JP2014103171A - 投影光学系、露光装置および物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】投影光学系POは、投影光学系POの光軸に沿って並んだ2枚の光学部材を含み、第1方向についての投影光学系の投影倍率、および第1方向に直交する第2方向についての投影光学系の投影倍率をそれぞれ調整可能な第1光学系3と、光軸に沿って並んだ2枚の光学部材を含み、第1方向の投影倍率および第2方向の投影倍率のうち少なくとも一方を調整可能な第2光学系9と、を含み、第1光学系3に含まれる2枚の光学部材において互いに対面する面には、2枚の光学部材を光軸に直交する面に沿って相対的にずらすことにより、第1方向の投影倍率および第2方向の投影倍率が変化する第1形状がそれぞれ形成され、第1光学系3は、物体面および像面のうち一方と投影光学系POの瞳との間の光路に配置され、第2光学系9は、物体面および像面のうち他方と瞳との間の光路に配置されている。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態における露光装置100について、図1を参照して説明する。図1は、第1実施形態の露光装置100を示す概略図である。露光装置100は、照明光学系IL、投影光学系PO、マスク1を保持して移動可能なマスクステージ2、基板11を保持して移動可能な基板ステージ12を含む。そして、第1実施形態の露光装置100は、マスクステージ2と基板ステージ12とを同一方向(例えば、y方向)に同期して走査し、マスク1に形成されたパターンを基板11に転写する走査型の露光装置である。
f(x,y)=a×x3+b×y3 ・・・(1)
g(x,y)=c×x3+d×y3 ・・・(2)
g(x,y)=c×x3 ・・・(3)
本発明の第2実施形態における露光装置200について、図9を参照して説明する。図9は、第2実施形態の露光装置200を示す概略図である。露光装置200は、第1実施形態の露光装置100と同様に、照明光学系IL2、投影光学系PO2、マスク101を保持して移動可能なマスクステージ102、および基板114を保持して移動可能な基板ステージ115、および計測系103を含む。そして、露光装置200は、マスクステージ102と基板ステージ115とを同一方向(例えば、y方向)に同期して走査し、マスク101に形成されたパターンを基板114に転写する走査型の露光装置である。第2実施形態の露光装置200において、照明光学系IL2は、第1実施形態の照明光学系ILと同様の構成であるため、ここでは説明を省略する。
f(x,y)=h×x3+k×y3 ・・・(4)
本発明の実施形態にかける物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の走査露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (10)
- 物体面のパターンを像面に投影する投影光学系であって、
前記投影光学系の光軸に沿って並んだ2枚の光学部材を含み、第1方向についての前記投影光学系の投影倍率、および前記第1方向に直交する第2方向についての前記投影光学系の投影倍率をそれぞれ調整可能な第1光学系と、
前記光軸に沿って並んだ2枚の光学部材を含み、前記第1方向の投影倍率および前記第2方向の投影倍率のうち少なくとも一方を調整可能な第2光学系と、
を含み、
前記第1光学系に含まれる2枚の光学部材において互いに対面する面には、当該2枚の光学部材を前記光軸に直交する面に沿って相対的にずらすことにより、前記第1方向の投影倍率および前記第2方向の投影倍率が変化する第1形状がそれぞれ形成され、
前記第1光学系は、前記物体面および前記像面のうち一方と前記投影光学系の瞳との間の光路に配置され、
前記第2光学系は、前記物体面および前記像面のうち他方と前記瞳との間の光路に配置されている、ことを特徴とする投影光学系。 - 前記第1形状は、前記光軸に直交する面上において互いに直交する方向をx方向およびy方向とした場合、xの3次の項およびyの3次の項を含む形状である、ことを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
- 前記第2光学系に含まれる2枚の光学部材において互いに対面する面には、当該2枚の光学部材を前記光軸に直交する面に沿って相対的にずらすことにより、前記第1方向の投影倍率および前記第2方向の投影倍率のうち少なくとも一方が変化する第2形状がそれぞれ形成されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の投影光学系。
- 前記第2形状は、前記光軸に直交する面上において互いに直交する方向をx方向およびy方向とした場合、xの3次の項およびyの3次の項のうち少なくとも一方を含む形状である、ことを特徴とする請求項3に記載の投影光学系。
- 前記第1光学系に含まれる2枚の光学部材のうち少なくとも一方を、前記光軸に直交する面に沿って駆動する第1駆動部と、
前記第2光学系に含まれる2枚の光学部材のうち少なくとも一方を、前記光軸に直交する面に沿って駆動する第2駆動部と、
前記投影光学系の光学性能が目標性能となるように前記第1駆動部および前記第2駆動部を制御する制御部と、
を更に含むことを特徴とする請求項3又は4に記載の投影光学系。 - 前記第2光学系に含まれる2枚の光学部材において互いに対面する面には、当該2枚の光学部材を前記光軸に沿って相対的にずらすことにより、前記第1方向の投影倍率および前記第2方向の投影倍率のうち少なくとも一方が変化するアナモルフィック形状がそれぞれ形成されている、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の投影光学系。
- 前記第1光学系に含まれる2枚の光学部材のうち少なくとも一方を、前記光軸に直交する面に沿って駆動する第1駆動部と、
前記第2光学系に含まれる2枚の光学部材のうち少なくとも一方を、前記光軸に沿って駆動する第2駆動部と、
前記投影光学系の光学性能が目標性能となるように前記第1駆動部および前記第2駆動部を制御する制御部と、
を更に含むことを特徴とする請求項6に記載の投影光学系。 - 前記第1光学系は、前記物体面と前記瞳との間の光路に配置され、
前記第2光学系は、前記瞳と前記像面との間の光路に配置されている、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の投影光学系。 - 請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の投影光学系を用いて前記物体面に配置されたマスクのパターンを前記像面に配置された基板に投影し、前記基板を露光することを特徴とする露光装置。
- 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
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