CN110095946B - 投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法 - Google Patents

投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供投影光学系统、曝光装置及物品的制造方法。投影光学系统，具有：第1光学系统，配置于物面与第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向的投影光学系统的倍率；第2光学系统，配置于第2平面镜与像面之间，校正与第1方向及第2方向正交的第3方向的投影光学系统的倍率，第1光学系统包括沿着第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不同光焦度的第1透镜及第2透镜，第2光学系统包括沿第1方向排列的在第2方向及第3方向具有不同光焦度的第3透镜及第4透镜，还具有：第1旋转部，使第1透镜及第2透镜一方绕与第1方向平行的第1轴旋转；第2旋转部，使第3透镜及第4透镜一方绕与第1方向平行的第2轴旋转。

Description

投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法
技术领域
本发明涉及投影光学系统、曝光装置以及物品的制造方法。
背景技术
半导体设备、平板显示器(FPD)等设备是经由光刻工序制造的。光刻工序包括将掩模或者掩膜原版(原版)的图案投影到涂敷有抗蚀剂(感光剂)的玻璃板、晶片等基板并对上述基板进行曝光的曝光工序。在FPD的制造中，一般使用具有包括反射镜的投影光学系统(所谓奥夫纳光学系统)的曝光装置。
在曝光装置中，通过多个光刻工序在基板上重叠形成多个图案。因此，针对基板上的图案高精度地重叠掩模的图案而对基板进行曝光变得重要。但是，有时由于经过多个光刻工序而掩模、基板发生伸缩而在基板上的图案与掩模的图案之间产生倍率误差。在该情况下，在基板上重叠形成多个图案时，在多个图案之间产生重叠误差。
因此，在日本专利第5595001号公报中提出了能够在抑制像散的发生的同时校正这样的倍率误差的投影光学系统。另外，在日本专利第4547714号公报中还提出了能够在实质上抑制副作用的同时校正像散的投影光学系统。
发明内容
然而，日本专利第5595001号公报公开的投影光学系统虽然能够抑制校正倍率的方向(例如横向纵向)的像散的发生，但无法校正相对校正倍率的方向倾斜的方向的像散。另外，日本专利第4547714号公报公开的投影光学系统并非奥夫纳光学系统而是2次成像系统，所以导致光学系统以及具有该光学系统的曝光装置的大型化、装置占有面积(占用面积)的扩大等。在曝光装置所使用的投影光学系统中，要求不使光学系统大型化，而能够高精度地校正倍率、像散。
本发明提供对于校正倍率、像散而有利的投影光学系统。
作为本发明的一个侧面的投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述物面与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述像面之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述投影光学系统还具有：第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；以及第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转。
作为本发明的另一侧面的投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述物面与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述像面之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
作为本发明的又一侧面的曝光装置，其特征在于，具有：照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板，所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述投影光学系统还具有：第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；以及第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转。
作为本发明的又一侧面的曝光装置，其特征在于，具有：照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板，所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
作为本发明的又一侧面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用曝光装置对基板进行曝光的工序；使曝光的所述基板显影的工序；以及根据显影的所述基板制造物品的工序，所述曝光装置具有：照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述投影光学系统还具有：第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；以及第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转。
作为本发明的又一侧面的物品的制造方法，其特征在于，具有：使用曝光装置对基板进行曝光的工序；使曝光的所述基板显影的工序；以及根据显影的所述基板制造物品的工序，所述曝光装置具有：照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，所述投影光学系统具有：第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与在铅直方向上定义的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
本发明的进一步的目的或者其他侧面通过以下参照附图说明的优选的实施方式将变得更加明确。
根据本发明，例如，能够提供对于校正倍率、像散而有利的投影光学系统。
附图说明
图1是示出本发明的第1实施方式中的曝光装置的结构的概略图。
图2A以及图2B是示出图1所示的曝光装置的第1透镜群以及第2透镜群各自的结构的一个例子的图。
图3A至图3C是用于说明图1所示的曝光装置的投影光学系统的像散的校正的图。
图4是示出本发明的第2实施方式中的投影光学系统的结构的概略图。
图5是示出在驱动图2A以及图2B所示的投影光学系统的第1透镜群、第2透镜群以及第3透镜群的各个时发生的像散以及倍率成分的发生量的图。
图6是用于说明图2A以及图2B所示的投影光学系统的像散的校正的流程图。
具体实施方式
以下，参照附图，说明本发明的优选的实施方式。此外，在各图中，对同一部件附加同一参照编号，省略重复的说明。
<第1实施方式>
图1是示出第1实施方式中的曝光装置EX的结构的概略图。曝光装置EX是在作为半导体设备、平板显示器(FPD)的制造工序的光刻工序中使用的光刻装置。曝光装置EX例如是同步地扫描掩模9(原版)和基板17而将形成于掩模9的图案转印到基板17的扫描型的曝光装置(扫描仪)。
曝光装置EX如图1所示，具有照明光学系统IL、投影光学系统PO以及控制部CU。另外，曝光装置EX具有：掩模载置台(未图示)，能够以保持配置于投影光学系统PO的物面OP的掩模9的方式移动；以及基板载置台(未图示)，能够以保持配置于投影光学系统PO的像面IP的基板17的方式移动。此外，在本实施方式中，将Z轴(的负方向)定义为铅直方向，在与Z轴正交并且相互正交的方向上定义X轴以及Y轴。在本实施方式中，Y方向是扫描方向，X方向是与扫描方向正交的方向。
控制部CU例如由包括CPU、存储器等的计算机(信息处理装置)构成，依照存储于存储部(未图示)的程序，综合地控制曝光装置EX的各部分。控制部CU控制对基板17进行曝光的曝光处理以及与曝光处理关联的各种处理。
照明光学系统IL例如包括第1聚光透镜3、复眼透镜4、第2聚光透镜5、狭缝规定部件6、成像光学系统7以及平面反射镜8，用来自光源LS的光对掩模9进行照明。光源LS例如包括汞灯1和椭圆反射镜2。狭缝规定部件6规定掩模9的照明范围(即对掩模9进行照明的狭缝光的剖面形状)。成像光学系统7配置成使由狭缝规定部件6规定的狭缝成像于物面OP。平面反射镜8在照明光学系统IL中使光路折弯。
投影光学系统PO将掩模9的图案投影到基板17并对基板17进行曝光。投影光学系统PO虽然也可以由等倍成像光学系统、放大成像光学系统以及缩小成像光学系统中的任意光学系统构成，但在本实施方式中，构成为等倍成像光学系统。另外，投影光学系统PO在物面侧以及像面侧主光线为平行的。换言之，投影光学系统PO在物面OP以及像面IP是远心的。
投影光学系统PO在从物面OP至像面IP的光路中，包括从物面侧起依次配置的第1平面镜11、第1凹面镜12、凸面镜13、第2凹面镜14以及第2平面镜15。投影光学系统PO使来自物面OP的光按照第1平面镜11、第1凹面镜12、凸面镜13、第2凹面镜14、第2平面镜15的顺序反射而成像于像面IP。
在投影光学系统PO中，物面OP与第1平面镜11之间的光路、和第2平面镜15与像面IP之间的光路平行。另外，包括第1平面镜11的反射面的平面、和包括第2平面镜15的反射面的平面成90度角度。在本实施方式中，第1平面镜11和第2平面镜15分体地构成，但也可以第1平面镜11和第2平面镜15一体地构成。同样地，在本实施方式中，第1凹面镜12和第2凹面镜14分体地构成，但也可以第1凹面镜12和第2凹面镜14一体地构成。
投影光学系统PO如图1所示，包括配置于物面OP与第1平面镜11之间的光路的第1透镜群10。第1透镜群10是校正沿着物面OP与第1平面镜11之间的光路的方向、即与在铅直方向上定义的第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的投影光学系统OP的倍率的第1光学系统。第1透镜群10作为沿着第1方向排列的、在第2方向以及第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜而包括柱面透镜10a以及柱面透镜10b。如图2A所示，柱面透镜10a包括在Y方向上具有曲率的凸柱面，柱面透镜10b包括在Y方向上具有曲率的凹柱面。柱面透镜10a和柱面透镜10b被配置成在Z方向上隔开间隔、并且能够变更Z方向的间隔。另外，柱面透镜10a和柱面透镜10b是将使各个柱面平行地相向的状态(相互具有的光焦度的方向一致的状态)作为基准状态来配置的。
另外，投影光学系统PO如图1所示，包括配置于第2平面镜15与像面IP之间的光路的第2透镜群16。第2透镜群16是校正沿着第2平面镜15与像面IP之间的光路的方向、即与被定义为铅直方向的第1方向(Z方向)以及第2方向(Y方向)正交的第3方向(X方向)上的投影光学系统OP的倍率的第2光学系统。第2透镜群16作为沿着第1方向排列的、在第2方向以及第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，包括柱面透镜16a以及柱面透镜16b。如图2B所示，柱面透镜16a包括在X方向上具有曲率的凸柱面，柱面透镜16b包括在X方向上具有曲率的凹柱面。柱面透镜16a和柱面透镜16b被配置成在Z方向上隔开间隔、并且能够变更Z方向的间隔。另外，柱面透镜16a和柱面透镜16b是将使各个柱面平行地相向的状态(相互具有的光焦度的方向一致的状态)作为基准状态来配置的。
投影光学系统PO包括实现为了通过第1透镜群10校正投影光学系统PO的Y方向的倍率而变更柱面透镜10a和柱面透镜10b在Z方向上的间隔的功能的第1驱动机构40。第1驱动机构40为了变更柱面透镜10a和柱面透镜10b在Z方向上的间隔，使柱面透镜10a以及10b的一方在Z方向上移动。
另外，投影光学系统PO包括实现为了通过第2透镜群16校正投影光学系统PO的X方向的倍率而变更柱面透镜16a与柱面透镜16b在Z方向上的间隔的功能的第2驱动机构50。第2驱动机构50为了变更柱面透镜16a与柱面透镜16b在Z方向上的间隔，使柱面透镜16a以及16b的一方在Z方向上移动。
在本实施方式中，通过第1透镜群10校正投影光学系统PO的X方向的倍率，通过第2透镜群16校正投影光学系统PO的Y方向的倍率，但不限定于此。具体而言，也可以通过第1透镜群10校正投影光学系统PO的Y方向的倍率，通过第2透镜群16校正投影光学系统PO的X方向的倍率。在该情况下，只要第1透镜群10包括图2B所示的柱面透镜16a以及16b，第2透镜群16包括图2A所示的柱面透镜10a以及10b即可。
本实施方式构成为能够使柱面透镜10a以及10b的一方以及柱面透镜16a以及16b的一方旋转，以使得还能够使用第1透镜群10以及第2透镜群16校正投影光学系统PO的像散。在本实施方式中，用第1驱动机构40实现使柱面透镜10a以及10b的一方旋转的功能，用第2驱动机构50实现使柱面透镜16a以及16b的一方旋转的功能。具体而言，第1驱动机构40(第1旋转部)如图2A所示，使柱面透镜10a以及10b的一方绕与Z方向(物面OP与第1平面镜11之间的光路)平行的第1轴旋转。另外，第2驱动机构50(第2旋转部)如图2B所示，使柱面透镜16a以及16b的一方绕与Z方向(第2平面镜15与像面IP之间的光路)平行的第2轴旋转。此外，在本实施方式中，用第1驱动机构40使柱面透镜10a以及10b的一方旋转，用第2驱动机构50使柱面透镜16a以及16b的一方旋转，但不限定于此。也可以与第1驱动机构40区别地设置使柱面透镜10a以及10b的一方旋转的第1旋转部，与第2驱动机构50区别地设置使柱面透镜16a以及16b的一方旋转的第2旋转部。
例如，在使柱面透镜10a以及10b中的柱面透镜10a绕与Z方向平行的第1轴旋转时，在与X方向以及Y方向不同的第4方向(倾斜45度方向)上发生曲率成分。由此，如图3A所示，发生第4方向的倍率成分、第4方向的像散以及与XY平面内的第4方向正交的第5方向(倾斜135度方向)的像散成分。另外，在使柱面透镜16a以及16b中的柱面透镜16a绕与Z方向平行的第2轴旋转时，如图3B所示，发生第4方向的倍率成分、第4方向的像散以及第5方向的像散成分。
投影光学系统PO在本实施方式中是以凸面镜13为中心而对称的光学系统。因此，通过将物面附近以及像面附近的处于对称的关系的光学系统、即柱面透镜驱动到对称的位置，畸变成分被相互的柱面透镜抵消。另外，在将旋转的柱面透镜的柱面的曲率的方向从X方向变更为Y方向时，通过使上述柱面透镜旋转而发生的倍率成分以及像散成分的正负发生反转。进而，在将旋转的柱面透镜的柱面的形状从凸变更为凹时，通过使上述柱面透镜旋转而发生的倍率成分以及像散成分的正负发生反转。
因此，在本实施方式中，使包括在X方向上具有曲率的凸柱面的柱面透镜10a绕第1轴顺时针旋转，使包括在Y方向上具有曲率的凸柱面的柱面透镜16a绕第2轴顺时针旋转。由此，如图3C所示，能够一边抑制倍率成分的发生，一边使得发生倾斜45度方向的像散成分(从第2方向(Y方向)以及第3方向(X方向)旋转了45度的方向的像散)。
因此，能够用控制部CU控制第1驱动机构40以及第2驱动机构50(所驱动的柱面透镜10a以及16a的旋转)，以使得通过校正投影光学系统PO的倍率而产生的投影光学系统PO的像散抵消。例如，求出为了抵消通过将投影光学系统PO的倍率校正为目标值而产生的像散所需的、柱面透镜10a以及16a各自的旋转量，根据上述旋转量，控制第1驱动机构40以及第2驱动机构50。此时，使柱面透镜10a和柱面透镜16a同时旋转即可。由此，能够高精度地校正投影光学系统PO的倍率、像散。
另外，在本实施方式中，使包括在X方向上具有曲率的凸柱面的柱面透镜10a、以及包括在Y方向上具有曲率的凸柱面的柱面透镜16a旋转，但不限定于此。如上所述，即使使包括在X方向上具有曲率的凹柱面的柱面透镜10b、以及包括在Y方向上具有曲率的凹柱面的柱面透镜16b旋转，通过使旋转方向成为逆时针从而得到同样的效果。
进而，成为使柱面透镜10a以及10b的一方旋转的轴的第1轴、和成为使柱面透镜16a以及16b的一方旋转的轴的第2轴在同一直线上存在即可。由此，能够进一步抑制通过使柱面透镜10a以及10b的一方以及柱面透镜16a以及16b的一方旋转而发生的倍率成分。
另外，在本实施方式中，设想用致动器等驱动机构使柱面透镜10a以及10b的一方、柱面透镜16a以及16b的一方旋转的情况而进行了说明，但不限定于此。例如，也可以以使通过校正投影光学系统PO的倍率而产生的投影光学系统PO的像散抵消的方式，按照使柱面透镜10a以及10b的一方、柱面透镜16a以及16b的一方从基准状态旋转的状态配置。换言之，这样的状态的投影光学系统、具有该投影光学系统的曝光装置也构成本发明的一个侧面。此外，在该情况下，为了按照使柱面透镜10a以及10b的一方、柱面透镜16a以及16b的一方从基准状态旋转的状态固定，使用螺钉、粘接剂等固定部件即可。
<第2实施方式>
参照图4，说明第2实施方式中的曝光装置。第2实施方式中的曝光装置相比于第1实施方式中的曝光装置EX，投影光学系统PO的结构不同。图4是示出本实施方式中的投影光学系统PO的结构的概略图。
在本实施方式中，投影光学系统PO在从物面OP至像面IP的光路中包括从物面侧依次配置的第1平面镜22、第1凹面镜23、凸面镜24、第2凹面镜25以及第2平面镜26。投影光学系统PO将来自物面OP的光按照第1平面镜22、第1凹面镜23、凸面镜24、第2凹面镜25、第2平面镜26的顺序反射而成像于像面IP。
在投影光学系统PO中，物面OP与第1平面镜22之间的光路、和第2平面镜26与像面IP之间的光路是平行的。另外，包括第1平面镜22的反射面的平面、和包括第2平面镜26的反射面的平面成90度的角度。在本实施方式中，第1平面镜22和第2平面镜26分体地构成，但第1平面镜22和第2平面镜26也可以一体地构成。同样地，在本实施方式中，第1凹面镜23和第2凹面镜25分体地构成，但第1凹面镜23和第2凹面镜25也可以一体地构成。
投影光学系统PO如图4所示包括配置于物面OP与第1平面镜22之间的光路的第1透镜群21。第1透镜群21是校正沿着物面OP与第1平面镜22之间的光路的方向、即与被定义为铅直方向的第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的投影光学系统OP的倍率的第1光学系统。第1透镜群21作为沿着第1方向排列的、在第2方向以及第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜而包括柱面透镜21a以及柱面透镜21b。柱面透镜21a包括在Y方向上具有曲率的凸柱面，柱面透镜21b包括在Y方向上具有曲率的凹柱面。柱面透镜21a和柱面透镜21b被配置成在Z方向上隔开间隔、并且能够变更Z方向的间隔。另外，柱面透镜21a和柱面透镜21b是将使各个柱面平行地相向的状态(相互具有的光焦度的方向一致的状态)作为基准状态来配置的。
另外，投影光学系统PO如图4所示包括配置于第2平面镜26与像面IP之间的光路的第2透镜群28。第2透镜群28是校正与被定义为铅直方向的第1方向(Z方向)以及第2方向(Y方向)正交的第3方向(X方向)上的投影光学系统OP的倍率的第2光学系统。第2透镜群28作为沿着第1方向排列的、在第2方向以及第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜包括柱面透镜28a以及柱面透镜28b。柱面透镜28a包括在X方向上具有曲率的凸柱面，柱面透镜28b包括在X方向上具有曲率的凹柱面。柱面透镜28a和柱面透镜28b被配置成在Z方向上隔开间隔、并且能够变更Z方向的间隔。另外，柱面透镜28a和柱面透镜28b是将使各个柱面平行地相向的状态(相互具有的光焦度的方向一致的状态)作为基准状态来配置的。
进而，投影光学系统PO如图4所示包括配置于第2平面镜26与像面IP之间的光路、详细而言第2平面镜26与第2透镜群28之间的光路的第3透镜群27。此外，第3透镜群27也可以配置于物面IP与第1平面镜21之间的光路。第3透镜群27是在第2方向(Y方向)以及第3方向(X方向)上以同一倍率(各向同性倍率)校正投影光学系统PO的倍率的第3光学系统。第3透镜群27包括被配置成在Z方向上隔开间隔并且能够变更Z方向的间隔的平凸透镜27a以及平凹透镜27b。另外，平凸透镜27a和平凹透镜27b以使各个球面平行地相向的状态配置。
投影光学系统PO包括实现为了通过第1透镜群21校正投影光学系统PO的Y方向的倍率而变更柱面透镜21a和柱面透镜21b在Z方向上的间隔的功能的第1驱动机构60。第1驱动机构60为了变更柱面透镜21a和柱面透镜21b在Z方向上的间隔，使柱面透镜21a以及21b的一方在Z方向上移动。另外，第1驱动机构60在本实施方式中还具有使柱面透镜21a以及21b的一方绕与Z方向(物面OP与第1平面镜22之间的光路)平行的第1轴旋转的功能。
另外，投影光学系统PO包括实现为了通过第2透镜群28校正投影光学系统PO的X方向的倍率而变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔的功能的第2驱动机构70。第2驱动机构70为了变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔，使柱面透镜28a以及28b的一方在Z方向上移动。另外，第2驱动机构70在本实施方式中还具有使柱面透镜28a以及28b的一方绕与Z方向(第2平面镜26与像面IP之间的光路)平行的第2轴旋转的功能。
进而，投影光学系统PO包括实现为了通过第3透镜群27校正投影光学系统PO的X方向以及Y方向的倍率而变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔的功能的第3驱动机构80。第3驱动机构80为了变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔，使平凸透镜27a以及27b的一方在Z方向上移动。
图5是示出在驱动构成第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27的各个透镜群的各透镜时发生的像散以及倍率成分的发生量的图。如图5所示，在第1透镜群21中，在变更柱面透镜21a与柱面透镜21b在Z方向上的间隔时，在X方向和Y方向上发生像散量A，在Y方向上发生倍率成分量-D。另一方面，在使柱面透镜21a以及21b的一方绕与Z方向平行的第1轴旋转时，在倾斜45度方向和倾斜135度方向上发生像散量B，在倾斜45度方向上发生倍率成分量E，在倾斜135度方向上发生倍率成分量F。
另外，如图5所示，在第2透镜群28中，变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔时，在X方向和Y方向上发生像散量A，在X方向上发生倍率成分量-C。另一方面，在使柱面透镜28a以及28b的一方绕与Z方向平行的第2轴旋转时，在倾斜45度方向和倾斜135度方向上发生像散量B，在倾斜45度方向上发生倍率成分量-E，在倾斜135度方向上发生倍率成分量-F。
另外，如图5所示，在第3透镜群27中，变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔时，在X方向上发生倍率成分量-C，在Y方向上发生倍率成分量-D。
在此，说明使用第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27在X方向和Y方向上发生像散量2A的方法。首先，在第1透镜群21中，以在X方向和Y方向上发生像散量A的方式，变更柱面透镜21a与柱面透镜21b在Z方向上的间隔。此时，作为在第1透镜群21中发生的其他成分，在Y方向上发生倍率成分量-D。
接下来，在第2透镜群28中，以在X方向和Y方向上发生像散量A的方式，变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔。此时，作为在第2透镜群28中发生的其他成分，在X方向上发生倍率成分量-C。
接下来，在第3透镜群27中，为了抵消在第1透镜群21中发生的Y方向的倍率成分，以在Y方向上发生倍率成分量D的方式，变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔。此时，作为在第3透镜群27中发生的其他成分，在X方向上发生倍率成分量C。因此，在第2透镜群28中发生的X方向的倍率成分也能够抵消。其结果，在X方向和Y方向上仅发生像散量2A。
接下来，说明使用第1透镜群21以及第2透镜群28在倾斜45度方向和倾斜135度方向上发生像散量2B的方法。首先，在第1透镜群21中，以在倾斜45度方向和倾斜135度方向上发生像散量B的方式，使柱面透镜21a以及21b的一方绕与Z方向平行的第1轴旋转。此时，作为在第1透镜群21中发生的其他成分，在倾斜45度方向上发生倍率成分量E，在倾斜135度方向上发生倍率成分量F。
接下来，在第2透镜群28中，以在倾斜45度方向和倾斜135度方向上发生像散量B的方式，使柱面透镜28a以及28b的一方绕与Z方向平行的第2轴旋转。此时，作为在第2透镜群28中发生的其他成分，在倾斜45度方向上发生倍率成分量-E，在倾斜135度方向上发生倍率成分量-F。因此，作为在第1透镜群21以及第2透镜群28的各个中发生的其他成分的倾斜45度方向的倍率成分以及倾斜135度的倍率成分被抵消，在倾斜45度方向和倾斜135度方向上仅发生像散量2B。
接下来，说明使用第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27在X方向上发生倍率成分量2C的方法。首先，在第2透镜群28中，以在X方向上发生倍率成分量C的方式，变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔。此时，作为在第2透镜群28中发生的其他成分，在X方向和Y方向上发生像散量-A。
接下来，在第3透镜群27中，以在X方向上发生倍率成分量C的方式，变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔。此时，作为在第3透镜群27中发生的其他成分，在Y方向上发生倍率成分量D。
接下来，在第1透镜群21中，为了抵消在第3透镜群27中发生的Y方向的倍率成分，以在Y方向上发生倍率成分量-D的方式，变更柱面透镜21a与柱面透镜21b在Z方向上的间隔。此时，作为在第1透镜群21中发生的其他成分，在X方向和Y方向上发生像散量A。因此，残存的X方向和Y方向的像散量-A也被抵消，仅发生X方向的倍率成分量2C。
接下来，说明使用第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27在Y方向上发生倍率成分量2D的方法。首先，在第1透镜群21中，以在Y方向上发生倍率成分量D的方式，变更柱面透镜21a与柱面透镜21b在Z方向上的间隔。此时，作为在第1透镜群21中发生的其他成分，在X方向和Y方向上发生像散量-A。
接下来，在第3透镜群27中，以在X方向上发生倍率成分量D的方式，变更平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔。此时，作为在第3透镜群27中发生的其他成分，在X方向上发生倍率成分量C。
接下来，在第2透镜群28中，为了抵消在第3透镜群27中发生的X方向的倍率成分，以在X方向上发生倍率成分量-C的方式，变更柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔。此时，作为在第2透镜群28中发生的其他成分，在X方向和Y方向上发生像散量A。因此，残存的X方向和Y方向的像散量-A也被抵消，仅发生Y方向的倍率成分量2D。
通过组合上述4个方法，能够同时并且独立地校正X方向和Y方向的像散成分、倾斜45度方向和倾斜135度方向的像散成分、X方向的倍率成分以及Y方向的倍率成分这4个成分(像差)。换言之，使用第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27，能够使投影光学系统PO的倍率成为目标值、且使投影光学系统PO的像散成为目标值。具体而言，以使投影光学系统PO的倍率成为目标值、且使投影光学系统PO的像散成为目标值的方式，在控制部CU中控制第1透镜群21、第2透镜群28以及第3透镜群27的各透镜的驱动、即以下的(1)至(5)。
(1)柱面透镜21a与柱面透镜21b在Z方向上的间隔
(2)柱面透镜28a与柱面透镜28b在Z方向上的间隔
(3)平凸透镜27a与平凹透镜27b在Z方向上的间隔
(4)柱面透镜21a以及21b的一方的旋转角
(5)柱面透镜28a以及28b的一方的旋转角
以下，参照图6，说明投影光学系统PO的像散的校正(调整)。如上所述，通过控制部CU综合地控制曝光装置EX的各部分，进行投影光学系统PO的像散的校正。
在S602中，使用设置于曝光装置EX的测量部(未图示)，测量经由投影光学系统PO的多个图案(X方向和Y方向、倾斜45度方向和倾斜135度方向)的焦点位置。
在S604中，根据S602中的测量结果，求出投影光学系统PO的像散。具体而言，根据在第1工序中测量出的X方向和Y方向的图案的焦点位置差，求出X方向和Y方向的像散量，根据倾斜45度方向和倾斜135度方向的图案的焦点位置差，求出倾斜45度方向和倾斜135度方向的像散量。
在S606中，判定在S604中求出的像散是否超过预先设定的容许值。当在S604中求出的像散未超过预先设定的容许值的情况下，结束投影光学系统PO的像散的校正。另一方面，当在S604中求出的像散超过预先设定的容许值的情况下，转移到S608。
在S608中，根据在S604中求出的像散，求出第1透镜群21、第2透镜群27以及第3透镜群28的各透镜的驱动量以及旋转量。具体而言，根据X方向和Y方向的像散量，求出柱面透镜21a以及21b的一方的Z方向的驱动量、柱面透镜28a以及28b的一方的Z方向的驱动量、以及平凸透镜27a以及平凹透镜27b的一方的Z方向的驱动量。另外，根据倾斜45度方向和倾斜135度方向的像散量，求出柱面透镜21a以及21b的一方的旋转量、以及柱面透镜28a以及28b的一方的旋转量。
在S610中，根据在S608中求出的驱动量以及旋转量，进行第1透镜群21、第2透镜群27以及第3透镜群38的各透镜的驱动以及旋转。然后，转移到S602，再次测量经由投影光学系统PO的多个图案的焦点位置，根据其测量结果，求出投影光学系统PO的像散(S604)，判定上述像散是否超过容许值(S606)。
这样，根据第1实施方式以及第2实施方式，不会使投影光学系统PO大型化(是所谓奥夫纳光学系统)而能够高精度地校正倍率、像散。
本发明的实施方式中的物品的制造方法例如适合于制造设备(半导体元件、磁存储介质、液晶显示元件等)等物品。上述制造方法包括：使用曝光装置EX对涂敷有感光剂的基板进行曝光的工序；以及使曝光的基板显影的工序。另外，上述制造方法能够包括其他公知的工序(氧化、成膜、蒸镀、掺杂、平坦化、蚀刻、抗蚀剂剥离、切割、键合、封装等)。本实施方式中的物品的制造方法相比于以往在物品的性能、质量、生产率以及生产成本的至少1个中更有利。
以上，说明了本发明的优选的实施方式，但本发明当然不限定于这些实施方式，能够在其要旨的范围内进行各种变形以及变更。例如，在本实施方式中，以第1透镜群以及第2透镜群包括柱面透镜的情况为例子进行了说明，但第1透镜群以及第2透镜群也可以代替柱面透镜而包括复曲面透镜。

Claims (15)

1.一种投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述物面与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述像面之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述投影光学系统还具有：
第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；
第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转；以及
控制部，控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述控制部控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述控制部控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得所述第1透镜以及所述第2透镜的一方和所述第3透镜以及所述第4透镜的一方同时旋转。
4.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述控制部求出为了抵消通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统将所述投影光学系统的倍率校正为目标值而产生的所述投影光学系统的像散而所需的、所述第1透镜及所述第2透镜的一方以及所述第3透镜及所述第4透镜的一方的各自的旋转量，根据所述旋转量控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部。
5.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述像散包括从所述第2方向以及所述第3方向旋转了45度的方向的像散。
6.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述第1轴和所述第2轴存在于同一直线上。
7.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，还具有：
第3光学系统，该第3光学系统配置于所述物面与所述第1平面镜之间或者所述第2平面镜与所述像面之间，在所述第2方向以及所述第3方向上以同一倍率校正所述投影光学系统的倍率。
8.根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于，
所述第1透镜以及所述第2透镜能够变更所述第1方向上的间隔，
所述第3透镜以及所述第4透镜能够变更所述第1方向上的间隔，
所述第3光学系统包括能够变更所述第1方向上的间隔的平凸透镜以及平凹透镜，
所述投影光学系统还具有控制部，该控制部以使所述投影光学系统的倍率成为目标值、且使所述投影光学系统的像散成为目标值的方式，控制所述第1透镜与所述第2透镜在所述第1方向上的间隔、所述第3透镜与所述第4透镜在所述第1方向上的间隔、所述平凸透镜与所述平凹透镜在所述第1方向上的间隔、所述第1透镜及所述第2透镜的一方的旋转角以及所述第3透镜及所述第4透镜的一方的旋转角。
9.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
在所述物面以及所述像面是远心的。
10.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于，
所述第1透镜、所述第2透镜、所述第3透镜以及所述第4透镜包括柱面透镜或者复曲面透镜。
11.一种投影光学系统，将来自物面的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于像面，其特征在于，所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述物面与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述像面之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
12.一种曝光装置，其特征在于，具有：
照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板，
所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，
所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述投影光学系统还具有：
第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；
第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转；以及
控制部，控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
13.一种曝光装置，其特征在于，具有：
照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到基板，
所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，
所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
14.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：
使用曝光装置对基板进行曝光的工序；
使曝光后的所述基板显影的工序；以及
根据显影的所述基板制造物品的工序，
所述曝光装置具有：
照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，
所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，
所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第2方向以及所述第3方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述投影光学系统还具有：
第1旋转部，使所述第1透镜及所述第2透镜的一方绕与所述第1方向平行的第1轴旋转；
第2旋转部，使所述第3透镜及所述第4透镜的一方绕与所述第1方向平行的第2轴旋转；以及
控制部，控制所述第1旋转部以及所述第2旋转部，以使得校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
15.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：
使用曝光装置对基板进行曝光的工序；
使曝光后的所述基板显影的工序；以及
根据显影的所述基板制造物品的工序，
所述曝光装置具有：
照明光学系统，用来自光源的光对掩模进行照明；以及
投影光学系统，将所述掩模的图案的像投影到所述基板，
所述投影光学系统将来自所述掩模的光按照第1平面镜、第1凹面镜、凸面镜、第2凹面镜、第2平面镜的顺序反射而成像于所述基板，
所述投影光学系统具有：
第1光学系统，配置于所述掩模与所述第1平面镜之间，校正与被定义为铅直方向的第1方向正交的第2方向上的所述投影光学系统的倍率；以及
第2光学系统，配置于所述第2平面镜与所述基板之间，校正与所述第1方向及所述第2方向正交的第3方向上的所述投影光学系统的倍率，
所述第1光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第1透镜以及第2透镜，
所述第2光学系统包括沿着所述第1方向排列的、在所述第1方向以及所述第2方向上具有不同的光焦度的第3透镜以及第4透镜，
所述第1透镜以及所述第2透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置、且所述第3透镜以及所述第4透镜的一方按照从相互具有的所述光焦度的方向一致的基准状态旋转后的状态配置，以校正通过利用所述第1光学系统以及所述第2光学系统校正所述投影光学系统的倍率而产生的所述投影光学系统的像散。
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JP2011039172A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP5595001B2 (ja) * 2009-10-06 2014-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP5595015B2 (ja) * 2009-11-16 2014-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法
US20120293861A1 (en) 2011-05-18 2012-11-22 Elbit Systems Of America, Llc System and Method for Correcting Astigmatism Caused by an Aircraft Canopy
JP5782336B2 (ja) * 2011-08-24 2015-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP6410406B2 (ja) 2012-11-16 2018-10-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
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