TW201514592A

TW201514592A - 光配向用偏光光線照射裝置及光配向用偏光光線照射方法

Info

Publication number: TW201514592A
Application number: TW103118431A
Authority: TW
Inventors: Kazutoshi Shinoda
Original assignee: Ushio Electric Inc
Priority date: 2013-06-22
Filing date: 2014-05-27
Publication date: 2015-04-16
Also published as: JP5884776B2; CN104238136A; JP2015004896A; CN104238136B; KR20140148338A; KR101818800B1; TWI626495B

Abstract

提供利用對搬送系下工夫，可更提升曝光量的面內均勻性之實用性的光配向技術。來自成長條狀之發光部的光源(3)的光線透過偏光元件單元(4)，照射至照射區域(R)，搬送系(2)將基板(S)往第一方向搬送，一邊通過照射區域(R)一邊進行往返。各偏光元件(41)的邊際線(40)係沿著第一方向，搬送系(2)係在去路的搬送後，歸路的搬送前，將基板(S)往第二方向搬送。因為從基板(S)觀看，邊際線(40)的位置成為變位之狀態，所以，曝光量會成為均勻。

Description

光配向用偏光光線照射裝置及光配向用偏光光線照射方法

本案發明係關於進行光配向時所進行之偏光光線的照射技術者。

近來，在取得以液晶面板為首之液晶顯示元件的配向膜、視角補償薄膜的配向層時，採用藉由光照射來進行配向之被稱為光配向的技術。以下，將藉由光照射來產生配向之膜及層總稱為光配向膜。再者，所謂「配向」乃至「配向處理」係針對對象物的某種性質賦予方向性。

光配向係藉由對於光配向膜用的膜(以下稱為膜材)照射偏光光線來進行。膜材係例如像聚醯亞胺的樹脂製，往所希望方向(應配向的方向)偏光的偏光光線被照射至膜材。藉由所定波長的偏光光線的照射，膜材的分子構造(例如側鏈)對齊偏光光線的朝向之狀態，取得光配向膜。

光配向膜與使用其之液晶面板的大型化也一起大型化。因此，被要求之偏光光線的照射區域的寬度成為1500mm或其以上，明顯地寬廣化。作為此種對寬度寬廣的照射區域照射偏光光線的偏光光線照射裝置，例如有專利文獻1所揭示的裝置。該裝置係具備相當於照射區域的寬度之長度的棒狀光源，與使來自該光源之光線偏光的線柵偏光元件，對於往正交於光源的長邊方向之方向搬送的膜材，照射偏光光線。光配向需要照射可視至紫外域之波長的偏光光線，故作為棒狀的光源，大多使用如高壓水銀燈的紫外線光源。

〔先前技術文獻〕〔專利文獻〕

[專利文獻1]日本特開2006-126464號公報

[專利文獻2]日本專利第4815995號公報

作為光配向處理之品質的指標，重要的是曝光量的均勻性。曝光量的均勻性，不單僅代表積算曝光量在膜材的面內均勻，也指偏光光線被以何種程度之均勻的量來照射。亦即，需要盡可能不照射未偏光的光線(以下稱為無偏光光線)，作為僅照射偏光光線之狀態，讓曝光量均勻。局部性地在包含多量無偏光光線之狀態下進行曝光的話，即使整體的曝光量分布均勻，也會成為僅該部分未充分進行光配向之狀態。亦即，在光配向的均勻性的觀點上來說，品質會降低。

在偏光光線的均勻照射之觀點下成為問題的是偏光元件的有限性。線柵偏光元件係作為可使從可視至紫外域的光線偏光者具有優良功能，但是，難以製造較大尺寸者。因此，使用並排複數線柵偏光元件而單元化者，來覆蓋照射區域。

並排複數線柵偏光元件時，從各偏光元件的邊際部分(端面的接觸部分)照射無偏光光線，在各偏光元件的邊際部分之正下的位置，無法進行光配向處理。在此種不均勻之照度分布的狀態下進行光配向處理的話，在工件(膜材)的表面中通過各偏光元件的邊際部分之正下的位置的區域，光配向會成為不充分的狀態，光配向處理的面內均勻性會降低。

考慮此種問題，在專利文獻1中，以封堵各偏光元件的邊際部分之方式設置遮光板，讓光線不會從邊際部分射出。此係考量利用配置遮光板，在通過遮光板之正下位置的區域，雖然曝光量會降低，但是，比被照射大量無偏光的光線，光配向成為局部性不充分之狀況還好。在遮光板的正下位置之偏光光線的照度降低，係可增加光源的輸出來整體性提升照度，增加照射距離來緩和照度降低。再者，於以下的說明中，稱照度或曝光量時，代表關於偏光光線的照度或曝光量。

又，為了消除在遮光板之正下位置的照度降低的問題，專利文獻2係揭示將由光源及偏光元件單元所成的光照射器，於工件的搬送方向，並排兩個的構造。在該構造中，讓偏光元件單元之各線柵偏光元件的邊際線於兩個光照射器中不並排於同一直線上，成為往垂直於工件的搬送方向之方向偏離的配置。將工件追加在兩個光照射器之間來照射偏光光線時，即使是一個光照射器中通過邊際線之正下位置(亦即，遮光板的正下位置)的工件的表面區域，在另一個光照射器中也不會通過邊際線之正下位置，所以整體來說曝光量均勻。

雖然藉由該等專利文獻1及專利文獻2的技術，也可進行某種程度之均勻的偏光光線的照射，但是也有無法充分對應被要求高生產性，被要求更高均勻性之狀況之一面。

另一方面，於此種光配向的技術中，除了偏光光線照射的對象物(工件)是膜材連續連接之長條狀者(以下稱為長條工件)的狀況之外，也有膜材已經被設置於基板上，附膜材的基板是工件之狀況。此種板狀者是工件時，作為搬送系，可有各種變化，自由度較高。所以，利用對搬送系下工夫，可彌補前述採用遮光板所致之照度分布不均勻化，實現均勻性高的光配向處理。

本案發明係考率前述之觀點所發明者，具有提供利用對搬送系下工夫，可更提高曝光量的面內均勻性之有實用性的光配向技術的意義。

為了解決前述課題，本案申請專利範圍第1項所記載之發明，具有以下構造：一種光配向用偏光光線照射裝置，係具備對設定之照射區域照射偏光光線的光照射器，與以通過照射區域之方式搬送工件的搬送系的光配向用偏光光線照射裝置，其中，光照射器，係具備成長條狀之發光部的光源，與配置在光源與照射區域之間的偏光元件單元者；偏光元件單元，係由沿著發光部的長邊方向並排之複數偏光元件所成者；工件係被一個個切離開；搬送系，係利用使保持工件的工件保持體移動，來搬送工件者；搬送系，係以利用使工件保持體，往與發光部的長邊方向交叉之第一方向移動，來通過照射區域之方式搬送工件，並且可使工件保持體，往與偏光元件單元之各偏光元件的邊際線的方向交叉之第二方向移動；搬送系所致之第二方向的工件保持體的移動，係使從工件觀看之各偏光元件的邊際線的位置，在光照射時往第二方向相對性變位者。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第2項所記載之發明係具有於前述申請專利範圍第1項的構造中，前述搬送系所致之第一方向的移動，係以保持工件之前述工件保持體通過照射區域之方式使前述工件保持體進行往返移動；前述搬送系，係在去路移動完成後的歸路移動之前，進行前述第二方向的移動的構造者。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第3項所記載之發明，係具有於前述申請專利範圍第1項的構造中，前述搬送系，係在進行前述第一方向的移動時進行前述第二方向的移動的構造者。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第4項所記載之發明，係具有於前述申請專利範圍第1項的構造中，前述光照射器，係為第一及第二的複數光照射器；第一光照射器之各偏光元件的邊際線，與第二光照射器之各偏光元件的邊際線，係在前述第二方向相互偏離的構造。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第5項所記載之發明，具有以下構造：一種光配向用偏光光線照射方法，係將來自成長條狀之發光部的光源的光線，透過偏光元件單元，照射至照射區域，並利用以通過照射區域之方式搬送工件，對工件照射光配向用之偏光光線的光配向用偏光光線照射方法，其中，偏光元件單元，係由沿著發光部的長邊方向並排之複數偏光元件所成者；作為工件被一個個切離開，且利用使保持工件的工件保持體移動，來搬送工件的方法；作為以利用使工件保持體，往與發光部的長邊方向交叉之第一方向移動，來通過照射區域之方式搬送工件，並且可使工件保持體，往與偏光元件單元之各偏光元件的邊際線的方向交叉之第二方向移動的方法；藉由第二方向之工件保持體的搬送，使從工件觀看之各偏光元件的邊際線的位置，在光照射時往第二方向相對性變位。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第6項所記載之發明係具有於前述申請專利範圍第5項的構造中，前述第一方向的移動，係以保持工件之前述工件保持體通過照射區域之方式使前述工件保持體進行往返移動，且在去路移動完成後的歸路移動之前，進行前述第二方向的移動的構造。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第7項所記載之發明，係具有於前述申請專利範圍第5項的構造中，在進行前述第一方向的移動時進行前述第二方向的移動的構造。

又，為了解決前述課題，申請專利範圍第8項所記載之發明，係具有於前述申請專利範圍第5項的構造中，前述光照射器，係為第一及第二的複數光照射器；使第一光照射器之各偏光元件的邊際線，與第二光照射器之各偏光元件的邊際線，在前述第二方向相互偏離之狀態下進行的構造。

如以下說明所述，依據本案申請專利範圍第1項或第5項所記載之發明，利用在將工件往第一方向搬送並通過照射區域時，將工件往第二方向搬送，可成為從工件觀看之各偏光元件的邊際線的位置，往第二方向相對性變位之狀態，所以，無關於邊際線的存在，通過之工件在被照射面內的曝光量會成為均勻。

又，依據申請專利範圍第2項或第6項所記載之發明，除了前述效果之外，因為使工件往返移動，適合需要大量的曝光量之狀況。又，因為在照射區域之一方側進行工件的搭載與回收，所以，構造及動作被簡略化。

又，依據申請專利範圍第3項或第7項所記載之發明，除了前述效果之外，第二方向的搬送在第一方向的搬送中進行，所以，可縮短生產間隔時間，提升生產性。

又，依據申請專利範圍第4項或第8項所記載之發明，除了前述效果之外，因為設置複數個光照射器，容易增加曝光量，於兩個偏光元件單元中偏光元件的邊際線會偏離，所以，曝光量成為均勻。然後，因為導入第二方向的搬送，所以更可使曝光量成為均勻。

1‧‧‧光照射器

2‧‧‧搬送系

21‧‧‧基座板

3‧‧‧光源

4‧‧‧偏光元件單元

40‧‧‧邊際線

41‧‧‧偏光元件

43‧‧‧遮光板

5‧‧‧平台

61‧‧‧第一平台移動機構

611‧‧‧第一滾珠螺絲

612‧‧‧第一線性導件

613‧‧‧第一驅動源

62‧‧‧第二平台移動機構

621‧‧‧第二滾珠螺絲

622‧‧‧第二線性導件

623‧‧‧第二驅動源

7‧‧‧控制部

S‧‧‧基板

R‧‧‧照射區域

[圖1]關於本案發明的實施形態之光配向用偏光光線照射裝置的立體概略圖。

[圖2]圖1所示之光照射器1的剖面概略圖，(1)係照射區域R在短邊方向的剖面概略圖，(2)係照射區域R在長邊方向的剖面概略圖。

[圖3]圖1所示之平台5的立體概略圖。

[圖4]搬送系2具備之平台移動機構61、62的俯視概略圖。

[圖5]搬送系2具備之平台移動機構61、62的前視概略圖。

[圖6]揭示實施形態的裝置之搬送系2的動作的俯視概略圖。

[圖7]針對實施形態的裝置之第二方向的移動距離進行揭示的俯視概略圖。

[圖8]關於第二實施形態之光配向用偏光光線照射裝置的立體概略圖。

[圖9]概略揭示第二實施形態之各偏光元件單元4的配置位置的俯視圖。

[圖10]揭示第二實施形態的裝置之搬送系2的動作的俯視概略圖。

[圖11]揭示第二實施形態的裝置之第二方向的移動距離的俯視概略圖。

[圖12]揭示第三實施形態的光配向用偏光光線照射裝置及方法的俯視概略圖。

[圖13]揭示利用導入第二方向之基板S的搬送，確認積算曝光量成為均勻之實驗的結果的圖。

接著，針對用以實施本案發明的形態(以下，實施形態)進行說明。

圖1係關於本案發明的實施形態之光配向用偏光光線照射裝置的立體概略圖。圖1所示之偏光光線照射裝置，係對於如附膜材的液晶基板之板狀工件(以下稱為基板)S，進行光配向處理的裝置。

具體來說，圖1的裝置係具備對設定之照射區域R照射偏光光線的光照射器1，與以通過照射區域R之方式搬送基板S的搬送系2。如圖1所示，照射區域R係設定為長方形之水平的區域。光照射器1係包含成長條狀之發光部的光源3。光源3之發光部的長邊方向，一致於照射區域R的長邊方向。

圖2係圖1所示之光照射器1的剖面概略圖，(1)係照射區域R在短邊方向的剖面概略圖，(2)係照射區域R在長邊方向的剖面概略圖。如圖2所示，光照射器1係具備成長條狀之發光部的光源3，與配置在光源3與照射區域R之間的偏光元件單元4。

作為光源3，使用棒狀的高壓水銀燈。此外，也有使用金屬鹵素燈或LED之狀況。再者，棒狀的光源3係成長條狀之發光部的光源3之一例，將點光源3並排成一列者也可成長條狀的發光部。

於光源3的背後(與照射區域R相反側)，配置鏡片31。鏡片31係延伸於光源3的長邊方向之長條狀者，覆蓋光源3的背後，使光線反射至照射區域R側，提升光線的利用效率。鏡片31係反射面的剖面形狀成橢圓的圓弧或拋物線。

偏光元件單元4係由複數偏光元件41，與保持複數偏光元件41的框架42所成。在此實施形態中，各偏光元件41係線柵偏光元件41。各偏光元件41係方形的板狀，並排於光源3之發光部的長邊方向。所以，各偏光元件41的邊際線垂直於發光部的長邊方向。

保持各偏光元件41的框架42係並排各偏光元件41的方向較長之長方形的框狀。

再者，以覆蓋各邊際線40之方式，設置遮光板43。遮光板43係使無偏光光線不會從邊際線40的部分射出。

又，光源3及鏡片31係收容於燈室32內。偏光元件單元4係安裝於燈室32的光照射用開口。

搬送系2係利用使保持基板S的工件保持體移動，來搬送基板S。在此實施形態中，作為工件保持體，使用平台5。圖3係圖1所示之平台5的立體概略圖。

如圖1及圖3所示，平台5為方形，在上側幾乎中央保持基板S。平台5係以在從上面稍為浮起之位置來保持基板S之方式具備保持銷51。保持銷51係藉由平台5一體地保持，平台5移動時，保持之基板S也一起移動。

保持銷51係在方形的角的位置，設置4個。此外，也有因應基板S的尺寸，設置於中央的位置者。各保持銷51係為管狀，連接於未圖示的真空排氣系，從上端的開口吸引，真空吸附基板S者。

再者，相對於基板S之保持銷51的接觸位置，係於使用基板S之產品的製程中沒有障礙的位置。例如，基板S是液晶顯示器製造用者，從1張基板製造複數液晶顯示器時，以在離開為了各液晶顯示器製造所使用之區域之處，與保持銷51接觸。

搬送系2係具備為了搬送基板S，使平台5移動的平台移動機構61、62。圖4及圖5係搬送系2具備之平台移動機構61、62的概略圖，圖4係俯視概略圖，圖5係前視概略圖。

於此實施形態中，搬送系2係將基板S往第一及第二之不同方向搬送者。第一方向係與光源3所成之發光部的長邊方向垂直之水平方向。又，第二方向係與偏光元件單元4之各偏光元件41的邊際線40之方向交叉的方向。在此實施形態中，第二方向係與各偏光元件41之邊際線40的方向垂直的水平方向。如前述般，偏光元件單元4係以各邊際線40的方向成為與發光部之長邊方向垂直的水平方向之方式配置，所以，第一方向一致於各邊際線40的方向，第二方向為與各邊際線40之方向垂直的水平方向。

第一方向的搬送為主要的搬送，從基板S的搭載位置將基板S搬送至照射區域R，且用以一邊通過照射區域R，一邊讓基板S達到回收位置的搬送。第二方向的搬送係用以讓基板S的面內之曝光量均勻的搬送。

如圖1所示，搬送系2係具備使平台5往第一方向移動的第一平台移動機構61，與使平台5往第二方向移動的第二平台移動機構62。平台5係搭載於基座板21上，第一平台移動機構61係利用移動基座板21，來讓平台5移動。第二平台移動機構62係固定於基座板21，在基座板21上使平台5移動者。

在此實施形態中，於照射區域R的一方側設定基板搭載位置。第一平台移動機構61係由從基板搭載位置往照射區域R延伸之第一滾珠螺絲611、在第一滾珠螺絲611的兩側與第一滾珠螺絲611平行地延伸之一對的第一線性導件612、驅動第一滾珠螺絲611的第一驅動源613等所構成。

如圖1所示，第一滾珠螺絲611及一對的第一線性導件612，係貫穿照射區域R往水平延伸。第一滾珠螺絲611的一端，連結第一驅動源613，另一端以軸承支持。一對的第一線性導件612分別兩端以軸承支持。

於基座板21的下面幾近中央，固定有螺合於第一滾珠螺絲611(螺絲咬合)的第一被驅動區塊22。又，於基座板21的下面，固定有一對的第一導件區塊23。第一導件區塊23的固定位置，係對應兩側的第一線性導件612的位置。於第一導件區塊23內，設置有軸承，兩側的線性導件貫通第一導件區塊23。

第一驅動源613係如AC伺服電動機的電動機，第一驅動源613使滾珠螺絲旋轉時，一邊被一對的第一線性導件612導引，基座板21及平台5一邊一體地直線移動。藉此，被平台5保持的基板S被搬送至第一方向。

又，第二平台移動機構62係由被固定於基座板21上之第二滾珠螺絲621、同樣被固定於基座上之一對的第二線性導件622、驅動第二滾珠螺絲621的第二驅動源623等所固定。

第二滾珠螺絲621及一對的第二線性導件622係以延伸於第二方向之方式固定。於平台5的下面中央，固定有螺合於第二滾珠螺絲621的第二被驅動區塊24。又，於平台5的下面，固定有一對的第二導件區塊25。第二導件區塊25的固定位置，係對應兩側的第二線性導件622的位置。於第二導件區塊25內，設置有軸承，兩側的線性導件貫通第二導件區塊25。

第二驅動源623使滾珠螺絲旋轉時，平台5一邊被一對的第二線性導件622導引，一邊在基座板21上直線移動。藉此，被平台5保持的基板S被搬送至第二方向。

圖6係揭示實施形態的裝置之搬送系2的動作的俯視概略圖。如圖6(1)所示，於初始狀態中，平台5位於基板搭載位置。基板S被載置於平台5上，被各保持銷51保持時，搬送系2係驅動第一驅動源613，使基座板21及平台5往第一方向前進。平台5到達第一前進限度位置時，第一驅動源613會停止。如圖6(2)所示，第一前進限度位置係平台5上的基板S完全通過照射區域R的位置。所謂「完全通過」係代表基板S的後緣通過照射區域R。

搬送系2係在第一前進限度位置，使基座板21及平台5停止之後，使第二驅動源623動作，在基座板21上，使平台5移動至第二方向。第二驅動源623係在平台5達到第二前進限度位置時停止(圖6(3))。

接著，搬送系2係再次使第一驅動源613動作，使基座板21及平台5朝向第一方向，且反向移動。亦即，以第一滾珠螺絲611往反向旋轉之方式使第一驅動源613動作。第一驅動源613係平台5再次通過照射區域R，到達基板回收位置時停止(圖6(4))。

如圖4所示，偏光光線照射裝置係具備控制裝置各部的控制部7。又，監視基座板21及平台5的位置之未圖示的感測器被設置於各處，各感測器的訊號被送至控制部7。進而，在實施形態的裝置中，想定機器人將基板S搭載於平台5上，又，從平台5回收已曝光的基板S，但是，在與機器人之間，控制部7進行訊號的處理。

於控制部7，安裝有用以最佳控制包含搬送系2之各驅動源的各部之序列程式。序列程式係遵從來自感測器的訊號，將控制訊號送至各部，如圖6所示般，使搬送系2動作。

於前述搬送系2中，第二方向的移動距離(圖7中d_m所示)，係根據基板S的面內之曝光量均勻化的觀點來說，被最佳化。以下，針對此點，使用圖7來說明。圖7係針對實施形態的裝置之第二方向的移動距離進行揭示的俯視概略圖。

除了第一方向之外，進行第二方向之平台5的移動，係為了迴避起因於前述之邊際線40正下位置之照度降低的曝光量之不均勻化的問題。如上所述，於實施形態的裝置中，搬送系2係使平台5於第一方向中往返移動。此時，平台5並不是通過相同路徑歸來，而是稍微往橫方向偏移，通過不同的路徑歸來。

在去路與歸路中基板S通過照射區域R時，如果是相同路徑的話，於去路中通過邊際線40正下的基板S上之處，係於歸路中也同樣通過邊際線40正下的位置。在此種基板S的搬送中，並未消除起因於局部性照度降低之曝光量的不均勻化。

另一方面，通過不同路徑，基板S回來時，在去路通過照度降低之處的基板S上之處，因為在歸路中通過不是照度降低之處的位置而回來，作為整體來說，曝光量會成為均勻。

但是，在此實施形態中，存在複數個複數偏光元件41所成之邊際線40(偏光元件41有3個以上)。所以，邊際線40之間d_a的距離(或d_a的整數倍的距離)與移動距離d_m一致的話，在去路中通過照度較低的位置之基板S上的區域即使在歸路中也通過照度較低的位置，無法達成曝光量的均勻化。所以，第二方向的移動距離d_m係從偏光元件單元4中各偏光元件41所成之邊際線40的離開距離(以下，稱為邊際線40的間距離)d_a的整數倍分離即可(d_m≠n．d_a，n為整數)。根據縮短生產間隔時間的觀點，移動距離d_m較短為佳。所以，移動距離d_m在d_m<d_a的範圍內適當決定。

又，移動距離d_m從邊際線40間距離d_a偏離哪種程度即可，係依據各邊際線40正下的區域之照度降低的狀況如何來決定。於圖7，與第二方向的移動距離d_m、各邊際線40的間距離d_a一起，概略揭示邊際線40正下的區域之照度分布。在此所示之照度分布，係在通過照射區域R中邊際線40正下之位置的第二方向的直線上的照度分布。

如圖7(1)所示，照度分布的降低僅限於邊際線40正下的位置之非常狹小的區域時，移動距離dm係超過產生照度降低之區域的單方的寬度w的微小距離即可。

另一方面，如圖7(2)所示，產生照度降低之區域的寬度w有某種程度寬廣時，就算已超過該寬度w之方式設定移動距離d_m，寬度w也不會超過各邊際線40的間距離d_a的1/2。所以，移動距離d_m係設為各邊際線40間距離d_a的1/2即可。亦即，設為d_m=d_a/2的話，無關於寬度w，也可達成均勻的曝光量。但是，在寬度w較小時，設為d_m<d_a/2亦可，也可縮小第二方向的移動距離，來縮短生產間隔時間。

又，關於寬度w的決定方法，根據與需要之曝光量均勻性的關係來最佳化。例如曝光量均勻性為±5%的話，寬度w則為從最大照度降低10%以上之區域的單方的寬度。

不管如何，移動距離d_m係預先輸入至控制部7，作為控制值，記憶於記憶部。然後，作為動作量，送至第二驅動源623。

關於以上構造相關之實施形態的光配向用偏光光線照射裝置的整體動作，以下進行說明。以下說明也是光配向用偏光光線照射方法的發明之實施形態的說明。

控制部7係使光源3點燈。來自光源3的光線係因經過各偏光元件41而成為偏光光線，照射至照射區域R。搬送系2係使基座板21及平台5，位於身為待機位置的基板搭載位置。

被光配向的基板S係藉由像AGV(Auto Guided Vehicle)的批量搬送機構，或像空氣運送機的單片搬送機構，搬送至偏光光線照射裝置為止。然後，藉由未圖示的機器人，一張基板S被搭載於平台5。基板S係被載置於各保持銷51上，在各保持銷51上被真空吸附。

接收來自機器人之基板搭載完成的訊號時，控制部7係對搬送系2發送訊號，進行前述之一連串的搬送動作。藉此，平台5係一邊通過照射區域R一邊往返，通過時，對平台5上的基板S照射偏光光線。然後，在歸路中移動於僅移位移動距離dm的路徑，基板S的面內之各點被均勻曝光。

基座板21到達基板回收位置時，控制部7係關閉真空吸附後，對機器人發送訊號，從平台5回收基板 S。再者，在此實施形態中，歸路的移動距離與去路的移動距離相同，所以，基板回收位置從基板搭載位置僅移位第二方向的移動距離d_m之分量。機器人係以在該基板回收位置回收基板S之方式預先調整。

依據以上所說明之構造及動作相關之實施形態的偏光光線照射裝置或偏光光線照射方法，是使搬送系2一邊通過照射區域R一邊使基板S往返者，去路的搬送結束之後，利用歸路的搬送之前往第二方向移動，將歸路的路徑設為與去路不同的路徑者，此時的移動距離dm是從各偏光元件41之邊際線40間距離da偏離者，所以，可補償各偏光元件41的邊際線40正下的位置之照度降低，在基板S的面內的曝光量成為均勻。

接著，針對第二實施形態的裝置及方法進行說明。

圖8係關於第二實施形態之光配向用偏光光線照射裝置的立體概略圖。圖8所示之第二實施形態的裝置，係具備兩個光照射器1。各光照射器1的構造與第一實施形態的裝置所具備者幾乎相同。

如圖8所示，兩個光照射器1，係光源3的發光部的長邊方向是對於第一方向垂直的水平方向。然後，兩個光照射器1，係偏光元件單元4之各偏光元件41的配置彼此偏離者。針對此點，使用圖9來說明。圖9係概略揭示第二實施形態之各偏光元件單元4的配置位置的俯視圖。

如圖9所示，於兩個光照射器1中偏光元件單元4是基本上相同構造者，各偏光元件41的配置位置稍微不同。亦即，一方的偏光元件單元4的各偏光元件41係對於另一方的偏光元件單元4的各偏光元件41，往光源(圖9中未圖示)之發光部的長邊方向偏離所配置者。偏離量係在此實施形態中，成為各偏光元件41之寬度t的1/2。

再者，設為如此偏離之位置來說，框架42及各偏光元件41的尺寸形狀、各偏光元件41的數量係在兩個偏光元件單元4中先設為相同，將對於燈室32的安裝位置設為偏離之位置即可。

圖10係揭示第二實施形態的裝置之搬送系2的動作的俯視概略圖。即使於第二實施形態中，搬送系2係使保持基板S的平台5，往第一方向與第二方向移動者，第一方向的移動為往返移動，在去路與歸路的雙方，基板S通過照射區域R，此時對基板S照射偏光光線。然後，第二方向的移動係在去路移動與歸路移動之間進行，且在去路與歸路中基板S通過不同的路徑，通過照射距離。再者，兩個光照射器1係對各照射區域R照射偏光光線。

圖11係揭示第二實施形態的裝置之第二方向的移動距離的俯視概略圖。再者，在圖11中，為了參考，也揭示不進行第二方向的移動之狀況。圖11(1)是不移動之狀況，(2)是移動之狀況。

於圖11(1)(2)中，以I₁揭示第一光照射器1所致之照度分布，以I₂揭示第二光照射器1所致之照度分布。I₁及I₂係與圖7相同，在通過各邊際線40的正下位置之第二方向的直線上的照度分布。又，E係揭示往返的搬送結束之後的基板S之面內的曝光量的分布。

由前述說明可知，基板S係在去路與歸路中依序通過各照射區域R，接受偏光光線的照射。所以，曝光量E係合算各照射區域R的通過時之曝光量者。此時，即使平台5不往第二方向移動之狀況(在相同路徑往返之狀況)，各偏光元件41的配置也偏離，所以，如圖7(1)所示，曝光量E某種程度會成為均勻。

第二實施形態的裝置，係使曝光量更均勻化，故將第二方向的移動距離dm設定為最佳。如圖7(1)所示，於不進行第二方向的移動時之曝光量E的分布中，曝光量取得最小值之處是通過兩個偏光元件單元4中任一偏光元件單元4之邊際線40的正下方之處。於第二實施形態中，兩個偏光元件單元4係僅偏離一個偏光元件41的寬度一半(t/2)來配置，所以，取得最小值之處的間隔也成為t/2。取得最小值之處係通過任一偏光元件單元4的邊際線40正下之處，所以，各邊際線間距離d_a也可說是t/2。

所以，對於從圖7(1)所示狀態更使曝光量成為均勻來說，因為邊際線間距離da=t/2，移動距離dm係只要不一致於t/2(或其整數倍)即可。

然後，曝光量降低之區域的單方的寬度w係與圖7所示狀況在本質上相同，不會超過邊際線40間距離d_a的1/2。所以，與第一實施形態之狀況相同，設為移動距離d_m=d_a/2=t/4(或其自然倍數)最佳。

第二實施形態之狀況也相同，照度降低區域的單方的寬度w係因應所需之曝光量均勻性的程度來選擇，寬度w較狹小時，移動距離d_m也會有設為比t/4還短的距離之狀況。

接著，針對第三實施形態的裝置及方法進行說明。圖12係揭示第三實施形態的光配向用偏光光線照射裝置及方法的俯視概略圖。

第三實施形態的裝置，係搬送系2所致之搬送與第一及第二實施形態不同。在第一第二實施形態中，第一方向的基板S的搬送為往返移動，在去路的搬送與歸路的搬送之間進行第二方向的搬送，但是，在第三實施形態中，第一方向的搬送與第二方向的搬送同時進行。亦即，控制部7係對第一驅動源613與第二驅動源623發送訊號，使第一驅動源613與第二驅動源623同時動作。但是，第二驅動源623的動作係第一驅動源613的動作中不需要時常動作，僅基板S通過照射區域R時中動作即可。

於圖12，揭示第三實施形態中，光量的面內均勻性便更高之理想的基板S的搬送。如圖12(1)所示，基板S往第一方向搬送而前緣到達照射區域R的緣部之時間點，開始第二方向的搬送，基板S的後緣完全通過照射區域R之時間點，結束第二方向的搬送為佳。圖12 (1)中，點虛線係表示基板S之前緣的某一點P₁的軌跡，兩點虛線表示後緣的某一點P₂的軌跡。

圖12(1)所示狀況之外，如圖12(2)所示，第二方向的移動包涵涵蓋通過照射區域R之時間帶的前後之時間帶來進行亦可。進而，如圖12(3)所示，第二方向的移動並不是直線性，蛇行性亦可。

在圖12所示任一狀況，第二方向的移動距離d_m係與前述之實施形態相同。再者，於任一實施形態中，移動距離d_m係需要與邊際線間距離a的整數倍不一致，但是，此外，必須藉由第二方向的移動，讓基板S即使只有一部分也不會偏離照射區域R。

在此第三實施形態中，可將基板S的搬送僅設為去路。此時，在照射區域R之一方側將基板S搭載於平台5，在另一方側從平台5回收基板S。僅設去路的搬送的話，因為生產間隔時間變短，在生產性的觀點上為佳。

但是，即使於第三實施形態中，進行往返的搬送，對基板S照射偏光光線亦可。此時，在去路與歸路的通過照射區域R中，也同時進行第二方向的搬送為佳。

再者，藉由往返的搬送，對基板S照射偏光光線時，相較於僅去路之狀況，曝光量為兩倍(不改變搬送速度時)。所以，在需要大量曝光量之光配向處理的狀況中適合使用。因為使基板S往返搬送時，可在照射區域R之一方側進行基板S的搭載與回收，所以，可簡略化裝置及其周邊的構造。生產間隔時間僅變長歸路之分量，但是，利用提升搬送速度，也可縮短生產間隔時間。

於上述之各實施形態中，搬送系2所致之第二方向的工件保持體的移動，係可使從基板S觀看之各偏光元件41的邊際線40的位置，在光照射時往第二方向相對性變位。利用光照射時邊際線40的位置相對性變位，邊際線40的影響所致之照度降低的區域在基板S的面內變位，藉此，達成曝光量的均勻化。

再者，於各實施形態中，第一方向之基板S的搬送係與光源3之發光部的長邊方向垂直的方向，但是，並不限定於此。第一方向的搬送係用以使基板S通過照射區域R者，只要與光源3之發光部的長邊方向交叉即可。即使一邊往相對於光源3之發光部的長邊方向傾斜的方向搬送基板S，一邊照射偏光光線，也可補償各偏光元件41之邊際線40的存在所致之曝光量的不均勻化，可進行均勻的曝光。此時，也導入第二方向的移動的話，可更使曝光量均勻。

又，第二方向係在前述各實施形態及實施例中，是與各偏光元件41之邊際線40的方向垂直之方向，但是，並不限定於此。即使沿著邊際線40的方向，來搬送基板S，也無法獲得曝光量均勻化的效果，但是，如果是與邊際線40的方向交叉之方向的話，可獲得效果。

再者，於各實施形態及實施例中，平台5係作為在搬送中保持基板S的構件之一例所採用者，也可採用平台5 以外的構件。

又，作為搬送系2，除了利用驅動源使前述之滾珠螺絲旋轉之外，例如也可採用像日本專利第4581641號公報所揭示之利用磁性的搬送機構(線性電動機平台)。該機構係配置在上面將磁性體的凸極並排成圍棋棋盤的格子狀之台板上設置磁極的平台5，一邊藉由空氣噴射等讓平台5從台板稍微浮起，一邊利用控制平台5之磁極的極性，來移動平台5的機構。採用該機構時，因為也保持基板S之搬送方向的精度，將導引平台5的移動的線性導件設置於兩側為佳。

再者，將利用磁性的搬送機構，與利用像前述之滾珠螺絲與驅動源的搬送機構併用亦可。例如，可考量第一方向的搬送，使用利用磁性之搬送機構(線性電動機平台)，第二方向的搬送，使用利用滾珠螺絲與驅動源的搬送機構。

又，於第一及第二實施形態中，基板回收位置係相對於基板搭載位置，往第二方向僅移位移動距離dm的位置，但是，在與基板搭載位置相同的位置，回收基板S亦可。此時，追加於歸路中與去路相同距離來移動基座板21及平台5之後，往第二方向，僅反向移動移動距離dm的動作。雖然生產間隔時間多少會變長，因為機器人可經常在相同位置進行基板S的搭載與回收，在此點上算是簡略化。

再者，工件係一個個切離且藉由工件保持體所保持者的話，不是板狀亦可。所謂「切離」係代表帶狀相連者且以捲繞方式搬送者除外。

又，本發明係於補償偏光光線的照度降低之意味中，即使在偏光元件單元的複數偏光元件的邊際部分不設置遮光板的構造中也可適用。

〔實施例〕

接著，如上所述，針對確認藉由導入第二方向之基板S的搬送，讓曝光量變均勻之實驗的結果，作為實施例來進行說明。圖13係揭示利用導入第二方向之基板S的搬送，確認積算曝光量成為均勻之實驗的結果的圖。

在此實驗中，在第二方向所見之照射區域R的寬度為1500mm，光源3為高壓水銀燈，在照射區域R之平均的照度為約130mW/cm²。

各偏光元件41的寬度t係150mm，所以，邊際線間距離為150mm。於圖13(1)，揭示不進行第二方向的移動，在去路與歸路中以相同路徑搬送基板S，進行偏光光線照射時的曝光量分布，於(2)，揭示去路的搬送之後，往第二方向移動約距離75mm，進行歸路的搬送時的曝光量分布成為更均勻的曝光量分布。曝光量分布係與圖7及圖11相同，第二方向的分布。

如圖13(1)所示，不進行第二方向的移動時，可觀察到週期性曝光量大幅降低之處。成為曝光量的極小值之處，係通過各偏光元件41之邊際線40正下的位置之處。在此例中，最小值相對於最大值為70.4%程度(±14.8%的均勻性)。

另一方面，在導入約80mm之第二方向的移動的實施例中，如圖13(2)所示，均勻性大幅提升。在此例中，最小值相對於最大值為85%程度(±7.5%的均勻性)。如此，可知利用適當導入第二方向的移動，曝光量的均勻性可大幅提升。