TWI588576B - Light Directional Devices and Optical Directional Methods - Google Patents

Description

光定向裝置及光定向方法

本申請案的發明是有關獲得定向膜的方法已為人知的光定向的技術。

近年來，在獲得以液晶面板為始的液晶顯示元件的定向膜，或視野角補償膜的定向層時，採用以光照射進行定向之稱為光定向的技術。以下，總稱藉光照射產生定向的膜或層稱為光定向膜。並且，「定向」以至「定向處理」是對於對象物的某些性質賦予方向性。

光定向是對光定向用的膜(以下，膜材)照射偏振光來進行。膜材是例如聚醯亞胺的樹脂製，將朝預定方向偏振的偏振光照射於膜材。藉預定波長之偏振光的照射，使膜材的分子構造(例如側鏈)成為與偏振光的方向一致的狀態，獲得光定向膜。

光定向膜會與使用該膜的液晶面板的大型化一起大型化。並且，從一片的液晶基板出產多數的液晶顯示元件，使得作為處理對象物的液晶基板大型化，伴隨著此，大的對象區域也有進行光定向處理的必要。由於以上 的情況，光定向中所要求的偏振光的照射區域的寬度成為1500mm或其以上的寬幅化。在如上述寬度大的照射區域中作為照射偏振光的光照射裝置，有例如專利文獻1所揭示的裝置。該裝置具備：相當於照射區域的寬度之長度的棒形光源，及使來自該光源的光偏振的網格型偏振元件，對朝著與光源的長方向正交的方向搬運的膜材照射偏振光。

[先前技術文獻]

專利文獻1：日本特許5344105號公報

[發明概要]

在如以上的光定向裝置中，工件有膜材連續而連結成長型的場合，及膜材已設於基板上的附帶膜材基板為工件的場合。

其中，專利文獻1中，揭示一種以設有膜材的液晶顯示元件用的基板作為工件配置於載台，移動載台使基板通過照射區域，藉此進行光定向的技術。同文獻的裝置是使用兩個載台，交替通過照射區域並進行偏振光照射，因此，可實現間斷時間的縮短而獲得高的生產性。

本申請案的發明是一邊考慮上述專利文獻1所揭示之 間斷時間的縮短獲得高生產性的實現，並以進一步提高生產性，或進一步提升光定向處理的品質為解決課題。

為解決上述課題，本案請求項1記載的發明，具備：照射單元，對已設定的照射區域照射朝預定方向偏振的偏振光；載台，載放著基板；及載台移動機構，通過照射區域地移動載台朝載台上的基板進行偏振光的照射，作為載台設有第一第二的兩個載台，載台移動機構是將第一載台從設定於照射區域之一方側的第一基板搭載位置朝著照射區域移動，並將第二載台從設定於照射區域之另一方側的第二基板搭載位置朝著照射區域移動的機構，載台移動機構是在第一載台上的基板通過照射區域之後使第一載台回到一方側而定位於第一基板回收位置，並在第二載台上的基板通過照射區域之後使得第二載台回到另一方側而定位於第二基板回收位置的機構，在位於第一基板搭載位置或第一基板回收位置的第一載台與照射區域之間，確保第二載台上的基板通過照射區域的量以上的第一退避空間，在位於第二基板搭載位置或第二基板回收位置的第二載台與照射區域之間，確保第一載台上的基板通過照射區域的量以上的第二退避空間。

設有控制載台移動機構的控制單元，控制單元中，設定有作為基板通過照射區域時的速度的設定通過速度，控制單元，具有：針對從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第一基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還快，並針對從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第二基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還快的構成。

又，為了解決上述課題，請求項2記載的發明是在上述請求項1的構成中，設定上述設定通過速度為一定的速度，上述控制單元在從上述第一基板搭載位置到照射區域為止的進路移動中，進行控制使第一載台的速度在上述第一載台上的基板之移動方向前方的邊緣到達照射區域為止減速至上述設定通路速度，在從該基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域後到移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，維持上述設定通過速度，並在該基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後減速回到上述之一方側，上述控制單元具有在從上述第二基板搭載位置到照射區域為止的進路移動中，進行控制使第二載台的速度在上述第二載台上的基板之移動方向前方的邊緣到達照射區域為止減速至上述設定通路速度，在從該基板的移動方向前 方的邊緣到達照射區域後到移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，維持上述設定通過速度，並在該基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後減速回到上述之另一方側的構成。

又，為了解決上述課題，請求項3記載的發明是在上述請求項2的構成中，上述照射單元是在上述第一第二的各載台進行進路移動時與回路移動時的雙方中，對各載台上的基板照射偏振光的單元，在上述第一退避空間設定有第一速度緩衝路，上述第一退避空間的移動方向的長度是在上述第二載台上之基板的移動方向的長度加上第一速度緩衝路之長度的以上的長度，在上述第二退避空間設定有第二速度緩衝路，上述第二退避空間的移動方向的長度是在上述第一載台上之基板的移動方向的長度加上第二速度緩衝路之長度的以上的長度，上述控制單元是進行使上述第一載台進路移動時，上述第一載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後於第二速度緩衝路從上述設定通過速度減速的控制，並進行上述第一載台在上述另一方側反轉之後進行回路移動時，於第二速度緩衝路將上述第一載台加速到達上述設定通過速度至上述第一載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止，並維持上述設定通過速度至該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的控 制，上述控制單元是具有進行使上述第二載台進路移動時，上述第二載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後於第一速度緩衝路從上述設定通過速度減速的控制，並進行上述第二載台在上述一方側反轉之後進行回路移動時，於第一速度緩衝路將上述第二載台加速到達上述設定通過速度至上述第二載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止，並維持上述設定通過速度至該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的控制的構成。

又，為了解決上述課題，請求項4記載的發明，具備：照射單元，對所設定的照射區域照射偏振光；載台，載放基板；及載台移動機構，使載台通過照射區域地移動載台朝載台上的基板照射偏振光，載台移動機構是進行使載台從設定於照射區域之一方側的基板搭載位置到達照射區域以設定通過速度通過照射區域的進路移動，並進行在照射區域之另一方側的反轉位置使載台反轉，以設定通過速度再度通過照射區域的進路移動回到一方側的機構，上述照射單元是在載台進路移動時與回路移動時的雙方之中對載台上的基板照射偏振光的單元，設有控制載台移動機構的控制單元，在控制單元設定有作為通過照射區域時之一定速度的 設定通過速度，控制單元是在載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域之後，到移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，進行維持設定通過速度的控制，在照射區域的另一方側的反轉位置與照射區域之間設定有速度緩衝路，控制單元是具有進行使載台進路移動時，載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後於速度緩衝路中從設定通過速度減速的控制，並進行載台在另一方側反轉之後進行回路移動時，於速度緩衝路將載台加速到達設定通過速度至載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域為止的構成。

又，為了解決上述課題，請求項5記載的發明，具備：照射步驟，對所設定的照射區域照射朝預定方向偏振的偏振光；搭載步驟，在第一第二的載台分別載放基板；移動步驟，藉載台移動機構移動各載台使各載台交替通過照射區域，藉此對各載台上的基板照射偏振光；及回收步驟，從各載台卸下照射偏振光後的各基板，在移動步驟中，第一載台從設定在照射區域之一方側的第一基板搭載位置朝著照射區域移動，第二載台從設定在照射區域之另一方側的第二基板搭載位置朝著照射區域移動，移動步驟中，在第一載台上的基板通過照射區域之後 第一載台回到一方側而位於第一基板回收位置，在第二載台上的基板通過照射區域之後第二載台回到另一方側而位於第二基板回收位置，在位於第一基板搭載位置或第一基板回收位置的第一載台與照射區域之間，確保有第二載台上的基板通過照射區域的量以上的第一退避空間，在位於第二基板搭載位置或第二基板回收位置的第二載台與照射區域之間，確保有第一載台上的基板通過照射區域的量以上的第二退避空間，設定有作為基板通過照射區域時的速度的設定通過速度，移動步驟中，具有：針對從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第一基板回收位置為止的移動進行使得該移動的速度比設定通過速度快的控制，針對從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第二基板回收位置為止的移動進行使得該移動的速度比設定通過速度快的控制的構成。

又，為了解決上述課題，請求項6記載的發明是在上述請求項5的構成中，上述設定通過速度是設定為一定的速度，上述移動步驟中進行的控制是進行從上述第一基板搭載位置到照射區域為止的上述第一載台的進路移動中，上述第一載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域為止的期間將第一載台的速度減速至上述設定通路速度， 在該基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域後到移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，維持著上述設定通過速度，在該基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後回到上述一方側的減速，上述移動步驟中進行的控制是進行從上述第二基板搭載位置到照射區域為止的第二載台的進路移動中，上述第二載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域為止將第二載台的速度減速至上述設定通路速度，在該基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域後到移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，維持著上述設定通過速度，在該基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後回到上述另一方側減速的構成。

又，為了解決上述課題，請求項7記載的發明是在上述請求項6的構成中，上述移動步驟是在上述第一第二的各載台進路移動時對各載台上的基板照射偏振光的步驟，在上述第一退避空間設定有第一速度緩衝路，上述第一退避空間的移動方向的長度是在上述第二載台上之基板的移動方向的長度加上第一速度緩衝路之長度的以上的長度，在上述第二退避空間設定有第二速度緩衝路，上述第二退避空間的移動方向的長度是在上述第一載台上之基板的移動方向的長度加上第二速度緩衝路之長度的以上的長度，上述控制單元是進行使上述第一載台進路移動時，上 述第一載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後於第二速度緩衝路從上述設定通過速度減速的控制，並進行上述第一載台在上述另一方側反轉之後進行回路移動時，於第二速度緩衝路將上述第一載台加速到達上述設定通過速度至上述第一載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止，並維持上述設定通過速度至該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的控制，上述控制單元是具有進行使上述第二載台進路移動時，上述第二載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後於第一速度緩衝路從上述設定通過速度減速的控制，並進行上述第二載台在上述一方側反轉之後進行回路移動時，於第一速度緩衝路將上述第二載台加速到達上述設定通過速度至上述第二載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止，並維持上述設定通過速度至該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的控制的構成。

又，為了解決上述課題，請求項8記載的發明，具備：照射步驟，對所設定的照射區域照射朝預定方向偏振的偏振光；搭載步驟，在載台載放基板；移動步驟，藉載台移動機構移動載台使載台通過照射區域，藉此對載台上的基板照射偏振光；及回收步驟，從載台卸下照射偏振光後的基板， 移動步驟是使載台從設定在照射區域之一方側的基板搭載位置到達照射區域，以設定通過速度進行通過照射區域的進路移動，並使得載台於照射區域之另一方側的反轉位置反轉，以設定通過速度再度進行通過照射區域的回路移動而回到一方側的步驟，移動步驟是在載台進行進路移動時與回路移動時的雙方中，對載台上的基板照射偏振光的步驟，移動步驟是在載台上的移動方向前方的邊緣到達照射區域之後，移動方向後方的邊緣通過照射區域為止的期間，進行維持一定速度所設定之設定通過速度的控制，在照射區域之另一方側的反轉位置與照射區域之間設定有速度緩衝路，上述控制是具有控制使載台在進路移動時，載台上的基板的移動方向後方的邊緣通過照射區域之後在速度緩衝路中從設定通過速度減速，並控制使得載台在另一方側反轉之後進路移動時，將載台在速度緩衝路加速，到達設定通過速度至載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達照射區域為止的構成。

以下如說明，根據本案請求項1或5記載的發明，對於各載台可以較設定通過速度快的速度進行從基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到基板回收位置為止的移動，因此可更縮短間斷時間，進一步實現 生產性高的光定向處理。

又，根據本案請求項2或6記載的發明，除上述效果，對於基板的表面區域內的各點在通過照射區域時的速度經常維持著一定，因此可以容易的控制提高光定向處理的面內均勻度。

又，根據本案請求項3或7記載的發明，除上述效果，在回路也可進行偏振光照射因此該點除可提高生產性之外，在回路上基板的表面區域內的各點在通過照射區域時的速度也經常維持著一定，因此可以容易的控制提高光定向處理的面內均勻度。

又，根據本案請求項4或8記載的發明，除上述效果，在回路也可進行偏振光照射因此該點除可提高生產性之外，在進路回路的雙方上基板的表面區域內的各點在通過照射區域時的速度也經常維持著一定，因此可以容易的控制提高光定向處理的面內均勻度。

1‧‧‧照射單元

11‧‧‧光源

14‧‧‧偏光元件

21‧‧‧第一載台

22‧‧‧第二載台

3‧‧‧載台移動機構

31‧‧‧線性導件

32‧‧‧線性馬達載台

33‧‧‧壓盤

4‧‧‧控制單元

6‧‧‧基板調準器

S‧‧‧基板

R‧‧‧照射區域

第1圖為第一實施形態相關之光定向裝置的透視概略圖。

第2圖為第1圖表示的光定向裝置的前面概略圖。

第3圖是針對第一實施形態的裝置之載台的位置與移動速度的關係表示的概略圖，表示從基板搭載回收位置朝向照射區域的場合。

第4圖是針對第一實施形態的裝置之載台的位置與移動速度的關係表示的概略圖，表示從照射區域回到基板搭載回收位置的場合。

第5圖是針對照射區域與反轉位置之間的空間及該空間之移動速度的控制表示的概略圖，表示從照射區域朝向反轉位置的場合的速度控制。

第6圖是針對照射區域與反轉位置之間的空間及該空間之移動速度的控制表示的概略圖，表示從反轉位置朝向照射區域的場合的速度控制。

第7圖是針對控制單元的各載台之移動速度的順序控制表示的概略圖。

第8圖是針對基板調準器6的概略表示的透視圖。

第9圖是針對第一實施形態之光定向裝置的動作表示的概略圖。

第10圖是針對第一實施形態之光定向裝置的動作表示的概略圖。

第11圖是表示以較設定通過速度高的設定搬運速度進一步提高生產性的點的圖。

第12圖是針對第二實施形態相關的光定向裝置及方法的主要部表示的概略圖。

接著，針對實施本申請案的發明用的形態(以下，實施形態)說明。

第1圖為第一實施形態相關之光定向裝置的透視概略圖。第1圖表示的光定向裝置具備：朝所設定的照射區域R照射偏振光的照射單元1；載放基板S的載台21、22；及朝著照射區域R移動載台21、22對載台21、22上的液晶基板S照射偏振光的載台移動機構3。

照射區域1是大致矩形的模式照射偏振光，該模式的區域為照射區域R。照射區域R是設定為水平面內的區域。

載台移動機構3是移動載台21、22通過上述照射區域R的機構。該實施形態中，載台21、22是以水平的姿勢配置，移動方向為水平方向。

第2圖是第1圖表示的光定向裝置的前面概略圖。如第2圖表示，照射單元1是由光源11、設置在光源11背後的鏡子12、將光源11與鏡子12收容在內部的燈罩13及偏振元件14等所構成。

在光源11使用棒形的燈。本實施形態是以紫外線區的光進行光定向，因此使用高壓水銀燈或在水銀外加其他金屬的金屬鹵化物水銀燈等，波長區是例如200nm~400nm左右。也可複數排列放射紫外線區所需波長的光的LED以獲得長的照射模式。

再者，作為工件的基板S於本實施形態是在表面形成有膜材的液晶基板。膜材有感應波長254nm的光而定向的膜材、感應波長313nm的光而定向的膜材及感應波長365nm的光而定向的膜材已為人知。對應光定 向使用的波長，適當選擇光源11。在光源11與基板S之間配置濾光片，一邊適當選擇波長進行處理。

鏡子12是有效進行偏振光照射之用，使用剖面形成橢圓或拋物線的一部份的形狀的筒狀鏡子。配置使長尺寸的左右的一對鏡子12間形成縫隙，形成大致筒狀的鏡子。並且，將光源11及鏡子12延著與載台21、22的移動方向垂直的水平方向(以下，稱寬方向)配置。因此，照射區域R為寬方向較長的大致長方形的區域。

偏振元件14是將來自光源11放射的光成為進行光定向所需的偏振光之用。作為偏振元件14，可使用在透明基板上設置條紋狀的介電質、導體或半導體所成的微小格子的柵型偏振元件。燈罩13具有光照射口，偏振元件14是配置在光源11與光照射口之間的位置。

偏振元件14是以通過照射區域R的基板S的移動方向(實際為線性導件31的方向)為基準配置使所射出之偏振光的偏光軸的方向成為預定的方向。這是對基板S照射預定之方向的偏振光並朝預定方向進行光定向所必須。

並且，一個偏振元件14多是矩形的小元件的場合，通常，採用將偏振元件14複數排列於光源11的長方向朝照射區域R照射偏振光的構成。此時，各偏振元件14也是相對於載台21、22的移動方向配置成為預定的方向。

又，偏振元件14也可採用與燈罩13不同的單元(偏振元件單元)安裝於燈罩13的構造。

如第1圖表示，該實施形態的裝置是在一條移動路上具備兩個載台21、22。由於移動路為一條，一方的載台不能追上另一方的載台，雙方的載台也不能交錯。以下，設兩個載台21、22為第一載台21、第二載台22。第2圖中，與其控制系一起顯示第1圖表示的載台移動機構3。

對於載台移動機構3可採用種種的機構，也可與專利文獻1同樣採用滾珠螺桿與線性導件所成的機構，但該實施形態是採用線性導件31與線性馬達載台32所成的機構。線性馬達載台雖有種種的型式，但實施形態是採用組合式的線性馬達載台。該種的線性馬達載台是以沿著移動方向延伸的狀態設有作為驅動側之構造的稱為壓盤的底盤33。雖省略詳細的圖示，但壓盤33是形成為在平板狀構件的表面將小的塊狀(例如長方體形)的強磁性體所成的凸極設置成棋盤格子狀的構造。相對於壓盤33在被驅動側的載台21、22是藉空氣在微小的間隙配置成浮起的狀態，並將包含電磁鐵的的線性馬達載台32設置在下面。利用電磁鐵的控制切換磁極，藉以使載台21、22一邊在壓盤33上浮起並以任意的速度朝線性導件31的方向移動。再者，如第1圖表示，在各載台21、22的下面的兩側固定有滑塊211、221，嵌合於線性導件31在線性導線31上滑動。

此外，採用在磁軌(不同的磁極沿著移動方向交替存在的軌道)上配置載台，在其下面設置電磁鐵進 行驅動使載台沿著磁軌移動的型式的線性馬達載台。

並且，各載台21、22具備將基板S真空吸附於上面的未圖示的真空吸附機構。真空吸附機構是從形成在各載台21、22的上面的多數吸附孔吸引(形成負壓)保持使基板S不動的機構。

如第2圖表示，實施形態的光定向裝置具備控制裝置整體的控制單元4。在控制單元4具有：記憶控制載台移動機構3等各部之動作的順序程式的記憶部41及執行順序程式的運算處理部42等。將來自控制單元4的控制訊號送至包括載台移動機構3之驅動部的裝置的各部。

實施形態的裝置是藉載台移動機構3移動第一第二載台21、22，藉交替通過照射區域R可對各載台21、22上的基板S交替照射偏振光。藉此，可謀求間斷時間縮短以致之高生產性處理的實現。此時，實施形態的裝置與專利文獻1的裝置比較可進一步縮短間斷時間實現更進一步的高生產處理，並謀求光定向處理的面內均勻度之進一步的提升。以下，針對該點說明。

本實施形態的裝置也和專利文獻1同樣，對第一載台21之基板S的搭載是在照射區域R的一方側進行，將第一載台21移動至照射區域R的另一方側為止後反轉回到一方側(即，往返移動)來進行光定向處理。對第二載台22之基板S的搭載是在照射區域R的另一方側進行，將第二載台22移動至照射區域R的一方側為止後 反轉回到另一方側來進行光定向處理。在各側中，進行基板搭載動作的位置與進行基板回收動作的位置雖不需要相同的位置，但本實施形態為相同的位置(以下，稱基板搭載回收位置)。

藉控制單元4進行的控制是如上述，也包括載台移動機構3的控制，但是在控制單元4中，設定兩個速度作為各載台21、22的移動速度。其一為通過照射區域R時的速度(以下，稱設定通過速度)。另外之一為基板搭載回收位置與照射區域R之間的移動速度，相當於基板搭載回收位置與照射區域R之間的基板S的搬運速度(以下，稱設定搬運速度)。

實施形態的裝置中，將設定搬運速度設定成比設定通過速度高的速度。亦即，構成以較通過照射區域R時的速度比較快的速度到達照射各載台21、22的區域R，並以快的速度從照射區域R回到基板搭載回收位置。

基板S的通過速度是以光定向處理所需之累積照射量的關係來設定。基板S上的一點的累積照射量在設照射區域R的偏振光的照度為I、通過速度(嚴密為平均通過速度)為V、在移動方向顯式的照射區域R的長度為L時，累積照射量Q是以Q=I‧L/V表示。因此，以和所需累積照射量Q的關係預先算出通過速度V後來設定。

發明人在當初始終是以一定的設定通過速度進行載台21、22的移動，但是發現即使以較此速度快的速度移動載台21、22在載台21、22上也不會有基板S偏 位等問題的產生，乃至思及以較設定通過速度快的速度進行照射區域R-基板搭載回收位置間的移動的構成。

如上述以兩個不同的速度進行載台21、22的移動的場合，在移動的過程雖伴隨有加速及減速，但此時重要的是從基板S上之各點的照射量為均勻並使得光定向處理的面內均勻性更高的觀點是在其上進行加速或減速，使其基板S之表面內的所有點在通過照射區域R時維持著一定的設定通過速度。針對此點，使用第3圖及第4圖說明。

第3圖及第4圖是針對第一實施形態的裝置之載台21、22的位置與移動速度的關係表示的概略圖。 其中，第3圖是從基板搭載回收位置朝向照射區域R的場合，第4圖是表示從照射區域R回到基板搭載回收位置的場合。第3圖及第4圖是表示第一載台21為一例的場合。第3圖及第4圖外加描繪的圖表為縱軸表示速度，橫軸表示基板的移動方向的位置(移動距離)。為容易理解，橫軸是成為移動之基板的移動方向前方的邊緣的位置，因此圖表是表示基板的移動方向前方的邊緣之速度的推移。

如第3(1)(2)圖表示，從基板搭載回收位置朝向照射區域R時，第一載台21是以設定搬運速度移動。並且，在照射區域R的跟前開始減速，照射區域R通過中，以一定的設定通過速度移動。

此時重要的是如第3(1)圖表示，在第一載 台21上的基板S的移動方向前方的邊緣到達照射區域R為止完成至設定通過速度的減速。假如，例如進行以基板的移動方向中央的點的速度控制，中央的點在到達照射區域R之前減速至設定通過速度即可時，如第3(2)圖表示，基板S的移動方向前方的邊緣及其附近的表面區域在稍微進入照射區域R之後，減速至設定通過速度。亦即，基板S的移動方向前方的邊緣及其附近的表面區域是以較設定通過速度快的速度稍微移動至照射區域R內之後穩定設定通過速度以該速度移動。此時，在基板S的移動方向前方的邊緣附近的表面區域與其他的區域比較其累積照射量減少，導致光定向處理的不足(處理的不均勻化)。另一方面，如第3(1)圖表示，只要基板S的移動方向前方的邊緣在到達照射區域R為止前減速至設定通過速度，即不會有如此的問題。

又如第4(1)圖表示，從照射區域R回到基板搭載回收位置時，第一載台21是從設定通過速度加速至設定搬運速度，以設定搬運速度至基板搭載回收位置。此時重要的是第一載台21上的基板S的移動方向後方的邊緣在通過照射區域R後開始加速。假如，如第4(2)圖表示，在基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R之前即開始加速時，基板S的移動方向後方的邊緣附近的表面區域會以較設定通過速度快的速度稍微移動進入到照射區域R內，同樣會因累積照射量的減少導致光定向不足。另一方面，如第4(2)圖表示，只要在基板S的移 動方向後方的邊緣通過照射區域R之後開始加速，即不會有如此的問題。

又，實施形態的裝置是如上述使各載台21、22往返移動的裝置。往返移動中的反轉位置(以下，僅稱為反轉位置)當然其速度為零，因此存在有朝向反轉位置的減速(進路)、從反轉位置的加速(回路)的控制。對於該等控制是與上述第3圖及第4圖的場合相同，謀求各載台21、22上的基板S的表面區域之光定向處理均勻性的提升。但是，與上述第3圖及第4圖表示的場合不同，對於照射區域R與反轉位置之間的移動，不僅是速度控制，也有照射區域R與反轉位置之間的空間上的問題。

針對上述的點使用第5圖及第6圖說明。第5圖及第6圖是針對照射區域R與反轉位置之間的空間及該空間之移動速度的控制表示的概略圖。其中，第5圖是表示從照射區域R朝向反轉位置的場合的速度控制，第6圖是表示從反轉位置朝向照射區域R的場合的速度控制。同樣，第5圖及第6圖是作為一例表示第一載台21的場合。

實施形態的裝置中，在位於第一基板搭載回收位置的第一載台21與照射區域R之間，確保有第二載台22上的基板S通過照射區域R的量以上的空間，並在位於第二基板搭載回收位置的第二載台22與照射區域R之間，確保有第一載台21上的基板S通過照射區域R的量以上的空間。該點是與專利文獻1的裝置相同。以下， 稱照射區域R通過用的空間為退避空間。

「通過照射區域R的量以上的空間」的場合也包括確保載台21、22的移動方向的長度量的空間與防止衝突用的些許空間的場合。亦即，有位在第一基板搭載回收位置的第一載台21與照射區域R之間的空間是與第二載台22的長度大致一致，位在第二基板搭載回收位置的第二載台22與照射區域R之間的空間是與第一載台21的長度大致一致的場合。此時，各載台21、22上的基板S是以可通過照射區域R，並省空間化的點為佳。但是，此配置不能確保朝反轉位置之減速用的移動路及從反轉位置朝照射區域R之加速用的移動路，因此會有不能獲得光定向處理之面內均勻性的提升的問題。

如第5(2)圖表示，例如針對第一載台21，位於第二基板搭載回收位置的第二載台22的照射區域R側的邊緣與照射區域R的距離是成為第一退避空間的長度。此時，設第一退避空間的長度僅是與第一載台21之長度迴避衝突用的些微空間的量時，在第一載台21上的基板S完全通過照射區域R之前必須開始減速。亦即，第一載台21上的基板S的移動方向的邊緣在未到達照射區域R內的狀態即開始減速。此時，基板S之移動方向後方的邊緣附近的表面區域是以較設定通過速度慢的速度通過，因此累積照射量變多，使得累積照射量的面內均勻性降低。其結果，也會降低光定向處理的面內均勻性。

因此，為防止光定向處理之面內均勻性的降 低，第一退避空間只是第一載台21的長度+迴避衝突用空間則有所不足，而必須包括從設定通過速度的減速用之移動路的量。只要包括減速用的移動路，如第5(1)圖表示，即使在第一載台21上的基板S的移動方向後的邊緣通過照射區域R之後開始減速，仍可在反轉位置停止，防止光定向處理的面內均勻性降低。

又，從反轉位置朝向照射區域R移動的場合也相同。從速度零到設定通過速度為止的加速移動的期間是小於設定通過速度，因此如第6(2)圖表示第一退避空間僅是第一載台21的長度+迴避衝突用空間的量時，基板S的移動方向前方的邊緣附近的表面區域是以小於設定通過速度一部份在照射區域R移動。因此，會降低光定向處理的面內均勻性。如第6(1)圖表示，只要使第一退避空間比第一載台21的寬度+迴避衝突用空間長，設置加速用的足夠長度的移動路，即可速度控制基板S的移動方向前方的邊緣到達照射區域R時達到設定通過速度，防止光定向處理的面內均勻性降低。再者，如上述減速用的移動路或加速用的移動路在本說明書中總稱為「速度緩衝路」。

以上是第一載台21的場合，第二載台22的場合也僅是方向相反，基本上是相同。

控制單元4是如PLC包括運算處理部41與記憶部42，安裝有順序控制程式。順序控制程式是執行包括如上述之速度控制的順序。第7圖是針對控制單元4的各載台 21、22之移動速度的順序控制表示的概略圖。

第7圖的橫軸是表示移動方向的位置(移動距離)，縱軸表示速度。橫軸是以基板搭載回收位置為原點。並且，橫軸的一例為基板S之移動方向中央的點的移動方向的位置。

由於監視如上述各載台21、22的移動進行基板S的搬運，因此實施形態的裝置具備數個感測器。針對該點使用第2圖說明。

首先，在各載台21、22內設有檢測基板S之載放的感測器(以下，基板感測器)71。又，載台移動機構3配置有：檢測第一載台21位於第一基板搭載回收位置的感測器(以下，第一負載位置感測器)72；檢測第一載台21位於反轉位置的感測器(以下，第一反轉位置感測器)73；檢測第二載台22位於第二基板搭載回收位置的感測器(以下，第二負載位置感測器)74；及檢測第二載台22位於反轉位置的感測器(以下，第二反轉位置感測器)75。將該等感測器71~75的輸出送至控制單元4。各感測器71~75可從如近程感測器、限位開關的機械式感測器，或光感測器等適當選擇來使用。

又，實施形態的裝置具備基板調準器6，可調準基板S的位置或方向以進行正確之光定向用的偏振光照射。如上述，偏光元件14是相對於基板S配置在預定方向朝著偏光軸照射偏振光。以此為基準選擇線性導件31的長度方向。基板調準器是使基板S相對於線性導件31 的長度方向形成預定的姿勢，確保光定向之方向性的精度之用。

第8圖是針對基板調準器6的概略表示的透視圖。第8圖表示一例為設置在第一載台21的基板調準器6，但針對第二載台22也是相同。

如第8圖表示，第一載台21是由固定底座20A，及固定底座20A上的活動底座20B等所構成。載台移動機構3為直接移動固定底座20A的機構。

在活動底座20B設有XYθ移動機構62，於固定底座20A上活動底座20B可在XYθ的方向移動。載放於載台21、22的基板S上，施以對準標記S1，基板調準器6，主要是由攝影對準標記S1的對準感測器61；上述XYθ移動機構62；及依據來自對準感測器61的輸出控制XYθ移動機構62的對準用控制部63所構成。如上述對準用控制部的構成可以是和專利文獻1所揭示的相同，因此省略詳細說明。

接著，使用第9圖及第10圖說明第一實施形態的光定向裝置的動作。

第9圖及第10圖是針對第一實施形態之光定向裝置的動作表示的概略圖。以下的說明也兼具實施形態之光定向方法的說明。

裝置的作動開始的初期狀態是如第9(1)圖表示，第一載台21是位在第一基板搭載回收位置，第二載台22是位在第二基板搭載回收位置。以此狀態，未圖示的機器 人首先將基板S載放在第一載台21。第一載台21內的基板感測器71檢測基板S的載放將此訊號送至控制單元4時，順序程式使第一載台21上的基板S用的基板調準器6動作。其結果，活動底座20B在XYθ方向移動使基板S的位置及姿勢成為預定。

接著，控制單元4是將控制訊號送至載台移動機構3，如第9(1)圖箭頭方向顯示，使第一載台21首先以設定搬運速度前進，即高速移動。並且，如第9(2)圖表示，在第一載台21上的基板S到達照射區域R的稍前的位置減速至設定通過速度，移至低速移動。控制單元4是一邊維持一定的設定通過速度並使第一載台21通過照射區域R，如第9(3)圖表示在第一載台21上的基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R之後，進一步減速在反轉位置停止。

第一載台21到達反轉位置一旦被第一反轉位置感測器73確認時，控制單元4使第一載台21反轉，以相反的順序朝著相反的方向移動。亦即，控制單元4在第一載台21上的基板S的移動方向前方的邊緣到達照射區域R為止達到設定通過速度，以一定的設定通過速度低速移動。並且，如第9(4)圖表示，在第一載台21上的基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R之後，控制單元4將第一載台21加速為設定搬運速度，移至高速移動。之後，第一載台21到達第一基板搭載回收位置後停止移動。

在此期間，第二基板搭載回收位置是進行基板S朝第二載台22的搭載動作。亦即，機器人藉來自控制單元4的控制訊號在預定的間斷時間將基板S載放於第二載台22。第二載台22是同樣在基板感測器71確認基板S的搭載之後，控制單元4使得第二載台22上的基板S用的基板調準器6動作進行對準。如第9(4)圖表示第一載台21在回到第一基板搭載回收位置時，結束第二載台22的對準。

接著，控制單元4將控制訊號送至載台移動機構3，如第9(5)圖的箭頭方向顯示，首先以設定搬運速度使第二載台22前進，即高速移動。並且，如第10(1)圖表示，在第二載台22上的基板S到達照射區域R之稍微跟前的位置減速至設定通過速度，移至低速移動。接著以一定的設定通過速度移動第二載台22，如第10(2)圖表示，第二載台22上的基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R之後，進一步減速在第二反轉位置停止。

第二載台21一旦以第二反轉位置感測器75確認已到達反轉位置時，控制單元4同樣地使第二載台22反轉，以相反的順序朝著相反的方向移動。亦即，控制單元4是在第二載台22上的基板S的移動方向前方的邊緣到達照射區域R為止達到設定通過速度，以設定通過速度低速移動。並且，如第10(3)圖表示，在第二載台22上的基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R之 後，將第二載台22加速為設定通過速度，移至高速移動。隨後，在第二載台22到達第二基板搭載回收位置之後停止移動。

在此期間，第一基板搭載回收位置在第一負載感測器72確認第一載台21已回到第一基板搭載回收位置之後，進行從第一載台21的基板S的回收與下一個基板S對第一載台21的搭載。亦即，機器人從第一載台21卸下基板S，將下一個基板S搭載於第一載台21。

並且，如第10(4)圖表示在第二載台22回到第二基板搭載回收位置時，結束下一個基板S對第一載台21的搭載動作，並形成對其基板S的對準結束的狀態。控制單元4再度將訊號送至載台移動機構3，高速移動第一載台21之後，如第10(5)圖表示在照射區域R的稍微跟前以低速移動進行，以一定的設定通過速度通過照射區域R。

在此期間，第二基板搭載回收位置在以第二負載感測器74確認第二載台22已回到第二基板搭載回收位置之後，進行對第二載台22之基板S的回收與下一個基板S對第二載台22的搭載、第二載台22的對準。

以後的動作為相同，順序程式進行程式設計使裝置重複以上的動作在兩個載台21、22上交替進行光定向。並且，基板S是藉著如AGV或輸送帶的搬運機構搬運至機器人為止，進行光定向之後，藉搬運機構搬運至下一處理用的裝置的位置。

根據如上述的構成及動作相關之實施形態的光定向裝置與方法，使兩個載台21、22交替通過偏振光照射的照射區域R藉此對各載台21、22上的基板S照射偏振光，因此可實現生產性高的光定向處理。此時，設定通過速度是以和所需累積照射量的關係所設定的照射區域R與基板搭載回收位置之間的移動是以較設定通過速度快的速度的設定搬運速度進行，因此可更為縮短間斷時間，進一步實現生產性高的光定向處理。

第11圖是為容易上述的點用的圖，表示以較設定通過速度高的設定搬運速度進一步提高生產性的點的圖。其中，第11(1)圖是表示設定搬運速度>設定通過速度的場合(實施形態)的間斷時間，第11(2)圖是表示設定搬運速度=設定通過速度的場合(實施形態)的間斷時間。第11(1)、(2)圖中，縱軸為速度，橫軸為時間(與第7圖不同)。

第11(1)、(2)圖中，在中途速度成為零的時間點是意味著到達反轉位置的時間點。雙方皆為照射區域R的長度相同，如第11(1)、(2)圖表示設定通過速度的值也相同。因此，偏振光的累積照射量也相同。

如比較第11圖的(1)(2)可理解，根據實施形態的裝置及方法，大幅刪減間斷時間，生產性明顯提升。表示一例時，設定通過速度所根據所需的累積照射量有所不同，但為50~200mm每秒左右。設定搬運速度盡可能(例如基板S在載台21、22上不致有偏位等問題的範 圍)為最快的速度。這雖是根據基板S的大小或載台21、22上的保持力等，但為300~600mm每秒程度。設定通過速度為100mm每秒、設定搬運速度為400mm每秒時，未設有設定搬運速度的場合(第11(2)圖的場合)，間斷時間雖超過100秒，但設有設定搬運速度的場合(第11(1)圖的場合)，則間斷時間成為70秒以下，縮短了30秒以上間斷時間。再者，此時的間斷時間例如就第一載台21而言，是從第一基板搭載回收位置開始在反轉為止反轉而回到第一基板載台回收位置為止的時間(亦即，除去基板S的搭載及回收的時間)。

如上述，根據實施形態的光定向裝置及光定向方法，設定搬運速度成為比設定通過速度快的速度，因此可進一步縮短間斷時間，以更為高的生產性進行光定向處理。此時，在反轉位置與照射區域R之間確保有載台的移動方向的長度+速度緩衝路以上的退避空間，從設定搬運速度到設定通過速度為止的減速是進行至基板S的移動方向前方的邊緣到達照射區域R為止，從設定通過速度到設定搬運速度的加速是在基板S的移動方向後方的邊緣通過照射區域R後進行。亦即，基板S的表面內的各點是在照射區域R的通過中經常以一定的設定通過速度移動。因此，在基板S的表面內的各點的偏振光的累積照射量成為一定，提高光定向處理的面內均勻性。

再者，反轉位置與照射區域R之間的載台的移動方向的長度+速度緩衝路以上的退避空間的確保所致 光定向處理之面內均勻性的提升是除了如實施形態的裝置及方法使用兩個載台21、22使基板S交替通過照射區域R的構成的場合之外，也相當於僅使用一個載台往返移動的場合。僅使用一個載台的場合在生產性的點與使用兩個載台21、22的場合比較雖然較差，但是藉著在反轉位置與照射區域R之間確保載台的移動方向的長度+速度緩衝路以上的退避空間可進一步提升光定向處理的面內均勻性的點為相同。

又，不僅是進路在回路也對基板S照射偏振光是具有使獲得所需累積照射量時的設定通過速度加速的意義，該點具有提高生產性的貢獻。但是，在本案發明的實施時，也有僅進路照射偏振光，在回路不照射偏振光的場合。此時，在照射單元1內設置快門等將光截斷。此時，在回路可與偏振光照射毫無關地移動載台21、22，因此多是以較設定通過速度快的速度通過照射單元1的正下方的場合。

接著，針對第二實施形態的裝置及方法，使用第12圖說明。第12圖是針對第二實施形態相關的光定向裝置及方法的主要部表示的概略圖。

第一實施形態為光定向處理之面內均勻性的提升，在基板S的表面的各點通過照射區域R時，控制各點維持著一定的設定通過速度，但是作為光定向處理的面內均勻性提升用的構成除此之外可多數考慮，其一例為第12圖表示。第12圖表示的控制是在照射區域R通過中，進路是 以一定的制動(減速)一邊進行減速而移動各載台21、22，回路則是進行相對於進路的速度變化一邊加速成為對稱的速度變化並在照射區域R移動的控制。

更具體說明時，第12圖的縱軸是成為速度、橫軸是成為移動方向的位置(移動距離)。橫向的中央成為速度零之處為反轉位置。與第7圖同樣，實際是從反轉位置返回，但圖示的方便上，以其狀態將橫軸延伸描繪。

第12圖中，圖表是表示基板S的表面上之各點的速度的推移(移動路徑上的推移)。實線是表示移動方向中央之速度的推移，一點虛線是表示移動方向的一方側邊緣之速度的推移，兩點虛線是表示移動方向的另一方側邊緣之速度的推移。

如從第12圖可理解，該實施形態是控制在照射區域R的通過中，進路是以一定的減速度通過，回路是以一定的加速度通過。並且，減速度的梯度與加速度的梯度為相同。並且，在基板S的移動方向中央的點顯示的場合，加速與減速的速度變化是夾著反轉位置正好成線對稱。

通過照射區域R中基板S的速度變化的場合，如上述，設照射區域的移動方向的長度為L、照度為I時，某一點的累積照射量是以V_A為平均速度，成為I‧L/V_A(照度I在長度L中為一定)。此時，如從第12圖可理解，平均速度V_A是進路的速度(減速至一定的速度)與回路的速度(加速至一定的速度)的平均。如從第 12圖可理解，進路中，基板S的移動方向一方側的邊緣是以相對較快的速度通過照射區域R，移動方向另一方側的邊緣則是以較慢的速度通過照射區域R的進路正好與此關係相反。因此，在進路與回路平均的速度是同樣與在移動方向中央的點的平均速度一致。亦即，在各點的平均速度為一致，因此各點的累積照射量為均一。也可藉如此的構成，獲得光定向處理之均勻性的提升。

在構成裝置的控制單元4，安裝有進行如第12圖之控制的順序控制程式。在進路中，從一定的設定搬運速度開始減速的時間是在基板S的移動方向一方側的邊緣到達照射區域R之前，以一定的減速度減速到達反轉位置。在回路中，以一定的加速度移動，在移動方向一方側的一方邊緣通過照射區域R之後達到設定搬運速度後維持其速度。並且，如第12圖表示，至少在照射區域R是以反轉位置為中心形成為完全對稱的速度變化。再者，第12圖中，雖維持著照射區域R通過中的減速到達反轉位置，並維持著從反轉位置的加速通過照射區域R，但也可以使照射區域R與反轉位置之間的減速或加速與照射區域R通過中的減速或加速不同。

第二實施形態的構成中，設定搬運速度也是比照射區域R通過中的速度(平均速度)快，因此可縮短間斷時間，提高生產性。並且，基板S的表面之各點的累積照射量為均一，可提升光定向處理的均勻性。並且，與第一實施形態的場合比較時，由於有精度良好地控制照射 區域R通過中的加速及減速的各時間及梯度的必要，因此控制多少會變得複雜。在不具如此複雜的點上第一實施形態的裝置及方法較為優異。

其他如第3(2)圖的場合，針對在進路超過設定通過速度的基板S之移動方向前方的邊緣附近區域，在脫離照射區域R朝向反轉位置時，也可補償在該區域脫離照射區域R稍前的開始減速而獲得均勻化。如第4(2)圖的場合，同樣從反轉位置朝向照射區域R時，也可控制在基板S的移動方向前方的邊緣稍微進入照射區域R的時間點成為設定通過速度來補償，可藉此獲得均勻化。

各實施形態中，針對第一載台21基板S的搭載位置與回收位置在照射區域R的一方側雖是相同的位置，但只要一方側即已足夠，沒有設相同位置的必要。針對第二載台22也相同。例如在一方側，從第一基板搭載位置顯示也可在接近照射區域R的位置設定第一基板回收位置。此時，光定向後的基板S在基板回收位置從第一載台21卸下後，第一載台21更為前進而到達基板搭載位置，在此搭載下一個基板S。

上述的場合，對於第一基板回收位置，有即使未確保上述量的退避空間也不會有問題的場合。亦即，例如也可在第一載台21從第一基板回收位置移動至第一基板搭載位置的狀態中，確保第二載台22的退避空間。或者，也可以在第一載台21位於第一基板回收位置的狀 態確保第二載台22的退避空間，第一載台21從其狀態接近照射區域R的位置搭載基板S的構成。亦即，一方的載台21、22在為進行基板S的搭載或回收而定位的狀態下確保另一方載台21、22的退避空間即可。

再者，也有如專利文獻1記載的複數照射單元1沿著載台21、22移動方向並設的場合。此時，包括來自各照射單元1之偏振光的照射區域R的區域成為整體的照射區域R。針對該整體的照射區域R進行任意之上述的各控制。

又，本申請案的發明中，「載台」的用語通常有被廣泛解釋的必要。亦即，在具有如真空吸附的吸附孔的複數銷上載放基板S在該等複數銷上吸附基板S，將複數銷一體移動使基板S通過照射區域R的場合。因此，「載台」只要是可一邊保持基板S並使基板S移動的構件即可，無須僅限於梯形的構件。

再者，雖假設黏貼有膜材的液晶顯示元件用的基板作為基板S，但也有以液晶顯示元件以外的顯示元件用的基板為對象物進行光定向的場合，但也有以視野角補償膜的目的進行光定向的場合。除該等之外，也可以種種的目的在進行光定向時，使用本案發明的裝置及方法。又，雖已然明確，但是光定向方法的發明可採取光定向膜之製造方法的發明。

R‧‧‧照射區域

Claims (10)

1. 一種光定向裝置，具備：照射單元，對所設定的照射區域照射朝預定方向偏振的偏振光；載台，載放著基板；及載台移動機構，通過照射區域地移動載台朝載台上的基板進行偏振光的照射，作為載台設有第一第二的兩個載台，載台移動機構是將第一載台從設定於照射區域之一方側的第一基板搭載位置朝著照射區域移動，並將第二載台從設定於照射區域之另一方側的第二基板搭載位置朝著照射區域移動的機構，載台移動機構是在第一載台上的基板通過照射區域之後使第一載台回到一方側而定位於第一基板回收位置，並在第二載台上的基板通過照射區域之後使得第二載台回到另一方側而定位於第二基板回收位置的機構，在位於第一基板搭載位置或第一基板回收位置的第一載台與照射區域之間，確保第二載台上的基板通過照射區域的量以上的第一退避空間，在位於第二基板搭載位置或第二基板回收位置的第二載台與照射區域之間，確保第一載台上的基板通過照射區域的量以上的第二退避空間，設有控制載台移動機構的控制單元，控制單元中，設定有作為基板通過照射區域時的速度的設定通過速度， 控制單元，針對從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第一基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還快，並針對從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第二基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還快，第一第二載台，在移動時將基板真空吸附而保持，控制單元，進行從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動及從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動中，使移動的速度為每秒300mm以上600mm以下的控制。
2. 如申請專利範圍第1項記載的光定向裝置，其中，上述設定通過速度為一定的速度，上述控制單元在從上述第一基板搭載位置到上述照射區域為止的進路移動中，進行使上述第一載台的速度在上述第一載台上的基板之移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止減速至上述設定通過速度，在從該基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域後到移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的期間，維持上述設定通過速度，並在該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域之後減速回到上述之一方側的控制，上述控制單元上述在從上述第二基板搭載位置到照射區域為止的進路移動中，進行使上述第二載台的速度在上述第二載台上的基板之移動方向前方的邊緣到達上述照射 區域為止減速至上述設定通路速度，在從該基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域後到移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的期間，維持上述設定通過速度，並在該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域之後減速回到上述之另一方側的控制。
3. 如申請專利範圍第2項記載的光定向裝置，其中，上述照射單元是在上述第一第二的各載台進行進路移動時與回路移動時的雙方中，對上述各載台上的基板照射偏振光，在上述控制單元中，上述第一載台進行進路移動時的設定通過速度與上述第一載台進行回路移動時的設定通過速度設定為相同的速度，上述第二載台進行進路移動時的設定通過速度與上述第二載台進行回路移動時的設定通過速度設定為相同的速度。
4. 如申請專利範圍第3項記載的光定向裝置，其中，在上述控制單元中，設定有用於使上述第一載台通過照射區域後回到一方側的反轉的位置之第一反轉位置，以及用於使上述第二載台通過照射區域後回到另一方側的反轉的位置之第二反轉位置，在上述控制單元中，上述第一載台通過上述照射區域後到達第一反轉位置時的減速，與上述第一載台在第一反轉位置反轉而到達上述照射區域時的加速，設定為相同的斜率，在上述控制單元中，上述第二載台通過上述照射區域 後到達第二反轉位置時的減速，與上述第二載台在第二反轉位置反轉而到達上述照射區域時的加速，設定為相同的斜率。
5. 如申請專利範圍第4項記載的光定向裝置，其中，在上述控制單元中，上述第一載台的從上述第一基板搭載位置到上述照射區域為止的移動的速度，與從上述照射區域到上述第一基板回收位置為止的移動的速度，設定為相同的速度，上述第二載台的從上述第二基板搭載位置到上述照射區域為止的移動的速度，與從上述照射區域到上述第二基板回收位置為止的移動的速度，設定為相同的速度，上述第一載台在進路移動中到達上述照射區域時朝上述設定通過速度的減速，與上述第一載台在回路移動中通過上述照射區域後從上述設定通過速度的加速，設定為相同的斜率，上述第二載台在進路移動中到達上述照射區域時朝上述設定通過速度的減速，與上述第二載台在回路移動中通過上述照射區域後從上述設定通過速度的加速，設定為相同的斜率。
6. 一種光定向方法，具備：照射步驟，對所設定的照射區域照射朝預定方向偏振的偏振光；搭載步驟，在第一第二的兩個載台分別載放基板；移動步驟，藉載台移動機構移動各載台使各載台交替 通過照射區域，藉此對各載台上的基板照射偏振光；及回收步驟，從各載台卸除照射偏振光後的各基板，在移動步驟中，第一載台是從設定於照射區域之一方側的第一基板搭載位置朝著照射區域移動，並將第二載台從設定於照射區域之另一方側的第二基板搭載位置朝著照射區域移動，在移動步驟中，在第一載台上的基板通過照射區域之後，使第一載台回到一方側而位於第一基板回收位置，並在第二載台上的基板通過照射區域之後使得第二載台回到另一方側而位於第二基板回收位置，在位於第一基板搭載位置或第一基板回收位置的第一載台與照射區域之間，確保有第二載台上的基板通過照射區域的量以上的第一退避空間，在位於第二基板搭載位置或第二基板回收位置的第二載台與照射區域之間，確保有第一載台上的基板通過照射區域的量以上的第二退避空間，設定有作為基板通過照射區域時的速度的設定通過速度，移動步驟中，進行針對從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第一基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還快的控制，並進行針對從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動及從照射區域到第二基板回收位置為止的移動進行控制使得該移動的速度比設定通過速度還 快的控制，移動步驟，是第一第二各載台在移動時將基板真空吸附而保持的狀態進行移動的步驟，且從第一載台的第一基板搭載位置到照射區域為止的移動的速度，及從第二載台的第二基板搭載位置到照射區域為止的移動的速度，為每秒300mm以上600mm以下。
7. 如申請專利範圍第6項記載的光定向方法，其中，上述設定通過速度為一定的速度，上述移動步驟中進行的控制是進行從上述第一基板搭載位置到上述照射區域為止的上述第一載台的進路移動中，上述第一載台上的基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止將載台的速度減速至上述設定通過速度，在該基板的移動方向前方的邊緣到達上述照射區域後到移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的期間，維持著上述設定通過速度，在該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域之後減速回到上述之一方側的控制，上述移動步驟中進行的控制是進行從上述第二基板搭載位置到上述照射區域為止的進路移動中，使上述第二載台的速度在上述第二載台上的基板之移動方向前方的邊緣到達上述照射區域為止的期間減速至上述設定通路速度，在從該基板的移動方向前方的邊緣到達照上述射區域後到移動方向後方的邊緣通過上述照射區域為止的期間，維持上述設定通過速度，並在該基板的移動方向後方的邊緣通過上述照射區域之後減速回到上述之另一方側的控制。
8. 如申請專利範圍第7項記載的光定向方法，其中，上述移動步驟中，上述第一載台進行進路移動時的設定通過速度與上述第一載台進行回路移動時的設定通過速度為相同的速度，上述第二載台進行進路移動時的設定通過速度與上述第二載台進行回路移動時的設定通過速度為相同的速度。
9. 如申請專利範圍第8項記載的光定向方法，其中，上述移動步驟，是為了使上述第一載台通過照射區域後回到一方側而在第一反轉位置反轉，並為了使上述第二載台通過照射區域後回到另一方側而在第二反轉位置反轉的步驟，上述第一載台通過上述照射區域後到達第一反轉位置時的減速，與上述第一載台在第一反轉位置反轉而到達上述照射區域時的加速，為相同的斜率，上述第二載台通過上述照射區域後到達第二反轉位置時的減速，與上述第二載台在第二反轉位置反轉而到達上述照射區域時的加速，為相同的斜率。
10. 如申請專利範圍第9項記載的光定向方法，其中，在上述移動步驟中，上述第一載台的從上述第一基板搭載位置到上述照射區域為止的移動的速度，與從上述照射區域到上述第一基板回收位置為止的移動的速度，為相同的速度，上述第二載台的從上述第二基板搭載位置到上述照射區域為止的移動的速度，與從上述照射區域到上述第二基 板回收位置為止的移動的速度，為相同的速度，上述第一載台在進路移動中到達上述照射區域時朝上述設定通過速度的減速，與上述第一載台在回路移動中通過上述照射區域後從上述設定通過速度的加速，為相同的斜率，上述第二載台在進路移動中到達上述照射區域時朝上述設定通過速度的減速，與上述第二載台在回路移動中通過上述照射區域後從上述設定通過速度的加速，為相同的斜率。