JPWO2006064728A1 - 投影光学系、露光装置、露光システム及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
Description
u = Btanθ
また、楔プリズム2,4を構成するガラス部材の屈折率をnとしたとき、t1とt2との差の絶対値Δtと、s1とs2との差の絶対値Δsとは、以下のようになる。
Δs = (n−1/n)usinβ
ここで、楔角θ及びY軸回転角βが十分に小さいと仮定すると、
Δt/Δs = n(A/B)
となる。
像側NA: 0.79
露光領域:32×25mmの長方形領域(最大像高20.3mm)
結像倍率: 1/4 倍
中心波長: 248.0nm
石英ガラス(SiO2)屈折率:1.50839
Claims (38)
- 第1面の像を第2面上に形成する投影光学系において、
入射面及び射出面が平面を有し、前記入射面の平面と前記射出面の平面とが所定の第1楔角を有する第1楔プリズムを備え、
前記第1面の法線方向をZ軸方向、前記入射面の平面と前記射出面の平面との交線の方向をX軸方向、前記Z軸方向及び前記X軸方向と直交する方向をY軸方向としたとき、前記第1楔プリズムは略前記Y軸方向を軸として回転可能に構成されることを特徴とする投影光学系。 - 前記第1楔プリズムの近傍に配置されて、入射面及び射出面が平面を有し、前記入射面の平面と前記射出面の平面とが所定の第2楔角を有する第2楔プリズムを備え、
前記第2楔プリズムの前記第2楔角は前記第1楔プリズムの前記第1楔角と略同一であり、前記第1楔プリズムと前記第2楔プリズムとは楔角の方向が略反対方向を向くように配置されることを特徴とする請求項1記載の投影光学系。 - 前記第1楔プリズムは、略前記X軸方向を軸として回転可能に構成されることを特徴とする請求項1または請求項2記載の投影光学系。
- 前記第2楔プリズムは、略前記X軸方向を軸として回転可能に構成されることを特徴とする請求項2記載の投影光学系。
- 前記第1楔プリズムは、略テレセントリックな光路中に配置されることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の投影光学系。
- 前記第2面上に形成される前記第1面の像は縮小像であり、
前記第1楔プリズムは、該投影光学系の光路中の前記第1面側に配置されることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の投影光学系。 - 前記第1楔プリズムは、該投影光学系の光路中の最も前記第1面側に配置されることを特徴とする請求項6記載の投影光学系。
- 前記第2面上に結像される前記第1面のパターンは矩形状であり、
前記X軸方向と前記矩形状の長手方向とが平行であり、前記Y軸方向と前記矩形状の短手方向とが平行であることを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の投影光学系。 - 第2面上に結像される前記第1面のパターンは矩形状であり、
前記X軸方向と前記矩形状の長手方向とは所定の角度をなし、前記Y軸方向と前記矩形状の短手方向とは前記所定の角度をなすことを特徴とする請求項1乃至請求項7の何れか一項に記載の投影光学系。 - 所定のパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、
ほぼ矩形状の視野領域内の前記所定のパターンの像を前記感光性基板上の露光領域内に形成する対物光学系と、
前記露光領域内に形成される前記像を平行四辺形に変形させる変形手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記変形手段は、前記感光性基板上に形成される前記所定のパターンの像を変形させる像変形手段と、
前記像変形手段により変形された前記所定のパターンの像と前記感光性基板とを相対的に回転させる回転手段と、
を備えることを特徴とする請求項10記載の露光装置。 - 前記像変形手段は、前記対物光学系の光軸と直交する面内で非対称的に前記所定のパターンの像を変形させることを特徴とする請求項11記載の露光装置。
- 前記像変形手段は、前記光軸と直交する面内における第1方向での変形量と、前記面内において該第1方向と交差する第2方向での変形量とが異なるように、前記所定のパターンの像を変形させることを特徴とする請求項12記載の露光装置。
- 前記第1方向は前記ほぼ矩形状の視野領域の辺とは異なる方向に設定されることを特徴とする請求項13記載の露光装置。
- 前記像変形手段は、入射面及び射出面が平面を有し、前記入射面の平面と前記射出面の平面とが所定の第1楔角を有する第1楔プリズムを備え、
前記所定のパターンが位置する第1面の法線方向をZ軸方向、前記入射面の平面と前記射出面の平面との交線の方向をX軸方向、前記Z軸方向及び前記X軸方向と直交する方向をY軸方向としたとき、前記第1楔プリズムは略前記Y軸方向を軸として回転可能に構成されることを特徴とする請求項11乃至請求項14の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記第1楔プリズムの近傍に配置されて、入射面及び射出面が平面を有し、前記入射面の平面と前記射出面の平面とが所定の第2楔角を有する第2楔プリズムを備え、
前記第2楔プリズムの前記第2楔角は前記第1楔プリズムの前記第1楔角と略同一であり、前記第1楔プリズムと前記第2楔プリズムとは楔角の方向が略反対方向を向くように配置されることを特徴とする請求項15記載の露光装置。 - 前記回転手段は、前記所定のパターンまたは前記感光性基板を回転させることを特徴とする請求項11乃至請求項16の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記回転手段は、前記対物光学系の少なくとも一部を回転させることを特徴とする請求項11乃至請求項16の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記対物光学系は、光路折曲げ鏡を含み、
前記回転手段は、前記光路折曲げ鏡を回転させることを特徴とする請求項18記載の露光装置。 - 前記回転手段は、前記像変形手段を回転させることを特徴とする請求項11乃至請求項16の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記変形手段は、入射面及び射出面が平面を有し、前記入射面の平面と前記射出面の平面とが所定の第1楔角を有する第1楔プリズムを備え、
前記第1面の法線方向をZ軸方向、前記入射面の平面と前記射出面の平面との交線の方向をX軸方向、前記Z軸方向及び前記X軸方向と直交する方向をY軸方向としたとき、
前記X軸方向及び前記Y軸方向は、前記矩形状の辺の方向とは所定の角度をなし、
前記第1楔プリズムは略前記Y軸方向を軸として回転可能に構成されることを特徴とする請求項10記載の露光装置。 - 前記変形手段は、入射面及び射出面がほぼ平面である平行平面板と、該平行平面板を所定のひねり軸廻りにひねるように変形させるひねり駆動部とを備え、
前記ひねり軸は、前記所定のパターンが位置する第1面と平行な面内であって、前記矩形状の辺の方向のいずれとも非平行な方向に設定されることを特徴とする請求項10記載の露光装置。 - 所定のパターンを感光性基板上に露光する露光装置において、
前記感光性基板上に形成される前記所定のパターンの像を変形させる像変形手段と、
前記像変形手段により変形された前記所定のパターンの像と前記感光性基板とを相対的に回転させる回転手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記像変形手段は、前記所定のパターンの像を形成する対物光学系の光軸と直交する面内で非対照的に前記所定のパターンの像を変形させることを特徴とする請求項23記載の露光装置。
- 前記像変形手段は、前記光軸と直交する面内における第1方向での変形量と、前記面内において該第1方向と交差する第2方向での変形量とが異なるように、前記所定のパターンの像を変形させることを特徴とする請求項24記載の露光装置。
- 前記感光性基板上に形成される前記所定のパターンの像の領域はほぼ矩形状であり、前記第1方向は前記ほぼ矩形状の領域の辺とは異なる方向に設定されることを特徴とする請求項25記載の露光装置。
- 前記回転手段は、前記所定のパターンまたは前記感光性基板を回転させることを特徴とする請求項23乃至請求項26の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記回転手段は、前記対物光学系の少なくとも一部を回転させることを特徴とする請求項23乃至請求項26の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記対物光学系は、光路折曲げ鏡を含み、
前記回転手段は、前記光路折曲げ鏡を回転させることを特徴とする請求項28記載の露光装置。 - 前記回転手段は、前記像変形手段を回転させることを特徴とする請求項23乃至請求項26の何れか一項に記載の露光装置。
- 請求項1乃至請求項9の何れか一項に記載の投影光学系を用いて、前記第1面に配置される所定のパターンを感光性基板上に投影する投影手段を備えることを特徴とする露光装置。
- 前記感光性基板を静止した状態で前記所定のパターンを前記感光性基板上に投影することを特徴とする請求項10乃至請求項31の何れか一項に記載の露光装置。
- 第1パターン形成手段上の第1パターン領域の全体の像を感光性基板上に形成する第1投影手段を備え、前記第1パターン形成手段上の前記第1パターン領域を前記感光性基板上の所定の区画領域に一括的に静止露光する第1露光装置と、
第2パターン形成手段上の第2パターン領域の一部の領域内のパターン像を前記感光性基板上に形成する第2投影手段を備え、前記パターン像及び前記感光性基板を相対移動させつつ、前記第2パターン形成手段上の前記第2パターン領域内のパターンを前記感光性基板上の前記所定の区画領域内に走査露光する第2露光装置とを備え、
前記第1露光装置は、請求項10乃至請求項32の何れか一項に記載の露光装置を備えることを特徴とする露光システム。 - 請求項10乃至請求項32の何れか一項に記載の露光装置を用いて、所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程を含むことを特徴とする露光方法。
- 所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
前記感光性基板上に形成される前記所定のパターンの像を変形させる像変形工程と、
前記像変形工程により変形された前記所定のパターンの像と前記感光性基板とを相対的に回転させる回転工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 第1パターン形成手段上の第1パターン領域全体のパターンの像を感光性基板上の所定の区画領域に、前記第1パターン形成手段及び前記感光性基板を静止させた状態で一括露光する第1露光工程と、
第2パターン形成手段上の第2パターン領域の一部の領域内のパターンの像を前記感光性基板上の前記所定の区画領域内に、前記第2パターン領域内の前記パターンの像及び前記感光性基板を相対移動させつつ走査露光する第2露光工程と、
を含み、
前記第1露光工程は、
前記感光性基板上に形成される前記第1パターン領域全体のパターンの像を変形させる像変形工程と、
前記像変形工程により変形された第1パターン領域全体のパターンの像と前記感光性基板とを相対的に回転させる回転工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 所定のパターンを感光性基板上に露光する露光方法において、
ほぼ矩形状の視野領域内の前記所定のパターンの像を前記感光性基板上の露光領域内に形成する像形成工程と、
前記露光領域内に形成される前記像を平行四辺形状に変形させる変形工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 第1パターン形成手段上の第1パターン領域全体のパターンの像を感光性基板上の所定の区画領域に、前記第1パターン形成手段及び前記感光性基板を静止させた状態で一括露光する第1露光工程と、
第2パターン形成手段上の第2パターン領域の一部の領域内のパターンの像を前記感光性基板上の前記所定の区画領域内に、前記第2パターン領域内の前記パターンの像及び前記感光性基板を相対移動させつつ走査露光する第2露光工程と、
を含み、
前記所定の区画領域はほぼ矩形状であり、
前記第1露光工程は、
ほぼ矩形状の視野領域内の前記所定のパターンの像を前記感光性基板上の露光領域内に形成する像形成工程と、
前記露光領域内に形成される前記像を平行四辺形状に変形させる変形工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。
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