JP2007112626A - 基板搬送装置及び基板検査装置並びに基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

【課題】基板搬送時に基板の吸着が解除されたときの復帰処理を自動で行えるようにする。
【解決手段】基板搬送装置１は、浮上ステージ３で浮上させた基板Ｗを吸着保持する吸着部１０を有し、吸着部１０は基板搬送部８によって搬送方向Ｃに往復移動可能に構成されている。吸着部１０には、基板Ｗを吸着する吸着パッド１１と、基板Ｗを整列させる基準ピン１３及び押し付けピン１２ａ，１２ｂ，１２ｃと、基板Ｗの有無を検出する基板検出部１５とが設けられている。基板Ｗの搬送途中に吸着が外れたら、基板検出部１５で基板Ｗが検出される位置まで基板搬送部８を引き戻し、押し付けピン１２ｂ，１２ｃで基板Ｗを基板脱落防止壁５に押し当てながら整列させ、再度吸着保持を行う。
【選択図】図１

Description

本発明は、基板を搬送する基板搬送装置、基板を搬送する基板搬送方法、基板搬送装置を含む基板検査装置に関する。

液晶ディスプレイなどのフラットパネルディスプレイを製造する際には、大型のガラス基板上に多数の画素や駆動回路などのパターンが形成される。ここで、フラットパネルディスプレイの製造工程において、ガラス基板を搬送する際には、ガラス基板の下方からエアーを噴き付けて浮上させた非接触状態で、この浮上したガラス基板に対して傾斜ノズルにより圧縮空気を吹き付けて推進力を与えることにより搬送する基板搬送装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１のように圧縮空気をガラス基板に吹き付けて推進力を与える方法では、ガラス基板を高速に搬送することができなくなる。
フラットパネルディスプレイの製造工程では、製品の品質向上及び製品の生産性向上のためにガラス基板を非接触で高速搬送することが要求されている。この高速搬送の要求を満たす基板搬送装置として、搬送路上に浮上したガラス基板の裏面の周縁部の一部を基板移送部で保持して搬送路に沿って強制的に移動させることが行なわれている（例えば、特許文献２）。特許文献２に示された基板搬送装置は、ガラス基板を浮上させる浮上搬送路の両側に沿って一対の基板移送部が設けられ、この基板移送部によりガラス基板の先端両端部を吸着して浮上したガラス基板を搬送方向に向けて強制的に搬送している。
特開２０００−２１９４９号公報 国際公開第０３／０８６９１７号パンフレット

しかしながら、ガラス基板を吸着保持して搬送する際には、ガラス基板の搬送中に何らかの原因によりガラス基板に対する吸着エラーが発生すると、ガラス基板が基板移送部から外れて搬送できないことがある。ガラス基板が基板移送部から外れた場合には、このガラス基板をオペレータが手で位置決めセンサが配置されたアライメント部まで移動させ、復旧処理を行ってから再スタートさせなければならなかった。ここで、復旧処理とは、例えば、一対の基板移送部をアライメント部の待機位置まで戻し、ガラス基板の先端両端を一対の基板搬送部で吸着保持させた後、各基板搬送部によりガラス基板の姿勢を制御して基準位置に位置決めする処理があげられる。このような復旧処理を手動で行うためにはオペレータを２４時間待機させておく必要があると共に、吸着エラーが発生してからオペレータが現場に行くまでに時間を要するために、ガラス基板が外れてから復旧までの時間が長くなり効率が悪かった。
特に、フラットパネルディスプレイの製造は、１ラインで複数の作業を行なうＦＩＦＯ（Ｆｉｒｓｔ Ｉｎ Ｆｉｒｓｔ Ｏｕｔ）方式が採用されており、製造装置での作業が終了すると次の製造装置に搬送され、次々とガラス基板が搬送される。このＦＩＦＯ方式では、搬送中にガラス基板が基板搬送部から外れてしまうと、次のガラス基板がアライメント部に搬入されているため、外れた前のガラス基板をアライメト部に戻すことができなくなる。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その主な目的とするところは、基板搬送時に基板移送部からガラス基板が外れたときの復帰処理を自動で行えるようにすることである。

上記の課題を解決する本発明は、基板を浮上させるステージと、前記ステージで浮上させた前記基板の一部を保持する吸着部と、前記吸着部を前記ステージに沿って移動させる搬送機構と、前記吸着部と共に移動し、前記基板の位置を検出する基板検出部と、前記基板を整列させる基板整列機構と、前記ステージに沿って設けられて前記ステージからの前記基板の脱落を防止する基板脱落防止部とを有し、基板搬送時に前記基板の保持が外れたときに、前記基板検出部で前記基板の有無を検出した後に前記基板を前記吸着部で保持するように構成したことを特徴とする基板搬送装置とした。

また、本発明は、基板を浮上させた状態でその一部を吸着部で保持し、前記吸着部を搬送機構によって移動させることで基板を浮上させながら搬送するにあたり、前記吸着部による基板の吸着が外れたときには、前記搬送機構で前記吸着部を移動させ、前記吸着部に設けられた基板検出部で前記基板の存在を検出した後に前記吸着部で前記基板を再度吸着保持することを特徴とする基板搬送方法とした。

本発明では、基板を吸着部に吸着保持させて搬送する途中で吸着が外れたときに、吸着部に設けられた基板検出部が基板を検出する位置まで吸着部を移動させた後に、基板を吸着して搬送可能な状態に復旧させる。

本発明によれば、基板を吸着保持する吸着部と共に移動し、基板の有無を検出する基板検出部を設けたので、基板の搬送中に吸着が外れて基板を保持できなくなったときに、自動で復旧処理が行えるようになるので、復旧処理を無人化でき、かつ迅速に行えるようになり、生産効率が向上する。

本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
（第１の実施の形態）
図１及び図２に示すように、基板搬送装置１は、ベース部２を有し、ベース部２の上部には矩形状のガラス基板Ｗを浮上させる細長の浮上ステージ３が設けられている。浮上ステージ３は、箱状の部材の組み合わせで構成され、その上面に複数の孔４が規則的には配設されており、これら箱状部材の空洞部にエアーコンプレッサなどを接続することで、複数の孔４からエアーを噴き出すように構成されている。浮上ステージ３の一方の側部には、ガラス基板Ｗの脱落を防止する基板脱落防止部である基板脱落防止壁５が浮上ステージ３の上面よりも上方に延びるように、かつ浮上ステージ３の長手方向（搬送方向Ｃ）に沿って設けられている。また、浮上ステージ３の他方の側部には、搬送機構を構成するリニアモータ６と、リニアガイド７とが並列にベース部２上に敷設されている。リニアガイド７には、浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｗを搬送方向Ｃに強制的に搬送する基板搬送部８が支持されている。この基板搬送部（基板搬送ユニット）８は、リニアモータ６の駆動によって搬送方向Ｃに往復移動が可能である。なお、リニアモータ６は、基板搬送装置１を制御する制御ユニット９に接続されており、制御ユニット９によって制御がされる。なお、搬送機構の駆動部は、リニアモータ６に限定されない。例えば、モータを連結したボールネジ機構であっても良い。

基板搬送部８上には、吸着部（吸着ユニット）１０が上下移動自在に設けられている。この吸着部１０上には、ガラス基板Ｗの一辺の縁部を保持する基板保持部としてガラス基板Ｗの裏面を吸着保持する吸着パッド１１が搬送方向Ｃに沿って複数配設されている。吸着部１０及び吸着パッド１１は、ガラス基板Ｗが吸着パッド１１から外れて基板脱落防止壁５に押し付けられた状態において、ガラス基板Ｗの縁部を吸着できるような位置に配設されている。なお、吸着部１０は、浮上ステージ３上の基板受け渡し位置にガラス基板Ｗが搬入されるまで、吸着パッド１１がガラス基板Ｗの裏面に接触しない位置まで下降して停止する。また、この吸着部１０は、ガラス基板Ｗが基板受け渡し位置に搬入されると、吸着パッド１１の吸着面がガラス基板Ｗの浮上基準高さより若干高い位置まで上昇して停止する。この上昇により吸着パッド１１の吸着面は、ガラス基板Ｗの裏面に軽く接触する。この状態で吸着パッド１１に対する吸引を開始すると、吸着パッド１１はガラス基板Ｗの裏面に吸着し、吸着による負圧で吸着パッド１１の吸着面が基準高さまで没してガラス基板Ｗが浮上基準高さに維持される。
また、吸着部１０には、押し付けピン１２ａ〜１２ｃと基準ピン１３が配設されている。押し付けピン１２ａと基準ピン１３は、ガラス基板Ｗを搬送方向Ｃから挟み込むように対峙して設けられている。押付けピン１２ａは、対峙する基準ピン１３に向けて移動自在に吸着部１０に支持されている。さらに、基準ピン１３又は押付けピン１２ａは、ガラス基板Ｗの搬入時又は受け渡し時に干渉する場合には吸着部１０に対して出没自在に設け、ガラス基板Ｗを整列させるときのみに吸着部１０の上方に突出させることができる。なお、吸着部１０を押付けピン１２ａ〜１２ｃと基準ピン１３の先端が浮上ステージ３の上面よりも下まで下降することができれば、基準ピン１３（押付けピン１２ａ）の出没機構を省略することができる。また、押し付けピン１２ｂ，１２ｃは、ガラス基板Ｗを基板脱落防止壁５側に押し付けるように移動自在に吸着部１０に支持されている。そして、これら押し付けピン１２ａ〜１２ｃと、吸着部１０に設けられた基準ピン１３と、基板脱落防止壁５の一端部側に所定の間隔で複数設けられた基準ピン１４とで、基板整列機構（位置決め機構）が構成される。基準ピン１４は、基板脱落防止壁５よりもリニアモータ６側に突出するように基板脱落防止壁５に移動可能に設けられ、ガラス基板Ｗの搬送時には基板脱落防止壁５内に待避する。これら基準ピン１４の配設されている箇所がガラス基板Ｗを基準位置に位置決めする整列位置となる。

さらに、吸着部１０において、浮上ステージ３側には、ガラス基板Ｗの縁を検出する基板検出部１５、１５が設けられている。これら基板検出部１５としては、ガラス基板Ｗの縁を検出できるラインセンサや、発光部と受光部を備えたものが知られている。基板検出部１５は、ガラス基板の縁を検出できればよく、本実施の形態では基板検出部１５としてラインセンサを用いる。基板検出部１５、１５は、押し付けピン１２ａと基準ピン１３の近傍で、かつガラス基板Ｗが基準ピン１３に押付けられた基準位置において、搬送方向Ｃと直交するガラス基板Ｗの前後の各辺を検出できる位置にそれぞれ設けられている。さらに、２つの基板検出部１５，１５は、ガラス基板Ｗの向きが搬送方向Ｃに対して最も斜めになったときでも、同時にガラス基板Ｗの前後の縁を検出できるように押付けピン１２ｂ，１２ｃの基準ラインから所定の距離離して設けられ、かつガラス基板Ｗの前後の縁から外れない長さに形成することが望ましい。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、この基板搬送装置１は、基準ピン１４，１４が配設されている浮上ステージ３の一方端部側（上流側）に設けられた整列位置にガラス基板Ｗが搬入され、ここから浮上ステージ３の他端部側（下流側）に向かってガラス基板Ｗを搬送するものである。したがって、初期状態では、制御ユニット９が基板搬送部８を図１に示すように上流側で待機させると共に、浮上ステージ３の孔４からエアーを噴き出させた状態で待機している。不図示の多関節ロボットにより搬入されたガラス基板Ｗは、浮上ステージ３の孔４から噴き出されるエアーによって浮上させられるので、制御ユニット９は吸着部１０の基準ピン１３を突出させてから、各押し付けピン１２ａ〜１２ｃをガラス基板Ｗの各縁に向けて移動させて、基準ピン１４，１４，１３と共にガラス基板Ｗを基準位置に整列させる。１つの押し付けピン１２ａと１つの基準ピン１３によって搬送方向Ｃの整列がなされ、２つの押し付けピン１２ｂ，１２ｃと２つの基準ピン１４，１４によって搬送方向Ｃに直交する方向の整列がなされる。

ガラス基板Ｗの整列が終了したら、制御ユニット９は吸着パッド１１を吸着部１０ごと上昇させてガラス基板Ｗの裏面に吸着パッド１１を当接させてから真空吸着を開始させる。これによって、ガラス基板Ｗの一辺が吸着部１０上に保持される。制御ユニット９からの指示でリニアモータ６を駆動させると、基板搬送部８がリニアガイド７に沿って移動し、基板搬送部８上の吸着部１０に保持されているガラス基板Ｗが、浮上ステージ３によって浮上させられた状態で搬送される。そして、ガラス基板Ｗが浮上ステージ３の下流側まで搬送されたら、真空吸着を解除し、不図示の多関節ロボットでガラス基板Ｗを装置外に搬出する。

ここで、搬送途中で、ガラス基板Ｗが吸着部１０から外れた場合、例えば図３に示すように、ガラス基板Ｗを残した状態で基板移送部８が先行した場合の復帰処理について、図４のフローチャートに従って説明する。なお、ガラス基板Ｗが吸着部１０から外れたことは、基板検出部１５，１５の出力、又は吸着パッド１１内の圧力の変化などから検出される。また、ガラス基板Ｗが吸着部１０から外れた場合には、基板脱落防止壁５によってガラス基板Ｗが浮上ステージ３の一方の側部側から脱落することが防止される。

基板搬送時にガラス基板Ｗの吸着が外れた場合には、制御ユニット９が浮上ステージ３からエアーの噴き出しを停止する（ステップＳ１０１）。このエアーの吹出しを停止することによって、ガラス基板Ｗの浮上力が無くなり、ガラス基板Ｗと浮上ステージ３との間の摩擦力によりガラス基板Ｗの移動が制限される。さらに、制御ユニット９は、吸着パッド１１からの吸引を停止する（ステップＳ１０２）。その後、制御ユニット９は、吸着パッド１１及び押し付けピン押付けピン１２ａ〜１２ｃ，基準ピン１３がガラス基板Ｗの裏面に接触しないように吸着部１０を下降させる（ステップＳ１０３）。この状態で、リニアモータ６を逆転させて、基板搬送部８を上流側に移動させながら、図５に示すように２つの基板検出部１５によりガラス基板Ｗの前後の縁を検出する（ステップＳ１０４）。制御ユニット９は、基板検出部１５、１５がガラス基板Ｗを検出したなら、リニアモータ６を停止させ、この位置で吸着部１０を上昇させる（ステップＳ１０５）。これによって、吸着パッド１１による吸着や、押し付けピン１２ａ〜１２ｃと基準ピン１３によりガラス基板Ｗの姿勢制御が可能になるので、浮上ステージ３からエアーの噴き出しを再開する（ステップＳ１０６）。ガラス基板Ｗがエアー浮上させられることによって、ガラス基板Ｗの移動が可能になるので、押し付けピン１２ａと基準ピン１３とを突出させてから、押し付けピン１２ｂ，１２ｃによりガラス基板Ｗを基板脱落防止壁５に押付けて搬送方向Ｃと平行になるように整列させる（ステップＳ１０７）。そして、このように整列させた後、ガラス基板Ｗを吸着パッド１１で吸着する（ステップＳ１０８）。この際、ガラス基板Ｗが吸着パッド１１で吸着されない場合には、押し付けピン１２ａを基準ピン１３方向に移動させてガラス基板Ｗを把持しても良い。この際、ガラス基板Ｗが基板脱落防止壁５に接触しないように吸着部１０を基板脱落防止壁５から離れる方向に若干移動させ、ガラス基板Ｗを基板脱落防止壁５から離した状態で搬送することが好ましい。

ここまでの工程でガラス基板Ｗを搬送可能な程度に整列し、吸着部１０上にガラス基板Ｗを吸着保持又は把持したので、基板搬送部８を移動させてガラス基板Ｗを搬入部側の整列位置まで戻す（ステップＳ１０９）。制御ユニット９は、リニアモータ６を駆動させて基板搬送部８を整列位置に戻したら、再び吸着パッド１１による吸着を停止し（ステップＳ１１０）、ガラス基板Ｗを浮上ステージ３上に自由に移動可能に浮上させる。ガラス基板Ｗを移動可能にした後、基準ピン１４，１４を基板脱落防止壁５よりも内側の基準位置まで移動させてから、押し付けピン１２ａ〜１２ｃをガラス基板Ｗの各縁に向けて移動させて、ガラス基板Ｗを基準ピン１４，１４，１３に押付けて基準位置に整列させる（ステップＳ１１１）。ガラス基板Ｗを移動するために吸着部１０を基板脱落防止壁５より離れる方向に移動させた場合には、位置決めを行なう前に基準ピン１３が基準位置になるように吸着部１０を正規の位置まで戻す。このようにしてガラス基板Ｗを基準位置に合わせた後、ガラス基板Ｗを吸着パッド１１により再度吸着保持してから（ステップＳ１１２）、基板搬送部８を移動させてガラス基板Ｗを目的位置まで移動させる（ステップＳ１１３）。

なお、図６に示すように、この基板搬送装置１における搬送経路中に検査部２０を設けることで基板検査装置２１を構成することができる。検査部２０は、例えば、門型フレーム２２を搬送方向Ｃと直交する方向にガラス基板Ｗを跨ぐようにベース部２に側部に固定し、この門型フレーム２２の水平フレームに顕微鏡２３を搬送方向Ｃと直交する方向に移動自在に取り付けて構成される。この基板検査装置２１では、顕微鏡２３によるガラス基板Ｗの拡大画像を取得してガラス基板Ｗ上の欠陥を検査することが可能になる。なお、検査部２０の他の形態としては、ライン照明光源とライン撮像部とを有し、ライン照明光源から出射されるライン状の光をガラス基板Ｗで反射させ、この反射光をライン撮像部で撮像することでガラス基板Ｗの全面の画像を取得するマクロ検査装置のように、種々の検査に応じて検査部２０を構成することができる。

この実施の形態によれば、基板搬送部８上にガラス基板Ｗの縁を検出する基板検出部１５を設けることにより、ガラス基板Ｗの搬送途中で吸着部１０の吸着が外れた場合に、一旦吸着が外れたガラス基板Ｗを探し当て、整列位置まで自動的に搬送して位置決めして自動復帰させことができる。また、基板検出部１５を２つ設けることにより、ガラス基板Ｗが傾いている場合でもガラス基板Ｗの両端を確実に検出することができるため、ガラス基板Ｗの下に基板搬送部８を確実に導くことができる。したがって、オペレータが常に待機している必要がなくなると共に、復帰までの時間を短縮することができる。
さらに、基板脱落防止壁５を設けたので、ガラス基板Ｗの脱落が防止されると共に、この基板脱落防止壁５を利用してガラス基板Ｗの位置を仮調整することが可能になる。また、仮調整（仮位置決め）することにより、一旦吸着が外れたガラス基板を搬送方向に平行になるように姿勢を直すことが可能になり、吸着部１０による吸着を確実に行い安定して整列位置まで搬送することができる。
さらに、検査部２０を設けることで構成される基板検査装置２１では、ガラス基板Ｗの搬送中に吸着が外れても、速やかに、かつ自動で復帰処理が行われるので、検査時間の短縮化が図れる。

なお、基板検出部１５の構成、配置、数は、図１に示すものに限定されない。例えば、吸着部１０において搬送方向Ｃの一端部（整列位置）側又は他端部側の一方のみに基板検出部１５を設けて良い。吸着部１０の一端部側のみに基板検出部１５を設ける場合には、基板Ｗの大きさを予め制御ユニット９に登録しておき、基板検出部１５がガラス基板Ｗを検出してから、さらにガラス基板Ｗの大きさに略等しい距離だけ基板搬送部８を戻してからリニアモータ６を停止させれば良い。また、基板検出部１５は、ガラス基板Ｗの縁を検出可能であれば、ラインセンサに拘るものではなく、透過型や反射型の二次元センサやフォトマルなどのスポットセンサでも良い。ラインセンサを用いた場合は、搬送方向Ｃの基板Ｗの位置をさらに高精度に検出することが可能になるので好ましい。

さらに、基板脱落防止壁５は、ガラス基板Ｗを傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されることが好ましく、複数のピンに巻き回した樹脂製のベルトから構成しても良い。また、基板脱落防止壁５は、連続した１つの壁でなく、搬送方向Ｃに分割された複数の壁部から構成されても良い。さらに、複数のローラやピンを搬送方向Ｃに沿って設けることで基板脱落防止部を形成しても良い。
さらに、基準ピン１４，１４は、ガラス基板Ｗの搬入位置である整列位置に２個配置したが、この基準ピン１４をガラス基板Ｗの幅寸法（搬送方向の長さ）より短い間隔で等間隔に連続させて配置して、そのうちの一対の基準ピン１４，１４の中心を整列位置の中心と決めて、近い整列位置に基板搬送部８により一旦外れたガラス基板Ｗを搬送させて復帰処理させるようにしてもよい。また、一対の基準ピン１４，１４を１組とし、これら組を浮上ステージ３の任意の複数箇所に配置し、各組の基準ピン１４，１４の中心を整列位置とし、近い整列位置に基板搬送部８により一旦外れたガラス基板Ｗを搬送させて復帰処理させるようにしてもよい。

（第２の実施の形態）
この発明の第２の実施の形態を図７及び図８を参照して説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
図７に示すように、基板搬送装置３０は、基板搬送部８に基板押付機構３１が搬送方向Ｃに沿って２つ設けられている。基板押付機構３１は、エアー又は電気によって駆動するシリンダ３２と、シリンダ３２に対して進退するピストン３３とからなる。基板押付機構３１は、ピストン３３が最も突出させたときにガラス基板Ｗを基板脱落防止壁５に押し付ける位置まで延び、最も引き戻したときに基準位置決めされたガラス基板Ｗと干渉しない位置まで退避するようにストロークが調整されている。

この実施の形態における復帰処理について図８のフローチャートを参照して説明する。
図８に示すように、基板搬送部８を戻して基板検出部１５でガラス基板Ｗを検出し（ステップＳ１０４）、浮上ステージ３で基板Ｗを浮上させた後（ステップＳ１０５）、基板押付機構３１を駆動させ、ピストン３３でガラス基板Ｗを押圧し、ピストン３３と基板脱落防止壁５とで基板Ｗを挟むようにして整列させる（ステップＳ１０６Ｂ）。その他の工程は、第１の実施の形態と同様である。基板押付機構３１は、ガラス基板Ｗを基板脱落防止壁５に押し付けることでガラス基板Ｗは搬送方向Ｃと平行になるように整列を行うことが好ましいが、基板脱落防止壁５に押し付けることなく各ピストン３３を所定長だけ突出させることで整列させても良い。この場合には、吸着部１０を上昇させて、吸着パッド１１上にガラス基板Ｗを接触させた状態で、各基板押付機構３１を作動させるとよい。これにより、吸着パッド１１とガラス基板Ｗとの間の摩擦力により、浮上した無抵抗化したガラス基板Ｗの移動を規制し、安全にガラス基板Ｗを仮調整（仮位置決め）することができる。

この実施の形態によれば、基板Ｗが大きく傾いた場合のように、押付ピン１２ｂ，１２ｃのストロークのみではガラス基板Ｗを搬送可能な程度に整列させられない場合であっても、基板押付機構３１を用いることでガラス基板Ｗを整列させることが可能になる。基板検査装置を構成した場合を含むその他の効果は、第１の実施の形態と同じである。

（第３の実施の形態）
この発明の第３の実施の形態を図９及び図１０を参照して説明する。なお、第１の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
図９に示すように、基板搬送装置４０は、浮上ステージ３の一方の側部に基板脱落防止部４１を有する。基板脱落防止部４１は、搬送方向Ｃに配設される複数の基板脱落防止ピン４２を有し、これら基板脱落防止ピン４２は搬送方向Ｃと直交する方向に進退自在にベース部２に支持されている。基板脱落防止ピン４２を移動させる駆動機構４３は、エアーや、電気で駆動するシリンダと、シリンダに対して進退するロッドで構成される。複数の基板脱落防止ピン４２は、支持板に所定の間隔で支持され、この支持板に駆動機構４３のロッドが連結されて搬送方向Ｃと直交する方向に移動するようになっている。図９において、基板脱落防止ピン４２は、基準ピン１４を避けるように複数組に分かれて駆動機構４３に連結されているが、１つの基板脱落防止ピン４２が１つの駆動機構に連結されても良い。

この実施の形態の作用について説明する。
まず、基板脱落防止ピン４２は、ガラス基板Ｗが吸着パッド１１から外れたときに、浮上ステージ３から脱落することを防止する。さらに、復旧処理を行う際には、基板検出部１５による基板検出後の整列時に、基板脱落防止ピン４２が基板搬送部８側に移動されてガラス基板Ｗを押圧し、押し付けピン１２ｂ，１２ｃにガラス基板Ｗを押し付け、ガラス基板Ｗを搬送可能に整列させる。基板脱落防止ピン４２による整列を行ったら、ガラス基板Ｗを吸着パッド１１により吸着して基準ピン１４，１４のある整列位置まで戻って、押し付けピン１２ａ〜１２ｃと基準ピン１３，１４，１４によって再度整列させてからガラス基板Ｗを目的位置まで搬送する。

この実施の形態によれば、復旧処理時に基板脱落防止ピン４２を移動させガラス基板Ｗを吸着部１０側に押圧して整列することにより、ガラス基板Ｗを吸着部１０の吸着パッド１１上に位置させることができるため、ガラス基板Ｗを確実に吸着パッド１１で吸着保持し安定して搬送することができると共に、吸着パッド１１のレイアウトの自由度が高まる。その他の効果は第１、第２の実施の形態と同じである。

なお、本発明は前記の各実施の形態に限定されずに広く応用することができる。
例えば、復旧処理時にガラス基板Ｗの両端を押付けピン１２ａと基準ピン１３により把持して搬送を行っても良い。
第３の実施の形態において、基板脱落防止ピン４２は、すべてのピンが一体的に移動しても良いし、ガラス基板Ｗが存在する部分の基板脱落防止ピン４２のみが移動するように構成しても良い。

また、吸着部１０に設けられる整列機構の他の形態について、図１１から図１３に示す。図１１に示すような押し付け部材５１は、ガラス基板Ｗの一方の隅部に合わせてＬ型になっており、搬送方向Ｃに対して斜めにガイドに沿って進退自在に設けられている。押し付け部材５１をガラス基板Ｗに向けて前進させることで、ガラス基板Ｗを基準ピン１３，１４１，１４に押付けて基準位置に位置決めすることが可能になる。また、図１２に示すような押し付け部材５２は、搬送方向Ｃに対して斜めに進退自在に設けられ、かつ基板Ｗの隅部に向かうように傾斜配置された平坦な部材からなる。押付け部材５２をガラス基板Ｗに向けて前進させることによって、ガラス基板Ｗを基準ピン１３，１４，１４に押付けて基準位置に位置決めすることが可能になる。図１３に示すような押し付け部材５３は、軸５４で回動自在に支持された押し付け板５５が設けられている。押し付け部材５３は、軸５４を回動させることで、押し付け板５５によってガラス基板Ｗを基準ピン１３，１４，１４に押付けて基準位置に位置決めすることが可能になる。

（第４の実施の形態）
この発明の第４の実施の形態を図１４及び図１５を参照して説明する。なお、第３の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
図１４に示すように、この実施形態の基板搬送装置１００は、第１の搬送装置１０１と、第２の搬送装置１２１とが搬送方向Ｃに直列に配置されて、搬送ラインを構成している。第１の搬送装置１０１及び第２の搬送装置１２１は、それぞれ、ベース部２の上部に浮上ステージ３が設けられている。

第１の搬送装置１０１は、浮上ステージ３の一方の側部に基板脱落防止部４１を有する。基板脱落防止部４１の搬送方向Ｃに複数配設された基板脱落防止ピン４２は、基準ピン１０２、１０３を避けるように複数組に分かれて駆動機構４３に連結されている。ここで、基準ピン１０２、１０３は、第１の搬送装置１０１において搬送方向Ｃの上流側に設けられる第１の整列位置Ａ１と対応して設けられていて、基準ピン１０２、１０２はガラス基板Ｗを搬送方向Ｃと直交する方向で基準位置に位置決めするものであり、基準ピン１０３は搬送方向Ｃで基準位置に位置決めするものである。これらの基準ピン１０２、１０３は、位置決めする基準となる位置に配置可能であるとともに、搬送時にガラス基板Ｗと干渉しないよう搬送方向Ｃと直交する方向に退避可能とされている。

また、基板脱落防止部４１が設けられた側部と反対側の他方の側部には、リニアモータ１０４とリニアガイド１０５とが並列にベース部２上に敷設されていて、基板搬送部１０６が支持されていて、リニアモータ１０４、リニアガイド１０５及び基板搬送部１０６で第１の搬送機構を構成している。リニアモータ１０４及びリニアガイド１０５は、後述する第２の搬送装置１０２の浮上ステージ３の側部まで延設されている。また、基板搬送部１０６には、吸着パッド１１及び基板検出部１５、１５を有する吸着部１０７が上下移動自在に設けられている。吸着部１０７には、押し付けピン１０８、１０９が設けられている。押し付けピン１０８は、基準ピン１０２とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃと直交する方向に挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃと直交する方向に移動自在に吸着部１０７に支持されている。また、押し付けピン１０９は、基準ピン１０３とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃに挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃに移動自在に吸着部１０７に支持されている。そして、基準ピン１０２、１０３及び押し付けピン１０８、１０９によって、第１の整列位置Ａ１でガラス基板Ｗを整列させる第１の基板整列機構が構成されることとなる。また、リニアモータ１０４及び基板検出部１５、１５には制御ユニット１１０が接続されていて、制御ユニット１１０は、リニアモータ１０４を制御するとともに、基板検出部１５、１５による検出結果が入力される。

また、第２の搬送装置１２１は、第１の搬送装置１０１と同様に、浮上ステージ３の一方の側部に基板脱落部４１を有し、他方の側部にリニアモータ１２２とリニアガイド１２３とが敷設され、基板搬送部１２４が支持されていて。リニアモータ１２２、リニアガイド１２３及び基板搬送部１２４で第２の搬送機構を構成している。基板搬送部１２４にも同様に、吸着パッド１１及び基盤検出部１５、１５を有する吸着部１２５が上下移動自在に設けられている。ここで、第２の搬送装置１２１のリニアモータ１２２、リニアガイド１２３、及び基板搬送部１２４は、第１の搬送装置１０１のリニアモータ１０４、リニアガイド１０７、及び基板搬送部１０６が設けられた浮上ステージ３の側部とは、反対側の側部に設けられている。そして、第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４が搬送方向Ｃの最も上流側に位置している場合において、第１の装置の基板搬送部１０６と対向する位置に配置可能に、第１の装置１０１のリニアモータ１０４及びリニアガイド１０５は第２の搬送装置１２１側まで下流に延設されている。

そして、第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４において、吸着部１２５には基準ピン１２６、１２７が設けられていて、基準ピン１２６、１２７は、基板搬送部１２４が最も上流側に配置されたときに、第２の整列位置Ａ２と対応するように設けられている。基準ピン１２６、１２６は、第２の整列位置Ａ２において、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６の押し付けピン１０８とガラス基板Ｗを挟み込むことで、ガラス基板Ｗを搬送方向Ｃと直交する方向で基準位置に位置決めするものである。また、基準ピン１２７は、第２の整列位置Ａ２において、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６の押し付けピン１０９とガラス基板Ｗを挟み込むことで、ガラス基板Ｗを搬送方向Ｃで基準位置に位置決めするものである。すなわち、基準ピン１２５、１２７及び押し付けピン１０８、１０９によって、第２の整列位置Ａ２でガラス基板Ｗを整列させる第２の基板整列機構が構成されることとなる。また、これらの基準ピン１２６、１２７は、位置決めする基準となる位置に配置可能であるとともに、搬送時にガラス基板Ｗと干渉しないよう搬送方向Ｃと直交する方向に退避可能とされている。また、リニアモータ１２２及び基板検出部１５、１５には制御ユニット１２８が接続されていて、制御ユニット１２８は、リニアモータ１２２を制御するとともに、基板検出部１５、１５による検出結果が入力される。さらに、第２の搬送装置１２１の制御ユニット１２８と、第１の搬送装置１０１の制御ユニット１１０とは、互いに接続されていて、通信により協調制御が行えるようになっている。なお、第１の搬送装置１０１及び第２の搬送装置１２１のそれぞれには、その目的に応じて、搬送経路中に検査部等が設けられ、所望の作業を行うことが可能とされている。

次に、この実施の形態の作用について説明する。
まず、図１４に示すように、基板搬送装置１００において、第１の搬送装置１０１の浮上ステージ３の上流側に設けられた第１の整列位置Ａ１にガラス基板Ｗが搬入される。この際、第１の実施形態同様に、第１の搬送装置１０１において、制御ユニット１１０は、基板搬送部１０６を上流側で待機させると共に、浮上ステージ３の孔４からエアー噴き出させた状態で待機させている。そして、制御ユニット１１０は、基準ピン１０２、１０３を第１の整列位置Ａ１と対応する位置まで進出させてから押し付けピン１０８、１０９をガラス基板Ｗの各縁に向けて移動させることで、浮上ステージ３上に浮上したガラス基板Ｗを基準位置に整列させる。

そして、ガラス基板Ｗの整列が終了したら、制御ユニット１１０は、吸着部１０７を上昇させて、ガラス基板Ｗの裏面に吸着パッド１１を当接させてから真空吸着を開始させ、吸着パッド１１によりガラス基板Ｗの一辺を吸着保持させる。さらにこの状態で、基準ピン１０２、１０３及び押し付けピン１０８、１０９を退避させる。そして、制御ユニット１１０がリニアモータ１０４を駆動させれば、ガラス基板Ｗは基板搬送部１０６とともに搬送方向Ｃの下流側へ浮上ステージ３から浮上した状態で搬送されることとなり、浮上ステージ３上で基板検査等所望の作業が可能となる。そして、作業が完了したら、次の第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４に受け渡される。

この際、第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４は、第２の整列位置Ａ２まで移動し、吸着部１２５を下降させた状態で待機する。また、浮上ステージ３は、孔４からエアーを噴き出した状態としている。なお、基板搬送１２４の基準ピン１２６、１２７は、ガラス基板Ｗと干渉しない位置に退避した状態となっている。そして、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６が第２の整列位置Ａ２までガラス基板Ｗを搬送したら、第２の搬送装置１２０の制御ユニット１２８は、吸着部１２５を上昇させて真空吸着を開始することで、ガラス基板Ｗにおいて第１の搬送装置１０１の吸着部１０７で保持されている一辺と反対側の他辺を第２の搬送装置１２０の吸着部１２５上に吸着保持させる。そして、ガラス基板Ｗが第２の搬送装置１２０の吸着部１２５に吸着保持されると、第１の搬送装置１０１の制御ユニット１１０は、基板搬送部１０６の吸着パッド１１の吸着を解除することで、ガラス基板Ｗは、第１の整列位置Ａ１で位置決めされた状態のまま第２の搬送装置１２１に受け渡され、基板搬送部１２４によって下流側まで搬送される。

次に、第１の搬送装置１０１の搬送途中で、ガラス基板Ｗが第１の搬送装置１０１の吸着部１０７から外れた場合について説明する。この際、第１の搬送装置１０１の搬送途中でガラス基板Ｗが外れても、ガラス基板Ｗは、基板脱落防止部４１の基板脱落防止ピン４２によって一方の側部側から脱落することが防止される。そして、制御ユニット１１０は、第１の実施形態と同様に、基板搬送部１０６の基板検出部１５の検出結果をもとに吸着部１０７の吸着パッド１１に再吸着させる。なお、ガラス基板Ｗが大きく向きを傾けた状態で外れている場合には、基板脱落防止ピン４２をガラス基板Ｗ側へ進出させてガラス基板Ｗの向きを修正した後に、吸着部１０７の吸着パッド１１で再吸着させるものとしても良い。

そして、第１の搬送装置１０１において、吸着部１０７の吸着パッド１１で再吸着したら、図１５に示すように、制御ユニット１１０は、リニアモータ１０４の駆動によって基板搬送部１０７を下流側へ移動させ、ガラス基板Ｗを第２の整列位置Ａ２まで移動させる。この際、通常の受渡しと同様に、第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４は浮上ステージ３の第２の整列位置Ａ２まで移動し、吸着部１２５を下降した状態で待機する。また、浮上ステージ３は、孔４からエアーを噴き出した状態としている。そして、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６によって第２の整列位置Ａ２にガラス基板Ｗを搬送したら、基板搬送部１２４の吸着部１０７を上昇させるとともに、第１の基板搬送部１０６の吸着パッド１１による吸着を解除する。次に、第２の搬送装置１２０の制御ユニット１２８は、基板搬送部１２４の基準ピン１２６、１２７を第２の整列位置Ａ２と対応する位置に進出させる。この状態で、第１の搬送装置１０１の制御ユニット１１０が基板搬送部１０６の押し付けピン１０８、１０９を進出させることで、ガラス基板Ｗは、第２の整列位置Ａ２において、基準ピン１２６、１２７によって基準位置に改めて位置決めされた状態となる。そして、第２の搬送装置１２１の制御ユニット１２８は、吸着部１２５の吸着パッド１１によってガラス基板Ｗを吸着保持することで、第２の整列位置Ａ２で位置決めされたガラス基板Ｗは、第一の搬送装置１０１から第２の搬送装置１２１に受け渡される。次に、第２の搬送装置１２１の基準ピン１２６、１２７と、第１の搬送装置１０１の押し付けピン１０８、１０９とを退避させることで、第２の搬送装置１２１において浮上ステージ３の下流側へ搬送可能な状態となる。

この実施の形態によれば、第２の搬送装置１２１の基板搬送部１２４が、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６と受渡し可能に反対側に設けられ、一方の基板搬送部１０１に押し付けピン１０８、１０９が設けられるとともに、他方の基板搬送部１２４に基準ピン１２６、１２７が設けられている。このため、ガラス基板Ｗが搬入されて位置決めされる第１の整列位置Ａ１だけでなく、第１の搬送装置１０１から第２の搬送装置１２０へ受け渡す位置における第２の整列位置でも、ガラス基板Ｗの位置決めを行うことが可能である。すなわち、搬送途中でガラス基板Ｗが基板搬送部１０６から外れても、上流側に戻ることなく、下流側まで搬送して再度位置決めすることができる。このため、ＦＩＦＯ方式において、次のガラス基板が上流側の整列位置まで搬入されていても、ガラス基板の搬送が停滞してしまうことなく、下流側でガラス基板を再整列させて、自動復旧することができる。

なお、本実施形態では、２台の搬送装置を組み合わせたものとしたが、これに限るものでは無い。２台以上の搬送装置を直列に整列したとしても、基板搬送部を両側部に交互に設けて、隣合う搬送装置同士の基板搬送部が対向配置可能にリニアモータ及びリニアガイドを延設するとともに、基板搬送部に交互に基準ピンまたは押し付けピンを設けることで、同様に基板整列をすることができる。また、１台の搬送装置としても、浮上ステージの両端部に基板搬送部を設けて互いに受渡し可能とし、また、一方の基板搬送部に基準ピンと、他方の基板搬送部に押し付けピンを設けても同様の効果を得ることができる。

（第５の実施の形態）
この発明の第５の実施の形態を図１６を参照して説明する。なお、第４の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
図１５に示すように、この実施形態の基板搬送装置１３０は、第１の搬送装置１０１と、第１の搬送装置１０１の下流側に直列配置された第２の搬送装置１３１とを備える。第２の搬送装置１３１は、第４の実施形態同様に、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６と反対側の側部に、リニアモータ１２２、リニアガイド１２３及び基板搬送部１２４が設けられている。また、第２の搬送装置１３１の下流側の搬出位置には、基板搬送部１２４と対向する側部において基準ピン１３２、１３３が設けられ、基板脱落防止ピン４２は、基準ピン１３２、１３３を避けるように複数組み分かれて駆動機構４３に連結されている。ここで、基準ピン１３２、１３３は、第２の搬送装置１３１において搬送方向Ｃの下流側でガラス基板Ｗを第２の搬送装置１３１から搬出する位置で設けられる第３の整列位置Ａ３と対応して設けられている。基準ピン１３２、１３３は、ガラス基板Ｗを搬送方向Ｃ及び搬送方向Ｃと直交する方向で基準位置に位置決めするものである。これらの基準ピン１３２、１３３は、位置決めする基準位置に配置可能であるとともに、搬送時にガラス基板Ｗと干渉しないよう搬送方向Ｃと直交する方向に退避可能とされている。また、基板搬送部１２４の吸着部１２５には、上記の基準ピン１２６、１２７だけでなく、さらに押し付けピン１３４、１３５が設けられている。また、押し付けピン１３４は、基準ピン１３２とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃと直交する方向に挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃと直交する方向に移動自在に吸着部１２５に支持されている。また、押し付けピン１３５は、基準ピン１３３とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃに挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃに移動自在に吸着部１２５に支持されている。すなわち、基準ピン１３２、１３３及び押し付けピン１３４、１３５によって、第３の整列位置Ａ３でガラス基板Ｗを整列させる第３の基板整列機構が構成されることとなる。

この実施の形態によれば、第２の搬送装置１３１の下流側にも第３の整列位置Ａ３として、ガラス基板Ｗを整列可能に基準ピン１３２、１３３及び押し付けピン１
３４、１３５を備えている。このため、第１の搬送装置１０１と第２の搬送装置１３１との受渡し位置だけでなく、第２の搬送装置１３１から搬送ロボットなどで搬出する位置においても、ガラス基板Ｗを整列させることができる。このように、ガラス基板Ｗの搬出位置に第３の基板整列機構を設けることにより、常にガラス基板Ｗを整列させた状態で搬送ロボットに受け渡すことができるため、搬送ロボットによりガラス基板Ｗをカセットや他の製造装置内に正確に搬入することができる。

（第６の実施の形態）
この発明の第５の実施の形態を図１７を参照して説明する。なお、第４の実施の形態と同じ構成要素には同一の符号を付してある。また、重複する説明は省略する。
図１７に示すように、この実施形態の基板搬送装置１４０は、第１の搬送装置１０１と、第１の搬送装置１０１の下流側に直列配置された第２の搬送装置１４１とを備える。第２の搬送装置１４１は、第４の実施形態同様に、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６と反対側の側部に、リニアモータ１２２、リニアガイド１２３及び基板搬送部１４２が設けられている。また、第２の搬送装置１４１は、基板搬送部１４２が第２の整列位置Ａ２と対応して上流側に位置している状態で、基板搬送部１４２と対向する位置に基準ピンユニット１４３を備える。基準ピンユニット１４３には、第２の整列位置Ａ２と対応して基準ピン１４４、１４５が設けられている。そして、基準ピンユニット１４３は、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６が第２の整列位置Ａ２に移動した時に、基準ピン１４４、１４５が基板搬送部１０６と干渉しない位置まで下降することが可能である。また、第２の搬送装置１４１において、基板搬送部１４２の吸着部１４６には、押し付けピン１４７、１４８が設けられている。押し付けピン１４７は、基準ピン１４４とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃと直交する方向に挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃと直交する方向に移動自在に吸着部１４６に支持されている。また、押し付けピン１４８は、基準ピン１４５とガラス基板Ｗを搬送方向Ｃに挟み込むように対峙して設けられていて、搬送方向Ｃに移動自在に吸着部１４６に支持されている。すなわち、基準ピン１４４、１４５及び押し付けピン１４７、１４８によって、第２の整列位置Ａ２でガラス基板Ｗを整列させる第２の基板整列機構が構成されることとなる。また、本実施形態では、基準ピンユニット１４３によって、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６と第２の搬送装置１４１の基板搬送部１４２のいずれも、基準ピンを備えずに、押し付けピンのみを備える構成となっている。

この実施の形態によれば、第１の搬送装置１０１の搬送途中でガラス基板Ｗが外れた場合には、上記同様にまず、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６がガラス基板Ｗを再吸着し、第２の整列位置Ａ２まで搬送する。この際、第２の搬送装置１４１の基準ピンユニット１４３は、第１の搬送装置１０１の基板搬送部１０６と干渉しないように下降している。そして、ガラス基板Ｗを第２の整列位置Ａ２まで搬送したら、第１の搬送装置１０６の制御ユニット１１０は、吸着部１０７の吸着パッド１１の吸着を解除した後に基板搬送部１０６を第１の整列位置Ａ１へ移動させる。この状態で、ガラス基板Ｗは、第２の整列位置Ａ２において第２の搬送装置１４１の浮上ステージ３のエアーによって浮上した状態に保たれている。次に、第２の搬送装置１４１の制御ユニット１２８は、基準ピンユニット１４３を上昇させる。次に、基準ピン１４４、１４５を退避した状態から基準位置に進出させた後に、基板搬送部１４２の押し付けピン１４７、１４８を進出させることで、ガラス基板Ｗは第２の整列位置Ａ２において、基準ピン１４４、１４５に位置決めされた状態となる。そして、吸着部１４６の吸着パッド１１によってガラス基板Ｗを吸着することで、ガラス基板Ｗは吸着部１４６によって保持された状態となる。次に、基準ピンユニット１４３の基準ピン１４４、１４５を退避させた後に基準ピンユニット１４３を下降させるとともに、第２の搬送装置１４１の押し付けピン１４７、１４８を退避させる。これにより、第２の搬送装置１４１において、基板搬送部１４２によって、ガラス基板Ｗを整列した状態で、浮上ステージ３の下流側へ搬送可能な状態とすることができる。

本発明の第１の実施の形態に係る基板搬送装置の構成を示す平面図である。 図１のＡ矢視図である。 基板の搬送中に吸着が外れた状態を示す図である。 復旧処理のフローチャートである。 復旧時の基板と搬送部の配置を説明する図である。 基板搬送装置を含む基板検査装置の構成を示す平面図である。 第２の形態の基板搬送装置において復旧時の動作を説明する図である。 図７に示す基板搬送装置における復旧処理のフローチャートである。 第３の形態の基板搬送装置を示す平面図である。 図９に示す基板搬送装置において復旧時の動作を説明する図である。 整列機構の他の形態を示す図である。 整列機構の他の形態を示す図である。 整列機構の他の形態を示す図である。 第４の形態の基板搬送装置を示す平面図である。 図１４に示す基板搬送装置において復旧時の動作を説明する図である。 第５の形態の基板搬送装置を示す平面図である。 第６の形態の基板搬送装置を示す平面図である。

符号の説明

１，３０，４０基板搬送装置 ３ 浮上ステージ（基板を浮上させる機構） ５ 基板脱落防止壁（基板脱落防止部） ６ リニアモータ（搬送機構） ７ リニアガイド（搬送機構） ８ 搬送部（搬送機構） １０吸着部 １２ａ，１２ｂ，１２ｃ 押し付けピン（基板整列機構） １３，１４基準ピン（基板整列機構） １５基板検出部 ２０検査部 ２１基板検査装置 ３１基板押付機構 ４１基板脱落防止部 Ｗ 基板

Claims (11)

1. 基板を浮上させるステージと、
   前記ステージで浮上させた前記基板の一部を保持する吸着部と、
   前記吸着部を前記ステージに沿って移動させる搬送機構と、
   前記吸着部と共に移動し、前記基板の位置を検出する基板検出部と、
   前記基板を整列させる基板整列機構と、
   前記ステージに沿って設けられて前記ステージからの前記基板の脱落を防止する基板脱落防止部とを有し、
   基板搬送時に前記基板の保持が外れたときに、前記基板検出部で前記基板の有無を検出した後に前記基板を前記吸着部で保持するように構成したことを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記基板整列機構は、前記基板が押し付けられる基準ピンを有し、
   前記基準ピンは前記基板脱落防止部に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記基板整列機構を前記ステージに沿って複数有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板搬送装置。
4. 前記搬送機構と、該搬送機構と対応して設けられる前記吸着部及び前記基板検出部とを複数組有し、
   複数の前記搬送機構は、前記ステージ上の前記基板を受渡し可能に、前記ステージの両側部に交互に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
5. 前記基板整列機構は、前記基板が押し付けられる基準ピンと、該基準ピンと前記基板を挟み込むように対峙して設けられて該基板を押し付ける押し付けピンとを有し、
   前記基準ピンと前記押し付けピンとは、複数の前記搬送機構に交互に設けられていることを特徴とする請求項４に記載の基板搬送装置。
6. 前記基板脱落防止部を前記ステージに対して進退自在に設け、
   この基板脱落防止部を含んで前記基板整列機構を構成したことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
7. 前記基板整列機構は、前記基板を前記基板脱落防止部に押し付ける基板押付機構を有することを特徴とする請求項１から請求項６いずれかに記載の基板搬送装置。
8. 請求項１から請求項７いずれかに記載の基板搬送装置を備え、
   前記搬送機構によって搬送される前記基板の外観検査を行う検査部を有することを特徴とする基板検査装置。
9. 基板を浮上させた状態でその一部を吸着部で保持し、前記吸着部を搬送機構によって移動させることで基板を浮上させながら搬送するにあたり、前記吸着部による基板の吸着が外れたときには、前記搬送機構で前記吸着部を移動させ、前記吸着部に設けられた基板検出部で前記基板の存在を検出した後に前記吸着部で前記基板を再度吸着保持することを特徴とする基板搬送方法。
10. 前記基板検出部で前記基板の存在を検出してから前記吸着部で前記基板を吸着保持した後に、前記基板の位置決めを行う基板整列機構が設けられた整列位置に前記基板を搬送し、前記基板を整列させることを特徴とする請求項９に記載の基板搬送方法。
11. 前記基板整列機構を前記基板の搬送方向に複数有していて、
    前記基板の位置決めを行う際には、前記搬送方向下流側の位置で前記基板整列機構が設けられた前記整列位置に前記基板を搬送し、前記基板を整列させることを特徴とする請求項１０に記載の基板搬送方法。

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