TWI553423B - Exposure device - Google Patents

Description

曝光裝置

本發明是關於一種曝光裝置，使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面，藉由使基板的感光面曝光而將圖案(pattern)轉印至基板。

以往已知有各種使基板的感光面與罩幕板(mask board)的圖案面面對面，藉由使基板的感光面曝光而將圖案轉印至基板之曝光裝置。在這種曝光裝置中，不只是對基板的感光面進行除塵，對罩幕板中之與基板的對向面(稱為罩幕板的圖案面)進行除塵也很重要。此乃因若在罩幕板的圖案面存在塵埃，則在曝光時連塵埃也會與形成在罩幕的圖案一起被轉印，發生該基板成為不良品的不良狀況。

可是，在這種曝光裝置中，不僅是以一張一張成短片狀的基板當作曝光對象的曝光裝置，也有以長條片狀的基板當作曝光對象的曝光裝置。

以長條片狀的基板當作曝光對象的曝光裝置是在間歇地運送每一規定量之架設在輸送部與捲繞部之間的長條片狀的基板而去的過程中，使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面，使基板的感光面曝光的裝置，當作所謂的捲對捲(Roll to Roll)方式的曝光裝置而在過去為人所知(例如參照專利文獻1)。

圖8是為了說明專利文獻1所記載的曝光裝置900而顯示之圖。揭示於專利文獻1的曝光裝置900如圖8所示，是在輸送長條片狀的基板910的輸送部920與捲繞曝光完了的基板的捲繞部930之間配置曝光部940，在運送基板910而去的過程中，使基板910的感光面與罩幕板950的圖案面面對面並使基板910的感光面曝光的[捲對捲方式的曝光裝置]。

此外，由於專利文獻1所記載的曝光裝置900是基板910的兩面成為感光面，可使基板910的兩面同時曝光，因此罩幕板950分別被配設於上下以夾著基板910。此外，在以下的說明中，將上側的罩幕板950當作上側罩幕板951，將下側的罩幕板950當作下側罩幕板952而進行說明。

在這種捲對捲方式的曝光裝置中，對罩幕板950(上側罩幕板951及下側罩幕板952)的各圖案面進行除塵很重要。在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，上側罩幕板951及下側罩幕板952中的各圖案面的除塵如下而進行。

在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，以進行上側罩幕板951的除塵時，藉由透過可使基板910沿著z軸升降的高度調節輥960，使基板910沿著z軸上升而使基板910離開下側罩幕板952，並且藉由使上側罩幕板951沿著z軸上升而使上側罩幕板951離開基板910的狀態，對上側罩幕板951的圖案面進行除塵。

另一方面，以進行下側罩幕板952的除塵時，使上側罩幕板951沿著z軸上升而在與下側罩幕板952之間形成寬廣的間隔，並且透過高度調節輥960使基板910離開下側罩幕板952的狀態，對下側罩幕板952進行除塵。

[專利文獻1]：日本國特開2001-125274號公報

如上述，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中對罩幕板950(上側罩幕板951及下側罩幕板952)的各圖案面進行除塵時，為了使上側罩幕板的圖案面及下側罩幕板的圖案面的除塵容易進行起見，進行使基板及上側的罩幕板移動的操作，以隔開各圖案面與基板的間隔之後，進行上側罩幕板的圖案面及下側罩幕板的圖案面的除塵。而且，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，由於未特別配設用以對罩幕板的圖案面進行除塵的除塵裝置，因此可認為罩幕板的圖案面的除塵是作業人員藉由人工操作而進行的。因此，進行罩幕板中的圖案面的除塵時花費很多的勞力與時間。

而且，在專利文獻1所記載的曝光裝置900中，進行罩幕板中的圖案面的除塵時，需使曝光動作停止。因此，在本來高速且有效的曝光為可能的捲對捲方式的曝光裝置中，為了罩幕的除塵就會大大地損及高速化及效率化。尤其是當要進行更高品質的曝光時，由於罩幕的除塵被要求頻繁地進行，因此每次進行罩幕的除塵，都需每次進行如上述的程序，會更大地損及高速化及效率化。

此外，在本說明書中，[曝光動作]是指[在間歇地運送每一規定量之長條片狀的基板而去的過程中，使基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面，並使基板的感光面曝光的動作]。

本發明是鑒於上述情況所進行的創作，其目的在於提供一種曝光裝置，在捲對捲方式的曝光裝置中，可自動地進行罩幕板的圖案面的除塵，而且，不會給予該捲對捲方式的曝光裝置進行的曝光動作影響而能進行罩幕板的圖案面的除塵。

[1]、本發明的曝光裝置，是在間歇地運送每一規定量之架設在輸送部與捲繞部之間的長條片狀的基板而去的過程中，使前述基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面，使前述基板的感光面曝光，其特徵在於：以前述基板沿著由x軸及y軸形成的xy平面中的x軸朝向前述捲繞部的側為前方側，以與前述前方側相反側為後方側時，包含：曝光平台(exposure stage)，配置於夾著前述基板而與前述罩幕板對向的位置，可沿著正交於xy平面的z軸與前述基板一起升降；罩幕除塵部，沿著x軸的往復運動為可能且可與前述曝光平台一起沿著z軸升降，且配設於前述曝光平台，以在由前述基板的感光面沿著z軸離開的狀態下位於前述罩幕板的側，至少以由前述罩幕板的前述後方側的端部沿著x軸進一步向後方側離開規定間隔的第一位置與由前述罩幕板的前述前方側的端部沿著x軸進一步向前方側離開規定間隔的第二位置之間的範圍當作前述往復運動時的可動範圍，一邊行進於前述可動範圍內一邊進行對前述罩幕板的圖案面除塵的動作；罩幕除塵部驅動機構部，用以使前述罩幕除塵部進行前述往復運動；罩幕除塵部控制裝置，藉由控制前述罩幕除塵部驅動機構部而控制前述罩幕除塵部的前述往復運動；曝光平台驅動機構部，用以可使前述曝光平台沿著z軸升降；及曝光平台控制裝置，藉由控制前述曝光平台驅動機構部而控制前述曝光平台的升降，前述罩幕除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，前述罩幕除塵部對前述罩幕板的圖案面進行除塵的動作是在接觸前述罩幕板的圖案面的狀態下旋轉而去的動作，在由前述罩幕除塵部對前述罩幕板沿著x軸及z軸分別離開的位置使前述罩幕除塵部接觸前述罩幕板的圖案面時，前述罩幕除塵部控制裝置控制前述罩幕除塵部驅動機構部，使前述罩幕除塵部到達與前述罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近對向的位置，前述曝光平台控制裝置控制前述曝光平台驅動機構部，以便前述罩幕除塵部一到達與前述罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近對向的位置，就使前述罩幕除塵部接觸前述罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近，在使前述基板的感光面曝光時，前述罩幕除塵部控制裝置控制前述罩幕除塵部驅動機構部，以使前述罩幕除塵部成為到達前述第一位置或前述第二位置的狀態，前述曝光平台控制裝置控制前述曝光平台驅動機構部，以在前述罩幕除塵部到達前述第一位置或前述第二位置的狀態下，使前述曝光平台沿著z軸移動而成為前述基板的感光面與前述罩幕板的圖案面接觸或接近的狀態。

本發明的曝光裝置成如下的構成：罩幕除塵部以在沿著x軸的方向中比罩幕板寬的範圍(第一位置與第二位置之間的範圍)當作可動範圍，藉由行進於前述可動範圍而對罩幕板的圖案面進行除塵。而且，使基板的感光面曝光時，在罩幕除塵部到達第一位置或前述第二位置的狀態下，使曝光平台沿著z軸移動而成為基板的感光面與罩幕板的圖案面接觸或接近的狀態而進行曝光。據此，依照本發明的曝光裝置，在捲對捲方式的曝光裝置中，也能自動地進行罩幕板的圖案面的除塵，而且，不會給予前述捲對捲方式的曝光裝置進行的曝光動作影響而能進行罩幕板的圖案面的除塵。

而且，依照本發明的曝光裝置，罩幕除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，由於罩幕除塵部對罩幕板的圖案面進行除塵的動作是在接觸罩幕板的圖案面的狀態下旋轉而去的動作，因此可效率高且確實地對罩幕板的圖案面進行除塵。

而且，依照本發明的曝光裝置，罩幕除塵部控制裝置及曝光平台控制裝置分別控制罩幕除塵部驅動機構部及曝光平台驅動機構部，以在罩幕除塵部到達與罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近對向的位置時，使罩幕除塵部接觸罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近。因此，罩幕除塵部沿著x軸行進時，不產生罩幕除塵部將罩幕板的端部推向沿著x軸的罩幕除塵部的行進方向的動作。據此，可防止罩幕板的位置偏移，而且也能防止罩幕板的端部中的角部等破損。

[2]、在本發明的曝光裝置中，前述罩幕除塵部在間歇地運送每一規定量的前述基板的時候進行對前述罩幕板的圖案面除塵的動作較佳。

如此，由於在運送基板的時候進行對罩幕板的圖案面除塵的動作，因此不會給予捲對捲方式的曝光裝置進行的本來的曝光動作影響而能對罩幕板的圖案面進行除塵。據此，可維持捲對捲方式的曝光裝置本來具有的曝光動作速度。

[3]、在本發明的曝光裝置中，以前述罩幕除塵部在前述前方側行進於前述可動範圍內的動作當作前方行進動作，以前述罩幕除塵部在前述後方側行進於前述可動範圍內的動作當作後方行進動作時，前述罩幕除塵部在前述前方行進動作及前述後方行進動作的各個中進行對前述罩幕板的圖案面除塵的動作，在前述前方行進動作及前述後方行進動作的各個中對前述罩幕板的圖案面進行除塵的動作在間歇地運送每一規定量的前述基板而去的時候交互進行較佳。

如此，罩幕除塵部在進行前方行進動作及後方行進動作於該罩幕除塵部的可動範圍時，在前方行進動作及後方行進動作的各個中進行對罩幕板的圖案面除塵的動作。而且，在前方行進動作及後方行進動作的各個中對罩幕板的圖案面進行除塵的動作在間歇地運送每一規定量的基板而去的動作的時候交互進行。因此，可不浪費有效地進行基板的運送動作與罩幕除塵部的除塵動作。而且，由於間歇地進行曝光動作時，在曝光動作與曝光動作之間必定會對罩幕板的圖案面進行除塵，因此可始終在罩幕板的圖案面被除塵的狀態下進行曝光。

[4]、在本發明的曝光裝置中，前述罩幕除塵部配設於前述曝光平台，以便一成為接觸前述罩幕板的圖案面的狀態，藉由彈簧的伸張力緊壓前述圖案面的力就發生作用較佳。

因此，可藉由適當的緊壓力使罩幕除塵部接觸圖，無須高精度地進行接觸時的緊壓力的控制等。而且，罩幕除塵部與圖案面的間隔(沿著z軸的間隔)也無須高精度地進行調整，可減輕罩幕除塵部與圖案面的間隔(沿著z軸的間隔)的調整作業。

[5]、在本發明的曝光裝置中，前述罩幕除塵部具有沿著前述罩幕板的圖案面中的y軸方向的吸引口，是藉由吸引而對前述罩幕板的圖案面進行除塵的吸引式的罩幕除塵部，前述吸引式的罩幕除塵部對前述罩幕板的圖案面進行除塵的動作是在與前述罩幕板的圖案面之間具有規定的空隙的狀態下一邊發揮吸引力，一邊沿著前述罩幕板的圖案面且沿著x軸方向行進而去的動作較佳。 藉由使用這種吸引式罩幕的除塵部當作罩幕除塵部，也能得到與藉由上述[1]~[3]的發明得到的功效一樣的功效。

[6]、在本發明的曝光裝置中，具有對前述基板的至少前述感光面進行除塵的基板除塵部較佳。 據此，不只是罩幕板的圖案面的除塵，也能進行基板的至少感光面的除塵。

[7]、在本發明的曝光裝置中，前述基板除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，在接觸前述基板的至少感光面的狀態下被配設，伴隨間歇地運送每一規定量的前述基板時的前述基板的運送而旋轉較佳。

據此，可效率高且確實地對罩幕板的圖案面進行除塵。而且，由於在運送基板的時候進行對基板的至少感光面除塵的動作，因此不會給予捲對捲方式的曝光裝置進行的本來的曝光動作影響，可對基板的至少感光面進行除塵。據此，可維持捲對捲方式的曝光裝置本來具有的曝光動作速度。此外，以具有除塵功能的兩個輥夾入基板的構成也可以，藉由以這種構成，可同時對基板的兩面進行除塵。

以下，就本發明的實施形態進行說明。

[實施形態一] 圖1是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10而顯示之整體構成圖。此外，圖1是模式地顯示與實施形態一有關的曝光裝置10的圖，關於在說明與實施形態有關的曝光裝置10上不是特別必要的構成元件是省略圖式。而且，由於圖1是模式圖，因此不以同一比率將實際的構成元件的尺寸縮小，而是誇張地描繪或更加縮小地描繪構成元件。

與實施形態有關的曝光裝置10如圖1所示，具有：沿著由x軸及y軸形成的xy平面中的x軸間歇地運送每一規定量的長條片狀的基板W之運送機構部100；使藉由運送機構部100間歇地運送每一規定量的基板W的感光面A曝光之曝光部200；收納該等運送機構部100及曝光部200之曝光裝置框體300；控制曝光部200中的罩幕除塵部230(於後述)之罩幕除塵部控制裝置400；及控制曝光部200中的曝光平台240(於後述)之曝光平台控制裝置500。雖然與實施形態有關的曝光裝置10除了該等構成元件之外省略圖式，但也配設有去除罩幕板210及基板W等所帶的靜電之靜電去除部等。

運送機構部100具有：輸送長條片狀的基板W之輸送部110；捲繞藉由曝光部200曝光的曝光完了的基板W之捲繞部120；沿著x軸間歇地運送每一規定量的基板W之間歇進給機構部130；配置於輸送部110的側而不是曝光部200，對基板W的感光面A進行除塵之基板除塵部140；及配設於運送路徑上之進給輥(feed roller)151、152。此外，由於輸送部110及捲繞部120分別成輥狀，因此以下稱為輸送輥110、捲繞輥120。

如此，與實施形態有關的曝光裝置10是在間歇地運送每一規定量的捲繞在輸送輥110的基板W而去的過程中，在藉由曝光部200使基板W的感光面A曝光後，藉由捲繞輥捲繞曝光完了的基板W之[捲對捲(Roll to Roll)]方式的曝光裝置。此外，在本說明書中，以基板W沿著x軸而被運送至捲繞部120而去的側當作前方側，以與該前方側相反側當作後方側而進行說明。

運送機構部100中的間歇進給機構部130例如依次反復進行如下動作：鬆開固定夾持器131，藉由進給夾持器132夾緊基板W並僅進給規定量，在僅進給規定量後藉由固定夾持器夾緊基板W，然後，再度鬆開固定夾持器131，藉由進給夾持器132夾緊基板W並僅運送規定量，在僅運送規定量後藉由固定夾持器夾緊基板W。據此，可間歇地進給每一規定量的基板W。此外，間歇進給機構部130的構成不限於這種構成，可採用各種構成的間歇進給機構部。

而且，基板除塵部140是對由輸送輥110輸送的基板W進行除塵的構件，成在表面具有黏著力的輥狀，在與實施形態有關的曝光裝置10中使用將具有黏著力的構件(例如具有黏著力的橡膠等)形成為輥狀的構件。

如此，由於基板除塵部140成輥狀，因此也將基板除塵部140稱為[基板除塵輥140]。此外，雖然基板除塵輥140是具有黏著力的構件，但是其黏著力為可黏著去除存在於基板W的感光面A的塵埃的程度，為以不會給予基板W的感光面A不良影響的程度的黏著力。此外，基板W的感光面A是指在基板W塗佈有光阻劑(photoresist)等的面，光阻劑處於已經乾了的狀態而構成。

基板除塵輥140以夾著基板W的方式藉由兩個輥141、142構成。此外，若考慮以進行基板W的感光面A的除塵為主，則也可以是僅感光面側的輥141具有基板除塵功能，但是藉由使兩個輥141、142具備基板除塵功能，則不只是基板W的感光面A，與感光面A相反側的面的除塵也可能。因此，位於與基板W的感光面A相反側的面的輥142也具有基板除塵功能較佳。

圖2是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10中的曝光部200的構成而顯示之圖。圖2(a)是由輸送輥110的側沿著x軸看圖1中的曝光部200的情形之側視圖，圖2(b)是圖2(a)中的a-a箭視俯視圖。參照圖2就曝光部200進行說明。

曝光部200具有：未圖示的光源；由透明玻璃等的透光性構件構成，具有規定的厚度之罩幕板210；在使圖案面M朝下的狀態下保持罩幕板210之罩幕板保持部220；進行對圖案面M除塵的動作之罩幕除塵部230；配置於夾著基板W而與罩幕板210對向的位置，可沿著正交於xy平面的z軸升降之曝光平台240；用以使罩幕除塵部230沿著x軸往復運動之罩幕除塵部驅動機構部250；及用以使曝光平台240沿著z軸升降之曝光平台驅動機構部260。 此外，在與實施形態一有關的曝光裝置10中，罩幕板210之沿著x軸的長度與罩幕板保持部220之沿著x軸的長度是以相同的長度L1(參照圖1)。而且，罩幕板保持部220是沿著z軸具有規定的厚度而構成。

罩幕除塵部230成在表面具有黏著力的輥狀。在與實施形態有關的曝光裝置10中使用將具有黏著力的構件(例如具有黏著力的橡膠等)形成為輥狀的構件。

如此，由於罩幕除塵部230成輥狀，因此也將罩幕除塵部230稱為[罩幕除塵輥230]。此外，雖然罩幕除塵輥230是具有黏著力的構件，但是其黏著力為可黏著去除存在於罩幕板210的圖案面M的塵埃的程度，是以不會給予罩幕板210的圖案面M不良影響的程度的黏著力。

曝光平台240具有曝光台(exposure table)241。曝光台241被配置為隔著基板W與罩幕板210的圖案面M對向，發揮由下側保持基板W的作用。

而且，在曝光平台240，突出於沿著y軸的方向的台架部242L、242R沿著x軸形成於左右兩側。在台架部242L、242R配設有用以使罩幕除塵輥230沿著x軸往復運動之罩幕除塵部驅動機構部250。

罩幕除塵部驅動機構部250具有：分別鋪設在台架部242L、242R之導軌(guide rail)251L、251R；可滑動於該等導軌251L、251R上之滑件(slider)252L、252R；用以使滑件252L、252R沿著x軸往復運動之滾珠螺桿(ball screw)253L、253R；固定在滑件252L、252R，在左右兩側中旋轉自如地支撐罩幕除塵輥230的旋轉軸231之罩幕除塵輥支撐部254L、254R；及用以旋轉驅動滾珠螺桿253L、253R之馬達(未圖示)。此外，馬達可使用伺服馬達(servo motor)。

由於罩幕除塵部驅動機構部250成為這種結構，因此滾珠螺桿253L、253R分別在同步的狀態下順時針方向或逆時針方向旋轉，因此滑件252L、252R沿著x軸往復運動，據此，罩幕除塵輥230也沿著x軸往復運動。此外，罩幕除塵輥230藉由罩幕除塵部驅動機構部250以曝光平台240之沿著x軸的一端部240a與另一端部240b之間內的規定範圍當作可動範圍(於後述)，往復運動於該可動範圍內。

例如，藉由滾珠螺桿253L、253R逆時針方向(看前方側時的逆時針方向)旋轉，使滑件252L、252R沿著x軸往前方側行進，據此，罩幕除塵輥230也沿著x軸往前方側行進。

而且，藉由滾珠螺桿253L、253R順時針方向(看前方側時的順時針方向)旋轉，使滑件252L、252R沿著x軸往後方側行進，據此，罩幕除塵輥230也沿著x軸往後方側行進。 如此構成的罩幕除塵部驅動機構部250藉由罩幕除塵部控制裝置400而被控制，據此，使罩幕除塵輥230被控制。

可是，在罩幕除塵輥支撐部254L、254R分別形成有用以旋轉自如地支撐罩幕除塵輥230之U字形的軸承槽255(參照圖1)。該軸承槽255為上端側開口，罩幕除塵輥230藉由使旋轉軸231由軸承槽255的開口落入，而成為藉由軸承槽255旋轉自如地支撐的狀態。

由於是這種結構，因此罩幕除塵輥230容易裝卸自如於罩幕除塵輥支撐部254L、254R，可容易進行罩幕除塵輥230的清掃或更換等的維修保養(maintenance)。此外，罩幕除塵輥230不是藉由動力進行旋轉，而是以空轉的方式被支撐於罩幕除塵輥支撐部254L、254R。

而且，罩幕除塵輥支撐部254L、254R藉由導銷(guide pin)256與彈簧257而被支撐於滑件252L、252R，若在罩幕除塵輥支撐部254L、254R沿著z軸朝下方向給予緊壓力，則對該緊壓力，由彈簧257的伸張力產生的抵抗力發生作用。因此，一使被罩幕除塵輥支撐部254L、254R支撐的罩幕除塵輥230抵接罩幕板210的圖案面M，罩幕除塵輥230就藉由彈簧257的伸張力以規定的緊壓力接觸罩幕板210的圖案面M。

另一方面，曝光平台240可藉由曝光平台驅動機構部260沿著z軸升降。曝光平台驅動機構部260具有：固定在曝光平台240之升降台261；用以使升降台261沿著z軸升降之曝光平台用的滾珠螺桿263；及用以旋轉驅動滾珠螺桿263之馬達(未圖示)。此外，馬達可使用伺服馬達。

如此構成的曝光平台驅動機構部260藉由使滾珠螺桿263順時針方向或逆時針方向旋轉，可使曝光平台240沿著z軸升降。此外，若藉由曝光平台驅動機構部260使曝光平台240升降，則不只是曝光平台240，運送機構部100全體也進行升降。

據此，例如一使滾珠螺桿263逆時針方向(沿著z軸看上方時的逆時針方向)旋轉，曝光平台240就沿著z軸上升，並且運送機構部100也與曝光平台240一起上升。此外，[運送機構部100也與曝光平台240一起上升]是指輸送輥110、捲繞輥120、間歇進給機構部130、基板除塵輥140及基板W與曝光平台240一起上升。

另一方面，一使滾珠螺桿263順時針方向(沿著z軸看上方時的順時針方向)旋轉，曝光平台240就沿著z軸下降，並且運送機構部100也與曝光平台240一起下降。此外，[運送機構部100也與曝光平台240一起下降]是指輸送輥110、捲繞輥120、間歇進給機構部130、基板除塵輥140及基板W與曝光平台240一起下降。 如此構成的曝光平台驅動機構部260藉由曝光平台控制裝置500而被驅動控制。

此外，由於配設於罩幕除塵部驅動機構部250的滾珠螺桿253L、253R是用以驅動罩幕除塵部230(罩幕除塵輥230)的滾珠螺桿，因此也有稱為罩幕除塵部用滾珠螺桿253L、253R的情形。而且，由於配設於曝光平台驅動機構部260的滾珠螺桿263是用以驅動曝光平台240的滾珠螺桿，因此也有稱為曝光平台用滾珠螺桿263的情形。

圖3是顯示與實施形態有關的曝光裝置10中的罩幕除塵部控制裝置400及曝光平台控制裝置500的構成之圖。圖3(a)顯示罩幕除塵部控制裝置400的構成，圖3(b)顯示曝光平台控制裝置500的構成。

罩幕除塵部控制裝置400如圖3(a)所示具有：分別驅動罩幕除塵部用滾珠螺桿253L、253R之罩幕除塵部用滾珠螺桿驅動部(伺服馬達等)410；儲存用以控制罩幕除塵輥230的行進的控制程式及使用者的設定資訊等之儲存部420；及藉由根據儲存部420的儲存內容控制罩幕除塵部用滾珠螺桿驅動部410，控制罩幕除塵輥230之朝前方側或後方側行進之行進控制部430。

曝光平台控制裝置500如圖3(b)所示具有：驅動曝光平台用的滾珠螺桿263之曝光平台用滾珠螺桿驅動部(伺服馬達等)510；儲存用以控制曝光平台240的升降的控制程式及使用者的設定資訊等之儲存部520；及藉由根據儲存部520的儲存內容控制曝光平台用滾珠螺桿驅動部510而控制曝光平台240的上升或下降之升降控制部530。

此外，在圖3中雖然在罩幕除塵部控制裝置400及曝光平台控制裝置500的各個配設儲存部(儲存部420及儲存部520)，但是也可以共用一個儲存部。

圖4~圖7是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10的動作而顯示之圖。圖4(a)~圖4(d)、圖5(a)~圖5(c)、圖6(a)~圖6(d)及圖7(a)~圖7(c)是顯示各自的程序的圖。此外，圖4~圖7主要是為了說明曝光部200中的罩幕除塵輥230的動作而顯示之圖。因此，圖1所示的構成元件之中運送機構部100被省略圖式，而且，在曝光部200中，曝光平台驅動機構部260等也被省略圖式。而且，在曝光部200中於圖1及圖2中附加的符號之中也有省略的符號。

此外，在圖4~圖7中，用以使罩幕除塵輥230行進的控制是藉由圖3(a)所示的罩幕除塵部控制裝置400而進行，用以使曝光平台240升降的控制是藉由圖3(b)所示的曝光平台控制裝置500而進行。

在與實施形態有關的曝光裝置10中，基板W藉由運送機構部100而被間歇地運送每一規定量，若進行一次份的運送，則在基板W的感光面A中成為曝光對象的複數個感光區域(以A1、A2···表示該等感光區域)之中的某一個感光區域(例如以感光區域A1)在曝光台241上成為與罩幕板210的圖案面M面對面的位置。而且，在感光區域A1與罩幕板210的圖案面M面對面的位置成為基板W的運送一時停止的狀態，藉由在該狀態下進行曝光，使圖案被轉印至感光區域A1。

而且，感光區域A1的曝光一結束，基板W就再度僅被運送規定量，在基板W的感光面A中下一個感光區域(例如以感光區域A2)在曝光台241上成為與罩幕板210的圖案面M面對面的位置。而且，在感光區域A2與罩幕板210的圖案面M面對面的位置成為基板W的運送一時停止的狀態，藉由在該狀態下進行曝光，使圖案被轉印至感光區域A2。反復進行這種動作。

在進行這種動作的過程中，基板W藉由基板除塵輥140進行除塵，罩幕板210的圖案面M藉由罩幕除塵輥230進行除塵。由基板除塵輥140進行的基板W的除塵以及由罩幕除塵輥230進行的罩幕板210的圖案面M的除塵在基板W被運送的時候進行。此外，由基板除塵輥140進行的基板W的除塵可在每次基板W被運送時藉由基板除塵輥140旋轉來進行，因此，此處就由罩幕除塵輥230進行的除塵動作進行說明。

圖4(a)是罩幕除塵輥230開始除塵動作前的狀態，將成為這種狀態時的罩幕除塵輥230的位置稱為初始位置。此時，基板W已經開始運送動作。

在罩幕除塵輥230處於圖4(a)所示的初始位置時，該罩幕除塵輥230之沿著x軸的位置(旋轉軸231之沿著x軸的位置)x1成為由罩幕板210的後方側的端部(稱為後方側端部)210a沿著x軸進一步往後方側僅離開規定間隔的位置(也稱為第一位置x1)。

而且，罩幕除塵輥230之沿著z軸的位置(罩幕除塵輥230中的圓周上的上方側頂點P1之沿著z軸的位置)z2成為比罩幕板210的圖案面M的位置z1還靠下方側僅離開規定間隔的位置而構成。 在罩幕除塵輥230處於這種初始位置時，成為該罩幕除塵輥230與罩幕板210的圖案面M非接觸。

若罩幕除塵輥230由處於圖4(a)所示的初始位置的狀態沿著x軸往前方側僅行進規定量，到達與罩幕板210的後方側端部210a附近的平面部，亦即圖案面M中的後方側端部e1附近對向的位置x2(參照圖4(b))，則曝光平台240沿著z軸上升規定量，罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M中的後方側端部e1附近(參照圖4(c))。之後，罩幕除塵輥230在接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下沿著x軸往前方(箭頭x方向)行進而去。

此時，罩幕除塵輥230在彈簧257的伸張力發生作用的狀態下，如圖4(c)所示，在接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下一邊旋轉一邊行進而去。據此，可使存在於罩幕板210的圖案面M的塵埃附著在罩幕除塵輥230的側，據此，可對罩幕板210的圖案面M進行除塵。

如此，在罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下，該罩幕除塵輥230成為藉由彈簧257的伸張力緊壓罩幕板210的圖案面M的狀態。因此，無須特別進行罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M時之對罩幕板210的緊壓力等的控制。

此外，雖然罩幕除塵輥230是具有黏著力的構件，但是由於其黏著力為黏著去除存在於罩幕板210的圖案面M的塵埃的程度，因此不會給予形成於罩幕板210的圖案面M的圖案等不良影響。

如此，在罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下一邊旋轉一邊往前方側行進，若到達罩幕板210的前方側的端部(稱為前方側端部)210b，亦即罩幕板210的圖案面M中的前方側端部e2附近(參照圖4(d))，則曝光平台240由圖4(d)的狀態沿著z軸下降(參照圖5(a))。此時的罩幕除塵輥230之沿著z軸的位置(圓周上的上方側頂點P1之沿著z軸的位置)是與圖4(a)相同的位置z2。此外，若曝光平台240僅下降規定量，則與該曝光平台240的下降一起，運送機構部100全體也僅下降規定量。

而且，罩幕除塵輥230進一步往前方前進，到達由罩幕板210的前方側端部210b(圖案面M的前方側端部e2)沿著x軸往前方側離開規定間隔的位置x4(也稱為第二位置x4)(參照圖5(b))。

罩幕除塵輥230沿著x軸由圖4(a)所示的第一位置x1行進至圖5(b)所示的第二位置x4的動作在基板W被運送的時候進行。因此，不會給予間歇地運送每一規定量的長條片狀的基板W而進行曝光此一曝光裝置10所進行的本來的曝光動作影響，可對罩幕板210的圖案面M進行除塵。此外，由於由基板除塵輥140進行的基板W的除塵也可在基板W的運送中進行，因此不會產生由進行基板W及罩幕板210的圖案面M的除塵所引起的時間的損失。

如此，罩幕除塵輥230一到達圖5(b)所示的位置x4(第二位置x4)，曝光平台240就僅上升規定量(參照圖5(c))。若曝光平台240僅上升規定量，則與該曝光平台240的上升一起，運送機構部100全體也僅上升規定量。

此外，由於曝光平台240僅上升規定量時，罩幕除塵輥230已到達由罩幕板210的前方側端部210b(圖案面M的前方側端部e2)沿著x軸向前方側離開規定間隔的位置x4(第二位置x4)，因此罩幕除塵輥230不會抵接罩幕板210及罩幕板保持部220。而且，罩幕除塵輥230也不抵接未圖示的其他構成元件而構成。據此，曝光平台240可如圖5(c)所示般上升。

曝光平台240的上升量是基板的感光面A(在該時間點為感光區域A1)接近或接觸罩幕板210的圖案面M的程度的上升量。如圖5(c)所示，一成為基板W的感光區域A1接近或接觸罩幕板210的圖案面M的狀態，就在該狀態下進行曝光。據此，圖案被轉印至基板W的感光區域A1。

此外，雖然使進行曝光時的基板W的感光面與罩幕板210的圖案面M之間密著，但是設置存在些微的空隙(例如1/100mm~4/100mm左右)程度的間隔也可以。

如此，藉由在基板W的感光面與罩幕板210的圖案面M之間設置些微的空隙(例如1/100mm~4/100mm左右)，即使在基板W側殘留些微的塵埃，也可防止殘留的塵埃附著於罩幕板210的圖案面M。

而且，曝光結束後，再開始基板W的間歇的運送動作，基板W僅被運送規定量。如此，若再開始基板W的間歇的運送動作，則曝光平台240由圖5(c)的狀態如圖6(a)所示沿著z軸下降。此外，若曝光平台240僅下降規定量，則與該曝光平台240的下降一起，運送機構部100全體也僅下降規定量。此外，此時的罩幕除塵輥230之沿著x軸的位置是與圖5(b)相同的位置(第二位置x2)。

然後，若罩幕除塵輥230由圖6(a)所示的位置沿著x軸往後方側僅行進規定量，到達與罩幕板210的前方側端部210b附近的平面部，亦即罩幕板210的圖案面M中的前方側端部e2附近對向的位置x2(參照圖6(b))，則曝光平台240沿著z軸上升規定量，罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M中的前方側端部e2附近(參照圖6(c))。然後，罩幕除塵輥230在接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下沿著x軸往後方側(箭頭x’方向)行進而去。

此時，罩幕除塵輥230在彈簧257的伸張力發生作用的狀態下，在接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下一邊旋轉一邊行進而去。據此，可使存在於罩幕板210的圖案面M的塵埃附著在罩幕除塵輥230的側，據此，可對罩幕板210的圖案面M進行除塵。

如此，罩幕除塵輥230在接觸罩幕板210的圖案面M的狀態下一邊旋轉一邊往後方側行進，不久到達罩幕板210中的圖案面M中的後方側端部e1附近(參照圖6(d))。於是，曝光平台240由圖6(d)的狀態下降(參照圖7(a))。此時的罩幕除塵輥230之沿著z軸的位置(圓周上的上方側頂點P1之沿著z軸的位置)是與圖4(a)相同的位置z2。此外，若曝光平台240僅下降規定量，則與該曝光平台240的下降一起，運送機構部100全體也僅下降規定量。

而且，罩幕除塵輥230進一步往後方側前進，到達由罩幕板210中的後方側端部210a(圖案面M的後方側端部e1)沿著x軸向後方側離開規定間隔的位置x1(第一位置x1)(參照圖7(b))。

罩幕除塵輥230由圖5(b)所示的第二位置x4行進至圖7(b)所示的第一位置x1的動作在基板W被運送的時候進行。因此，不會給予間歇地運送每一規定量的長條片狀的基板W而進行曝光此一曝光裝置10所進行的本來的曝光動作影響，可對罩幕板210的圖案面M進行除塵。

如此，罩幕除塵輥230如圖7(b)所示一到達位置x1(第一位置x1)，曝光平台240就僅上升規定量(參照圖7(c))。這是與圖5(c)一樣的動作。此時，伴隨曝光平台240的上升，運送機構部100全體也僅上升規定量。如圖7(c)所示，若成為基板W的感光面(以感光區域A2)接近或接觸罩幕板210的圖案面M的狀態，則在該狀態下進行曝光。據此，圖案被轉印至基板W的感光區域A2。

此情形也由於在曝光平台240僅上升規定量時，罩幕除塵輥230到達由罩幕板210的後方側端部210a(圖案面M的後方側端部e1)沿著x軸向後方側離開規定間隔的位置x1(第一位置x1)，因此罩幕除塵輥230不會抵接罩幕板210及罩幕板保持部220。而且，罩幕除塵輥230也不抵接未圖示的其他構成元件而構成。據此，曝光平台240可如圖7(c)所示般上升。

而且，曝光結束後，曝光平台240由圖7(c)的狀態下降。此時，也再開始基板W的間歇的運送動作，基板W僅被運送規定量。此外，曝光結束後，曝光平台240由圖7(c)的狀態下降時的狀態成為與圖4(a)相同的狀態。由該狀態再度反復進行如下動作：依次進行圖4(b)~圖4(d)、圖5(a)~圖5(c)、圖6(a)~圖6(d)及圖7(a)~圖7(c)而返回到圖4(a)。

如此，在與實施形態有關的曝光裝置10中，罩幕除塵輥230以第一位置x1與第二位置x4之間當作往復運動時的可動範圍，一邊行進於該可動範圍內一邊進行對罩幕板210的圖案面M除塵的動作。而且，以罩幕除塵輥230往前方側行進於可動範圍內的動作當作前方行進動作，以罩幕除塵輥230往後方側行進於可動範圍內的動作當作後方行進動作時，罩幕除塵輥230在前方行進動作及後方行進動作的各個中進行對罩幕板210的圖案面M除塵的動作。而且，在前方行進動作及後方行進動作的各個中對罩幕板210的圖案面M進行除塵的動作在間歇地運送每一規定量的基板W而去的動作之間交互進行。因此，可有效地進行罩幕除塵動作。

可是，由罩幕除塵輥230成為對罩幕板210沿著x軸及z軸分別離開的位置的狀態(參照圖4(a))變成罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的圖案面M的狀態(參照圖4(c))時，如圖4(a)至圖4(c)所示，罩幕除塵輥230直接接觸罩幕板210的圖案面M。

因此，罩幕除塵輥230不會將罩幕板210的後方側端部210a推向前方側，可防止罩幕板210的位置偏移，並且可防止罩幕板210的後方側端部210a中的角部等的破損。

此外，在圖4(c)中雖然罩幕除塵輥230接觸圖案面M時之沿著x軸的位置x2成為與罩幕板210的後方側端部210a(圖案面M的後方側端部e1)一致的位置，但未必需以與罩幕板210的後方側端部210a(圖案面M的後方側端部e1)一致的位置，也可以是以罩幕板210的後方側端部210a附近的平面部，亦即圖案面M的後方側端部e1附近(例如在圖案面M中實際形成有圖案的圖案形成區域的後方側端部)。總之，只要是不將罩幕板210的後方側端部210a推向前方側，或者不會使罩幕板210的後方側端部210a中的角部等破損的位置，且是可對罩幕板210的圖案面M中的圖案形成區域確實地進行除塵的位置的話即可。

而且，在罩幕除塵輥230由第二位置x4往後方側行進的情形下，也由罩幕除塵輥230成為對罩幕板210沿著x軸及z軸分別離開的位置的狀態(參照圖6(a))變成罩幕除塵輥230接觸罩幕板210的狀態(參照圖6(c))時，如圖6(a)至圖6(c)所示，罩幕除塵輥230直接接觸罩幕板210的圖案面M。

因此，罩幕除塵輥230不會將罩幕板210的前方側端部210b推向後方側，可防止罩幕板210的位置偏移，並且可防止罩幕板210的前方側端部210b中的角部等的破損。

此外，在圖6(c)中，雖然罩幕除塵輥230接觸圖案面M時之沿著x軸的位置x3成為與罩幕板210的前方側端部210b(圖案面M的前方側端部e2)一致的位置，但此情形也無需以與罩幕板210的前方側端部210b(圖案面M的前方側端部e2)一致的位置，也可以是以罩幕板210的前方側端部210b附近的平面部，亦即圖案面M的前方側端部e2附近(例如在圖案面M中實際形成有圖案的圖案形成區域的前方側端部)。總之，只要是不將罩幕板210的前方側端部210b推向後方側，或者不會使罩幕板210的前方側端部210b中的角部等破損的位置，且是可對罩幕板210的圖案面M中的圖案形成區域確實地進行除塵的位置的話即可。

如以上說明的，依照與實施形態有關的曝光裝置10，藉由罩幕除塵輥230對罩幕板210的圖案面M進行除塵的動作在基板W被運送的時候自動地進行。而且，不只是由罩幕除塵輥230進行的罩幕板210的圖案面M的除塵，也能藉由基板除塵輥140進行基板W的除塵。此外，基板除塵輥140對基板W進行除塵的動作也在基板W被運送的時候自動地進行。因此，不會給予在捲對捲方式的曝光裝置中本來進行的曝光動作影響，可進行罩幕板210的圖案面M及基板W的除塵。據此，可維持本來的曝光動作速度。

而且，在與實施形態有關的曝光裝置10中成為如下的結構：罩幕除塵輥230在藉由彈簧257的伸張力給予罩幕板210的圖案面M規定的緊壓力的狀態下接觸罩幕板210的圖案面M。因此，可使罩幕除塵輥230以適當的緊壓力接觸圖案面M，無須高精度地進行接觸時的緊壓力的控制等。而且，罩幕除塵輥230與圖案面M的間隔(沿著z軸的間隔)也無須高精度地進行調整，可減輕罩幕除塵輥230與圖案面M的間隔(沿著z軸的間隔)的調整作業。據此，依照與實施形態有關的曝光裝置10，可簡化用以對罩幕板210的圖案面M進行除塵的機構全體。

此外，本發明不限於上述的實施形態，可在不脫離本發明的要旨的範圍內實施各種變形。例如，也可以實施如下所示的變形。

(1)、在上述實施形態中，雖然將滾珠螺桿253L、253R配設於左右兩側的滑件252L、252R，藉由在使兩者同步的狀態下進行旋轉而使罩幕除塵輥230沿著x軸往復運動，但是滾珠螺桿也可以僅為左右的任一個。例如，在僅在圖2(a)中的右側的滑件252R配設滾珠螺桿253R的情形下，左側的滑件252L就會與右側的滑件252R的行進連動而行進於導軌251L上。即使以這種結構，也能使罩幕除塵輥230沿著x軸往復運動。

而且，當藉由一個滾珠螺桿驅動左右兩側的滑件252L、252R時，一個滾珠螺桿沿著x軸配置於左側的滑件252L與右側的滑件252R的中間位置也可以。據此，可藉由一個滾珠螺桿平衡性良好地驅動左右兩側的滑件252L、252R。

(2)、在上述實施形態中，雖然罩幕除塵部驅動機構部250是以使用滾珠螺桿而使罩幕除塵輥230沿著x軸往復運動的機構，但是使罩幕除塵輥沿著x軸往復運動的機構可採用各式各樣的機構。而且，雖然曝光平台驅動機構部260也同樣是以使用滾珠螺桿而使曝光平台240升降的機構，但是使曝光平台240沿著z軸升降移動的機構可採用各式各樣的機構。

(3)、在上述實施形態中，雖然罩幕除塵輥230是以由罩幕除塵輥230全體具有黏著力的構件構成的構件而進行了說明，但是不限定於此，僅罩幕除塵輥230的表面具有黏著力的構件也可以。例如，既可以是在由合成樹脂等構成的圓筒體的表面捲繞具有黏著力的構件者，且也可以是在圓筒體的表面形成有黏著層者。基板除塵輥140也一樣。

(4)、在上述實施形態中，雖然舉例說明了基板W的感光面A朝上配置，罩幕板210的圖案面M朝下配置的曝光裝置，但是不限定於此，相反的配置也可以。也就是說，基板W的感光面A朝下配置，罩幕板210的圖案面M朝上配置的曝光裝置也可以。

(5)、上述實施形態中，雖然舉例說明了在曝光部200中使基板W的感光面A曝光時，於在基板W的感光面A與罩幕板210的圖案面M之間設置些微的空隙的狀態下進行曝光的情形，但未必需在基板W的感光面A與罩幕板210的圖案面M之間設置些微的空隙，也可以在使基板W的感光面A與罩幕板210的圖案面M密著的狀態下進行曝光。

(6)、在上述實施形態中，雖然罩幕除塵部在前方行進動作及後方行進動作的各個中進行對罩幕板210的圖案面M除塵的動作，但是也可以僅在前方行進動作及後方行進動作的任一個中進行除塵。

(7)、在上述實施形態中，雖然舉例說明了使用由具有黏著力的構件構成的輥(罩幕除塵輥230)當作罩幕除塵部，藉由罩幕除塵輥230的黏著力對存在於罩幕板210的圖案面M的塵埃進行除塵的情形，但是不限定於此。例如，罩幕除塵部為透過真空吸引而進行除塵也可以。如此，以罩幕除塵部透過真空吸引進行除塵的情形的曝光裝置當作本發明的曝光裝置的變形例而進行說明。

本發明的曝光裝置的變形例如下：罩幕除塵部230具有沿著罩幕板210的圖案面M中的y軸方向的吸引口，是透過吸引對罩幕板210的圖案面M進行除塵的吸引式的罩幕除塵部，吸引式的罩幕除塵部對罩幕板210的圖案面M進行除塵的動作是在與罩幕板210的圖案面M之間具有規定的空隙的狀態下一邊發揮吸引力，一邊進行沿著罩幕板210的圖案面M且沿著x軸方向行進而去的動作。

此外，即使是罩幕除塵部透過真空吸引進行除塵，曝光裝置的全體的構成也能以與在上述的實施形態中說明的曝光裝置一樣的構成。此外，在下述的說明中是以透過真空吸引進行除塵的罩幕除塵部當作吸引式罩幕除塵部。

在將這種吸引式罩幕除塵部例如適用於圖1所示的曝光裝置的情形下簡單地進行說明。吸引式罩幕除塵部在罩幕板210的寬度方向(在圖1中沿著y軸的方向)具有細長的吸引口。這種吸引式罩幕除塵部與罩幕除塵輥230一樣，可安裝在罩幕除塵輥支撐部254L、254R。此時，吸引式罩幕除塵部的吸引孔朝上，以便能與罩幕板210的圖案面M對向。

而且，在進行除塵時只要進行與圖4~圖7大致同樣的動作即可。但是，由於吸引式罩幕除塵部及吸引式基板除塵部對罩幕板210的圖案面M分別在非接觸的狀態下進行除塵，因此無須使吸引式罩幕除塵部接觸罩幕板210的圖案面M。因此，若在圖4(a)所示的初始位置中適當地設定吸引式罩幕除塵部的吸引口與罩幕板210的圖案面M之沿著z軸的間隔，則只要沿著z軸的位置在維持不變的狀態下使吸引式罩幕除塵輥沿著x軸往復運動即可。

而且，由於吸引式罩幕除塵部對罩幕板210的圖案面M在非接觸的狀態下進行除塵，因此無須像罩幕除塵輥230那樣藉由由彈簧257產生的伸張力而接觸罩幕板210的圖案面M的結構。

藉由使用這種吸引式罩幕除塵部，也與上述實施形態一樣，可在間歇地運送每一規定量的基板W的時候，對罩幕板210的圖案面M進行除塵。此外，在基板除塵部140中也同樣地可使用吸引式的基板除塵部。

(8)、上述實施形態中如圖1所示，雖然顯示了罩幕除塵部控制裝置400及曝光平台控制裝置500被收納於曝光裝置框體300的內部的例子，但是也可以配設於曝光裝置框體300的外部。

(9)、在上述實施形態中如圖1所示，雖然罩幕板210之沿著x軸的長度與罩幕板保持部220之沿著x軸的長度是以相同的長度L1，但是未必需要相同的長度，伴隨曝光平台240的上升罩幕除塵輥230上升時，只要不妨礙罩幕除塵輥230的上升，則罩幕板保持部220之沿著x軸的長度比罩幕板210長也可以。

10‧‧‧曝光裝置
100‧‧‧運送機構
110‧‧‧輸送輥
120‧‧‧捲繞部
130‧‧‧間歇進給機構部
131‧‧‧鬆開固定夾持器
132‧‧‧進給夾持器
140‧‧‧基板除塵輥(基板除塵部)
141、142‧‧‧輥
151、152‧‧‧進給輥
200‧‧‧曝光部
210‧‧‧罩幕板
210b‧‧‧罩幕板的前方側端部
220‧‧‧罩幕板保持部
230‧‧‧罩幕除塵輥(罩幕除塵部)
231‧‧‧旋轉軸
240‧‧‧曝光平台
240a、240b‧‧‧端部
241‧‧‧曝光台
250‧‧‧罩幕除塵部驅動機構部
251L、251R‧‧‧導軌
252L、252R‧‧‧滑件
253L、253R‧‧‧罩幕除塵部用滾珠螺桿
254L、254R‧‧‧罩幕除塵輥支撐部
255‧‧‧軸承槽
256‧‧‧導銷
257‧‧‧彈簧
260‧‧‧曝光平台驅動機構部
261‧‧‧升降台
263‧‧‧曝光平台用滾珠螺桿
300‧‧‧曝光裝置框體
400‧‧‧罩幕除塵部控制裝置
500‧‧‧曝光平台控制裝置
900‧‧‧曝光裝置
910‧‧‧基板
920‧‧‧輸送部
930‧‧‧捲繞部
940‧‧‧曝光部
950‧‧‧罩幕板
951‧‧‧上側罩幕板
952‧‧‧下側罩幕板
960‧‧‧高度調節輥
A‧‧‧感光面
A1、A2‧‧‧感光區域
e1‧‧‧圖案面中的後方側端部
e2‧‧‧圖案面中的前方側端部
L1‧‧‧長度
M‧‧‧圖案面
W‧‧‧基板
x1‧‧‧第一位置
x2、x4‧‧‧第二位置
x3‧‧‧罩幕除塵輥接觸圖案面時之沿著x軸的位置

圖1是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10而顯示之整體構成圖。 圖2是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10中的曝光部200的構成而顯示之圖。 圖3是顯示與實施形態有關的曝光裝置10中的罩幕除塵部控制裝置400及曝光平台控制裝置500的構成之圖。 圖4是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10的動作而顯示之圖。 圖5是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10的動作而顯示之圖。 圖6是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10的動作而顯示之圖。 圖7是為了說明與實施形態有關的曝光裝置10的動作而顯示之圖。 圖8是為了說明專利文獻1所記載的曝光裝置900而顯示之圖。

10‧‧‧曝光裝置

100‧‧‧運送機構

110‧‧‧輸送輥

120‧‧‧捲繞部

130‧‧‧間歇進給機構部

131‧‧‧鬆開固定夾持器

132‧‧‧進給夾持器

140‧‧‧基板除塵輥(基板除塵部)

141、142‧‧‧輥

151、152‧‧‧進給輥

200‧‧‧曝光部

210‧‧‧罩幕板

220‧‧‧罩幕板保持部

230‧‧‧罩幕除塵輥(罩幕除塵部)

231‧‧‧旋轉軸

240‧‧‧曝光平台

240a、240b‧‧‧端部

241‧‧‧曝光台

250‧‧‧罩幕除塵部驅動機構部

251R‧‧‧導軌

252R‧‧‧滑件

253R‧‧‧罩幕除塵部用滾珠螺桿

254R‧‧‧罩幕除塵輥支撐部

255‧‧‧軸承槽

256‧‧‧導銷

257‧‧‧彈簧

260‧‧‧曝光平台驅動機構部

261‧‧‧升降台

263‧‧‧曝光平台用滾珠螺桿

300‧‧‧曝光裝置框體

400‧‧‧罩幕除塵部控制裝置

500‧‧‧曝光平台控制裝置

A‧‧‧感光面

L1‧‧‧長度

M‧‧‧圖案面

W‧‧‧基板

Claims (7)

1. 一種曝光裝置，是在間歇地運送每一規定量之架設在輸送部與捲繞部之間的長條片狀的基板而去的過程中，使該基板的感光面與罩幕板的圖案面面對面，使該基板的感光面曝光，其特徵在於： 以該基板沿著由x軸及y軸形成的xy平面中的x軸朝向該捲繞部的側為前方側，以與該前方側相反側為後方側時，包含： 曝光平台，配置於夾著該基板而與該罩幕板對向的位置，可沿著正交於xy平面的z軸與該基板一起升降； 罩幕除塵部，沿著x軸的往復運動為可能且可與該曝光平台一起沿著z軸升降，且配設於該曝光平台，以在由該基板的感光面沿著z軸離開的狀態下位於該罩幕板的側，至少以由該罩幕板的該後方側的端部沿著x軸進一步向後方側離開規定間隔的第一位置與由該罩幕板的該前方側的端部沿著x軸進一步向前方側離開規定間隔的第二位置之間的範圍當作該往復運動時的可動範圍，一邊行進於該可動範圍內一邊進行對該罩幕板的圖案面除塵的動作； 罩幕除塵部驅動機構部，用以使該罩幕除塵部進行該往復運動； 罩幕除塵部控制裝置，藉由控制該罩幕除塵部驅動機構部而控制該罩幕除塵部的該往復運動； 曝光平台驅動機構部，用以可使該曝光平台沿著z軸升降；以及 曝光平台控制裝置，藉由控制該曝光平台驅動機構部而控制該曝光平台的升降， 該罩幕除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀， 該罩幕除塵部對該罩幕板的圖案面進行除塵的動作是在接觸該罩幕板的圖案面的狀態下旋轉而去的動作， 在由該罩幕除塵部對該罩幕板沿著x軸及z軸分別離開的位置使該罩幕除塵部接觸該罩幕板的圖案面時， 該罩幕除塵部控制裝置 控制該罩幕除塵部驅動機構部，使該罩幕除塵部到達與該罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近對向的位置， 該曝光平台控制裝置 控制該曝光平台驅動機構部，以便該罩幕除塵部一到達與該罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近對向的位置，就使該罩幕除塵部接觸該罩幕板的圖案面中的沿著x軸的端部附近， 在使該基板的感光面曝光時， 該罩幕除塵部控制裝置控制該罩幕除塵部驅動機構部，以使該罩幕除塵部成為到達該第一位置或該第二位置的狀態， 該曝光平台控制裝置控制該曝光平台驅動機構部，以在該罩幕除塵部到達該第一位置或該第二位置的狀態下，使該曝光平台沿著z軸移動而成為該基板的感光面與該罩幕板的圖案面接觸或接近的狀態。
2. 如申請專利範圍第1項之曝光裝置，其中該罩幕除塵部在間歇地運送每一規定量的該基板的時候進行對該罩幕板的圖案面除塵的動作。
3. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中以該罩幕除塵部在該前方側行進於該可動範圍內的動作當作前方行進動作，以該罩幕除塵部在該後方側行進於該可動範圍內的動作當作後方行進動作時， 該罩幕除塵部在該前方行進動作及該後方行進動作的各個中進行對該罩幕板的圖案面除塵的動作， 在該前方行進動作及該後方行進動作的各個中對該罩幕板的圖案面進行除塵的動作在間歇地運送每一規定量的該基板而去的時候交互進行。
4. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該罩幕除塵部配設於該曝光平台，以便一成為接觸該罩幕板的圖案面的狀態，藉由彈簧的伸張力緊壓該圖案面的力就發生作用。
5. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中該罩幕除塵部具有沿著該罩幕板的圖案面中的y軸方向的吸引口，是藉由吸引而對該罩幕板的圖案面進行除塵的吸引式的罩幕除塵部， 該吸引式的罩幕除塵部對該罩幕板的圖案面進行除塵的動作是在與該罩幕板的圖案面之間具有規定的空隙的狀態下一邊發揮吸引力，一邊沿著該罩幕板的圖案面且沿著x軸方向行進而去的動作。
6. 如申請專利範圍第1項或第2項之曝光裝置，其中具有對該基板的至少該感光面進行除塵的基板除塵部。
7. 如申請專利範圍第6項之曝光裝置，其中該基板除塵部成至少在表面具有黏著力的輥狀，在接觸該基板的至少感光面的狀態下被配設，伴隨間歇地運送每一規定量的該基板時的該基板的運送而旋轉。