JP2016148828A - 光照射装置および光照射方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ツインステージ方式において、ステージ同士を干渉させることなく効率的に光照射処理を行うことができる光照射装置および光照射方法を提供する。【解決手段】光照射装置は、第一のワークが載置された第一のステージと、第二のワークが載置された第二のステージと、第一のステージ及び第二のステージの移動を個別に制御する制御部と、第一のステージ及び第二のステージの姿勢を光照射時の姿勢とする回転制御部と、備える。ここで、制御部は、各ステージが、照射領域内を最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、照射領域外の復路を最大移動速度で移動し、照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らない移動速度で移動するよう制御する。また、回転制御部は、第一のステージ及び第二のステージが、それぞれの待機位置から照射領域に到達する前の回転許容位置までの区間を往路移動している間を回転動作可能区間とする。【選択図】 図１

Description

本発明は、光照射装置および光照射方法に関し、特に、同一軸上を往復移動可能な２つのワークステージを備え、当該ワークステージ上のワークに交互に光を照射する光照射装置及び光照射方法に関する。

近年、液晶パネルをはじめとする液晶表示素子の配向膜や、視野角補償フィルムの配向層などの配向処理に関し、所定の波長の偏光光を照射して配向を行う、光配向と呼ばれる技術が採用されている。
光配向に用いる光照射装置は、光照射領域の幅に相当する長さを有する棒状の光源と、当該光源からの光を偏光する偏光素子とを備え、光源の長手方向に対して直交する方向に搬送されるワークに対して偏光光を照射する。

このような光照射装置として、例えば特許文献１に記載の技術がある。この技術は、ツインステージ方式を採用したものであり、照射領域の一方の側に設定された第一のワーク搭載位置と照射領域との間を往復移動可能な第一のステージと、照射領域の他方の側に設定された第二のワーク搭載位置と照射領域との間を往復移動可能な第二のステージとを備える。そして、第一のステージと第二のステージとを交互に照射領域に移動して、ステージ上のワークに光を照射することで、一方のステージしか備えていない場合と比較してタクトタイムを削減する。

特開２０１４−１７４３５２号公報

上記特許文献１に記載の技術では、更なるタクトタイムの短縮を目的として、一方のステージが復路移動（照射領域からワーク搭載位置へ戻る移動）に続くように、他方のステージの往路移動（ワーク搭載位置から照射領域へ向かう移動）を開始してもよいとしている。
しかしながら、各ステージは、照射領域内を移動している間（偏光光を照射している間）と、照射領域外を移動している間とでステージの移動速度が異なる。具体的には、各ステージは、照射領域外を移動してワークの搬送のみをしている場合には、高速で移動することができるが、照射領域内を移動している間は、所定の露光量を得るために低速で移動する場合がある。

そのため、単に、一方のステージの復路移動開始のタイミングと、他方のステージの往路移動開始のタイミングとを同期させるだけでは、上記の移動速度差によってステージ間で干渉が発生してしまうおそれがある。
そこで、本発明は、ツインステージ方式において、ステージ同士を干渉させることなく効率的に光照射処理を行うことができる光照射装置および光照射方法を提供することを課題としている。

上記課題を解決するために、本発明に係る光照射装置の一態様は、予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージと、前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように、前記第一のステージ及び前記第二のステージの移動を個別に制御する制御部と、前記第一のステージ及び前記第二のステージの、ステージ面に対して直交する軸回りの回転を個別に制御し、当該ステージの姿勢を光照射時の姿勢とする回転制御部と、を備え、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージが、前記照射領域内を予め設定された最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、前記照射領域外の復路を前記最大移動速度で移動し、前記照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らない移動速度で移動するよう制御し、前記回転制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージが、それぞれの待機位置から前記照射領域に到達する前の回転許容位置までの区間を往路移動している間を、前記回転が可能な回転動作可能区間とする。

このように、ワークが載置された２つのステージを備え、各ワークに交互に光を照射する、所謂ツインステージ方式を採用する。これにより、一方のステージへの光照射中に、他方のステージにおけるワーク交換作業等を行うことができる。したがって、ステージが１つのみである場合と比較してタクトタイムを削減し、生産性を向上させることができる。また、照射領域外を往路移動するステージを、ステージ間距離が最近接距離を下回らないような移動速度で移動させるので、第一のステージと第二のステージとの間に移動速度差が存在する場合であっても、ステージ間の干渉が発生することなく効率的に光照射処理を行うべくステージを移動させることができる。
さらに、回転制御部を備えることで、例えばワークに偏光光を照射する場合、ワークの向きを偏光光の偏光軸に対して所定の向きにセットして光照射処理を行うことができる。また、ステージの回転制御を往路移動中に行うことで、タクトタイムが長くなるのを抑制することができる。

また、上記の光照射装置において、前記回転許容位置は、前記回転制御部による非回転制御対象のステージが往路移動しているとき、当該非回転制御対象のステージが往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置から、前記最近接距離だけ回転制御対象の待機位置側に設定し、前記非回転制御対象のステージが復路移動しているとき、当該非回転制御対象のステージの位置から、前記最近接距離だけ前記回転制御対象の待機位置側に設定してもよい。
これにより、ステージ間の干渉を回避しつつ、往路移動中の回転制御を可能とすることができる。

また、上記の光照射装置において、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、前記ステージ間距離が前記最近接距離よりも長いときは、前記一方のステージを前記最大移動速度で移動し、前記ステージ間距離が前記最近接距離以下であるときは、前記一方のステージを前記他方のステージの移動速度で移動してもよい。
このように、ステージ間の干渉が発生しない位置まで比較的高速で往路移動させ、その後、先行移動するステージに追従させるため、ステージ間の干渉が回避しつつ照射領域に早く到達させることができる。そのため、一方のワークに対して光照射処理を行った後、すぐに他方のワークに対して光照射処理を行うことができ、タクトタイムの更なる短縮を実現することができる。

さらに、上記の光照射装置において、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、前記一方のステージを、前記他方のステージに追従移動させてもよい。
このように、照射領域外を往路移動するステージを、他方のステージと同じ移動速度で移動させるので、第一のステージと第二のステージとの間に移動速度差が存在する場合であっても、確実にステージ間の干渉を防止することができる。

また、上記の光照射装置において、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、前記他方のステージの復路移動方向における後端部位置が、前記照射領域における前記一方のステージの待機位置側の端部位置よりも前記他方のステージの待機位置側にあるときは、前記一方のステージを前記端部位置まで前記最大移動速度で移動させてもよい。
これにより、照射領域外を往路移動するステージは、先行移動するステージが完全に照射領域内に入ると、ステージ間距離にかかわらず照射領域の入口まで比較的高速で移動することができる。したがって、２つのワークのうち少なくとも一方のワークに常に光照射処理を行っている状態とすることも可能となり、更なるタクトタイムの短縮が可能となる。

さらにまた、上記の光照射装置において、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間、他方のステージの往路移動を禁止してもよい。
これにより、一方のステージが復路移動を開始してから他方のステージの往路移動を開始することができ、２つのステージが共に往路移動する状況を回避することができる。したがって、ステージ同士の干渉を確実に回避することができる。

また、上記の光照射装置において、前記制御部は、前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間に、前記一方のステージの往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置に対して前記最近接距離だけ他方のステージの待機位置側に設定された目標停止位置へ向けて、前記他方のステージの往路移動を開始し、前記他方のステージが前記目標停止位置に到達したときに、前記一方のステージが往路移動しているとき、前記他方のステージを、前記一方のステージが復路移動を開始するまで前記目標停止位置で停止してもよい。
このように、一方のステージが往路移動しているときに、他方のステージの往路移動を開始するので、より効率的に２つのワークに対する光照射処理を行うことができる。

また、上記の光照射装置において、前記ステージ間距離は、前記第一のステージの往路移動方向における先端位置と、前記第二のステージの往路移動方向における先端位置との間の前記搬送軸方向の距離であってもよい。
このように、各ステージの往路移動方向における先端位置同士の距離をステージ間距離とするので、各ステージの形状やステージ面に直交する軸回りの回転角度等に違いが生じている場合であっても、ステージ間の干渉を回避したステージ移動制御が可能となる。
さらにまた、上記の光照射装置において、前記光は偏光光であってもよい。このように、ワークに対して偏光光を照射し光配向処理を行う偏光光照射装置にも適用可能である。
また、上記の光照射装置において、前記第一のワーク及び前記第二のワークに対して、往路移動と復路移動の双方で前記光を照射してもよい。これにより、エネルギーの無駄無く光照射処理を行うことができる。

さらに、本発明に係る光照射方法の一態様は、
予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射方法であって、第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージとを、前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように個別に制御するに際し、前記第一のステージ及び前記第二のステージが、前記照射領域内を予め設定された最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、前記照射領域外の復路を前記最大移動速度で移動し、前記照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らないような移動速度で移動するよう制御する。また、前記第一のステージ及び前記第二のステージが、それぞれの待機位置から前記照射領域に到達する前の回転許容位置までの区間を往路移動している間を、前記回転が可能な回転動作可能区間して、前記第一のステージ及び前記第二のステージの、ステージ面に対して直交する軸回りの回転を個別に制御し、当該ステージの姿勢を光照射時の姿勢とする。

このように、ワークが載置された２つのステージを備え、各ワークに交互に光を照射する、所謂ツインステージ方式を採用する。これにより、一方のステージへの光照射中に、他方のステージにおけるワーク交換作業等を行うことができる。したがって、ステージが１つのみである場合と比較してタクトタイムを削減し、生産性を向上させることができる。また、照射領域外を往路移動するステージを、ステージ間距離が最近接距離を下回らないような移動速度で移動させるので、第一のステージと第二のステージとの間に移動速度差が存在する場合であっても、ステージ間の干渉が発生することなく効率的に光照射処理を行うべくステージを移動させることができる。さらに、ワークの向きを偏光光の偏光軸に対して所定の向きにセットして光照射処理を行うことができる。また、ステージの回転制御を往路移動中に行うことで、タクトタイムが長くなるのを抑制することができる。

本発明の光照射装置では、ツインステージ方式において、往路移動するステージを、他方のステージとのステージ間距離が最近接距離を下回らないような移動速度で移動させることができる。したがって、第一のステージと第二のステージとの間に移動速度差が存在する場合であっても、ステージ同士を干渉させることなく効率的に光照射処理を行うことができる。さらに、ステージの回転制御を往路移動中に行うことで、タクトタイムが長くなるのを抑制することができる。

本実施形態の偏光光照射装置を示す概略構成図である。 各ステージの移動区間について説明する図である。 ステージ間距離について説明する図である。 ステージ間距離について説明する図である。 第一の実施形態のステージ速度制御処理手順を示すフローチャートである。 第一の実施形態の動作を説明する図である。 第一の実施形態の動作を説明する図である。 第一の実施形態の動作を説明する図である。 第一の実施形態の動作を説明する図である。 第一の実施形態の動作を説明する図である。 第二の実施形態のステージ速度制御処理手順を示すフローチャートである。 第二の実施形態の動作を説明する図である。 第二の実施形態の動作を説明する図である。 第二の実施形態の動作を説明する図である。 第三の実施形態の動作を説明する図である。 第三の実施形態の動作を説明する図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
（第一の実施形態）
図１は、本実施形態の偏光光照射装置を示す概略構成図である。
偏光光照射装置１００は、光照射部１０Ａ及び１０Ｂと、ワークＷを搬送する搬送部２０とを備える。ここで、ワークＷは、光配向膜が形成された、例えば液晶パネルの大きさに整形された矩形状の基板である。
偏光光照射装置１００は、光照射部１０Ａ及び１０Ｂから所定の波長の偏光光（偏光した光）を照射しながら、搬送部２０によってワークＷを直線移動させ、ワークＷの光配向膜に上記偏光光を照射して光配向処理をするものである。

光照射部１０Ａ及び１０Ｂは、線状の光源であるランプ１１と、ランプ１１の光を反射するミラー１２とをそれぞれ備える。また、光照射部１０Ａ及び１０Ｂは、その光出射側に配置された偏光子ユニット１３をそれぞれ備える。さらに、光出射部１０Ａ及び１０Ｂは、ランプ１１、ミラー１２及び偏光子ユニット１３を収容するランプハウス１４をそれぞれ備える。
光照射部１０Ａ及び光照射部１０Ｂは、ランプ１１の長手方向をワークＷの搬送方向（Ｘ方向）に直交する方法（Ｙ方向）に一致させた状態で、ワークＷの搬送方向（Ｘ方向）に沿って並設されている。

以下、光照射部１０Ａ及び１０Ｂの具体的構成について説明する。
ランプ１１は長尺状のランプであり、その発光部が、ワークＷの搬送方向に直交する方向の幅に対応する長さを有する。このランプ１１は、例えば、高圧水銀ランプや、水銀に他の金属を加えたメタルハライドランプ等であり、波長２００ｎｍ〜４００ｎｍの紫外光を放射する。
光配向膜の材料としては、波長２５４ｎｍの光で配向されるもの、波長３１３ｎｍの光で配向されるもの、波長３６５ｎｍの光で配向されるものなどが知られており、光源の種類は必要とされる波長に応じて適宜選択する。
なお、光源としては、紫外光を放射するＬＥＤやＬＤを直線状に並べて配置した線状光源を用いることもできる。その場合、ＬＥＤやＬＤを並べる方向がランプの長手方向に相当する。

ミラー１２は、ランプ１１からの放射光を所定の方向に反射するものであり、その断面が楕円形または放物線状の樋状集光鏡である。ミラー１２は、その長手方向がランプ１１の長手方向と一致するように配置されている。
ランプハウス１４は、その底面に、ランプ１１からの放射光およびミラー１２による反射光が通過する光出射口を有する。偏光子ユニット１３は、ランプハウス１４の光出射口に取り付けられ、当該光出射口を通過する光を偏光する。
偏光子ユニット１３は、複数の偏光子をランプ１１の長手方向に沿って並んで配置した構成を有する。これら複数の偏光子は、例えばフレーム等により支持されている。
偏光子は、例えば、ワイヤーグリッド型偏光素子であり、偏光子の個数は、偏光光を照射する領域の大きさに合わせて適宜選択する。なお、各偏光子は、それぞれ透過軸が同一方向を向くように配置されている。

搬送部２０は、ワークＷをそれぞれ保持する第一のステージ２１Ａ及び第二のステージ２１Ｂを備える。これら２つのステージ２１Ａ，２１Ｂは、真空吸着等の方法によりワークＷを吸着保持する平板状のステージである。なお、本実施形態では、各ステージ２１Ａ，２１Ｂ及びワークＷを矩形状としているが、これに限定するものではなく、任意の形状とすることができる。また、ワークＷを平板状のステージで吸着保持する構成に限定されるものではなく、複数のピンによってワークＷを吸着保持する構成であってもよい。

また、搬送部２０は、ステージ２１Ａ及び２１Ｂの移動方向に沿って延びる２本のガイド２２と、ステージ２１Ａ及び２１Ｂの移動機構を一例として構成する電磁石２３Ａ及び２３Ｂとを備える。ここでは、上記移動機構として、例えば、リニアモータステージを採用する。リニアモータステージは、碁盤目状に強磁性体の凸極が設けられた平面状のプラテンの上に移動体（ステージ２１Ａ，２１Ｂ）をエアーにより浮上させ、移動体に磁力を印加して、移動体とプラテンの凸極との間の磁力を変化させることにより、当該移動体を移動する機構である。なお、上記移動機構としては、例えばボールねじを用いた機構を採用することもできる。
このように、ステージ２１Ａ及び２１Ｂは、共通の搬送軸であるガイド２２に沿って往復移動可能に構成されている。

さらに、搬送部２０は、ステージ２１Ａ及び２１Ｂをそれぞれθ方向（Ｚ軸回り）に回転可能なθ移動機構２４Ａ及び２４Ｂを備える。すなわち、ステージ２１Ａ及び２１Ｂは、それぞれ固定ベース２５Ａ及び２５Ｂの上に、θ方向に回転可能に取り付けられており、その回転角度がθ移動機構２４Ａ及び２４Ｂによって調整されるようになっている。
ステージ２１Ａ及び２１Ｂの移動経路は、光照射部１０Ａ及び１０Ｂの真下を通るように設計されている。搬送部２０は、ワークＷを光照射部１０Ａ及び１０Ｂによる偏光光の照射領域に搬送し、且つその照射領域を通過させるように構成されている。さらに、搬送部２０は、ワークＷが照射領域を完全に通過した後、当該ワークＷを折り返し、再び当該照射領域を通過させるように構成されている。この往路移動と復路移動の双方で、ワークＷの光配向膜が光配向処理される。

図２は、ステージ２１Ａ及び２１Ｂの移動区間について説明する図である。
第一のステージ２１Ａは、偏光光の照射領域１５の一方の側に設定されたワーク搭載位置である基板搭載位置（第一の待機位置）Ｐ１１から、照射領域１５の他方の側に設定された折り返し位置Ｐ１２までの区間を往復移動可能である。また、第二のステージ２１Ｂは、照射領域１５を挟んで基板搭載位置Ｐ１１とは反対側に設定されたワーク搭載位置である基板搭載位置（第二の待機位置）Ｐ２１から、照射領域１５を挟んで折り返し位置Ｐ１２とは反対側に設定された折り返し位置Ｐ２２までの区間を往復移動可能である。

ここで、第一のステージ２１Ａについては、基板搭載位置Ｐ１１から折り返し位置Ｐ１２へ向かう移動を往路移動とする。同様に、第二のステージについても、基板搭載位置Ｐ２１から折り返し位置Ｐ２２へ向かう移動を往路移動とする。また、基板搭載位置とは、ステージ上に載置される基板（ワークＷ）の交換作業及びアライメント作業を行う位置であり、折り返し位置とは、照射領域１５と他方のステージの基板搭載位置との間に設定された、ステージの往路移動から復路移動への切替位置である。

例えば、第一のステージ２１Ａの移動区間（Ｐ１１〜Ｐ１２）のＸ方向距離Ｌ１と、第二のステージ２１Ｂの移動区間（Ｐ２１〜Ｐ２２）のＸ方向距離Ｌ２とは、略等しく設定する。また、第一のステージ２１Ａの基板搭載位置と照射領域１５との間には、第二のステージ２１Ｂがθ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、照射領域１５を通過できる分以上のスペースを確保する。同様に、第二のステージ２１Ｂの基板搭載位置と照射領域１５との間には、第一のステージ２１Ａがθ方向の回転移動によりいずれの姿勢となっていても、照射領域１５を通過できる分以上のスペースを確保する。

各ステージ２１Ａ及び２１Ｂの基本動作は、以下のとおりである。
第一のステージ２１Ａは、基板搭載位置Ｐ１１で、ワークＷの交換作業及びアライメント作業が行われ、アライメント完了後、θ移動機構２４Ａによって回転移動される。これにより、ワークＷの向きを偏光光の偏光軸に対して所定の向きにする。
その後、第一のステージ２１Ａは、照射領域１５へ向けて往路移動を開始する。そして、照射領域１５を通過して折り返し位置Ｐ１２に到達すると、復路移動を開始し、基板搭載位置Ｐ１１まで引き返す。この基板搭載位置Ｐ１１では、再びワークＷの交換作業及びアライメント作業が行われ、アライメント完了後、第一のステージ２１Ａは、再び照射領域１５へ向けて往路移動を開始する。この動作を繰り返す。

第二のステージ２１Ｂも同様に、基板搭載位置Ｐ２１で、ワークＷの交換作業及びアライメント作業が行われ、アライメント完了後、θ移動機構２４Ｂによって回転移動されて照射領域１５へ向けて往路移動を開始する。このときの第二のステージ２１Ｂの回転角度は、第一のステージ２１Ａの回転角度とは異なる場合もある。そして、第二のステージ２１Ｂは、照射領域１５を通過して折り返し位置Ｐ２２に到達すると復路移動を開始し、基板搭載位置Ｐ２１まで引き返す。この動作を繰り返す。

また、各ステージ２１Ａ及び２１Ｂは、通常動作として、基板搭載位置から照射領域１５へ向かう往路移動中、及び照射領域１５から基板搭載位置へ戻る復路移動中の移動速度が、比較的高速な第一の移動速度（最大移動速度）Ｖ１に設定され、それ以外の領域（照射領域１５内、及び照射領域１５と折り返し位置との間）での移動速度は、第一の移動速度Ｖ１よりも低速な第二の移動速度Ｖ２に設定されている。
制御部３０は、上記のステージ動作を実現するようステージの移動機構である搬送部２０（図１参照）の各部を制御する。このとき、制御部３０は、搬送軸と平行に配置されたリニアスケール３１から各ステージ２１Ａ及び２１Ｂの位置情報を取得し、取得した位置情報をもとに各ステージ２１Ａ及び２１Ｂの速度情報を算出する。そして、制御部３０は、取得した位置情報及び算出した速度情報に基づいて、各ステージ２１Ａ及び２１Ｂの目標移動位置及び目標移動速度を算出し、これを搬送部２０の各部に出力する。

また、制御部３０は、第一のステージ２１Ａと第二のステージ２１Ｂとが上記のように共通の搬送軸上を繰り返し往復移動している間、両者が干渉しないように各ステージ２１Ａ及び２１Ｂの移動速度を制御する。
具体的には、一方のステージが往路移動している間は、他方のステージの復路移動のみを許可し、往路移動を禁止する。また、一方のステージが復路移動をしており、他方のステージが照射領域外を往路移動している間は、Ｘ方向におけるステージ間距離（後述するＬａ）が、予め設定した最近接距離（後述するＬ０）よりも接近しないように往路移動しているステージの移動速度を制御する。

ここで、最近接距離Ｌ０は、仮に先行移動するステージが緊急停止した場合であっても、ステージ間で干渉が発生することなく後続のステージを停止することができる程度の余裕距離である。この最近接距離Ｌ０は、例えば、最大移動速度である第一の移動速度Ｖ１に基づいて設定することができる。
各ステージ２１Ａ及び２１Ｂは、上述したようにθ方向に回転可能に構成されている。したがって、上記ステージ間距離Ｌａは、図３に示すように、第一のステージ２１Ａの往路方向（図３の右方向）の最先端位置Ｐ１３と、第二のステージ２１Ｂの往路方向（図３の左方向）の最先端位置Ｐ２３とのＸ方向距離とする。

また、各ステージ２１Ａ及び２１Ｂは、θ方向の回転角度を個別に制御可能であり、図４に示すように、第一のステージ２１Ａと第二のステージ２１Ｂとは回転方向が異なる場合がある。この場合にも、第一のステージ２１Ａの往路方向の最先端位置Ｐ１４と、第二のステージ２１Ｂの往路方向の最先端位置Ｐ２４との距離を、上記ステージ間距離Ｌａとする。
図５は、制御部３０で実行するステージ速度制御処理手順を示すフローチャートである。この図５に示す処理は、制御部３０が第一のステージ２１Ａの移動速度を制御する場合に実行する処理である。なお、第二のステージ２１Ｂの移動速度を制御する処理についても、以下の説明における「第一のステージ」を「第二のステージ」、「第二のステージ」を「第一のステージ」と読み替えればよいだけであるため、ここでは説明を省略する。

先ずステップＳ１で、制御部３０は、第一のステージ２１Ａが復路移動中であるか否かを判定する。ここでは、制御部３０は、第一のステージ２１Ａの位置情報をもとに、第一のステージ２１Ａの位置及び移動方向を判定し、第一のステージ２１Ａが復路移動中であるか否かを判定する。
そして、このステップＳ１で、第一のステージ２１Ａが復路移動中であると判定した場合には、ステップＳ２に移行する。一方、第一のステージ２１Ａが復路移動中ではない、即ち往路移動中、若しくは基板搭載位置で停止中であると判定した場合には、ステップＳ３に移行する。

ステップＳ２では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａを通常動作するよう目標移動速度を設定し、これを第一のステージ２１Ａの移動機構に出力する。すなわち、第一のステージ２１Ａが照射領域１５へ向かう往路移動中、若しくは照射領域１５から基板搭載位置へ戻る復路移動中である場合には、目標移動速度を第一の移動速度Ｖ１に設定し、それ以外の領域にいる場合には、目標移動速度を第二の移動速度Ｖ２に設定する。そして、設定した目標移動速度を第一のステージ２１Ａの移動機構に出力する。

ステップＳ３では、制御部３０は、第二のステージ２１Ｂが往路移動中であるか否かを判定する。ここでは、制御部３０は、第二のステージ２１Ｂの位置情報をもとに、第二のステージ２１Ｂの移動方向を判定し、第二のステージ２１Ｂが往路移動をしているか否かを判定する。そして、第二のステージ２１Ｂが往路移動をしていると判定した場合には、ステップＳ４に移行し、第二のステージ２１Ｂが復路移動をしていると判定した場合には、ステップＳ５に移行する。

ステップＳ４では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａを基板搭載位置で待機させる。すなわち、制御部３０は、第一のステージ２１Ａを停止するよう目標移動速度を０に設定し、これを第一のステージ２１Ａの移動機構に出力してから後述するステップＳ９に移行する。
ステップＳ５では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａの少なくとも一部が照射領域１５内に存在するか否かを判定する。そして、第一のステージ２１Ａが照射領域１５内に存在する場合にはステップＳ２に移行し、照射領域１５外に存在する場合にはステップＳ６に移行する。

ステップＳ６では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａと第二のステージ２１Ｂとのステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０よりも長いか否かを判定する。ここで、ステージ間距離Ｌａは、上述したように、第一のステージ２１Ａの往路方向の最先端位置と、第二のステージ２１Ｂの往路方向の最先端位置とのＸ方向距離である。各ステージの往路方向の最先端位置は、ステージの位置、ステージサイズ、及びステージの回転角度に基づいて計算によって求められる。

そして、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０よりも長い場合には、第一のステージ２１Ａを通常動作させるものと判断してステップＳ２に移行し、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０に達している場合にはステップＳ７に移行する。
ステップＳ７では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａが照射領域１５に到達するまでの距離（照射領域到達距離Ｌｂ）を算出し、その照射領域到達距離Ｌｂと最近接距離Ｌ０とを比較する。ここで、照射領域到達距離Ｌｂとは、図６に示すように、第一のステージ２１Ａの往路方向の最先端位置から、照射領域１５における第一のステージ２１Ａの基板搭載位置側の端部位置までの距離である。この照射領域到達距離Ｌｂは、第一のステージ２１Ａの最先端位置が照射領域１５の入口（図６の左端部位置）よりも後退側（図６の左側）に位置しているとき、Ｌｂ＞０とし、第一のステージ２１Ａの最先端位置が照射領域１５の入口よりも前進側（図６の右側）に位置しているとき、Ｌｂ＝０とする。

そして、照射領域到達距離Ｌｂが最近接距離Ｌ０以上であるとき、ステップＳ８に移行し、照射領域到達距離Ｌｂが最近接距離Ｌ０よりも短いとき、ステップＳ２に移行する。
ステップＳ８では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａを第二のステージ２１Ｂに追従させるべく、第一のステージ２１Ａの目標移動速度を第二のステージ２１Ｂの移動速度に設定し、これを第一のステージ２１Ａの移動機構に出力する。
ステップＳ９では、制御部３０は、第一のステージ２１Ａの駆動制御を終了するか否かを判定し、制御を継続すると判定した場合にはステップＳ１に戻り、制御を終了すると判定した場合には、ステージ速度制御処理を終了する。

以下、本実施形態の動作について、図６〜図１０を参照しながら詳細に説明する。
偏光光照射装置１００では、図６に示すように、第一のステージ２１Ａを基板搭載位置Ｐ１１で停止させた状態で、第一のステージ２１Ａ上の基板の交換作業及び当該基板のアライメント作業を行う。そして、アライメント作業が完了すると、第一のステージ２１Ａの往路移動を開始する準備が整った状態となる（図５のステップＳ１でＮｏ）。
このとき、図６に示すように、第二のステージ２１Ｂが往路移動をしている場合には（ステップＳ３でＹｅｓ）、第一のステージ２１Ａは往路移動を開始せず、基板搭載位置で待機する（ステップＳ４）。その後、第二のステージ２１Ｂが折り返し位置に達し、復路移動を開始すると、第一のステージ２１Ａは往路移動を開始する。つまり、第一のステージ２１Ａは、第二のステージ２１Ｂが復路移動を開始するタイミングに同期して、往路移動を開始する。

一方、第一のステージ２１Ａの往路移動を開始する準備が整った状態となったときに、第二のステージ２１Ｂが復路移動を開始している場合には（ステップＳ３でＮｏ）、第一のステージ２１Ａはそのまま往路移動を開始する。
この往路移動開始時における第一のステージ２１Ａの移動速度は、ステージ間距離Ｌａ及び照射領域到達距離Ｌｂに基づいて決定される。例えば、図７に示すように、ステージ間距離Ｌａが予め設定した最近接距離Ｌ０よりも長い場合には（ステップＳ６でＹｅｓ）、第一のステージ２１Ａは通常動作を行う（ステップＳ２）。すなわち、第一のステージ２１Ａは、比較的高速な第一の移動速度Ｖ１で往路移動を開始する。

第二のステージ２１Ｂは、復路において照射領域１５を完全に通過するまでは、比較的低速な第二の移動速度Ｖ２で移動する。そのため、第一のステージ２１Ａが第一の移動速度Ｖ１で往路移動を開始すると、第一のステージ２１Ａは第二のステージ２１Ｂに徐々に追いつくことになる。
そして、図８に示すように、第二のステージ２１Ｂの後端部（往路方向の最先端位置）が照射領域１５内に入る前に、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０に達すると（ステップＳ６でＮｏ、ステップＳ７でＹｅｓ）、第一のステージ２１Ａの移動速度は第二の移動速度Ｖ２まで減速される（ステップＳ８）。これにより、第一のステージ２１Ａは、ステージ間距離Ｌａを最近接距離Ｌ０に保った状態で第二のステージ２１Ｂに追従する。

その後、図９に示すように、第二のステージ２１Ｂの後端部（往路方向の最先端位置）が照射領域１５内に入り、照射領域到達距離Ｌｂが最近接距離Ｌ０よりも短くなると（ステップＳ７でＮｏ）、第一のステージ２１Ａの動作は、第二のステージ２１Ｂの追従動作から通常動作へ切り替わる（ステップＳ２）。すなわち、第一のステージ２１Ａの移動速度は、第一の移動速度Ｖ１となるよう加速される。
このとき、第二のステージ２１Ｂは照射領域１５内で比較的低速な第二の移動速度Ｖ２で移動しているため、第一のステージ２１Ａが通常動作に切り替わることで両者が接近し、ステージ間距離Ｌａは、図１０に示すように最近接距離Ｌ０よりも短くなる。

しかしながら、第一のステージ２１Ａは、照射領域１５に到達すると（ステップＳ５でＹｅｓ）、移動速度を第二の移動速度Ｖ２まで減速する（ステップＳ２）。したがって、第一のステージ２１Ａと第二のステージ２１Ｂとは、共に第二の移動速度Ｖ２で移動することになり、両者の干渉が発生することはない。
その後、第二のステージ２１Ｂは、照射領域１５を完全に通過すると、第一の移動速度Ｖ１まで加速して基板搭載位置へ戻る。このとき、第一のステージ２１Ａは、第二の移動速度Ｖ２で照射領域１５内の移動を継続する。第一のステージ２１Ａは、その後、折り返し位置に到達すると復路移動に移行し、復路においては、基板搭載位置に戻るまで第二のステージ２１Ｂの位置にかかわらず通常動作を行う。

このように、本実施形態における偏光光照射装置は、同一軸上を往復移動可能な２つのワークステージ（第一のステージ２１Ａ及び第二のステージ２１Ｂ）を備え、当該ワークステージ上の基板（ワークＷ）に交互に偏光光を照射する、所謂ツインステージ方式を採用する。これにより、一方のステージへの偏光光の照射中に、他方のステージにおける基板交換作業を行うことができる。したがって、ワークステージが１つのみである場合と比較してタクトタイムを削減し、生産性を向上させることができる。

また、一方のステージが往路移動している間は、他方のステージの往路移動の開始を禁止し、一方のステージが折り返し位置に到達して復路移動を開始したタイミングに同期して他方のステージの往路移動を開始するので、２つのステージが共に往路移動する状況を回避することができ、ステージ同士の干渉を確実に回避することができる。また、一方のステージの復路移動に続くように他方のステージの往路移動を開始することができるので、よりタクトタイムを短くすることができる。

さらにこのとき、第一のステージ２１Ａと第二のステージ２１Ｂとの間に移動速度差が存在し得ることを考慮し、復路移動しているステージの位置や移動速度に応じて、照射領域１５外を往路移動しているステージの移動速度を制御する。すなわち、ステージ間距離Ｌａが予め設定した最近接距離Ｌ０よりも長いときは、往路移動しているステージを第一移動速度（最大移動速度）Ｖ１で移動するように制御し、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０以下であるときは、往路移動しているステージを復路移動しているステージを同じ移動速度で移動するように制御する。

これにより、往路移動を開始したステージは、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０に達するまで比較的高速な第一移動速度Ｖ１で移動し、照射領域１５内を比較的低速な第二移動速度Ｖ２で復路移動しているステージに追いついてステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０となると、移動速度を第二移動速度Ｖ２に切り替えて移動することになる。そして、その後、往路移動しているステージは、ステージ間距離Ｌａを最近接距離Ｌ０に維持して復路移動しているステージに追従する。このように、往路移動を開始したステージは、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０を下回らないように、復路移動しているステージに高速で追いつくことができる。したがって、復路移動しているステージが照射領域を通過した直後に（最近接距離Ｌ０によっては、復路移動しているステージが照射領域を通過している最中に）、往路移動しているステージを照射領域に進入させることができる。そのため、ステージ同士が干渉することなく、効率良く光配向処理を行うことができる。

また、第一のステージ２１Ａの往路移動方向における先端位置と、第二のステージ２１Ｂの往路移動方向における先端位置との間の距離をステージ間距離Ｌａとするので、各ステージが図３や図４に示すようにそれぞれθ方向に回転移動している場合であっても、適切にステージ同士の干渉を回避することができる。さらにこのとき、ステージの位置や大きさ、θ方向の回転角度に基づいて、当該ステージの往路移動方向における先端位置を算出するので、ステージ間距離Ｌａを適切に算出することができる。

（第二の実施形態）
次に、本発明の第二の実施形態について説明する。
この第二の実施形態は、上述した第一の実施形態において、一方のステージが往路移動をしている間、他方のステージの往路移動の開始を禁止しているのに対し、当該他方のステージの往路移動の開始を許可するものである。
図１１は、第二の実施形態における制御部３０が実行するステージ速度制御処理手順を示すフローチャートである。この図１１に示す処理は、上述した図５のステップＳ４をステップＳ１１に置換したことを除いては、図５と同様の処理を行う。したがって、図５と同様の処理を行う部分については同一ステップ番号を付し、ここでは処理の異なる部分を中心に説明する。
ステップＳ１１では、制御部３０は、先ず、第一のステージ２１Ａの目標停止位置を設定する。目標停止位置は、第二のステージ２１Ｂの折り返し位置Ｐ２２から、第一のステージ２１Ａの基板搭載位置側に所定距離（例えば、最近接距離Ｌ０）だけ離間した位置とする。

次に、制御部３０は、第一のステージ２１Ａの位置が、目標停止位置よりも当該第一のステージ２１Ａの基板搭載位置側であるか否かを判定する。そして、目標停止位置よりも基板搭載位置側であると判定した場合には、第一のステージ２１Ａを目標停止位置に向けて移動する。このときの移動速度は、第一の移動速度Ｖ１とする。一方、第一のステージ２１Ａが目標停止位置に到達している場合には、第一のステージ２１Ａを目標停止位置で停止させる。
すなわち、本実施形態では、図１２に示すように、第二のステージ２１Ｂが往路移動している場合であっても、第一のステージ２１Ａは、基板搭載位置でアライメント処理が完了すると、第一の移動速度Ｖ１で往路移動を開始することができる。ただし、このときの第一のステージ２１Ａの往路移動の許可区間は、第二のステージ２１Ｂの折り返し位置Ｐ２２から最近接距離Ｌ０だけ離間した目標停止位置Ｐ１５までの区間とする。

そして、第一のステージ２１Ａが目標停止位置Ｐ１５に到達する前に、第二のステージ２１Ｂが復路移動を開始していれば、上述した第一の実施形態と同様の動作を行う。一方、図１３に示すように、第一のステージ２１Ａが目標停止位置Ｐ１５に到達しても、第二のステージ２１Ｂが往路移動している場合には、第一のステージ２１Ａは目標停止位置Ｐ１５で停止し、第二のステージ２１Ｂが復路移動を開始するまで待機する。
その後、図１４に示すように、第二のステージ２１Ｂが折り返し位置Ｐ２２に到達して復路移動を開始すると（ステップＳ３でＮｏ）、第一のステージ２１Ａは、第二のステージ２１Ｂの追従を開始する（ステップＳ６でＮｏ、ステップＳ８でＹｅｓ）。すなわち、第一のステージ２１Ａは、第二のステージ２１Ｂと同じ移動速度（第二の移動速度Ｖ２）で移動開始する。以降の動作は、上述した第一の実施形態と同様である。

このように、本実施形態では、一方のステージが往路移動している場合であっても、他方のステージの往路移動を開始することができる。したがって、より効率的に２つのワークＷに対する光配向処理を行うことができる。特に、第一の移動速度Ｖ１と第二の移動速度Ｖ２との速度差が比較的小さい場合や、基板搭載位置が照射領域に対して比較的遠方に設定されている場合など、一方のステージの光照射中に他方のステージが往路移動を開始したのでは、当該光照射中に他方のステージが一方のステージに追いつくことが困難な場合に有効である。
また、一方のステージが往路移動している場合には、他方のステージの往路移動許可区間を、他方のステージの折り返し位置から所定距離だけ上記一方のステージの基板搭載位置側に離間した位置までとする。したがって、往路移動している他方のステージとの干渉を確実に防止することができる。

（第三の実施形態）
次に、本発明の第三の実施形態について説明する。
この第三の実施形態は、上述した第一及び第二の実施形態において、基板搭載位置でステージのθ方向の回転動作を行い、当該回転動作が完了してから往路移動を開始しているのに対し、θ回転動作しながら往路移動するようにしたものである。
本実施形態では、第一のステージ２１Ａ及び第二のステージ２１Ｂのθ回転動作は、照射領域１５に進入する前の往路移動中で、且つ最近接距離Ｌ０以上のステージ間距離Ｌａを確保できる位置で実施するものとする。なお、θ回転動作に要する時間は、ステージが基板搭載位置から照射領域１５まで移動するのに要する時間よりも短いものとする。

例えば、基板搭載位置において第一のステージ２１Ａへの基板搭載が完了すると、当該第一のステージ２１Ａは、θ回転動作を行いながら往路移動を開始する。このとき、図１５に示すように、第二のステージ２１Ｂが往路移動中である場合には、基板搭載位置から目標停止位置Ｐ１５までの区間がθ回転動作可能区間となる。ここで、目標停止位置Ｐ１５は、第二のステージ２１Ｂの折り返し位置Ｐ２２から所定距離（例えば、最近接距離Ｌ０）だけ第一のステージ２１Ａの基板搭載位置側に離間した位置である。
第二のステージ２１Ｂが折り返し位置Ｐ２２に到達する前に、第一のステージ２１Ａが目標停止位置Ｐ１５に到達した場合には、第一のステージ２１Ａは目標停止位置Ｐ１５で停止してθ回転動作を行う。
ここで、第一のステージ２１Ａが目標停止位置Ｐ１５に到達したか否かは、第一のステージ２１Ａの頂点がθ回転により第二のステージ２１Ｂに最も接近する位置が目標停止位置Ｐ１５に到達したか否かによって判断する。つまり、図１５の二点鎖線で示す円の往路方向先端部が目標停止位置Ｐ１５に到達したとき、第一のステージ２１Ａが目標停止位置Ｐ１５に到達したと判断する。

一方、第一のステージ２１Ａの基板搭載が完了して往路移動を開始したとき、第二のステージ２１Ｂが復路移動中である場合には、図１６に示すように、第二のステージ２１Ｂの後端位置（往路方向の最先端位置）から最近接距離Ｌ０だけ第一のステージ２１Ａの基板搭載位置側に離間した位置までの区間が、第一のステージ２１Ａのθ回転動作可能区間となる。
この場合、第一のステージ２１Ａは、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０となるまでは、通常の移動速度である第一の移動速度Ｖ１で往路移動しながらθ回転動作を行う。そして、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０となると、第二のステージ２１Ｂと同じ第二の移動速度Ｖ２で最近接距離Ｌ０を保った状態で往路移動しながらθ回転動作を行う。ここで、ステージ間距離Ｌａの算出起点は、上記と同様に第一のステージ２１Ａの頂点がθ回転により第二のステージ２１Ｂに最も接近する位置とする。

第一のステージ２１Ａのθ回転動作が完了した後の動作は、上述した第一及び第二の実施形態と同様である。
このように、本実施形態では、往路移動しながらθ回転動作を行うため、よりタクトタイムを短縮することができる。また、最近接距離Ｌ０を下回って両ステージが接近しない位置でθ回転動作を可能とするので、ステージ間で干渉が発生するのを確実に防止することができる。

（変形例）
上記各実施形態においては、一方のステージが往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、一方のステージが他方のステージに追いついてステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０に達してから、一方のステージを他方のステージに追従させる（他方のステージと同じ速度で移動させる）場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、一方のステージの往路移動開始直後から他方のステージに追従させるようにしてもよい。これにより、先行する他方のステージの移動速度に応じて一方のステージの移動速度を制御することになり、上記他方のステージの移動速度が移動区間によって異なる場合であっても、ステージ間で干渉が発生するのを確実に防止することができる。但し、タクトタイムの更なる短縮を目的とした場合、上述した各実施形態のように、ステージ間距離Ｌａが最近接距離Ｌ０となるまでは、後続のステージを最大移動速度（第一の移動速度Ｖ１）で移動させることが好ましい。

また、上記各実施形態においては、ステージ間距離Ｌａを、一方のステージの往路方向における最先端位置と、他方のステージの往路方向における最先端位置との距離とする場合について説明したが、ステージ上のワークＷ（基板）のサイズがステージサイズよりも大きい場合には、ステージ間距離Ｌａはワーク間距離となる。この場合にも、ワークＷの往路方向における最先端位置をワーク間距離の算出基点とする。
さらに、上記各実施形態においては、ステージ間距離Ｌａを、一方のステージの往路方向における辺と、他方のステージの往路方向における辺とのＸ方向距離（Ｘ方向において最も近づいている部分の距離）としてもよい。

また、上記各実施形態においては、リニアスケールによる計測結果を用いて各ステージの位置及び移動速度を取得する場合について説明したが、リニアスケール以外の手段を用いて各ステージの位置及び移動速度を取得してもよい。
さらに、上記各実施形態においては、偏光光照射装置に本発明を適用する場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、２つのステージが同一軸に沿って往復移動可能な構成を有し、２つのステージを、それぞれ光照射領域を挟んで同一軸上に設定された待機位置から交互に光照射領域へ搬送する構成を有する光照射装置であれば、本発明を適用することで上記各実施形態と同様の効果が得られる。このような光照射装置としては、例えば、ＤＩ（ダイレクト・イメージ：直描）露光装置や、紫外線より熱硬化処理を行う紫外線照射装置等がある。

１０Ａ，１０Ｂ…光照射部、１１…放電ランプ、１２…ミラー、１３…偏光子ユニット、１４…ランプハウス、１５…照射領域、２０…搬送部、２１Ａ…第一のステージ、２１Ｂ…第二のステージ、２２…ガイド、２３Ａ，２３Ｂ…電磁石、２４Ａ，２４Ｂ…θ移動機構、３０…制御部、３１…リニアスケール、１００…偏光光照射装置

Claims (13)

1. 予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、
   第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、
   第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージと、
   前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように、前記第一のステージ及び前記第二のステージの移動を個別に制御する制御部と、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージの、ステージ面に対して直交する軸回りの回転を個別に制御し、当該ステージの姿勢を光照射時の姿勢とする回転制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージが、前記照射領域内を予め設定された最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、前記照射領域外の復路を前記最大移動速度で移動し、前記照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らない移動速度で移動するよう制御し、
   前記回転制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージが、それぞれの待機位置から前記照射領域に到達する前の回転許容位置までの区間を往路移動している間を、前記回転が可能な回転動作可能区間とすることを特徴とする光照射装置。
2. 前記回転許容位置は、
   前記回転制御部による非回転制御対象のステージが往路移動しているとき、当該非回転制御対象のステージが往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置から、前記最近接距離だけ回転制御対象の待機位置側に設定し、
   前記非回転制御対象のステージが復路移動しているとき、当該非回転制御対象のステージの位置から、前記最近接距離だけ前記回転制御対象の待機位置側に設定することを特徴とする請求項１に記載の光照射装置。
3. 前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、
   前記ステージ間距離が前記最近接距離よりも長いときは、前記一方のステージを前記最大移動速度で移動し、前記ステージ間距離が前記最近接距離以下であるときは、前記一方のステージを前記他方のステージの移動速度で移動することを特徴とする請求項１または２に記載の光照射装置。
4. 前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、
   前記一方のステージを、前記他方のステージに追従移動させることを特徴とする請求項１または２に記載の光照射装置。
5. 前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが前記照射領域外を往路移動しており、他方のステージが復路移動しているとき、
   前記他方のステージの復路移動方向における後端部位置が、前記照射領域における前記一方のステージの待機位置側の端部位置よりも前記他方のステージの待機位置側にあるときは、前記一方のステージを前記端部位置まで前記最大移動速度で移動することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光照射装置。
6. 前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間、他方のステージの往路移動を禁止することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光照射装置。
7. 前記制御部は、
   前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間に、前記一方のステージの往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置に対して前記最近接距離だけ他方のステージの待機位置側に設定された目標停止位置へ向けて、前記他方のステージの往路移動を開始し、
   前記他方のステージが前記目標停止位置に到達したときに、前記一方のステージが往路移動しているとき、前記他方のステージを、前記一方のステージが復路移動を開始するまで前記目標停止位置で停止することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光照射装置。
8. 前記ステージ間距離は、
   前記第一のステージの往路移動方向における先端位置と、前記第二のステージの往路移動方向における先端位置との間の前記搬送軸方向の距離であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光照射装置。
9. 前記光は偏光光であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光照射装置。
10. 前記第一のワーク及び前記第二のワークに対して、往路移動と復路移動の双方で前記光を照射することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光照射装置。
11. 予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射装置であって、
    第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、
    第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージと、
    前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように、前記第一のステージ及び前記第二のステージの移動を個別に制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間に、前記一方のステージの往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置に対して前記最近接距離だけ他方のステージの待機位置側に設定された目標停止位置へ向けて、前記他方のステージの往路移動を開始し、
    前記他方のステージが前記目標停止位置に到達したときに、前記一方のステージが往路移動しているとき、前記他方のステージを、前記一方のステージが復路移動を開始するまで前記目標停止位置で停止することを特徴とする光照射装置。
12. 予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射方法であって、
    第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージとを、前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように個別に制御するに際し、
    前記第一のステージ及び前記第二のステージが、前記照射領域内を予め設定された最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、前記照射領域外の復路を前記最大移動速度で移動し、前記照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らない移動速度で移動するよう制御し、
    前記第一のステージ及び前記第二のステージが、それぞれの待機位置から前記照射領域に到達する前の回転許容位置までの区間を往路移動している間を、前記回転が可能な回転動作可能区間して、前記第一のステージ及び前記第二のステージの、ステージ面に対して直交する軸回りの回転を個別に制御し、当該ステージの姿勢を光照射時の姿勢とすることを特徴とする光照射方法。
13. 予め設定された照射領域を通過するワークに光を照射する光照射方法であって、
    第一のワークが載置され、前記照射領域を通る搬送軸上において、前記照射領域の一方の側に設定された第一の待機位置と前記照射領域との間を、前記第一の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第一のステージと、第二のワークが載置され、前記搬送軸上において、前記照射領域の他方の側に設定された第二の待機位置と前記照射領域との間を、前記第二の待機位置から前記照射領域へ向かう移動を往路移動として往復移動可能な第二のステージとを、前記第一のワークと前記第二のワークとが前記照射領域を交互に通過するように個別に制御するに際し、
    前記第一のステージ及び前記第二のステージが、前記照射領域内を予め設定された最大移動速度よりも遅い移動速度で移動し、前記照射領域外の復路を前記最大移動速度で移動し、前記照射領域外の往路をステージ間距離が予め設定した最近接距離を下回らない移動速度で移動するよう制御し、
    前記第一のステージ及び前記第二のステージのうち一方のステージが往路移動している間に、前記一方のステージの往路移動から復路移動へ切り替わる折り返し位置に対して前記最近接距離だけ他方のステージの待機位置側に設定された目標停止位置へ向けて、前記他方のステージの往路移動が開始され、
    前記他方のステージが前記目標停止位置に到達したときに、前記一方のステージが往路移動しているとき、前記他方のステージが、前記一方のステージが復路移動を開始するまで前記目標停止位置で停止することを特徴とする光照射方法。

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