JP2007225886A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板Pに投影されたパターンに対して、基板Pを走査方向に走査させて基板P上にパターンを形成する露光装置において、走査方向と交差する方向に所定の間隔で配置され、パターンを投影する複数の投影光学系PL1と、パターンを形成する基板Pと複数の投影光学系PL1とを相対的に走査方向に移動させる移動機構PSTと、移動機構PSTによる走査方向に走査する第1の走査及び第2の走査を含む走査露光により基板P上にパターンを形成する際に、第1の走査における複数の投影光学系PL1で投影される第1のパターン像に対して、第1の走査後に第2の走査での複数の投影光学系PL1で投影される第2のパターン像を調整する像調整部とを備える。
【選択図】 図1
Description
Lr=Lp/2
と表せるような関係となる。したがって、この実施の形態では、先に述べた所定量ステップ移動させる量は、ほぼ(Lp/2)に等しい量となる。この場合、複数の投影光学系を千鳥上に配置した場合に比べ半分程度の投影光学系の数にすることができ、また、それぞれの調整機構を半分程度にすることができるだけでなく、投影光学ブロックとしての調整時間も投影光学系の数を減らすことにより短縮化することができる。
Claims (18)
- 基板に投影されたパターンに対して、前記基板を走査方向に走査させて前記基板上に前記パターンを形成する露光装置において、
前記走査方向と交差する方向に所定の間隔で配置され、前記パターンを投影する複数の投影光学系と、
前記パターンを形成する前記基板と前記複数の投影光学系とを相対的に前記走査方向に移動させる移動機構と、
前記移動機構による前記走査方向に走査する第1の走査及び第2の走査を含む走査露光により前記基板上にパターンを形成する際に、前記第1の走査における前記複数の投影光学系で投影される第1のパターン像に対して、前記第1の走査後に前記第2の走査での前記複数の投影光学系で投影される第2のパターン像を調整する像調整部と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記第1の走査と前記第2の走査との間において、前記複数の投影光学系と前記基板とを前記走査方向と交差する方向に相対的にステップさせるステップ移動機構を備えることを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記像調整部は、前記複数の投影光学系のそれぞれに設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2記載の露光装置。
- 前記像調整部は、前記基板上における前記複数の投影光学系で投影される各パターン像の少なくとも1つのパターン像の倍率または位置を調整することを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記基板上における前記第1のパターン像と前記第2のパターン像との相対的な位置関係は、それぞれの前記パターン像の一部が重複するとともに、前記走査方向と交差する方向で互いに配置される位置関係であることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記基板を載置する基板ステージは、前記走査方向と交差する方向に沿って配置され、前記複数の投影光学系により投影されるパターン像を計測する複数の計測部を備え、
前記第1の走査後における計測と前記第2の走査前における計測とで前記パターン像の重複する部分での前記パターン像の計測は、前記複数の計測部のうち同一の前記計測部を用いることを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記基板ステージは、前記走査方向と交差する方向に沿って配置され、前記複数の投影光学系からの照明光の照度を計測する複数の照度計測部を備え、
前記第1の走査後における前記照度の計測と前記第2の走査前における前記照度の計測とで前記パターン像の重複する部分での各照度の計測は、前記複数の照度計測部のうち同一の前記照度計測部を用いることを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の露光装置。 - 前記複数の照度計測部は、前記複数の照度計測部と前記複数の投影光学系との相対位置関係を前記走査方向と交差する方向に変更するようにして、前記複数の投影光学系からの前記照明光の照度を複数回計測して、前記複数の照度計測部のオフセット管理を行なうことを特徴とする請求項7記載の露光装置。
- 前記第1の走査と前記第2の走査とは、互いに略逆の方向に走査する関係であることを特徴とする請求項1乃至請求項8の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記パターンは、前記マスクに形成された原画パターンが前記複数の投影光学系により前記基板に投影されることを特徴とする請求項1乃至請求項9の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記基板ステージに前記基板が載置された後に、前記基板の位置情報を読み取る位置検出部を少なくとも2つ設けることを特徴とする請求項1乃至請求項10の何れか一項に記載の露光装置。
- 前記基板は、フラットパネル表示素子用の基板であることを特徴とする請求項1乃至請求項11の何れか一項に記載の露光装置。
- 投影光学系と基板とを相対的にかつ、少なくとも第1の走査及び第2の走査をさせて所定のパターンを露光する露光方法において、
前記第1の走査の露光と前記第2の走査の露光との間に、前記第1の走査の露光の際に前記投影光学系で投影露光される第1のパターンに対して前記第2の走査の露光の際に投影露光される第2のパターンが所定の関係となるように前記投影光学系の調整を行なうことを特徴とする露光方法。 - 前記第1の走査での前記投影光学系の光学特性を計測する第1ステップと、
前記第2の走査での前記投影光学系の光学特性を計測する第2ステップと、
前記第1ステップで計測した光学特性と前記第2ステップで計測した光学特性とに基づいて、前記第2の走査による露光の際の前記投影光学系の光学特性を補正する調整ステップと、
を含むことを特徴とする請求項13記載の露光方法。 - 前記第1の走査と前記第2の走査とは、互いに略逆の方向に走査する関係であることを特徴とする請求項13または請求項14記載の露光方法。
- 前記第1のパターンと前記第2のパターンとは、互いに一部を重複するように露光されることを特徴とする請求項13乃至請求項15の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記基板は、フラットパネル表示素子用の基板であることを特徴とする請求項13乃至請求項16の何れか一項に記載の露光方法。
- 前記基板は、該基板の外径が500mmよりも大きいことを特徴とする請求項13乃至請求項17の何れか一項に記載の露光方法。
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