JP4704756B2 - 基板搬送装置 - Google Patents
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この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、基板の吸着不良を防止することにより生産性を向上することである。
図1には、この実施の形態に係る基板搬送装置を備える基板検査装置の構成が示されている。なお、基板は、種々の基板を用いることができるが、以下においては、FPD用のガラス基板Wとする。さらに、ガラス基板Wの上面(表面)は、回路素子や、配線パターン等のパターンが形成される素子形成面W1とし、ガラス基板Wの下面(裏面)は、パターンが形成されない非素子形成面W2とする。
ガラス基板Wの検査を行う際には、基板搬送ロボット6が、他の工程から搬出されたガラス基板Wを搬送アーム6A上に受け取り、搬送アーム6Aを基板検査装置1の基板搬入出部4の上方に移動させる。ここで、搬送アーム6Aにおけるガラス基板Wの吸着を解除し、基板搬入出部4から上昇してくるリフトピン20でガラス基板Wを搬送アーム6A上から持ち上げる。この状態で搬送アーム6Aを後退させると、ガラス基板Wが基板搬入出部4に受け渡される。ここで、基板浮上ステージ3は、空気孔10からエアを噴き出しているので、リフトピン20を下げると、ガラス基板Wがエアによって基板浮上ステージ3の上面よりも僅かに上方に浮上させられる。
また、基板搬送装置に検査部5を設けることで基板検査装置1を構成したので、ガラス基板Wに傷等を付けることなく搬送しながら基板表面の外観検査を行うことが可能になる。したがって、ガラス基板Wを用いた製品の品質を向上させることができる。
この実施の形態は、吸着補助部30がスライダ12に取り付けられていることを特徴とする。図5に示すように、スライダ12の支持部14の外側面には、支持フレーム50が固定されている。この支持フレーム50は、ガラス基板Wの端面よりも外側を通って上方に延びている。支持フレーム50の内側には、L字状の板金51が取り付けられており、ここに吸着補助部30のエアシリンダ31が吊り下げられている。エアシリンダ31は、鉛直下向きに進退自在なロッド32を有し、ロッド32の下端には補助パッド部33が取り付けられている。吸着補助部30は、ガラス基板Wの四隅に対応する吸着パッド部18のそれぞれの上方に、合計4つ設けられている。
例えば、吸着部16、吸着補助部30の数及び配置は、各実施の形態に限定されず、ガラス基板Wの側縁部のほぼ全長に亘って配置するなど種々の形態をとることができる。例えば、第1の実施の形態の変形例を図6に示す。図6には、X方向に沿って、ガラス基板Wの搬送方向前側から、吸着部16A、吸着部16B、吸着部16Cが配設されている。吸着部16A,16Cは、ガラス基板Wの両端部に相当する位置に設けられ、吸着パッド部18がX方向にそれぞれ5つ配列されている。吸着部16Bは、ガラス基板WのX方向の中央に設けられ、吸着パッド部18がX方向に3つ配列されている。これに対して、基板搬入出部4には、X方向に沿って吸着補助部30A、吸着補助部30B、吸着補助部30Cが配置されている。吸着補助部30A,30Cは、基板搬入出部4において、吸着部16A,16Cの上方に配置されており、各吸着パッド部18に対向するように6つの補助パッド部33がそれぞれ配設されている。吸着補助部30Bは、基板搬入出部4において、吸着部16Bの上方に配置されており、各吸着パッド部18に対向するように3つの補助パッド部33が配設されている。この場合には、基板搬入出部4において、ガラス基板Wの隅部と、隅部の略中間を上方から押圧することで、ガラス基板Wをさらに確実に吸着保持させることが可能になる。特に、ガラス基板Wの側縁部が波打つように反っている場合でも全ての吸着パッド部18に確実に吸着保持することが可能になる。なお、この配置は、第2の実施の形態に適用することも可能である。
さらに、ガラス基板Wの両方の側縁部を吸着保持する代わりに、一方の側縁部のみを吸着保持して搬送するようにしても良い。この場合の吸着補助部30は、スライダ12及び吸着部16を有する片側のみに設けられる。吸着補助部30は、エアシリンダ31の代わりに、ソレノイド式のシリンダ等、補助パッド部33、61A,61Bを上下移動させて、ガラス基板Wの吸着保持をアシストできる動作を行うものを用いることができる。基板浮上ステージ3は、エアの代わりに窒素ガスや、アルゴンガス等を使用しても良い。また、基板浮上ステージ3は、静電気や、超音波を利用してガラス基板Wを浮上させても良い。
そして、ガラス基板Wを水平に配置する代わりに、ガラス基板Wを垂直に配置し、ガラス基板Wを挟むように吸着部16と吸着補助部30とを配置しても良い。
3 基板浮上ステージ(ステージ)
4 基板搬入出部
5 検査部
12 スライダ(搬送手段)
16,16A〜16F 吸着部
30,30A〜30D,60A〜60C 吸着補助部
39 制御部
W ガラス基板(基板)
W1 素子形成面(基板表面)
W2 非素子形成面(裏面)
Claims (8)
- 矩形状の基板を浮上させる浮上ステージと、
前記浮上ステージ上に浮上した前記基板の、搬送方向と直交する幅方向の少なくとも一方の側縁部下方に、前記搬送方向に並べて複数設けられ、前記基板を吸着保持する吸着パッド部と、
前記吸着パッド部を支持する吸着部と、
前記吸着部を前記浮上ステージに沿って前記搬送方向に往復移動させる可動部と、
補助パッド部を有して前記吸着部に対向する位置に設けられ、前記補助パッド部により前記基板を前記吸着パッド部に押し当てる吸着補助部と、
を備えることを特徴とする基板搬送装置。 - 前記可動部は、前記浮上ステージ上に前記基板を搬入する基板搬入部に移動して待機し、
前記吸着補助部は、前記基板搬入部において待機する前記吸着部と対向する位置に配置されることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。 - 前記吸着補助部は、前記吸着部の吸着時に前記補助パッド部を下降させて前記吸着パッド部に前記基板を押し当てた後、前記補助パッド部を上昇させ前記基板から離間する位置に待機させることを特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。
- 前記吸着補助部は、前記可動部に取り付けられて前記基板よりも高い位置まで延びる支持フレームに支持されていることを特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
- 前記吸着部は、吸着エラーを検出するセンサを備え、
前記吸着補助部は、前記センサが吸着エラーを出力したときに駆動されることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板搬送装置。 - 前記吸着部は、吸着エラーを検出するセンサを備え、
前記吸着補助部は、前記基板の搬送中に前記センサが吸着エラーを出力したとき前記可動部を停止させてから駆動されることを特徴とする請求項1または4に記載の基板搬送装置。 - 前記吸着部は、前記基板の幅方向側縁部に沿って複数配置され、
前記吸着補助部は、複数の前記吸着部のそれぞれに対向して配置され、
複数の前記吸着部のそれぞれには、前記吸着パッド部の吸着エラーを検出するセンサが備えられ、
各センサにより吸着エラーが検出された前記吸着部に対応する前記吸着補助部が駆動されて前記基板を前記吸着パッド部に押し当てることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の基板搬送装置。 - 前記吸着補助部は、前記搬送方向に延びるように形成され、前記吸着部に支持された複数の前記吸着パッド部に対して前記基板を押し当てる補助パッド部を有することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の基板搬送装置。
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