JP2011082311A - 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】物体面OP側から像面IPに至る光路に順に、第1平面鏡13、第1凹面鏡14、凸面鏡15、第2凹面鏡16、第2平面鏡17が配置され、物体面と第1平面鏡間の光路と第2平面鏡と像面間の光路が平行である投影光学系POにおいて、物体面と第1平面鏡との間の光路に配置され投影光学系の倍率を補正する第1光学系10と、第2平面鏡と像面との間の光路に配置され投影光学系の倍率を補正する第2光学系18と、物体面と第1平面鏡との間の光路又は第2平面鏡と像面との間の光路に配置され、投影光学系の倍率を補正する第3光学系11,12と、制御部Cとを備え、投影光学系の補正されるべき量をそれぞれ第1光学系の補正量、第2光学系の補正量、第3光学系の補正量を制御することにより達成する。
【選択図】図1
Description
図1を参照しながら実施例1の露光装置について説明する。実施例1の露光装置は、照明系ILと、投影光学系POと、投影光学系POの物体面OPに配置されたレチクル(原版)9を走査する原版駆動機構(不図示)と、投影光学系POの像面IPに配置された基板19を走査する基板駆動機構(不図示)とを備える。照明系ILは、例えば、光源LS、第1コンデンサーレンズ3、フライアイレンズ4、第2コンデンサーレンズ5、スリット規定部材6、結像光学系7、平面ミラー8を含みうる。光源LSは、例えば、水銀ランプ1と、楕円ミラー2とを含みうる。スリット規定部材6は、原版9の照明範囲(即ち、原版9を照明するスリット形状光の断面形状)を規定する。結像光学系7は、スリット規定部材6によって規定されるスリットを物体面に結像させるように配置されている。平面ミラー8は、照明系ILにおいて光路を折り曲げる。投影光学系POは、物体面OPに配置される原版9のパターンを像面IPに配置される基板19に投影し、これにより基板19が露光される。投影光学系POは、等倍結像光学系、拡大結像光学系および縮小結像光学系のいずれとしても構成されうる。しかし、投影光学系POは、等倍結像光学系として構成されることが好ましく、物体面側及び像面側で主光線が平行即ち物体面及び像面の双方において両テレセントリック性を有している。
図2を参照しながら実施例2の露光装置について説明する。図2では、照明系ILが省略されているが、実際には、実施例2も実施例1と同様に照明系ILを備えている。実施例1では、第1光学系及び第2光学系として第1方向(Z方向)に変形可能な平行平板10、18を用いた。実施例2では、第1光学系及び第2光学系として、複数のシリンドリカルレンズを有し当該複数のシリンドリカルレンズの前記第1方向における間隔を変更可能なシリンドリカルレンズ系をそれぞれ使用している。また、実施例1では、第3光学系として、平凸レンズ11と平凹レンズ12とを有し平凸レンズ11と平凹レンズ12との第1方向(Z方向)の間隔を変更可能な光学系を用いた。実施例2では、第3光学系として、凹球面(又は凸球面)と平面とを有し第1方向(Z方向)に沿って駆動可能な平凹レンズ(又は平凸レンズ)12'を用いる。
本発明の好適な実施形態のデバイス製造方法は、例えば、半導体デバイス、FPDのデバイスの製造に好適である。前記方法は、感光剤が塗布された基板を、上記の露光装置を用いて露光する工程と、前記露光された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、前記デバイス製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。
Claims (6)
- 物体面側から順に、第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡及び第2平面鏡が前記物体面から像面に至る光路に配置され、前記物体面と前記第1平面鏡との間の光路と前記第2平面鏡と前記像面との間の光路とが平行である投影光学系であって、
前記物体面と前記第1平面鏡との間の光路に配置され、当該光路に沿う第1方向と直交する第2方向における前記投影光学系の倍率を補正する第1光学系と、
前記第2平面鏡と前記像面との間の光路に配置され、前記第1方向及び前記第2方向と直交する第3方向における前記投影光学系の倍率を補正する第2光学系と、
前記物体面と前記第1平面鏡との間の光路又は前記第2平面鏡と前記像面との間の光路に配置され、前記第2方向及び前記第3方向において同じ倍率で前記投影光学系の倍率を補正する第3光学系と、
制御部と、を備え、
前記投影光学系の前記第2方向及び前記第3方向における倍率の補正されるべき量をそれぞれA及びBとし、前記第3光学系によって前記投影光学系の前記第2方向及び前記第3方向における倍率の補正量をCとするとき、
前記制御部は、前記補正量Cが前記補正されるべき量Aと前記補正されるべき量Bとの間の量となり、前記第1光学系による前記第2方向における倍率の補正量が(A−C)となり、前記第2光学系による前記第3方向における倍率の補正量が(B−C)となるように、前記第1光学系と前記第2光学系と前記第3光学系とを制御する、
ことを特徴とする投影光学系。 - 前記物体面及び前記像面の双方においてテレセントリック性を有することを特徴とする請求項1に記載の投影光学系。
- 前記第1光学系と前記第2光学系とは、前記第1方向に変形可能な平行平板と、複数のシリンドリカルレンズを有し当該複数のシリンドリカルレンズの前記第1方向における間隔を変更可能なシリンドリカルレンズ系との少なくともいずれかを含み、
前記第3光学系は、平凸レンズ及び平凹レンズを有し前記平凸レンズと前記平凹レンズとの前記第1方向における間隔を変更可能な光学系と、凹球面又は凸球面と平面とを有し前記第1方向に沿って駆動可能なレンズとのいずれかを含む、ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の投影光学系。 - 前記制御部は、前記補正量Cが(A+B)/2となり、前記第1光学系による前記第2方向における倍率の補正量が(A−B)/2となり、前記第2光学系による前記第3方向における倍率の補正量(B−A)/2となるように、前記第1光学系と前記第2光学系と前記第3光学系とを制御する、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の投影光学系。
- 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の投影光学系を用いて前記物体面に配置されたレチクルのパターンを前記像面に配置された基板に投影し前記基板を露光する、ことを特徴とする露光装置。
- デバイスを製造する方法であって、
請求項5に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、
を含むデバイス製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014103171A (ja) * | 2012-11-16 | 2014-06-05 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置および物品の製造方法 |
US9170497B2 (en) | 2012-03-29 | 2015-10-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus with at least one manipulator |
WO2016088314A1 (en) * | 2014-12-02 | 2016-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2018091919A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6041541B2 (ja) * | 2012-06-04 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
CN106168738B (zh) * | 2012-06-04 | 2019-08-13 | 应用材料公司 | 光学投影阵列曝光系统 |
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JP7357488B2 (ja) * | 2019-09-04 | 2023-10-06 | キヤノン株式会社 | 露光装置、および物品製造方法 |
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6235620A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Canon Inc | 光学倍率補正装置 |
JPH08306618A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Canon Inc | 光学装置 |
JPH09260250A (ja) * | 1996-03-22 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2002329651A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Nikon Corp | 露光装置、露光装置の製造方法、及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP2003178972A (ja) * | 2002-10-24 | 2003-06-27 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2005292450A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Orc Mfg Co Ltd | 投影光学系および投影露光装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006337528A (ja) * | 2005-05-31 | 2006-12-14 | Fujifilm Holdings Corp | 画像露光装置 |
JP5118407B2 (ja) * | 2007-07-31 | 2013-01-16 | キヤノン株式会社 | 光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2009098467A (ja) * | 2007-10-18 | 2009-05-07 | Adtec Engineeng Co Ltd | 露光装置 |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6235620A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Canon Inc | 光学倍率補正装置 |
JPH08306618A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Canon Inc | 光学装置 |
JPH09260250A (ja) * | 1996-03-22 | 1997-10-03 | Toshiba Corp | 露光装置および露光方法 |
JP2002329651A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Nikon Corp | 露光装置、露光装置の製造方法、及びマイクロデバイスの製造方法 |
JP2003178972A (ja) * | 2002-10-24 | 2003-06-27 | Nikon Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
JP2005292450A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Orc Mfg Co Ltd | 投影光学系および投影露光装置 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9170497B2 (en) | 2012-03-29 | 2015-10-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus with at least one manipulator |
US9846367B2 (en) | 2012-03-29 | 2017-12-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus with at least one manipulator |
US10303063B2 (en) | 2012-03-29 | 2019-05-28 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection exposure apparatus with at least one manipulator |
JP2014103171A (ja) * | 2012-11-16 | 2014-06-05 | Canon Inc | 投影光学系、露光装置および物品の製造方法 |
WO2016088314A1 (en) * | 2014-12-02 | 2016-06-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2016109741A (ja) * | 2014-12-02 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | 投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法 |
US10495978B2 (en) | 2014-12-02 | 2019-12-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
JP2018091919A (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-14 | キヤノン株式会社 | 露光装置及び物品の製造方法 |
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