포함한다. 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 실린드리컬 렌즈(16a)는 X 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하고, 실린드리컬 렌즈(16b)는 X 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함한다. 실린드리컬 렌즈(16a)와 실린드리컬 렌즈(16b)는 Z 방향으로 간격을 두고, 또한 Z 방향의 간격을 변경 가능하게 배치되어 있다. 또한 실린드리컬 렌즈(16a)와 실린드리컬 렌즈(16b)는, 각각의 실린드리컬면을 평행으로 대향시킨 상태(서로가 갖는 파워의 방향이 일치하는 상태)를 기준 상태로 하여 배치되어 있다.
투영 광학계 PO는, 제1 렌즈 군(10)에 의하여 투영 광학계 PO의 Y 방향의 배율을 보정하기 위하여 실린드리컬 렌즈(10a)와 실린드리컬 렌즈(10b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하는 기능을 실현하는 제1 구동 기구(40)를 포함한다. 제1 구동 기구(40)는 실린드리컬 렌즈(10a)와 실린드리컬 렌즈(10b)와의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하기 위하여 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 Z 방향으로 이동시킨다.
또한 투영 광학계 PO는, 제2 렌즈 군(16)에 의하여 투영 광학계 PO의 X 방향의 배율을 보정하기 위하여 실린드리컬 렌즈(16a)와 실린드리컬 렌즈(16b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하는 기능을 실현하는 제2 구동 기구(50)를 포함한다. 제2 구동 기구(50)는 실린드리컬 렌즈(16a)와 실린드리컬 렌즈(16b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하기 위하여 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 Z 방향으로 이동시킨다.
본 실시 형태에서는, 제1 렌즈 군(10)에 의하여 투영 광학계 PO의 X 방향의 배율을 보정하고 제2 렌즈 군(16)에 의하여 투영 광학계 PO의 Y 방향의 배율을 보정하고 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 구체적으로는, 제1 렌즈 군(10)에 의하여 투영 광학계 PO의 Y 방향의 배율을 보정하고 제2 렌즈 군(16)에 의하여 투영 광학계 PO의 X 방향의 배율을 보정해도 된다. 이 경우, 제1 렌즈 군(10)이 도 2의 (b)에 도시하는 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b)를 포함하고 제2 렌즈 군(16)이 도 2의 (a)에 도시하는 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b)를 포함하도록 하면 된다.
본 실시 형태에서는, 제1 렌즈 군(10) 및 제2 렌즈 군(16)을 사용하여 투영 광학계 PO의 비점수차도 보정할 수 있도록 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽 및 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전 가능하게 구성하고 있다. 본 실시 형태에서는, 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 회전시키는 기능을 제1 구동 기구(40)로 실현하고, 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시키는 기능을 제2 구동 기구(50)로 실현하고 있다. 구체적으로는, 제1 구동 기구(40)(제1 회전부)는, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, Z 방향(물체면 OP와 제1 평면거울(11) 사이의 광로)에 평행인 제1 축 둘레로 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 회전시킨다. 또한 제2 구동 기구(50)(제2 회전부)는, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, Z 방향(제2 평면거울(15)과 상면 IP 사이의 광로)에 평행인 제2 축 둘레로 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시킨다. 또한 본 실시 형태에서는, 제1 구동 기구(40)로 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 회전시키고 제2 구동 기구(50)로 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시키고 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 제1 구동 기구(40)와는 별도로 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부를 마련하고, 제2 구동 기구(50)와는 별도로 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 마련해도 된다.
예를 들어 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 실린드리컬 렌즈(10a)를, Z 방향에 평행인 제1 축 둘레로 회전시키면, X 방향 및 Y 방향과는 상이한 제4 방향(경사 45도 방향)으로 곡률 성분이 발생한다. 이것에 의하여, 도 3의 (a)에 도시한 바와 같이, 제4 방향의 배율 성분과, 제4 방향의 비점수차와, XY 평면 내의 제4 방향에 직교하는 제5 방향(경사 135도 방향)의 비점수차 성분이 발생한다. 또한 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 실린드리컬 렌즈(16a)를, Z 방향에 평행인 제2 축 둘레로 회전시키면, 도 3의 (b)에 도시한 바와 같이, 제4 방향의 배율 성분과 제4 방향의 비점수차와 제5 방향의 비점수차 성분이 발생한다.
투영 광학계 PO는, 본 실시 형태에서는 볼록거울(13)을 중심으로 대칭인 광학계이다. 따라서 물체면 근방 및 상면 근방의 대칭의 관계에 있는 광학계, 즉, 실린드리컬 렌즈를 대칭의 위치로 구동함으로써 디스토션 성분이 서로의 실린드리컬 렌즈에서 상쇄된다. 또한 회전시키는 실린드리컬 렌즈의 실린드리컬면의 곡률의 방향을 X 방향에서 Y 방향으로 변경하면, 이러한 실린드리컬 렌즈를 회전시킴으로써 발생하는 배율 성분 및 비점수차 성분의 정부가 반전된다. 또한 회전시키는 실린드리컬 렌즈의 실린드리컬면의 형상을 볼록에서 오목으로 변경하면, 이러한 실린드리컬 렌즈를 회전시킴으로써 발생하는 배율 성분 및 비점수차 성분의 정부가 반전된다.
그래서 본 실시 형태에서는, X 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(10a)를 제1 축 둘레로 시계 방향으로 회전시키고, Y 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(16a)를 제2 축 둘레로 시계 방향으로 회전시킨다. 이것에 의하여, 도 3의 (c)에 도시한 바와 같이, 배율 성분의 발생을 억제하면서 경사 45도 방향의 비점수차 성분(제2 방향(Y 방향) 및 제3 방향(X 방향)으로부터 45도 회전한 방향의 비점수차)을 발생시킬 수 있다.
따라서 투영 광학계 PO의 배율을 보정함으로써 생기는 투영 광학계 PO의 비점수차가 상쇄되도록 제1 구동 기구(40) 및 제2 구동 기구(50)(에 의한 실린드리컬 렌즈(10a 및 16a)의 회전)를 제어부 CU에서 제어할 수 있다. 예를 들어 투영 광학계 PO의 배율을 목표값으로 보정함으로써 생기는 비점수차를 상쇄하기 위하여 필요한, 실린드리컬 렌즈(10a 및 16a)의 각각의 회전량을 구하고, 이러한 회전량에 기초하여 제1 구동 기구(40) 및 제2 구동 기구(50)를 제어한다. 이때, 실린드리컬 렌즈(10a)와 실린드리컬 렌즈(16a)를 동시에 회전시키면 된다. 이것에 의하여 투영 광학계 PO의 배율이나 비점수차를 고정밀도로 보정할 수 있다.
또한 본 실시 형태에서는, X 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(10a), 및 Y 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(16a)를 회전시키고 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 상술한 바와 같이, X 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(10b), 및 Y 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함하는 실린드리컬 렌즈(16b)를 회전시키더라도, 회전 방향을 반시계 방향으로 함으로써 마찬가지의 효과가 얻어진다.
또한 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽을 회전시키는 축으로 되는 제1 축과, 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시키는 축으로 되는 제2 축은 동일한 직선 상에 존재하면 된다. 이것에 의하여, 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽 및 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 회전시킴으로써 발생하는 배율 성분을 더욱 억제할 수 있다.
또한 본 실시 형태에서는, 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽이나 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 액추에이터 등의 구동 기구로 회전시키는 경우를 상정하여 설명하였지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어 투영 광학계 PO의 배율을 보정함으로써 생기는 투영 광학계 PO의 비점수차가 상쇄되도록 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽이나 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치시켜도 된다. 달리 말하면, 이와 같은 상태의 투영 광학계나 그것을 갖는 노광 장치도 본 발명의 일 측면을 구성한다. 또한 이 경우에는, 실린드리컬 렌즈(10a 및 10b) 중 한쪽이나 실린드리컬 렌즈(16a 및 16b) 중 한쪽을 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 고정하기 위하여 나사나 접착제 등의 고정 부재를 사용하면 된다.
<제2 실시 형태>
도 4를 참조하여 제2 실시 형태에 있어서의 노광 장치에 대하여 설명한다. 제2 실시 형태에 있어서의 노광 장치는, 제1 실시 형태에 있어서의 노광 장치 EX와 비교하여 투영 광학계 PO의 구성이 상이하다. 도 4는, 본 실시 형태에 있어서의 투영 광학계 PO의 구성을 도시하는 개략도이다.
본 실시 형태에 있어서 투영 광학계 PO는, 물체면 OP로부터 상면 IP까지의 광로에 있어서, 물체면 측으로부터 순서대로 배치된 제1 평면거울(22)과 제1 오목거울(23)과 볼록거울(24)과 제2 오목거울(25)과 제2 평면거울(26)을 포함한다. 투영 광학계 PO는 물체면 OP로부터의 광을 제1 평면거울(22), 제1 오목거울(23), 볼록거울(24), 제2 오목거울(25), 제2 평면거울(26)의 순으로 반사하여 상면 IP에 결상시킨다.
투영 광학계 PO에 있어서, 물체면 OP와 제1 평면거울(22) 사이의 광로와, 제2 평면거울(26)과 상면 IP 사이의 광로는 평행이다. 또한 제1 평면거울(22)의 반사면을 포함하는 평면과, 제2 평면거울(26)의 반사면을 포함하는 평면은 90도의 각도를 이룬다. 본 실시 형태에서는 제1 평면거울(22)과 제2 평면거울(26)이 별체로 구성되어 있지만, 제1 평면거울(22)과 제2 평면거울(26)이 일체적으로 구성되어 있어도 된다. 마찬가지로 본 실시 형태에서는 제1 오목거울(23)과 제2 오목거울(25)이 별체로 구성되어 있지만, 제1 오목거울(23)과 제2 오목거울(25)이 일체적으로 구성되어 있어도 된다.
투영 광학계 PO는, 도 4에 도시한 바와 같이, 물체면 OP와 제1 평면거울(22) 사이의 광로에 배치된 제1 렌즈 군(21)을 포함한다. 제1 렌즈 군(21)은, 물체면 OP와 제1 평면거울(22) 사이의 광로를 따른 방향, 즉, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향(Z 방향)과 직교하는 제2 방향(Y 방향)에 있어서의 투영 광학계 OP의 배율을 보정하는 제1 광학계이다. 제1 렌즈 군(21)은, 제1 방향을 따라 배열된, 제2 방향 및 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈로서 실린드리컬 렌즈(21a) 및 실린드리컬 렌즈(21b)를 포함한다. 실린드리컬 렌즈(21a)는 Y 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하고, 실린드리컬 렌즈(21b)는 Y 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함한다. 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)는 Z 방향으로 간격을 두고, 또한 Z 방향의 간격을 변경 가능하게 배치되어 있다. 또한 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)는, 각각의 실린드리컬면을 평행으로 대향시킨 상태(서로가 갖는 파워의 방향이 일치하는 상태)를 기준 상태로 하여 배치되어 있다.
또한 투영 광학계 PO는, 도 4에 도시한 바와 같이, 제2 평면거울(26)과 상면 IP 사이의 광로에 배치된 제2 렌즈 군(28)을 포함한다. 제2 렌즈 군(28)은, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향(Z 방향) 및 제2 방향(Y 방향)과 직교하는 제3 방향(X 방향)에 있어서의 투영 광학계 OP의 배율을 보정하는 제2 광학계이다. 제2 렌즈 군(28)은, 제1 방향을 따라 배열된, 제2 방향 및 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈로서 실린드리컬 렌즈(28a) 및 실린드리컬 렌즈(28b)를 포함한다. 실린드리컬 렌즈(28a)는 X 방향으로 곡률을 갖는 볼록 실린드리컬면을 포함하고, 실린드리컬 렌즈(28b)는 X 방향으로 곡률을 갖는 오목 실린드리컬면을 포함한다. 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)는 Z 방향으로 간격을 두고, 또한 Z 방향의 간격을 변경 가능하게 배치되어 있다. 또한 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)는, 각각의 실린드리컬면을 평행으로 대향시킨 상태(서로가 갖는 파워의 방향이 일치하는 상태)를 기준 상태로 하여 배치되어 있다.
또한 투영 광학계 PO는, 도 4에 도시한 바와 같이 제2 평면거울(26)과 상면 IP 사이의 광로, 상세하게는 제2 평면거울(26)과 제2 렌즈 군(28) 사이의 광로에 배치된 제3 렌즈 군(27)을 포함한다. 또한 제3 렌즈 군(27)은 물체면 IP와 제1 평면거울(21) 사이의 광로에 배치되어도 된다. 제3 렌즈 군(27)은, 제2 방향(Y 방향) 및 제3 방향(X 방향)에 있어서 동일한 배율(등방 배율)로 투영 광학계 PO의 배율을 보정하는 제3 광학계이다. 제3 렌즈 군(27)은, Z 방향으로 간격을 두고, 또한 Z 방향의 간격을 변경 가능하게 배치된 평볼록렌즈(27a) 및 평오목렌즈(27b)를 포함한다. 또한 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)는, 각각의 구면을 평행으로 대향시킨 상태로 배치되어 있다.
투영 광학계 PO는, 제1 렌즈 군(21)에 의하여 투영 광학계 PO의 Y 방향의 배율을 보정하기 위하여 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하는 기능을 실현하는 제1 구동 기구(60)를 포함한다. 제1 구동 기구(60)는 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하기 위하여 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽을 Z 방향으로 이동시킨다. 또한 제1 구동 기구(60)는, 본 실시 형태에서는, Z 방향(물체면 OP와 제1 평면거울(22) 사이의 광로)에 평행인 제1 축 둘레로 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽을 회전시키는 기능도 갖는다.
또한 투영 광학계 PO는, 제2 렌즈 군(28)에 의하여 투영 광학계 PO의 X 방향의 배율을 보정하기 위하여 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하는 기능을 실현하는 제2 구동 기구(70)를 포함한다. 제2 구동 기구(70)는 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하기 위하여 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽을 Z 방향으로 이동시킨다. 또한 제2 구동 기구(70)는, 본 실시 형태에서는, Z 방향(제2 평면거울(26)과 상면 IP 사이의 광로)에 평행인 제2 축 둘레로 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽을 회전시키는 기능도 갖는다.
또한 투영 광학계 PO는, 제3 렌즈 군(27)에 의하여 투영 광학계 PO의 X 방향 및 Y 방향의 배율을 보정하기 위하여 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하는 기능을 실현하는 제3 구동 기구(80)를 포함한다. 제3 구동 기구(80)는 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하기 위하여 평볼록렌즈(27a 및 27b) 중 한쪽을 Z 방향으로 이동시킨다.
도 5는, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)의 각각을 구성하는 각 렌즈를 구동하였을 때 발생하는 비점수차 및 배율 성분의 발생량을 나타내는 도면이다. 도 5에 나타낸 바와 같이, 제1 렌즈 군(21)에 있어서, 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하면, X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A가 발생하고 Y 방향으로 배율 성분량 -D가 발생한다. 한편, 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽을, Z 방향에 평행인 제1 축 둘레로 회전시키면, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 B가 발생하고 경사 45도 방향으로 배율 성분량 E가 발생하고 경사 135도 방향으로 배율 성분량 F가 발생한다.
또한 도 5에 나타낸 바와 같이, 제2 렌즈 군(28)에 있어서, 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하면, X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A가 발생하고 X 방향으로 배율 성분량 -C가 발생한다. 한편, 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽을, Z 방향에 평행인 제2 축 둘레로 회전시키면, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 B가 발생하고 경사 45도 방향으로 배율 성분량 -E가 발생하고 경사 135도 방향으로 배율 성분량 -F가 발생한다.
또한 도 5에 나타낸 바와 같이, 제3 렌즈 군(27)에 있어서, 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경하면, X 방향으로 배율 성분량 -C가 발생하고 Y 방향으로 배율 성분량 -D가 발생한다.
여기서, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)을 사용하여 X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 2A를 발생시키는 방법에 대하여 설명한다. 먼저, 제1 렌즈 군(21)에 있어서, X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제1 렌즈 군(21)에서 발생하는 다른 성분으로서 Y 방향으로 배율 성분량 -D가 발생한다.
이어서, 제2 렌즈 군(28)에 있어서, X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제2 렌즈 군(28)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향으로 배율 성분량 -C가 발생한다.
이어서, 제3 렌즈 군(27)에 있어서, 제1 렌즈 군(21)에서 발생한 Y 방향의 배율 성분을 상쇄하기 위하여, Y 방향으로 배율 성분량 D를 발생시키도록 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제3 렌즈 군(27)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향으로 배율 성분량 C가 발생한다. 따라서 제2 렌즈 군(28)에서 발생한 X 방향의 배율 성분도 상쇄할 수 있다. 그 결과, X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 2A만이 발생하게 된다.
다음으로, 제1 렌즈 군(21) 및 제2 렌즈 군(28)을 사용하여 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 2B를 발생시키는 방법에 대하여 설명한다. 먼저, 제1 렌즈 군(21)에 있어서, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 B를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽을, Z 방향에 평행인 제1 축 둘레로 회전시킨다. 이때, 제1 렌즈 군(21)에서 발생하는 다른 성분으로서 경사 45도 방향으로 배율 성분량 E가 발생하고 경사 135도 방향으로 배율 성분량 F가 발생한다.
이어서, 제2 렌즈 군(28)에 있어서, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 B를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽을, Z 방향에 평행인 제2 축 둘레로 회전시킨다. 이때, 제2 렌즈 군(28)에서 발생하는 다른 성분으로서 경사 45도 방향으로 배율 성분량 -E가 발생하고 경사 135도 방향으로 배율 성분량 -F가 발생한다. 따라서 제1 렌즈 군(21) 및 제2 렌즈 군(28)의 각각에서 발생한 다른 성분인 경사 45도 방향의 배율 성분 및 경사 135도의 배율 성분이 상쇄되어, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향으로 비점수차량 2B만이 발생하게 된다.
다음으로, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)을 사용하여 X 방향으로 배율 성분량 2C를 발생시키는 방법에 대하여 설명한다. 먼저, 제2 렌즈 군(28)에 있어서, X 방향으로 배율 성분량 C를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제2 렌즈 군(28)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 -A가 발생한다.
이어서, 제3 렌즈 군(27)에 있어서, X 방향으로 배율 성분량 C를 발생시키도록 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제3 렌즈 군(27)에서 발생하는 다른 성분으로서 Y 방향으로 배율 성분량 D가 발생한다.
이어서, 제1 렌즈 군(21)에 있어서, 제3 렌즈 군(27)에서 발생한 Y 방향의 배율 성분을 상쇄하기 위하여, Y 방향으로 배율 성분량 -D를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제1 렌즈 군(21)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A가 발생한다. 따라서 잔존하고 있던 X 방향과 Y 방향의 비점수차량 -A도 상쇄되어 X 방향의 배율 성분량 2C만이 발생하게 된다.
다음으로, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)을 사용하여 Y 방향으로 배율 성분량 2D를 발생시키는 방법에 대하여 설명한다. 먼저, 제1 렌즈 군(21)에 있어서, Y 방향으로 배율 성분량 D를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제1 렌즈 군(21)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 -A가 발생한다.
이어서, 제3 렌즈 군(27)에 있어서, X 방향으로 배율 성분량 D를 발생시키도록 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제3 렌즈 군(27)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향으로 배율 성분량 C가 발생한다.
이어서, 제2 렌즈 군(28)에 있어서, 제3 렌즈 군(27)에서 발생한 X 방향의 배율 성분을 상쇄하기 위하여, X 방향으로 배율 성분량 -C를 발생시키도록 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격을 변경한다. 이때, 제2 렌즈 군(28)에서 발생하는 다른 성분으로서 X 방향과 Y 방향으로 비점수차량 A가 발생한다. 따라서 잔존하고 있던 X 방향과 Y 방향의 비점수차량 -A도 상쇄되어 Y 방향의 배율 성분량 2D만이 발생하게 된다.
상술한 네 방법을 조합함으로써, X 방향과 Y 방향의 비점수차 성분, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향의 비점수차 성분, X 방향의 배율 성분, 및 Y 방향의 배율 성분의 네 성분(수차)을 동시에, 또한 독립적으로 보정할 수 있다. 달리 말하면, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)을 사용하여, 투영 광학계 PO의 배율이 목표값으로 되고 또한 투영 광학계 PO의 비점수차가 목표값으로 되도록 할 수 있다. 구체적으로는, 투영 광학계 PO의 배율이 목표값으로 되고 또한 투영 광학계 PO의 비점수차가 목표값으로 되도록, 제어부 CU에 있어서, 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(28) 및 제3 렌즈 군(27)의 각 렌즈의 구동, 즉, 이하의 (1) 내지 (5)를 제어한다.
(1) 실린드리컬 렌즈(21a)와 실린드리컬 렌즈(21b)의 Z 방향에 있어서의 간격
(2) 실린드리컬 렌즈(28a)와 실린드리컬 렌즈(28b)의 Z 방향에 있어서의 간격
(3) 평볼록렌즈(27a)와 평오목렌즈(27b)의 Z 방향에 있어서의 간격
(4) 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽의 회전각
(5) 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽의 회전각
이하, 도 6을 참조하여 투영 광학계 PO의 비점수차의 보정(조정)에 대하여 설명한다. 투영 광학계 PO의 비점수차의 보정은, 상술한 바와 같이, 제어부 CU가 노광 장치 EX의 각 부를 통괄적으로 제어함으로써 행해진다.
S602에서는, 노광 장치 EX에 마련되어 있는 계측부(도시하지 않음)를 사용하여, 투영 광학계 PO를 통한 복수의 패턴(X 방향과 Y 방향, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향)의 초점 위치를 계측한다.
S604에서는, S602에서의 계측 결과에 기초하여 투영 광학계 PO의 비점수차를 구한다. 구체적으로는, 제1 공정에서 계측된 X 방향과 Y 방향의 패턴의 초점 위치 차로부터 X 방향과 Y 방향의 비점수차량을 구하고, 경사 45도 방향과 경사 135도 방향의 패턴의 초점 위치 차로부터 경사 45도 방향과 경사 135도 방향의 비점수차량을 구한다.
S606에서는, S604에서 구한 비점수차가 미리 설정된 허용값을 초과하였는지 여부를 판정한다. S604에서 구한 비점수차가 미리 설정된 허용값을 초과하지 않은 경우에는 투영 광학계 PO의 비점수차의 보정을 종료한다. 한편, S604에서 구한 비점수차가 미리 설정된 허용값을 초과한 경우에는 S608로 이행한다.
S608에서는, S604에서 구한 비점수차에 기초하여 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(27) 및 제3 렌즈 군(28)의 각 렌즈의 구동량 및 회전량을 구한다. 구체적으로는, X 방향과 Y 방향의 비점수차량으로부터 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽의 Z 방향의 구동량, 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽의 Z 방향의 구동량, 및 평볼록렌즈(27a) 및 평오목렌즈(27b) 중 한쪽의 Z 방향의 구동량을 구한다. 또한 경사 45도 방향과 경사 135도 방향의 비점수차량으로부터 실린드리컬 렌즈(21a 및 21b) 중 한쪽의 회전량 및 실린드리컬 렌즈(28a 및 28b) 중 한쪽의 회전량을 구한다.
S610에서는, S608에서 구한 구동량 및 회전량에 기초하여 제1 렌즈 군(21), 제2 렌즈 군(27) 및 제3 렌즈 군(38)의 각 렌즈의 구동 및 회전을 행한다. 그리고 S602로 이행하여 투영 광학계 PO를 통한 복수의 패턴의 초점 위치를 다시 계측하고, 그 계측 결과로부터 투영 광학계 PO의 비점수차를 구하여(S604), 이러한 비점수차가 허용값을 초과하였는지 여부를 판정한다(S606).
이와 같이, 제1 실시 형태 및 제2 실시 형태에 의하면, 투영 광학계 PO를 대형화하는 일 없이(소위 오프너 광학계이면서) 배율이나 비점수차를 고정밀도로 보정할 수 있다.
본 발명의 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 예를 들어 디바이스(반도체 소자, 자기 기억 매체, 액정 표시 소자 등) 등의 물품을 제조하는 데 적합하다. 이러한 제조 방법은, 노광 장치 EX를 사용하여, 감광제가 도포된 기판을 노광하는 공정과, 노광된 기판을 현상하는 공정을 포함한다. 또한 이러한 제조 방법은 다른 주지의 공정(산화, 성막, 증착, 도핑, 평탄화, 에칭, 레지스트 박리, 다이싱, 본딩, 패키징 등)을 포함할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서의 물품의 제조 방법은, 종래에 비하여 물품의 성능, 품질, 생산성 및 생산 비용 중 적어도 하나에 있어서 유리하다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 형태에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이들 실시 형태에 한정되지 않음은 물론이며, 그 요지의 범위 내에서 다양한 변형 및 변경이 가능하다. 예를 들어 본 실시 형태에서는, 제1 렌즈 군 및 제2 렌즈 군이 실린드리컬 렌즈를 포함하는 경우를 예로 들어 설명하였지만, 제1 렌즈 군 및 제2 렌즈 군은 실린드리컬 렌즈 대신 토릭 렌즈를 포함하고 있어도 된다.

Claims (15)

  1. 물체면으로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상면에 결상시키는 투영 광학계이며,
    상기 물체면과 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 상면 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 방향에 평행인 제1 축 둘레로 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부와,
    상기 제1 방향에 평행인 제2 축 둘레로 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 광학계 및 상기 제2 광학계에 의하여 상기 투영 광학계의 배율을 보정함으로써 생기는 상기 투영 광학계의 비점수차가 상쇄되도록 상기 제1 회전부 및 상기 제2 회전부를 제어하는 제어부를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽과 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 동시에 회전시키도록 상기 제1 회전부 및 상기 제2 회전부를 제어하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제1 광학계 및 상기 제2 광학계에 의하여 상기 투영 광학계의 배율을 목표값으로 보정함으로써 생기는 상기 투영 광학계의 비점수차를 상쇄하기 위하여 필요한, 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽, 그리고 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽의 각각의 회전량을 구하고, 상기 회전량에 기초하여 상기 제1 회전부 및 상기 제2 회전부를 제어하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 비점수차는, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로부터 45도 회전한 방향의 비점수차를 포함하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 제1 축과 상기 제2 축은 동일한 직선 상에 존재하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 물체면과 상기 제1 평면거울 사이 또는 상기 제2 평면거울과 상기 상면 사이에 배치되어, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향에 있어서 동일한 배율로 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제3 광학계를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈는 상기 제1 방향에 있어서의 간격을 변경 가능하고,
    상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈는 상기 제1 방향에 있어서의 간격을 변경 가능하고,
    상기 제3 광학계는, 상기 제1 방향에 있어서의 간격을 변경 가능한 평볼록렌즈 및 평오목렌즈를 포함하고,
    상기 투영 광학계의 배율이 목표값으로 되고 또한 상기 투영 광학계의 비점수차가 목표값으로 되도록 상기 제1 렌즈와 상기 제2 렌즈의 상기 제1 방향에 있어서의 간격, 상기 제3 렌즈와 상기 제4 렌즈의 상기 제1 방향에 있어서의 간격, 상기 평볼록렌즈와 상기 평오목렌즈의 상기 제1 방향에 있어서의 간격, 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽의 회전각, 그리고 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽의 회전각을 제어하는 제어부를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 물체면 및 상기 상면에 있어서 텔레센트릭인 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 제1 렌즈, 상기 제2 렌즈, 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈는 실린드리컬 렌즈 또는 토릭 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  11. 물체면으로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상면에 결상시키는 투영 광학계이며,
    상기 물체면과 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 상면 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 광학계 및 상기 제2 광학계에 의하여 상기 투영 광학계의 배율을 보정함으로써 생기는 상기 투영 광학계의 비점수차가 상쇄되도록, 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되고, 또한 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 투영 광학계.
  12. 노광 장치이며,
    광원으로부터의 광으로 마스크를 조명하는 조명 광학계와,
    상기 마스크의 패턴의 상을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고,
    상기 투영 광학계는, 상기 마스크로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상기 기판에 결상시키는 투영 광학계이고,
    상기 마스크와 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 방향에 평행인 제1 축 둘레로 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부와,
    상기 제1 방향에 평행인 제2 축 둘레로 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
  13. 노광 장치이며,
    광원으로부터의 광으로 마스크를 조명하는 조명 광학계와,
    상기 마스크의 패턴의 상을 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고,
    상기 투영 광학계는, 상기 마스크로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상기 기판에 결상시키는 투영 광학계이고,
    상기 마스크와 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 광학계 및 상기 제2 광학계에 의하여 상기 투영 광학계의 배율을 보정함으로써 생기는 상기 투영 광학계의 비점수차가 상쇄되도록, 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되고, 또한 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 노광 장치.
  14. 물품의 제조 방법이며,
    노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
    노광한 상기 기판을 현상하는 공정과,
    현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 공정을 갖고,
    상기 노광 장치는,
    광원으로부터의 광으로 마스크를 조명하는 조명 광학계와,
    상기 마스크의 패턴의 상을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고,
    상기 투영 광학계는, 상기 마스크로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상기 기판에 결상시키는 투영 광학계이고,
    상기 마스크와 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제2 방향 및 상기 제3 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 방향에 평행인 제1 축 둘레로 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제1 회전부와,
    상기 제1 방향에 평행인 제2 축 둘레로 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽을 회전시키는 제2 회전부를 더 갖는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.
  15. 물품의 제조 방법이며,
    노광 장치를 사용하여 기판을 노광하는 공정과,
    노광한 상기 기판을 현상하는 공정과,
    현상된 상기 기판으로부터 물품을 제조하는 공정을 갖고,
    상기 노광 장치는,
    광원으로부터의 광으로 마스크를 조명하는 조명 광학계와,
    상기 마스크의 패턴의 상을 상기 기판에 투영하는 투영 광학계를 갖고,
    상기 투영 광학계는, 상기 마스크로부터의 광을 제1 평면거울, 제1 오목거울, 볼록거울, 제2 오목거울, 제2 평면거울의 순으로 반사하여 상기 기판에 결상시키는 투영 광학계이고,
    상기 마스크와 상기 제1 평면거울 사이에 배치되어, 연직 방향으로 정의되는 제1 방향과 직교하는 제2 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제1 광학계와,
    상기 제2 평면거울과 상기 기판 사이에 배치되어, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향과 직교하는 제3 방향에 있어서의 상기 투영 광학계의 배율을 보정하는 제2 광학계를 갖고,
    상기 제1 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제1 렌즈 및 제2 렌즈를 포함하고,
    상기 제2 광학계는, 상기 제1 방향을 따라 배열된, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향으로 상이한 파워를 갖는 제3 렌즈 및 제4 렌즈를 포함하고,
    상기 제1 광학계 및 상기 제2 광학계에 의하여 상기 투영 광학계의 배율을 보정함으로써 생기는 상기 투영 광학계의 비점수차가 상쇄되도록, 상기 제1 렌즈 및 상기 제2 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되고, 또한 상기 제3 렌즈 및 상기 제4 렌즈 중 한쪽은, 서로가 갖는 상기 파워의 방향이 일치하는 기준 상태로부터 회전시킨 상태로 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 물품의 제조 방법.
KR1020190007383A 2018-01-29 2019-01-21 투영 광학계, 노광 장치, 물품의 제조 방법, 및 조정 방법 KR102372650B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018012947A JP7005364B2 (ja) 2018-01-29 2018-01-29 投影光学系、露光装置、物品の製造方法及び調整方法
JPJP-P-2018-012947 2018-01-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20190092275A true KR20190092275A (ko) 2019-08-07
KR102372650B1 KR102372650B1 (ko) 2022-03-10

Family

ID=67443757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020190007383A KR102372650B1 (ko) 2018-01-29 2019-01-21 투영 광학계, 노광 장치, 물품의 제조 방법, 및 조정 방법

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7005364B2 (ko)
KR (1) KR102372650B1 (ko)
CN (1) CN110095946B (ko)
TW (1) TWI710792B (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112859543B (zh) * 2021-02-02 2021-12-14 北京理工大学 一种折反式深紫外光刻物镜系统设计方法
EP4427098A1 (en) * 2021-11-02 2024-09-11 Corning Incorporated Magnification adjustable projection system using movable lens plates

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020089734A1 (en) * 2000-04-25 2002-07-11 Meehan Michael F. Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system
JP2009038152A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Canon Inc 光学系、露光装置及びデバイス製造方法
KR20110037857A (ko) * 2009-10-06 2011-04-13 캐논 가부시끼가이샤 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20110053904A (ko) * 2009-11-16 2011-05-24 캐논 가부시끼가이샤 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2014103171A (ja) * 2012-11-16 2014-06-05 Canon Inc 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
KR20170133275A (ko) * 2016-05-25 2017-12-05 캐논 가부시끼가이샤 노광 장치 및 물품의 제조 방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3381257B2 (ja) * 2001-05-31 2003-02-24 株式会社ニコン 投影露光方法
JP2011039172A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
US20120293861A1 (en) * 2011-05-18 2012-11-22 Elbit Systems Of America, Llc System and Method for Correcting Astigmatism Caused by an Aircraft Canopy
JP5782336B2 (ja) * 2011-08-24 2015-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020089734A1 (en) * 2000-04-25 2002-07-11 Meehan Michael F. Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system
JP2009038152A (ja) * 2007-07-31 2009-02-19 Canon Inc 光学系、露光装置及びデバイス製造方法
KR20110037857A (ko) * 2009-10-06 2011-04-13 캐논 가부시끼가이샤 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20110053904A (ko) * 2009-11-16 2011-05-24 캐논 가부시끼가이샤 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2014103171A (ja) * 2012-11-16 2014-06-05 Canon Inc 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
KR20170133275A (ko) * 2016-05-25 2017-12-05 캐논 가부시끼가이샤 노광 장치 및 물품의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2019132907A (ja) 2019-08-08
CN110095946B (zh) 2022-03-25
KR102372650B1 (ko) 2022-03-10
JP7005364B2 (ja) 2022-01-21
TW201932906A (zh) 2019-08-16
CN110095946A (zh) 2019-08-06
TWI710792B (zh) 2020-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101345539B1 (ko) 노광 장치 및 노광 방법 및 디바이스의 제조 방법
CN111580346B (zh) Dmd光刻系统中倾角及放大倍率的测量和校正方法
KR20170133275A (ko) 노광 장치 및 물품의 제조 방법
KR20100016315A (ko) 노광 장치, 노광 방법 및 전자 디바이스 제조 방법
KR101121029B1 (ko) 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
KR20100016277A (ko) 노광 방법 및 전자 디바이스 제조 방법
KR20110037857A (ko) 투영 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
JP2008112756A (ja) 光学素子駆動装置及びその制御方法、露光装置、並びにデバイス製造方法
KR102372650B1 (ko) 투영 광학계, 노광 장치, 물품의 제조 방법, 및 조정 방법
JPWO2002025711A1 (ja) 結像特性の計測方法及び露光方法
JP6410406B2 (ja) 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
KR20110053904A (ko) 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
TWI658333B (zh) Exposure device, exposure method, and article manufacturing method
JP2010192744A (ja) 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
JP2009038152A (ja) 光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP7178932B2 (ja) 露光装置、および物品製造方法
KR20050092434A (ko) 노광 장치
US20140168623A1 (en) Exposure apparatus, exposure method, and method of manufacturing device
JP2007287885A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2005236258A (ja) 光学装置およびデバイス製造方法
TWI695231B (zh) 曝光裝置和物品製造方法
JP2022026158A (ja) 調整方法、露光方法及び物品の製造方法
JP4543913B2 (ja) 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
KR101999550B1 (ko) 투영 광학계의 제조방법 및 디바이스 제조방법
JP2004029234A (ja) 投影露光光学系および投影露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right