KR20170017707A - 광조사 장치 및 광조사 방법 - Google Patents
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Abstract
1도의 광배향 처리로, 1장의 워크 상에 배향 방향이 상이한 복수의 영역을 형성할 수 있는 광조사 장치 및 광조사 방법을 제공한다.
광조사 장치(편광 광 조사 장치)(100)는, 워크 W의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광을 조사하는 광조사부(10A)와, 상기 반송로 상에 있어서 광조사부(10A)에 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광 광을 조사하는 광조사부(10C)를 구비한다. 또, 편광 광 조사 장치(100)는, 광조사부(10A)의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 제1 편광 광에 의해 광배향되어야 할 워크 W 상의 영역 A1을 규정하는 차광판(17)과, 광조사부(10C)의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 제2 편광 광에 의해 광배향되어야 할 워크 W 상의 영역 B1을 규정하는 차광판(17)을 구비한다.
광조사 장치(편광 광 조사 장치)(100)는, 워크 W의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광을 조사하는 광조사부(10A)와, 상기 반송로 상에 있어서 광조사부(10A)에 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광 광을 조사하는 광조사부(10C)를 구비한다. 또, 편광 광 조사 장치(100)는, 광조사부(10A)의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 제1 편광 광에 의해 광배향되어야 할 워크 W 상의 영역 A1을 규정하는 차광판(17)과, 광조사부(10C)의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 제2 편광 광에 의해 광배향되어야 할 워크 W 상의 영역 B1을 규정하는 차광판(17)을 구비한다.
Description
본 발명은, 워크에 편광 광을 조사하는 광조사 장치 및 광조사 방법에 관한 것이다.
최근, 액정 패널을 시작으로 하는 액정 표시 소자의 배향막이나, 시야각 보상 필름의 배향층 등의 배향 처리에 관하여, 소정의 파장의 편광 광을 조사하고 배향을 행하는, 광배향으로 불리는 기술이 채용되고 있다.
예를 들면, 특허 문헌 1에는, 광배향에 이용하는 광조사 장치가 개시되어 있다. 이 광조사 장치는, 광조사 영역의 폭에 상당하는 길이를 가지는 선상의 광원과, 상기 광원으로부터의 광을 편광하는 편광 소자를 구비하고, 광원의 길이 방향에 대해 직교하는 방향으로 반송되는 워크에 대해 편광 광을 조사함으로써 광배향 처리를 행한다.
그런데, 광배향 처리는, 텔레비전 화면용의 액정 패널과 같은 대형의 기판뿐만 아니라, 스마트폰용 등 중소형의 액정 디스플레이에도 전개되어 가고 있다. 그 때문에, 대형의 액정 디스플레이와 중소형의 액정 디스플레이 등, 상이한 사이즈, 상이한 용도의 디스플레이를 효율적으로 제조하고 싶다는 요망이 있다.
이러한 요망에 대응하기 위해서는, 1장의 기판 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성하고, 이 기판을 마더 기판으로 하여 복수 종류의 기판을 작성할 필요가 있다. 그러나, 종래의 광조사 장치는, 1장의 기판의 전체면에 대해, 일정 방향의 편광축을 가지는 편광 광을 조사할 수 밖에 없다. 그 때문에, 1도의 광배향 처리로 1장의 기판 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성할 수는 없다.
그래서, 본 발명은, 1도의 광배향 처리로, 1장의 워크 상에 배향 방향이 상이한 복수의 영역을 형성할 수 있는 광조사 장치 및 광조사 방법을 제공하는 것을 과제로 하고 있다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관련된 광조사 장치의 일양태는, 광배향막이 형성된 워크에 편광 광을 조사하여 광배향을 행하는 광조사 장치로서, 상기 워크를 소정의 반송로를 따라 반송하는 스테이지와, 상기 워크의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광을 조사하는 제1 광조사부와, 상기 반송로 상에 있어서 상기 제1 광조사부와 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 상기 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광 광을 조사하는 제2 광조사부와, 상기 제1 광조사부의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 상기 제1 편광 광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제1 영역을 규정하는 제1 플레이트 부재와, 상기 제2 광조사부의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 상기 제2 편광 광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제2 영역을 규정하는 제2 플레이트 부재를 구비한다.
상기의 구성에 의해, 제1 플레이트 부재에 의해, 제1 광조사부로부터 출사되는 제1 편광 광이 조사되는 워크 상의 영역을 규정할 수 있어, 제2 플레이트 부재에 의해, 제2 광조사부로부터 출사되는 제2 편광 광이 조사되는 워크 상의 영역을 규정할 수 있다. 이것에 의해, 편광축이 각각 상이한 복수의 편광 광을 1장의 워크에 조사 영역을 나누어 조사할 수 있어, 1도의 광배향 처리로, 1장의 워크 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성할 수 있다. 따라서, 상이한 사이즈, 상이한 용도의 기판을 효율적으로 제조할 수 있어, 생산성을 향상시킬 수 있다.
또, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 상기 광배향막의 광배향에 기여하는 파장의 편광 광을 차광하는 광학 필터에 의해 구성되어 있어도 된다. 이와 같이, 제1 플레이트 부재 및 제2 플레이트 부재를 광학 필터에 의해 구성하면, 광원으로부터의 열에 의한 제1 플레이트 부재 및 제2 플레이트 부재의 변형이나 열화를 억제할 수 있다.
또한, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 상기 광 출사구로부터 출사되는 편광 광의 조사 가능 영역 내에 있어서의 소정의 사용 위치와, 상기 조사 가능 영역으로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이를 이동 가능해도 된다. 이와 같이, 제1 플레이트 부재 및 제2 플레이트 부재를 이동 가능하게 구성함으로써, 워크 상에 형성되는 배향 영역의 위치 및 사이즈를 조정 가능해진다. 따라서, 다양한 사이즈의 기판의 제조에 대응할 수 있다. 또, 예를 들면, 제1 플레이트 부재를 퇴피 위치로 퇴피시키고, 제2 광조사부로부터의 편광 광의 조사를 정지하면, 워크의 전체면에 대해 일정하게 제1 편광 광을 조사할 수도 있다. 따라서, 1장의 워크의 전체면에 대해 동일 방향의 편광축을 가지는 편광 광을 조사하는 광배향 처리와, 1장의 워크를 복수의 배향 영역으로 나누어, 배향 영역마다 각각 상이한 방향의 편광축을 가지는 편광 광을 조사하는 광배향 처리를 전환하여 실시하는 것도 가능해진다.
또, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능해도 된다. 이 경우, 장치의 높이 방향(수직 방향)의 공간 절약화가 도모된다.
또한, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 각각 복수장의 서브 플레이트 부재에 의해 구성되며, 상기 복수장의 서브 플레이트 부재는, 상기 사용 위치에 있어서, 상기 서브 플레이트 부재들의 단부를 오버랩시켜 일렬로 이어지도록 배치되어 있어도 된다. 이 경우, 오버랩량에 따라 워크 상에 형성되는 배향 영역의 사이즈를 조정 가능해진다. 또, 퇴피 위치에서는 복수장의 서브 플레이트 부재를 겹쳐 배치해 둘 수 있으므로, 퇴피 위치의 스페이스가 작아도 된다.
또, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 영역은, 상기 워크 상의 상기 반송로에 직교하는 방향에 있어서의 일방측에 설정되며, 상기 제2 영역은, 상기 워크 상의 상기 반송로에 직교하는 방향에 있어서의 타방측에 설정되며, 상기 제1 플레이트 부재의 상기 일방측의 단부의 위치, 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 타방측의 단부의 위치는, 각각 상기 제1 영역의 상기 타방측의 단부와 상기 제2 영역의 상기 일방측의 단부 사이에 설정되어 있어도 된다. 이와 같이 제1 플레이트 부재 및 제2 플레이트 부재의 단부 위치를 설정함으로써, 1장의 워크 상을 반송로에 직교하는 방향으로 분리하여 복수의 배향 영역을 적절히 형성할 수 있다.
또한, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재의 단부에 각각 설치되며, 상기 단부보다 하방에 위치하는 하단면을 가지는 선단 부재를 더 구비해도 된다. 이 경우, 선단 부재를 설치하지 않는 경우와 비교하여, 제1 플레이트 부재나 제2 플레이트 부재의 바로 아래의 영역으로의 광의 돌아들어감을 저감할 수 있다. 따라서, 워크 상에 적절히 배향 영역을 형성할 수 있다.
또, 상기의 광조사 장치에 있어서, 상기 선단 부재는, 상기 하단면의 높이 방향 위치를 조정 가능해도 된다. 이 경우, 상기의 광의 돌아들어감량을 조정하는 것이 가능해져, 보다 적절히 워크 상에 배향 영역을 형성할 수 있다.
또, 본 발명에 관련된 광조사 방법의 일양태는, 광배향막이 형성된 워크에 편광 광을 조사하여 광배향을 행하는 광조사 방법으로서, 상기 워크의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광을 조사하는 제1 광조사부의 상기 광 출사구의 광 출사측에, 제1 플레이트 부재를 배치하여, 상기 제1 편광 광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제1 영역을 규정하는 단계와, 상기 반송로 상에 있어서 상기 제1 광조사부와 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 상기 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광 광을 조사하는 제2 광조사부의 상기 광 출사구의 광 출사측에, 제2 플레이트 부재를 배치하여, 상기 제2 편광 광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제2 영역을 규정하는 단계와, 상기 워크를 스테이지에 의해 상기 반송로를 따라 반송하여, 상기 워크 상의 상기 제1 영역에 상기 제1 편광 광을 조사하고, 상기 워크 상의 상기 제2 영역에 상기 제2 편광 광을 조사하는 단계를 포함한다.
상기의 구성에 의해, 편광축이 각각 상이한 복수의 편광 광을 1장의 워크에 조사 영역을 나누어 조사할 수 있어, 1도의 광배향 처리로, 1장의 워크 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성할 수 있다. 따라서, 상이한 사이즈, 상이한 용도의 기판을 효율적으로 제조할 수 있어, 생산성을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 의하면, 편광축이 각각 상이한 복수의 편광 광을 1장의 워크에 조사 영역을 나누어 조사할 수 있으므로, 1도의 광배향 처리로, 1장의 워크 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성할 수 있다. 따라서, 상이한 사이즈, 상이한 용도의 기판을 효율적으로 제조할 수 있어, 생산성을 향상시킬 수 있다.
도 1은 본 실시 형태의 편광 광 조사 장치를 나타내는 개략 구성도이다.
도 2는 차광부의 개략을 설명하기 위한 도이다.
도 3은 차광부의 구성예를 나타내는 도이다.
도 4는 차광부의 구체적인 구성예를 나타내는 도이다.
도 5는 차광부의 동작을 나타내는 도이다.
도 6은 차광부의 위치와 워크 상의 배향 영역의 관계를 나타내는 도이다.
도 7은 선단 차폐판의 일례를 나타내는 도이다.
도 2는 차광부의 개략을 설명하기 위한 도이다.
도 3은 차광부의 구성예를 나타내는 도이다.
도 4는 차광부의 구체적인 구성예를 나타내는 도이다.
도 5는 차광부의 동작을 나타내는 도이다.
도 6은 차광부의 위치와 워크 상의 배향 영역의 관계를 나타내는 도이다.
도 7은 선단 차폐판의 일례를 나타내는 도이다.
이하, 본 발명의 실시의 형태를 도면에 의거하여 설명한다.
(제1 실시 형태)
도 1은, 본 실시 형태의 편광 광 조사 장치(100)를 나타내는 개략 구성도이다.
편광 광 조사 장치(100)는, 광조사부(10A, 10B 및 10C)와, 워크 W를 반송하는 반송부(20)를 구비한다. 여기서, 워크 W는, 예를 들면 광배향막이 형성된 직사각형 형상의 기판이다. 편광 광 조사 장치(100)는, 광조사부(10A~10C)의 적어도 1개로부터 편광 광(편광한 광)을 조사하면서, 반송부(20)에 의해 워크 W를 직선 이동시키고, 워크 W의 광배향막에 상기 편광 광을 조사하여 광배향 처리를 한다.
본 실시 형태에서는, 편광 광 조사 장치(100)는, 1장의 워크 W의 전체면에 대해 동일 방향의 편광축을 가지는 편광 광을 조사하는 제1 광배향 처리와, 1장의 워크 W 상을 복수의 배향 영역으로 나누어, 배향 영역마다 각각 상이한 방향의 편광축을 가지는 편광 광을 조사하는 제2 광배향 처리를 전환하여 실시 가능하게 한다. 또한, 본 실시 형태에서는, 제1 광배향 처리 쪽이 제2 광배향 처리보다 실시 빈도가 높은 것으로서 설명한다.
광조사부(10A~10C)는, 선상의 광원인 램프(11)와, 램프(11)의 광을 반사하는 미러(12)를 각각 구비한다. 또, 광조사부(10A~10C)는, 그 광 출사측에 배치된 편광자 유닛(13)을 각각 구비한다. 또한, 광 출사부(10A~10C)는, 램프(11), 미러(12) 및 편광자 유닛(13)을 수용하는 램프 하우스(14)를 각각 구비한다.
광조사부(10A~10C)는, 램프(11)의 길이 방향을 워크 W의 반송로가 연장하는 방향인 반송 방향(X방향)에 직교하는 방향(Y방향)과 일치시킨 상태로, 워크 W의 반송 방향(X방향)을 따라 나란히 설치되어 있다. 또한, 도 1에서는, 등구(燈具)(광조사부)를 3등으로 하고 있지만, 2등 이상이면 된다.
이하, 광조사부(10A~10C)의 구체적 구성에 대해서 설명한다.
램프(11)는 장척 형상의 이른바 롱 아크 방전 램프이며, 그 발광부가, 워크 W의 반송 방향에 직교하는 방향의 폭에 대응하는 길이를 가진다. 이 램프(11)는, 예를 들면, 고압 수은 램프나, 수은에 다른 금속과 할로겐을 더한 메탈 할라이드 램프, 수은 이외의 금속과 할로겐이 봉입된 메탈 할라이드 램프 등의 방전 램프이며, 봉입 발광 종류에 따라 파장 200nm~400nm의 자외광을 방사한다.
광배향막의 재료로서는, 파장 254nm의 광으로 배향되는 것, 파장 313nm의 광으로 배향되는 것, 파장 365nm의 광으로 배향되는 것 등이 알려져 있으며, 광원의 종류는 필요해지는 파장에 따라 적당히 선택한다.
또한, 광원으로서는, 자외광을 방사하는 LED나 LD를 직선 형상으로 늘어놓아 배치한 선상 광원을 이용할 수도 있다. 그 경우, LED나 LD를 늘어놓는 방향이 램프의 길이 방향에 상당한다.
미러(12)는, 램프(11)로부터의 방사광을 소정의 방향으로 반사하는 것이며, 그 단면이 타원형 또는 포물선 형상의 홈통 형상 집광경이다. 미러(12)는, 그 길이 방향이 램프(11)의 길이 방향과 일치하도록 배치되어 있다.
램프 하우스(14)는, 그 저면에, 램프(11)로부터의 방사광 및 미러(12)에 의한 반사광이 통과하는 광 출사구를 가진다. 편광자 유닛(13)은, 램프 하우스(14)의 광 출사구에 부착되어, 상기 광 출사구를 통과하는 광을 편광한다.
편광자 유닛(13)은, 복수의 편광자를 Y방향, 본 실시 형태에 있어서는 램프(11)의 길이 방향을 따라 나란히 배치한 구성을 가진다. 이들 복수의 편광자는, 예를 들면 프레임 등에 의해 지지되어 있다. 편광자는, 예를 들면, 와이어 그리드형 편광 소자이며, 편광자의 개수는, 편광 광을 조사하는 영역의 크기에 맞추어 적당히 선택한다. 또한, 1개의 편광자 유닛(13)을 구성하는 각 편광자는, 각각 투과축이 동일 방향을 향하도록 배치되어 있다. 본 실시 형태에서는, 광조사부(10A)가 가지는 각 편광자의 투과축의 방향과, 광조사부(10B)가 가지는 각 편광자의 투과축의 방향을 동일 방향으로 한다. 그리고, 광조사부(10C)가 가지는 각 편광자의 투과축의 방향을, 광조사부(10A 및 10C)가 각각 가지는 편광자의 투과축의 방향과는 상이한 방향으로 설정한다.
즉, 광조사부(10A) 및 광조사부(10B)는, 램프(11)로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광을 조사한다. 또, 광조사부(10C)는, 램프(11)로부터의 광을 제1 편광 광과는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광 광과는 편광축의 방향이 상이한 제2 편광 광을 조사한다. 또한, 광조사부(10A)가 제1 광조사부에 대응하고, 광조사부(10C)가 제2 광조사부에 대응하고 있다.
또, X방향으로 나란히 설치된 3개의 광조사부(10A~10C) 중, X방향 양단에 배치된 광조사부(10A 및 10C)는, 각각 편광자 유닛(13)의 광 출사구의 광 출사측에, 편광자 유닛(13)에 의해 편광된 편광 광 중, 소정의 파장의 편광 광을 선택적으로 차광 가능한 차광부(16)(도 2 참조)를 구비한다. 여기서, 소정의 파장이란, 워크 W의 광배향막의 재료가 감도를 가지는 파장이다.
도 2는, 광조사부(10A)의 차광부(16)의 개략을 설명하기 위한 도이다. 차광부(16)는, 광조사부(10A)에 의한 편광 광의 조사 가능 영역(150A) 내의 소정의 사용 위치에 배치되고, 조사 가능 영역(150A) 중, 일부의 영역을 워크 W로의 편광 광의 조사를 허용하는 조사 허용 영역(151A)으로 하고, 나머지의 영역을 차광 영역(152A)으로 한다. 여기서, 차광 영역(152A)이란, 편광자 유닛(13)으로부터 출사되는 편광 광 중, 적어도 광배향에 기여하는 파장의 광이 차광된 영역이다. 본 실시 형태에서는, 차광부(16)의 사용 위치의 바로 아래가 차광 영역(152A)이 된다.
또한, 도 2에 있어서는, 광조사부(10A)의 차광부(16)만 도시하고 있지만, 광조사부(10C)의 차광부(16)에 대해서도 마찬가지이다. 즉, 광조사부(10C)의 차광부(16)는, 광조사부(10C)에 의한 편광 광의 조사 가능 영역(150C) 중, 일부의 영역을 워크 W로의 편광 광의 조사를 허용하는 조사 허용 영역(151C)으로 하고, 나머지의 영역을 차광 영역(152C)으로 한다. 광조사부(10A)에 있어서의 조사 허용 영역(151A)과 광조사부(10C)에 있어서의 조사 허용 영역(151C)은, Y방향에 있어서 겹치지 않도록 설정된다. 차광부(16)의 상세한 것에 대해서는 후술한다.
반송부(20)는, 워크 W가 올려 놓아지는 스테이지(21)를 구비한다. 스테이지(21)는, 진공 흡착 등의 방법에 의해 워크 W를 흡착 유지 가능한 평판 형상의 스테이지이다. 또한, 본 실시 형태에서는, 스테이지(21) 및 워크 W를 직사각형 형상으로 하고 있지만, 이것에 한정되는 것은 아니며, 임의의 형상으로 할 수 있다. 또, 워크 W를 평판 형상의 스테이지에서 흡착 유지하는 구성에 한정되는 것이 아니라, 복수의 핀에 의해 워크 W를 흡착 유지하는 구성이어도 된다.
또, 반송부(20)는, 스테이지(21)를 X방향으로 이동하기 위한 X방향 구동 기구(22)를 구비한다. X방향 구동 기구(22)는, 예를 들면 리니어 모터 구동 기구이며, X방향을 따라 연장되는 2개의 가이드(22A)와, 2개의 가이드(22A)의 사이에 배치된 마그넷판(22B)과, 코일 모듈(22C)을 구비한다. 2개의 가이드(22A)와 마그넷판(22B)은, 도시하지 않은 설치대의 상면에 배치되어 있다. 마그넷판(22B)은, 서로 이웃하는 자극의 극성을 번갈아 바꾸어 X방향으로 등간격으로 늘어놓아진 복수의 마그넷에 의해 구성되어 있다. 또, 코일 모듈(22C)은, 스테이지(21)의 이면의 중앙부에, 마그넷판(22B)과 대향하도록 부착되어 있다. 또한, X방향 구동 기구(22)로서는, 예를 들면 볼나사를 이용한 기구를 채용할 수도 있다.
이와 같이, 스테이지(21)는, 반송축인 가이드(22A)를 따라 X방향으로 왕복 이동 가능하게 구성되어 있다. 또한, X방향 구동 기구(22)의 구성은, 도 1에 나타내는 구성에 한정되는 것이 아니라, 스테이지(21)를 X방향으로 이동 가능한 구성이면 임의의 구성을 채용할 수 있다.
또한, 반송부(20)는, 스테이지(21)를 θ방향(Z축회전)으로 회전 가능한 θ이동 기구(24)를 구비한다. 스테이지(21)는, 고정 베이스(25) 상에 θ방향으로 회전 가능하게 부착되어 있으며, θ이동 기구(24)는, 스테이지(21)의 θ방향의 회전 각도를 조정 가능하다.
스테이지(21)의 이동 경로는, 광조사부(10A, 10B 및 10C)의 바로 아래를 지나도록 설계되어 있다. 반송부(20)는, 워크 W를 광조사부(10A, 10B 및 10C)에 의한 편광 광의 조사 영역에 반송하고, 또한 그 조사 영역을 통과시키도록 구성되어 있다. 또한, 반송부(20)는, 워크 W가 조사 영역을 완전하게 통과한 후, 상기 워크 W를 되돌려, 다시 상기 조사 영역을 통과시키도록 구성되어 있다.
본 실시 형태에서는, 편광 광 조사 장치(100)는, 제1 광배향 처리를 행하는 경우, 광조사부(10A 및 10B)를 작동 상태로 하고, 광조사부(10C)를 비작동 상태로 한다. 또, 광조사부(10A)의 차광부(16)를 비작동 상태로 하고, 차광 영역(152A)을 형성하지 않도록 한다. 이것에 의해, 광조사부(10A 및 10B)로부터 워크 W의 전체면에 대해 제1 편광 광을 조사하여, 광배향 처리할 수 있다.
한편, 편광 광 조사 장치(100)는, 제2 광배향 처리를 행하는 경우, 광조사부(10A 및 10C)를 작동 상태로 하고, 광조사부(10B)를 비작동 상태로 한다. 또, 광조사부(10A 및 10C)의 차광부(16)를 모두 작동 상태로 하고, 광조사부(10A 및 10C)에 각각 차광 영역(152A 및 152C)을 형성한다. 이것에 의해, 워크 W 상에 제1 편광 광만이 조사되어 광배향 처리되는 제1 배향 영역과, 제2 편광 광만이 조사되어 광배향 처리되는 제2 배향 영역을 형성할 수 있다. 상술한 바와 같이, 광조사부(10A)에 있어서의 조사 허용 영역(151A)과 광조사부(10C)에 있어서의 조사 허용 영역(151C)은, Y방향에 있어서 겹치지 않도록 설정된다. 따라서, 워크 W 상에는, 제1 배향 영역과 제2 배향 영역이 Y방향으로 분할되어 형성된다.
스테이지(21)의 기본 동작은, 이하대로이다.
스테이지(21)는, X방향에 있어서의 조사 영역의 일방측에 설정된 워크 탑재 위치에 있어서, 워크 W의 교환 처리 및 얼라이먼트 처리가 행해진다. 얼라이먼트 완료 후, 스테이지(21)는, θ회전 기구(24)에 의해 회전 이동된다. 이것에 의해, 워크 W의 방향이 편광 광의 편광 축에 대해 소정의 방향이 된다.
그 후, 스테이지(21)는, 조사 영역을 향해 X방향으로 왕로 이동을 개시한다. 그리고, 조사 영역을 통과한 소정의 반환 위치에 도달하면, 동시에 귀로 이동을 개시하여, 워크 탑재 위치까지 되돌아간다. 이 워크 탑재 위치에서는, 다시 워크 W의 교환 처리 및 얼라이먼트 처리가 행해지고, 얼라이먼트 완료 후, 스테이지(21)는, 다시 조사 영역을 향해 왕로 이동을 개시한다. 이 동작을 반복한다. 도 1의 반송부(20)의 각 부는, 상기의 스테이지 동작을 실현하도록 도시하지 않은 제어부에 의해 제어된다. 또한, 워크 W의 광배향막에 대한 광배향 처리는, 왕로 이동과 귀로 이동 쌍방에서 실시되어도 된다.
이하, 광조사부(10A 및 10C)가 각각 구비하는 차광부(16)의 구성에 대해서, 구체적으로 설명한다.
도 3은, 광조사부(10A~10C)를 광 출사측으로부터 보았을 때의 차광부(16)의 구성을 나타내는 도이다. 이 도 3에 나타내는 바와 같이, 차광부(16)는, 차광판(17)과 차광판 구동부(18)를 구비한다. 차광판(17)은, 광조사부(10A 및 10C)의 편광자 유닛(13)보다 하방이며 워크 W보다 상방에 배치되어 있다. 차광판(17)은, 예를 들면 광학 필터 등의 플레이트 형상의 부재이다. 즉, 차광에 의해 도 2에 나타내는 바와 같은 차광 영역(152A)을 형성하기 위해서는, 차광판(17)에는 면적이 넓은 형태가 요구된다. 또, 차광부(16)의 높이 방향(Z방향)의 공간 절약화나 경량화를 위해서는, 차광판(17)에는 두께가 얇은 형태가 요구된다. 그 때문에, 차광판(17)에는, 두께가 얇고, 면적이 넓은 형태인 플레이트 부재를 이용한다. 또, 차광판(17)은, 기판 표면에 진공 증착법이나 스퍼터링법 등에 의해 기능막(반사막이나 흡수막)이 형성된 구성을 가진다. 기판은, 예를 들면 석영 유리이다. 또, 기능막은, 예를 들면, 5산화 탄탈(Ta2O5)이나 산화 규소(SiO2) 등의 무기 재료로 이루어지는 유전체 다층막이나, 크롬(Cr) 등으로 이루어지는 증착막이다.
즉, 차광판(17)은, 투광성 재료로 이루어지는 기판에 파장 선택용의 박막을 코팅한 구성을 가진다. 구체적으로는, 차광판(17)은, 254nm나 313nm와 같은 광배향막 재료가 감도를 가지는 파장(워크 W의 광배향에 기여하는 파장)의 광을 차광하고, 그 이외의 파장의 광을 투과하는 파장 커트 필터로 한다. 차광판(17)은, 상기의 코팅막이 형성된 면을 상방(램프(11)측)을 향하게 하여 설치된다. 또한, 차광판(17)은, 재료 그 자체에 불순물을 도프한 파장 선택적 커트 필터, 예를 들면, 자외광을 흡수하는 도핑재가 도프된 석영 유리여도 된다.
차광판 구동부(18)는, 예를 들면 모터 구동 기구이며, 차광판(17)을 Y방향으로 슬라이드 이동 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 차광판(17)은, 조사 영역(15) 내에 있어서 대응하는 광조사부(10A 또는 10C)로부터 조사되는 편광 광 중 상술한 소정의 파장의 광을 차단하여 워크 W에 조사되는 것을 저지하는 차광 위치(사용 위치)와, 조사 영역(15)으로부터 퇴피하여 워크 W로의 편광 광의 조사를 허용하는 퇴피 위치(161) 사이를 이동 가능하다. 또한, 도 3은, 차광판(17)이 퇴피 위치(161)에 배치되어 있는 상태를 나타내고 있다.
이 도 3에 나타내는 바와 같이, 광조사부(10A)의 차광판(17)의 퇴피 위치(161)와, 광조사부(10C)의 차광판(17)의 퇴피 위치(161)는, Y방향에 있어서 조사 영역(15)을 사이에 두고 대향하는 위치에 설정되어 있다. 즉, 퇴피 위치(161)로부터 조사 영역(15)으로 향하는 방향을 전진 방향, 조사 영역(15)으로부터 퇴피 위치(161)로 되돌아오는 방향을 후퇴 방향으로 하면, 광조사부(10A)의 차광판(17)의 전진 방향과 광조사부(10C)의 차광판(17)의 전진 방향은, Y방향에 있어서 역방향이 된다.
도 4는, 차광판(17)의 구체적 구성을 나타내는 사시도이다. 또한, 광조사부(10A)의 차광판(17)과 광조사부(10C)의 차광판(17)은 동일한 구성을 가지기 때문에, 도 4에 있어서는, 광조사부(10A)의 차광판(17)만을 도시하고, 이하, 광조사부(10A)의 차광판(17)의 구성에 대해서 설명한다.
차광판(17)은, 상술한 바와 같이 플레이트 부재에 의해 구성되어 있지만, 상기 플레이트 부재는 복수의 서브 플레이트 부재의 집합에 의해 구성해도 된다. 구체적으로는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 동일 형상의 3장의 서브 플레이트 부재인 차광판(17a~17c)에 의해 구성할 수 있다. 이들 차광판(17a~17c)은, 각각 개별적으로 Y방향으로 이동 가능하고, 맨 밑(워크 W측)에 위치하는 차광판(17a)으로부터 차광판(17b), 차광판(17c)의 순서로, 퇴피 위치(161)로부터 전진 방향으로 일렬로 이어지도록 꺼내어진 형태로 차광 위치(162)에 배치된다. 또, 이 차광 위치(162)에 있어서, 차광판(17a~17c)은, 전단의 차광판의 후단부와 후단의 차광판의 전단부가 오버랩되도록 배치된다. 이것에 의해, 차광판(서브 플레이트 부재)들의 이음매 부분으로부터 광이 새어 워크 W에 조사되는 것을 방지하여, 적절히 도 2에 나타내는 차광 영역(152A)을 형성할 수 있다.
차광판(17a~17c)은, 도 5(a)에 나타내는 바와 같이, 퇴피 위치(161)에서는 완전하게 겹친 상태로 배치된다. 즉, 퇴피 위치(161)에서는, 차광판들의 오버랩량은 최대가 된다. 그리고, 이 상태로부터, 도 5(b)에 나타내는 바와 같이 상기 오버랩량을 서서히 작게 해 나감으로써, 차광판(17a~17c)은 차광 위치(162)에 배치되고, 그 바로 아래에 도 2에 나타내는 차광 영역(152A 또는 152C)이 형성된다. 상기 오버랩량은 차광 영역(152A나 152C)의 Y방향의 길이에 따라 조정 가능하고, 도 5(c)에 나타내는 바와 같이 오버랩량이 최소일 때, 차광 영역(152A나 152C)의 Y방향의 길이는 최대가 된다.
또한, 본 실시 형태에서는, 차광판(17a~17c)이 동일 형상을 가지는 경우에 대해서 설명하지만, 차광판(17a~17c)의 형상은 적당히 설정 가능하다. 또, 차광판의 장수도 3장에 한정되는 것은 아니다.
제2 광배향 처리를 행할 때에는, 광조사부(10A)의 차광부(16)와 광조사부(10C)의 차광부(16)를 모두 작동 상태로 하고, 도 6에 나타내는 바와 같이, 광조사부(10A)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치와 광조사부(10C)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치를, Y방향에 있어서 일치시킨다. 이 때의 차광판(17a)의 선단 위치 Pa는, 광조사부(10A)로부터 출사되는 제1 편광 광만이 조사되어야 할 워크 W 상의 영역(제1 영역) A1과, 광조사부(10C)로부터 출사되는 제2 편광 광만이 조사되어야 할 워크 W 상의 영역(제2 영역) B1 사이의 영역 C 내에 설정한다. 본 실시 형태에서는, 선단 위치 Pa는, 예를 들면 영역 A1과 영역 B1 사이의 간극의 Y방향에 있어서의 중앙 위치에 설정한다.
이 경우, 광조사부(10A)의 차광판(17a~17c)의 바로 아래를 통과하는 워크 W에는, 제1 편광 광 중 광배향에 기여하는 파장의 광은 조사되지 않는다. 마찬가지로, 광조사부(10C)의 차광판(17a~17c)의 바로 아래를 통과하는 워크 W에는, 제2 편광 광 중 광배향에 기여하는 파장의 광은 조사되지 않는다. 따라서, 광조사부(10A 및 10C)를 통과한 광배향 처리 후의 워크 W 상에는, 영역 A1을 포함하는 제1 배향 영역 A2가 Y방향에 있어서의 선단 위치 Pa의 일방측(도 6의 우측)에 형성되며, 영역 B1을 포함하는 제2 배향 영역 B2가 선단 위치 Pa의 타방측(도 6의 좌측)에 형성된다.
또한, 광조사부(10A)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치와 광조사부(10C)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치는, Y방향에 있어서 반드시 일치시킬 필요는 없다. 상기의 각 선단 위치는, 영역 A1과 영역 B1 사이이면 적당히 설정 가능하다. 단, 차광판(17)의 바로 아래에 형성되는 차광 영역(152A)으로의 광의 돌아들어감을 고려하면, 광조사부(10A)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치(도 6의 우측 단부 위치)는, 영역 A1의 상기 전진 방향에 있어서의 후단 위치(도 6의 좌측 단부 위치)에 가까울 수록 좋다. 광조사부(10C)의 차광판(17a)의 전진 방향에 있어서의 선단 위치에 대해서도 마찬가지이다.
또한, 도 7에 나타내는 바와 같이, 차광판(17a)의 전진 방향 단부에 선단 부재(17d)를 설치해도 된다. 또한, 도 7에서는, 광조사부(10A)의 차광판(17a)에 부착하는 선단 부재(17d)만을 도시하고 있지만, 광조사부(10C)의 차광판(17a)에도 동일한 선단 부재(17d)를 부착할 수 있다.
선단 부재(17d)는, 광조사부(10A)의 광 출사구로부터 출사되는 광의 차광 영역(152A)으로의 돌아들어감을 저감하기 위한 부재이며, 도 7에 나타내는 바와 같이, 차광판(17a)의 전진 방향 단부보다 하방에 위치하는 하단면을 가진다. 또, 선단 부재(17d)는, 예를 들면 차광판(17a)과 동등한 재질에 의해 구성한다. 또, 선단 부재(17d)는, 예를 들면, 나사(17e)에 의해, 차광판(17a)에 대해 높이 방향(Z방향) 위치를 조정 가능하게 부착되어 있다. 그리고, 선단 부재(17d)는, 차광판(17a)보다 워크 W에 접근하며, 또한 워크 W로부터 높이 방향으로 소정 거리 이격하는 위치에 설치된다.
도 7의 2점 쇄선으로 나타내는 바와 같이, 상기의 광의 돌아들어감이 발생하고 있는 경우, 조사 허용 영역(151A)과 차광 영역(152A)의 경계 위치는, 선단 부재(17d)의 Y방향에 있어서의 선단 위치보다 후퇴 방향측에 설정된다. 이 차광 영역(152A)측으로의 광의 돌아들어감량은, 워크 W의 상면과 선단 부재(17d)의 하면 사이의 갭 G에 따라 정해진다. 따라서, 갭 G는, 차광 영역(152A)으로의 광의 돌아들어감량의 허용치나, 선단 부재(17d)와 워크 W의 접촉 가능성 등을 고려하여 설정한다.
또한, 선단 부재(17d)의 형상은, 도 7에 나타내는 형상에 한정되지 않는다. 선단 부재(17d)의 X방향에서 본 형상은, 예를 들면, L자형 형상이어도 되고, I자형 형상이어도 된다. 또, 선단 부재(17d)는, 일방의 단부가 차광판(17a)의 전진 방향 단부와 동등, 혹은 전진 방향 단부보다 전진 방향측으로 돌출되어 수평 배치되는 평판 형상의 부재여도 된다. 이 경우, 평판 형상의 부재를, 차광판(17a)의 하면에 높이 조정용의 스페이서를 개재하여 부착해도 된다.
그런데, 최근, 광배향 처리는 텔레비전 화면용의 대형의 액정 디스플레이뿐만 아니라, 스마트폰용 등 중소형의 액정 디스플레이에도 전개되고 있으며, 다양한 종류, 치수의 액정 디스플레이의 생산이 기대되고 있다. 이러한 다양한 종류의 기판을 효율적으로 처리하기 위해서는, 1장의 다면취 마더 기판으로부터 종류가 상이한 복수의 셀 기판을 잘라낼 필요가 있다.
본 실시 형태에 있어서의 편광 광 조사 장치(100)는, 상술한 구성에 의해, 한 번의 광조사 처리에 의해, 1장의 워크 W 상에 배향 방향이 상이한 복수의 배향 영역을 형성할 수 있다. 따라서, 복수 종류의 기판을 효율적으로 생산할 수 있어, 코스트 메리트를 얻을 수 있다. 또, 개별의 오더에도 유연하게 대응할 수 있다.
또, 본 실시 형태의 편광 광 조사 장치(100)는, 3개의 광조사부(10A~10C)를 구비하고, 광조사부(10A)의 광 출사구의 광 출사측과 광조사부(10C)의 광 출사구의 광 출사측에 각각 차광부(16)를 설치한다. 그리고, 이 차광부(16)에 의해, 광조사부(10A)로부터 출사되는 제1 편광 광의 조사 허용 영역(151A)과, 광조사부(10C)로부터 출사되는 제2 편광 광의 조사 허용 영역(151C)을 규정한다. 즉, 차광부(16)는, 워크 W 상의 제1 편광 광에 의해 광배향되어야 할 영역 A1과, 제2 편광 광에 의해 광배향되어야 할 영역 B1을 기정할 수 있다. 따라서, 한 번의 광조사 처리에 의해, 워크 W 상에 상이한 복수의 배향 영역을 적절히 형성할 수 있다.
또, 제1 광배향 처리를 행할 때에 사용하는 광조사부(10A 및 10B)는, X방향에 있어서 기판 교환 위치에 가까운 측에 배치된다. 기판 교환 위치로부터 광배향 처리가 행해지는 조사 영역(15)까지의 거리가 짧을 수록, 택트 타임은 단축되기 때문에, 실시 빈도가 높은 제1 광배향 처리에 있어서 사용되는 광조사부(10A 및 10B)를 기판 교환 위치에 가까운 측에 배치함으로써, 생산성을 향상시킬 수 있다. 상기 실시 형태에서는, 제1 광배향 처리의 실시 빈도 쪽이 제2 광배향 처리의 실시 빈도보다 높은 경우에 대해서 설명했지만, 제2 광배향 처리의 실시 빈도 쪽이 제1 광배향 처리의 실시 빈도보다 높은 경우에는, 기판 교환 위치에 가까운 측에 광조사부(10A 및 10C)를 배치해도 된다.
또한, 제1 광배향 처리를 실시하지 않는 경우나, 광배향 처리에 필요한 조사 광량이나 광배향 처리 시간 등의 조건에 의해 제1 광배향 처리를 1개의 광조사부(10A)만을 사용하여 실시 가능한 경우에는, 차광부(16)를 가지지 않는 광조사부(10B)는 설치하지 않아도 된다.
또, 차광부(16)는, 플레이트 부재인 차광판(17)과, 차광판(17)을 Y방향으로 슬라이드 이동시키는 차광판 구동부(18)를 포함하여 구성한다. 이것에 의해, 워크 W 상을 Y방향으로 복수 영역으로 분할하고, 이러한 영역을 각각 배향 방향이 상이한 배향 영역으로서 설정할 수 있다. 또한, 차광판(17)의 Y방향에 있어서의 배치 위치의 자유도를 향상시킬 수 있으므로, 워크 W 상에 형성하는 배향 영역을 비교적 자유롭게 설정할 수 있어, 다양한 사이즈의 액정 배향 영역에 대응할 수 있다.
또, 차광판(17)을 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능한 구성으로 함으로써, 차광부(16)의 높이 방향(Z방향)의 공간 절약화가 도모된다. 따라서, 광조사부(10A, 10C)의 광 출사구로부터 워크 W까지의 거리가 매우 가까운 경우여도, 차광판(17)을 광 출사구의 광 출사측의 적절한 위치에 배치할 수 있다.
또한, 차광판(17)은, 광 출사구로부터 출사되는 편광 광의 조사 가능 영역 내에 있어서의 소정의 사용 위치(차광 위치)(162)와, 조사 가능 영역으로부터 퇴피한 퇴피 위치(161) 사이를 이동 가능한 구성으로 한다. 이 경우, 차광판(17)을 퇴피 위치(161)에 배치한 비작동 상태에서는, 조사 가능 영역 내에 차광 영역이 형성되지 않는다. 그 때문에, 차광부(16)를 구비하는 광조사부를, 제1 광배향 처리와 제2 광배향 처리 양쪽으로 병용할 수 있다.
또, 광조사부(10A)의 차광판(17)의 퇴피 위치(161)와, 광조사부(10C)의 차광판(17)의 퇴피 위치(161)를, Y방향에 있어서 대향하는 위치에 설정한다. 즉, 광조사부(10A)의 차광판(17)의 전진 방향과 광조사부(10C)의 차광판(17)의 전진 방향을, Y방향에 있어서 역방향으로 설정한다. 따라서, 각 차광판(17)의 퇴피 위치(161)와 차광 위치(162) 사이의 이동 거리를 짧게 할 수 있어, 각 차광판(17)의 이동 시간의 단축이 도모된다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 차광판(17)의 퇴피 위치(161)를 광조사부(10A 및 10C)의 Y방향 단부에 설치하는 경우에 대해서 설명했지만, X방향으로 퇴피 위치가 설치되는 경우에는, 차광판(17)을 X방향으로 퇴피시키는 구성이어도 된다.
또한, 차광판(17)을 광학 필터에 의해 구성하므로, 차광판(17)을 금속판이나 수지에 의해 구성하는 경우와 비교하여, 램프(11)의 열이나 자외선에 의한 변형이나 열화를 억제할 수 있다. 만일, 차광판(17)을 금속판으로 하면, 램프(11)의 열에 의해 차광판(17)이 변형되어, 슬라이드 이동을 할 수 없게 되거나 워크 W에 접촉한다는 문제가 생길 수 있다. 이에 반해, 본 실시 형태에서는, 차광판(17)을 광학 필터에 의해 구성하므로, 상기 문제의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 차광판(17)은, 광학 필터에 한정되는 것이 아니라, 열이나 자외선에 견딜수 있는 재질이며 또한 차광 영역을 적절히 형성 가능한 부재이면, 적당히 적용 가능하다.
또, 차광판(17)은, 복수장(상기 실시 형태에서는 3장)의 서브 플레이트 부재인 차광판(17a~17c)에 의해 구성하고, 퇴피 위치(161)에서는, 이들 차광판(17a~17c)을 Z방향으로 겹쳐서 배치한다. 따라서, 퇴피 위치(161)의 스페이스를 작게 할 수 있어, 장치의 소형화를 실현할 수 있다. 또한, 차광 위치(162)에서는, 이들 차광판(17a~17c)을 일렬로 이어지도록, 전단의 차광판의 후단부와 후단의 차광판의 전단부를 오버랩시켜 배치한다. 따라서, 차광판들의 간극으로부터 편광 광이 새어 차광 영역(152A, 152C)에 조사되는 것을 방지하여, 적절히 차광 영역(152A, 152C)을 형성할 수 있다. 또, 차광판들의 오버랩량을 조정함으로써, 차광 영역의 사이즈를 용이하게 조정할 수 있다.
또한, 차광판(17)의 전진 방향 선단부에 선단 부재(17d)를 설치함으로써, 차광 영역(152A, 152C)으로의 편광 광의 돌아들어감을 억제할 수 있다. 또한, 선단 부재(17d)는, 그 하단면의 높이 방향 위치를 조정 가능하게 구성되어 있으므로, 상기의 광의 돌아들어감량을 조정할 수 있어, 적절히 차광 영역(152A, 152C)을 형성할 수 있다.
(변형예)
상기 실시 형태에 있어서는, 차광판(17)을 퇴피 위치(161)와 차광 위치(162) 사이에서 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능한 구성으로 하는 경우에 대해서 설명했지만, 차광판(17)은, 반드시 슬라이드 이동할 필요는 없다. 예를 들면, 차광판(17)은 회전 개폐하는 구성이어도 된다. 또한, 차광판(17)은, 램프 하우스(14)에 대해 착탈 가능하게 나사 고정하는 구성이어도 된다. 이 경우, 차광 영역(152A, 152C)의 크기에 따른 사이즈의 차광판(17)을 램프 하우스(14)에 부착하도록 하면, 워크 W 상에 형성하는 배향 영역의 사이즈를 자유롭게 설정하는 것이 가능해진다. 즉, 차광판(17)은 수동으로 이동시켜도 된다.
또, 상기 실시 형태에 있어서는, 차광판(17)을 Y방향으로 이동 가능한 구성으로 하는 경우에 대해서 설명했지만, 워크 W 상에 형성하는 배향 영역의 위치 및 사이즈가 고정인 경우에는, 차광판(17)은 고정이어도 된다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 워크 W 상에 2개의 배향 영역을 형성하는 경우에 대해서 설명했지만, 3개 이상의 배향 영역을 형성할 수도 있다. 이 경우, 차광부(16)를 구비하는 광조사부를 3개 이상 설치해도 되고, 1개의 광조사부에 복수의 차광부(16)를 구비하고, 1개의 광조사부에 있어서 복수의 차광 영역을 형성하도록 해도 된다.
또, 상기 실시 형태에 있어서는, 1개의 스테이지(21)가 등구(광조사부(10A~10C))의 바로 아래를 왕복하는 싱글 스테이지 방식의 편광 광 조사 장치(100)에 본 발명을 적용하는 경우에 대해서 설명했지만, 편광 광 조사 장치(100)의 구성은 도 1에 나타내는 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 2개의 스테이지가 등구 아래를 서로 왕복하는, 소위 트윈 스테이지 방식의 편광 광 조사 장치(100)에 본 발명을 적용할 수도 있다. 또, 1개의 스테이지에 복수의 워크 W를 올려 놓고, 워크 W 마다 상이한 편광축의 편광 광을 조사하여 광배향 처리를 행하는 장치에도 적용 가능하다.
10A~10C: 광조사부
11: 램프
12: 미러 13: 편광자 유닛
14: 램프 하우스 15: 조사 영역
16: 차광부 17(17a~17c): 차광판(플레이트 부재)
17d: 선단 부재 17e: 나사
18: 차광판 구동부 20: 반송부
21: 스테이지 22: X방향 구동 기구
22A: 가이드 22B: 마그넷판
22C: 코일 모듈 24: θ이동 기구
100: 편광 광 조사 장치 150A: 조사 가능 영역
151A: 조사 허용 영역 152A: 차광 영역
161: 퇴피 위치 162: 차광 위치(사용 위치)
12: 미러 13: 편광자 유닛
14: 램프 하우스 15: 조사 영역
16: 차광부 17(17a~17c): 차광판(플레이트 부재)
17d: 선단 부재 17e: 나사
18: 차광판 구동부 20: 반송부
21: 스테이지 22: X방향 구동 기구
22A: 가이드 22B: 마그넷판
22C: 코일 모듈 24: θ이동 기구
100: 편광 광 조사 장치 150A: 조사 가능 영역
151A: 조사 허용 영역 152A: 차광 영역
161: 퇴피 위치 162: 차광 위치(사용 위치)
Claims (10)
- 광배향막이 형성된 워크에 편광광을 조사하여 광배향을 행하는 광조사 장치로서,
상기 워크를 소정의 반송로를 따라 반송하는 스테이지와,
상기 워크의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광광을 조사하는 제1 광조사부와,
상기 반송로 상에 있어서 상기 제1 광조사부와 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 상기 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광광을 조사하는 제2 광조사부와,
상기 제1 광조사부의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 상기 제1 편광광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제1 영역을 규정하는 제1 플레이트 부재와,
상기 제2 광조사부의 광 출사구의 광 출사측에 배치되며, 상기 제2 편광광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제2 영역을 규정하는 제2 플레이트 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는,
상기 광배향막의 광배향에 기여하는 파장의 편광광을 차광하는 광학 필터에 의해 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 1에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는,
상기 광 출사구로부터 출사되는 편광광의 조사 가능 영역 내에 있어서의 소정의 사용 위치와, 상기 조사 가능 영역으로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이를 이동 가능한 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 2에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는,
상기 광 출사구로부터 출사되는 편광광의 조사 가능 영역 내에 있어서의 소정의 사용 위치와, 상기 조사 가능 영역으로부터 퇴피한 퇴피 위치 사이를 이동 가능한 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 수평 방향으로 슬라이드 이동 가능한 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 3 또는 청구항 4에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재는, 각각 복수장의 서브 플레이트 부재에 의해 구성되며,
상기 복수장의 서브 플레이트 부재는, 상기 사용 위치에 있어서, 상기 서브 플레이트 부재들의 단부를 오버랩시켜 일렬로 이어지도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 영역은, 상기 워크 상의 상기 반송로에 직교하는 방향에 있어서의 일방측에 설정되며, 상기 제2 영역은, 상기 워크 상의 상기 반송로에 직교하는 방향에 있어서의 타방측에 설정되고,
상기 제1 플레이트 부재의 상기 일방측의 단부의 위치, 및 상기 제2 플레이트 부재의 상기 타방측의 단부의 위치는, 각각 상기 제1 영역의 상기 타방측의 단부와 상기 제2 영역의 상기 일방측의 단부 사이에 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
상기 제1 플레이트 부재 및 상기 제2 플레이트 부재의 단부에 각각 설치되며, 상기 단부보다 하방에 위치하는 하단면을 가지는 선단 부재를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 청구항 8에 있어서,
상기 선단 부재는, 상기 하단면의 높이 방향 위치를 조정 가능한 것을 특징으로 하는 광조사 장치. - 광배향막이 형성된 워크에 편광광을 조사하여 광배향을 행하는 광조사 방법으로서,
상기 워크의 반송로 상에 설치되며, 광원으로부터의 광을 제1 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제1 편광광을 조사하는 제1 광조사부의 상기 광 출사구의 광 출사측에, 제1 플레이트 부재를 배치하여, 상기 제1 편광광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제1 영역을 규정하는 단계와,
상기 반송로 상에 있어서 상기 제1 광조사부와 나란히 설치되며, 광원으로부터의 광을 상기 제1 편광자와는 상이한 방향의 투과축을 가지는 제2 편광자에 의해 편광하고, 광 출사구로부터 제2 편광광을 조사하는 제2 광조사부의 상기 광 출사구의 광 출사측에, 제2 플레이트 부재를 배치하여, 상기 제2 편광광에 의해 광배향되어야 할 상기 워크 상의 제2 영역을 규정하는 단계와,
상기 워크를 스테이지에 의해 상기 반송로를 따라 반송하여, 상기 워크 상의 상기 제1 영역에 상기 제1 편광광을 조사하고, 상기 워크 상의 상기 제2 영역에 상기 제2 편광광을 조사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 광조사 방법.
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