JP4651938B2 - 画像形成用露光装置と、その画像ずれ補正方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 63
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 54
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 41
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 238000007514 turning Methods 0.000 claims description 20
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 13
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 52
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 10
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 9
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Description
補正量ΔDnを次式により算出し、
ΔDn=α×Tf−β×Tn (ここで、αはスペーサフレーム部材の線膨張係数、βは支持部材の線膨張係数とする)
複数の画素を選択的にon/offする手段の駆動制御用の補正データを作成し、
前記作成された補正データに基づいて、複数の画素を選択的にon/offする手段を駆動制御して露光処理を行うことを特徴とする。
[画像形成装置の構成]
図1に示すように、本発明の実施の形態に係る画像形成用露光装置を備えた画像形成装置151は、いわゆるフラットベッド型に構成したものであり、露光対象となる感光材料を表面に配した被露光部材22を吸着して保持する平板状のステージ152を備えている。4本の脚部154に支持された肉厚板状の設置台156の上面には、ステージ移動方向に沿って延びた2本のガイド158が設置されている。ステージ152は、その長手方向がステージ移動方向を向くように配置されると共に、ガイド158によって往復移動可能に支持されている。なお、この画像形成装置151には、ステージ152をガイド158に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられている。
ΔDn=α×Tf−β×Tn
ここで、αはスペーサフレーム部材32の線膨張係数、βは支持部材である支持アーム24部分の線膨張係数である。
ΔDn=α×Tf−β×Tn
ここで、αはスペーサフレーム部材32の線膨張係数、βは支持部材である支持アーム24部分の線膨張係数である。
ΔRn=(Dn−ΔDn)/露光速度
ここで、DnはHmとH(m-1)のヘッド間隔とする。
[画像形成装置の動作]
次に、上述のように構成した画像形成用露光装置を備えた画像形成装置151の動作について説明する。
12 露光ヘッドベース
14 空間光変調素子(DMD)
18 アパーチャアレイ
20 対物レンズ系
22 被露光部材
24 支持アーム
26 支持台部
27 位置決めブロック
28 支持アーム
29 位置決め用V字溝
30 露光装置
32 スペーサフレーム部材
32A 開口
34 サーミスタ
44 DMDコントローラ
46 露光用駆動部コントローラ
Claims (9)
- 複数の画素を選択的にon/offする手段を有する露光用の光学部材を露光ヘッドベースに取り付けて構成されている複数の露光ヘッドと、
記録面に配置された感光材料上に前記露光ヘッドから照射され結像されたビームスポットを前記感光材料に対して主走査方向に相対的に移動させながら前記光学部材で変調し、前記感光材料上に露光する光学系と、を備え、
複数の前記露光用の光学部材同士を主走査方向上流側と下流側とから隣接する状態で千鳥形に配列し、主走査方向上流側の前記光学部材を、主走査方向上流側に配置された露光ヘッドベースの下流側面に、主走査方向下流側の前記光学部材を、主走査方向下流側に配置された露光ヘッドベースの上流側面に、それぞれ取り付けたことを特徴とする画像形成用露光装置。 - 複数の画素を選択的にon/offする手段を有する露光用の光学部材が、露光ヘッドベースから突設された支持部材に取り付けられて構成されている露光ヘッドと、
複数の前記露光ヘッドを、前記露光用の光学部材同士が隣接するように前記各支持部材をそれぞれ内側に向けて突出させて千鳥形に配列した状態にすることにより相対向するよう並べられる複数の前記露光ヘッドベース間に、橋渡すように架設されたスペーサフレーム部材と、
を有することを特徴とする画像形成用露光装置。 - 温度変化で伸縮する前記支持部材に支持された前記露光用の光学部材の移動量を、前記スペーサフレーム部材の熱伸縮量で相殺するように、前記支持部材を形成する材料の線膨張係数と、前記スペーサフレーム部材を形成する材料の線膨張係数とを、選択して構成したことを特徴とする請求項2に記載の画像形成用露光装置。
- 前記スペーサフレーム部材の温度を検出する温度検出手段と、
前記温度検出手段で検出された温度から位置ずれ量を算出し、画像データに対しずれ量を補正するための補正データを作成する補正データ作成手段と、
前記補正データに基づいて、前記複数の画素を選択的にon/offする手段を駆動制御する駆動制御手段と、
を有することを特徴とする請求項2または請求項3に記載の画像形成用露光装置。 - 前記複数の画素を選択的にon/offする手段は、入力された画像データに応じて光源からの光を変調する空間光変調素子であることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか1項に記載の画像形成用露光装置。
- 前記空間光変調素子がデジタル・マイクロミラー・デバイス(DMD)であることを特徴とする請求項5に記載の画像形成用露光装置。
- 前記デジタル・マイクロミラー・デバイスにおける画素ミラーのオン、オフ時の前記画素ミラー傾斜方向が同一方向となるように、前記複数の露光ヘッドに前記各デジタル・マイクロミラー・デバイスを実装したことを特徴とする請求項6に記載の画像形成用露光装置。
- 相対向して配置される複数の、前記複数の画素を選択的にon/offする手段における、制御上の前記各画素に対するアドレスの設定状態が一致するように実装したことを特徴とする請求項1〜請求項7の何れか1項に記載の画像形成用露光装置。
- 複数の画素を選択的にon/offする手段を有する露光用の光学部材が露光ヘッドベースから突設された支持部材に取り付けられて構成されている露光ヘッドの複数を、前記露光用の光学部材同士が隣接するように前記各支持部材がそれぞれ内側に向いて突出した状態にして千鳥形に配列することにより外側に相対向するよう並んだ複数の前記露光ヘッドベース間に、橋渡すように架設されたスペーサフレーム部材を設置して構成した画像形成用露光装置におけるスペーサフレーム部材の温度Tfと支持部材部分の温度Tnとの温度変化を温度検出手段で検出し、
補正量ΔDnを次式により算出し、
ΔDn=α×Tf−β×Tn (ここで、αはスペーサフレーム部材の線膨張係数、βは支持部材の線膨張係数とする)
複数の画素を選択的にon/offする手段の駆動制御用の補正データを作成し、
前記作成された補正データに基づいて、複数の画素を選択的にon/offする手段を駆動制御して露光処理を行うことを特徴とする画像ずれ補正方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003429124A JP4651938B2 (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 画像形成用露光装置と、その画像ずれ補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003429124A JP4651938B2 (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 画像形成用露光装置と、その画像ずれ補正方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005189403A JP2005189403A (ja) | 2005-07-14 |
JP4651938B2 true JP4651938B2 (ja) | 2011-03-16 |
Family
ID=34787880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003429124A Expired - Lifetime JP4651938B2 (ja) | 2003-12-25 | 2003-12-25 | 画像形成用露光装置と、その画像ずれ補正方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4651938B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2020176178A1 (en) * | 2019-02-25 | 2020-09-03 | Applied Materials, Inc. | Dynamic cooling control for thermal stabilization for lithography system |
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