JP2008063020A - 基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システム - Google Patents

Abstract

【課題】基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システムにおいて、反りや捩れなどが発生した基板でも、基板表面の状態を良好に保ちつつ確実に吸着保持することができるようにする。
【解決手段】基板搬送装置および基板検査システムが、ガラス基板７を浮上させる基板浮上ステージ９と、基板浮上ステージ９に沿って移動可能に設けられるとともに、ガラス基板７のいずれかの側縁部の基板裏面７ｂ側でガラス基板７を吸着して保持する吸着部１６を有する搬送機構８と、吸着部１６上に載置されたガラス基板７を基板表面７ａ側から吸着部１６に押圧する押圧ローラ１９と、押圧ローラ１９をガラス基板７の搬送方向の側方から進退させるアクチュエータ３０とを有する吸着アシスト部１８とを備える。
【選択図】図２

Description

本発明は基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システムに関する。例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）といったフラットパネルディスプレィ（ＦＰＤ）等に用いられるガラス基板の搬送に用いられる基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システムに関する。

近年、ＬＣＤなどのＦＰＤは、大型化する傾向にあり、これを製造する製造装置も大型化されている。ＦＰＤ用の基板には、主にガラス基板が用いられており、複数の製造工程を経て、基板表面に多数の画素や、駆動回路等が形成されている。このような製造工程では、大型のガラス基板を保持して搬送する基板搬送装置が使用されている。また、そのような基板搬送装置で搬送されたガラス基板の外観を検査する基板検査システムが用いられている。

ガラス基板を位置決めして保持する際には、ガラス基板の裏面側から吸着パッドで吸着して保持することが知られている。ところが、製造前には平坦であったガラス基板も、成膜工程や、熱処理工程を経ることで、捩れや、反りが発生することがある。さらに、金属膜等がガラス基板の表面に形成されると、ガラス基板の熱膨張率と金属膜の熱膨張率との違いから応力が発生し、ガラス基板に捩れや、反りが発生することがある。このような捩れや、反りは、ガラス基板が大型化するにつれて発生しやすくなり、かつその捩れ量や、反り量（反り角度）も大きくなるため、吸着バッドによりガラス基板を吸着し難くなることがある。
このような場合に吸着エラーを防止するために、例えば、特許文献１には、基板の側縁部の下面側に設けられた吸着パッドに向かって、基板の上側から円形状の押さえ板や、基板の上面に点接触する棒状のリンクを用いて、基板を押圧することで、基板の反りを矯正して吸着パッドに吸着させる基板部材保持装置が記載されている。
また、特許文献２には、基板の一辺に沿って上側エアシリンダと、下側エアシリンダとを配列し、これらで基板を上下から把持して搬送するフラットパネル検査装置が記載されている。この場合、基板に反りなどがあれば、エアシリンダの把持位置にならって矯正されることになる。
特開平８−３１３８１６号公報 特開２０００−９６６１号公報

しかしながら、上記のような従来の基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システムには、以下のような問題があった。
特許文献１、２に記載の技術では、基板を押さえ板や棒状のリンクで押さえたり、エアシリンダで基板を挟持して把持したりするので、基板の捩れや反りを矯正できるものの、保持される基板の一部に応力や衝撃力が集中的にかかってしまうという問題がある。
特に、ＬＣＤ用のガラス基板は０．７ｍｍと薄く、衝撃力には非常に弱く、割れやすいため、基板不良となる傷などが発生し易くなり、基板の品質や生産性を低下させる原因となるという問題がある。

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、反りや捩れなどが発生した基板でも、基板表面の状態を良好に保ちつつ確実に吸着保持することができる基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システムを提供することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の基板搬送装置は、基板を浮上させるステージと、該ステージに沿って移動可能に設けられるとともに、前記基板のいずれかの側縁部の裏面側で前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送機構と、前記吸着部上に載置された前記基板を表面側から前記吸着部に押圧する押圧ローラと、該押圧ローラを前記基板の搬送方向の側方から進退させる押圧ローラ進退機構とを有する吸着補助部とを備えることを特徴とする。
また、本発明の基板検査システムは、本発明の基板搬送装置と、該基板搬送装置の搬送経路上で前記基板の外観を検査する検査装置とを備えることを特徴とする。

本発明の基板搬送装置および基板検査システムによれば、押圧ローラ進退機構によって進退される押圧ローラを基板表面で転がすことで、基板を吸着部に徐々に押圧することができるため、反りや捩れなどが発生した基板でも、基板表面の状態を良好に保ちつつ確実に吸着保持することができるという効果を奏する。

以下では、本発明の実施の形態について添付図面を参照して説明する。すべての図面において、実施形態が異なる場合であっても、同一または相当する部材には同一の符号を付し、共通する説明は省略する。

［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置について、それを用いた基板検査システムとともに説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置を備える基板検査システムの概略構成を示す平面図である。図２は、本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の主要部の構成を示す斜視図である。図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の動作の様子を示す図２のＢ視の側面図である。図４は、本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の概略構成を示す図１のＡ視の模式的な側面図である。図５は、本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の制御ブロック図である。

本実施形態の基板検査システムは、基板搬送装置により平面視略矩形状の薄板からなる基板の側縁部を吸着保持して水平方向に搬送し、その搬送経路上に設けられた検査装置により基板の検査、例えば、基板表面の欠陥やパターンを検査するものである。

本実施形態の基板検査システム１は、図１に示すように、基板搬送装置２と検査装置３とからなる。
基板として、液晶ディスプレイ用のガラス基板７の例で説明する。
ガラス基板７は、図２に示すように上面側の基板表面７ａが、回路素子や、配線パターン等のパターンが形成される素子形成面であり、下面側の基板裏面７ｂが、パターンの形成されない非素子形成面となっている。
以下、基板浮上ステージ９の長手方向、つまりガラス基板７を搬送する方向をＸ方向とし、Ｘ方向と直交する幅方向をＹ方向、上下方向（鉛直方向）をＺ方向とする。

基板搬送装置２は、床面に設置されるベース部２ａを有し、ベース部２ａ上に細長の基板浮上ステージ９（ステージ）が固定されている。基板浮上ステージ９の短手方向の両側には、ガラス基板７を吸着保持して、基板浮上ステージ９の長手方向に沿って搬送する搬送機構８が設けられている。ベース部２ａの長手方向の一端部側が基板搬入出部６となっており、そのベース部２ａの一端部に隣接して、搬送アーム５ａによって基板を搬入出する基板搬送ロボット５が設置されている。
基板搬入出部６には、ガラス基板７の移載時にガラス基板７を昇降させる複数のリフター１１が配設されている。このリフター１１は、不図示の昇降機構に支持されており、基板浮上ステージ９の上面に対して突没自在になっている。

なお、基板搬入出部６には、ガラス基板７を位置決めする位置決め機構を設けてもよい。位置決め機構としては、例えば、ガラス基板７の側面に当接して位置決めの基準となる固定式の基準ピンと、ガラス基板７の側面に当接してガラス基板７を基準ピンに向かって押圧する移動式の押し付けピンとを有するものがあげられる。
また、基板浮上ステージ９は、エアの代わりに窒素ガスや、アルゴンガス等を使用してもよいし、静電気や、超音波を利用してガラス基板７を浮上させてもよい。

検査装置３は、検査の種類によって適宜の構成を採用することができるが、本実施形態では、ガラス基板７の表面の外観検査を行う構成を採用している。
すなわち、検査装置３は、基板表面７ａを拡大観察するための顕微鏡３ａと、顕微鏡３ａをＹ方向、Ｚ方向に移動して観察位置を変化させる移動ステージ３ｂとを備えている。
顕微鏡３ａには、不図示のモニタが接続され、基板表面７ａ上の拡大画像をモニタ上に表示できるようになっている。

次に、基板搬送装置２の詳細構成について説明する。
基板浮上ステージ９は、その上面に開口する複数の空気孔１０が全面に亘って所定の間隔で配置されている。この基板浮上ステージ９は、不図示のエアーコンプレッサなどに接続されており、空気孔１０から上向きに圧搾エアを吐出させるように構成されている。
なお、基板浮上ステージ９のＸ方向の長さは、ガラス基板７のＸ方向の長さよりも十分に長く、基板浮上ステージ９のＹ方向の幅は、ガラス基板７の幅よりも短い。

搬送機構８の概略構成は、ガイド１２、１３、スライダー１４、１５、吸着支持部１７、吸着部１６、吸着アシスト部１８（吸着補助部、図２参照）および制御部２３（図５参照）からなる。

ガイド１２、１３は、基板浮上ステージ９の短手方向の両側部にＸ方向に平行に設けられたリニアガイドである。
スライダー１４、１５は、不図示の駆動制御手段によって駆動制御され、それぞれガイド１２、１３に沿って、互いのＸ方向の位置を同期させた状態で往復移動する可動保持部材である。そして、その各上面には、複数の吸着支持部１７がＸ方向に沿って適宜ピッチで配列されている。
ガイド１２とスライダー１４、およびガイド１３とスライダー１５は、それぞれ、適宜の１軸移動ステージ機構を採用することができる。
ただし、本実施形態では、後述する吸着部１６をＺ方向に昇降させるために、スライダー１４、１５は、Ｚ方向の昇降機構も合わせて備える構成としている。
このようなＺ方向の昇降機構は、後述する吸着支持部１７、吸着部本体１６ｂなどに設けてもよい。

吸着支持部１７は、スライダー１４、１５上の両端部、中間部の３箇所に配置されている。
なお後述するように、本実施形態の吸着支持部１７は、吸着アシスト部１８の保持部材も兼ねている（図３（ａ）参照）。

吸着部１６は、ガラス基板７をＹ方向側の側縁部で基板裏面７ｂから真空吸着するためのもので、吸着支持部１７の上面に固定された円柱形状の吸着部本体１６ｂの上部に、吸着パッド１６ａが上向きに突出するように設けられている。
吸着パッド１６ａは、その上面が円形状に窪んだ短い有底円筒形状をなし、窪みの中央には吸気孔が形成されている。吸着部本体１６ｂは、中央部に吸着パッド１６ａの孔に連通する吸気管路１６ｃが形成され、例えば吸気ポンプなどからなる吸引源２４（図５参照）にエアーバルブ２２を介して配管により接続されている。
また、図４、５に示すように、各吸着部１６の配管には、制御部２３の入力部に接続された圧力センサ４（吸着不良検知センサ）が設けられている。制御部２３では、圧力センサ４の検出出力によって、各吸着部１６にて吸着不良の有無を検知できるようになっている。

吸着パッド１６ａは、耐摩耗性を有し、ガラス基板７を傷付けない程度の硬度を有する材料から製造されており、下端側を中心として、上端側が首振り自在に吸着部本体１６ｂに支持されることが望ましい。
吸着部１６の個数は、適宜設定することができるが、本実施形態では、図４に示すように、スライダー１４、１５の長手方向の端部側の各吸着支持部１７にそれぞれ５個、中間部の吸着支持部１７に３個が、それぞれＸ方向に沿って配列されている。すなわち、ガラス基板７の反りが発生しやすいＸ方向の両端部では、反りが比較的発生しにくいＸ方向の中間部に比べて多くの吸着部１６を設けている。ただし、図１、２では、図を見やすくするため、各２個のみ図示している。

吸着アシスト部１８は、図２、３に示すように、押圧ローラ１９、押圧ローラ支持アーム２５、アクチュエータ３０（押圧ローラ進退機構）、およびアーム保持部２７からなる。
押圧ローラ１９は、吸着部１６上に載置されたガラス基板７の基板表面７ａ上を押圧してガラス基板７の反りを矯正するもので、本実施形態では、押圧ローラ１９は、各吸着部１６に対して１個ずつ、Ｘ方向の位置を揃えた位置に配置されている。そして、各押圧ローラ１９は、Ｙ方向に沿って延ばされた２本の押圧ローラ支持アーム２５の先端側で、軸方向がＸ方向に沿う方向に配置されたローラ支軸２５ａによって回転可能に支持されている。
押圧ローラ１９は、ガラス基板７の反りを矯正できる程度の質量を備え、その表面は、ガラス基板７との接触時にガラス基板７を傷つけないような材質で被覆される。例えば、押圧ローラ１９の芯を金属で形成し、その表面を適宜硬度の軟質プラスチック、合成ゴム、エラストマーなどで被覆した構成などを採用することができる。

押圧ローラ支持アーム２５の基端部は、回動支点２５ｂによってＹ方向に進退するアクチュエータ３０に固定され、それにより、Ｙ方向の進退と、回動支点２５ｂ回り、すなわちＹＺ平面内の回動とが可能となっている。
また、押圧ローラ支持アーム２５の長手方向の中間部は、押圧ローラ支持アーム２５の基端部とともにＹ方向に進退するアーム保持部２７に固定された２つのばね２６により上下方向（Ｚ方向）から弾性支持されている。
それらばね２６の弾性力は、押圧ローラ１９および押圧ローラ支持アーム２５の自重とのつり合いによって、押圧ローラ１９のローラ表面の下端側の高さが、ガラス基板７の吸着位置よりわずかに低くなるように設定されている。

なお、ばね２６は、図示ではコイルばねとしているが、上下方向に弾性復元力を発生させることができれば、どのような固体ばね、流体ばねでもよく、コイルばねに限定されるものではない。また、弾性復元力を発生させる弾性支持が可能であれば、適宜の支持方式を採用することができる。

アクチュエータ３０は、Ｙ方向に進退するアクチュエータ本体３０ａと、アクチュエータ本体３０ａを進退駆動するアクチュエータ駆動部３０ｂとからなり、本実施形態では、各押圧ローラ１９、各押圧ローラ支持アーム２５の位置に対応して１つずつ設けられている。そして、各押圧ローラ１９は、吸着部１６が固定された吸着支持部１７に固定されている。
アクチュエータ３０の駆動方式は、適宜の方式、例えばソレノイドなどの電磁駆動などを採用することができるが、本実施形態では、エアシリンダを採用している。そして、図５に示すように、エアーコンプレッサ２０からの駆動エアが、エアーバルブ２１によって圧力が調整された状態でアクチュエータ３０に供給されるようになっている。

制御部２３は、各吸着部１６および各吸着アシスト部１８の動作を制御するものであり、図５に示すように、圧力センサ４、エアーバルブ２１、２２、吸引源２４、およびエアーコンプレッサ２０に接続されている。
制御部２３は、吸引源２４を動作させた状態で、エアーバルブ２２を開閉し、吸着部１６の吸着と吸着解除とを選択的に切り替える制御を行う。
また、圧力センサ４から送出される検出出力に基づいて、エアーバルブ２１を制御し、各アクチュエータ３０の進退動作を選択的に制御する。

次に、本実施形態の基板検査システム１の動作について、基板搬送装置２の動作を中心に説明する。
なお、スライダー１４、１５は、基板搬入出部６側に移動して待機し、各吸着部１６の吸着パッド１６ａの上面が基板浮上ステージ９の上面よりも下側の位置になるように下降して待機しているものとする。

ガラス基板７の検査を行う際には、基板搬送ロボット５が、他の工程から搬出されたガラス基板７を搬送アーム５ａ上に受け取り、搬送アーム５ａを基板搬送装置２の基板搬入出部６の上方に移動させる。
ここで、搬送アーム５ａにおけるガラス基板７の吸着を解除し、基板搬入出部６から上昇してくるリフター１１でガラス基板７を搬送アーム５ａ上から持ち上げる。この状態で搬送アーム５ａを後退させると、ガラス基板７がリフター１１に受け渡される。
その際、基板浮上ステージ９は、空気孔１０からエアを噴き出しているので、リフター１１を下げると、ガラス基板７がエアによって基板浮上ステージ９の上面よりもわずかに上方に浮上させられる。

ガラス基板７を浮上させたら、位置決め機構によりガラス基板７を基準位置に位置決めした状態でスライダー１４、１５を上昇させ、各吸着パッド１６ａをガラス基板７の基板裏面７ｂの側縁部に下側から押し付ける。このとき、吸着部１６とともに吸着支持部１７に固定された吸着アシスト部１８も上昇するため、押圧ローラ１９は、吸着パッド１６ａとの相対的な位置関係を保った状態でガラス基板７の側方に上昇されている（図３（ａ）参照）。
そして、制御部２３が吸引源２４を運転させるとともに、各エアーバルブ２２を開状態に切り換えて各吸着部１６の吸着を開始させる。このとき、各吸着部１６の吸気管路１６ｃが負圧になるため、吸着パッド１６ａの上面にガラス基板７が吸着される。
各吸着部１６の配管に接続された圧力センサ４は、それぞれの吸着パッド１６ａの圧力を検出し、制御部２３に出力する。
ただし、図３（ａ）に示すように、基板端部７ｃが反っていると、吸着パッド１６ａと基板裏面７ｂとが密着しないため、吸気しても隙間から外気が流入し、ガラス基板７が吸着されない場合がある。このような吸着部１６に設けられた圧力センサ４の検出出力は、正常に吸着された場合のように圧力が低下しないため、吸着不良を起こしている吸着部１６を検知し、特定することができる。

さらに、制御部２３は、圧力センサ４により吸着部１６の吸着不良が検知されると、エアーコンプレッサ２０を運転させ、ガラス基板７の側方位置に待機している各吸着アシスト部１８を駆動する。すなわち、アクチュエータ駆動部３０ｂとエアーコンプレッサ２０との間に設けられているエアーバルブ２１を開いて、アクチュエータ本体３０ａをガラス基板７側に進出させる。
そのため、アクチュエータ本体３０ａの先端部に固定されたアーム保持部２７、押圧ローラ支持アーム２５、および押圧ローラ支持アーム２５のローラ支軸２５ａに支持された押圧ローラ１９がＹ方向に平行移動される（図３（ｂ）参照）。

そして、押圧ローラ１９がガラス基板７の基板端部７ｃに当接する。押圧ローラ１９の下端部は、ガラス基板７に反りがない場合でも、ガラス基板７の高さよりわずかに低く設定されているため、図３（ｃ）に示すように、ローラ支軸２５ａを中心に回転しつつ、基板表面７ａ上に乗り上げた状態でＹ方向に移動する。
基板端部７ｃが図３（ｂ）に示すように、上方に反っていると、押圧ローラ１９は、基板端部７ｃから反力を受けて上昇するが、ばね２６の弾性復元力が作用するため、ガラス基板７を下側に押し下げようとする押圧力がガラス基板７に作用する。
そのため、押圧ローラ１９の進出が進み、基板表面７ａ上を転がって行くにつれ、ガラス基板７の反りが徐々に矯正されて行き、図３（ｃ）に示すように、押圧ローラ１９が、ガラス基板７を挟んで吸着パッド１６ａに対向する位置まで進出すると、基板裏面７ｂが吸着パッド１６ａの上面に密着され、ガラス基板７が吸着パッド１６ａにより吸着される。

以上では、ガラス基板７が上向きに反っている場合で説明したが、下向きに反っている場合でも同様である。この場合、基板端部７ｃが下方側に位置するので、押圧ローラ１９との当接時の反力は低下するが、ガラス基板７の内側は、反りのために吸着位置よりも突出して、吸着パッド１６ａより浮き上がっている。そのため、押圧ローラ１９が吸着パッド１６ａ上に到達するまでの間に、ガラス基板７からの反力が大きくなり、上記と同様にして、ガラス基板７が徐々に矯正されて吸着パッド１６ａにより吸着される。

吸着アシスト部１８を駆動させた後に、いずれの圧力センサ４によっても吸着不良が検知されない場合、ガラス基板７は、吸着パッド１６ａに正常に吸着保持されているので、制御部２３は、エアーバルブ２１を制御して、アクチュエータ３０を後退させ、押圧ローラ１９をガラス基板７上から退避させる。
そして、ガラス基板７を吸着保持した状態で、スライダー１４、１５をＸ方向に同期して駆動し、ガラス基板７をベース部２ａの他端部側に向かって移動させる。
このように、押圧ローラ１９をガラス基板７上から側方に退避させた状態で、搬送機構８を移動することにより、ガラス基板７は、移動中に押圧ローラ１９からの接触負荷を受けないため、ガラス基板７を良好な状態で搬送することができる。

ガラス基板７上の各検査位置（各欠陥位置）が、顕微鏡３ａの視野に入るようにガラス基板７を搬送機構８によりＸ方向に移動させるとともに、顕微鏡３ａをＹ方向に移動させ、顕微鏡３ａで検査位置の拡大像を取得して外観検査を行う。
このようにして搬送機構８と顕微鏡３ａを駆動し、ガラス基板７と顕微鏡３ａをＸＹ方向に相対的に移動させて、すべての検査位置を検査するまでこれを繰り返す。
検査装置３の検査が終了したら、スライダー１４、１５を後退させ、ガラス基板７を基板搬入出部６に戻す。そして、吸着パッド１６ａによる吸着を解除し、リフター１１でガラス基板７を持ち上げてから、基板搬送ロボット５でガラス基板７を搬出する。

以上に述べたように、本実施形態の基板搬送装置２によれば、ガラス基板７が捩れていたり、反っていたりして、基板裏面７ｂが一部の吸着パッド１６ａに対して浮き上がっていても、各押圧ローラ１９によって基板表面７ａを押圧することで、基板裏面７ｂをすべての吸着パッド１６ａに密着させる吸着補助動作を行うことができるから、ガラス基板７を確実に吸着して保持することができる。
また、本実施形態では、ガラス基板７を進退方向に回転可能に保持された押圧ローラ１９で押圧するので、ガラス基板７に負荷をかける押圧ローラ１９の進出時に基板表面７ａを転がることで円滑な接触、押圧を行うことができる。しかもガラス基板７との接触は、押圧ローラ１９の進退および押圧ローラ１９の回転に伴って、接触位置を変えて徐々に行われるため、従来の場合に比べて、押圧によるガラス基板７の傷や割れの発生を格段に低減することができる。
また、押圧ローラ１９は、ばね２６、２６によって上下方向の中立位置に保持されているので、ガラス基板７からの反力に応じてばね２６の弾性復元力が発生して、ガラス基板７側に押し戻されるため、押圧ローラ１９がガラス基板７上を飛び跳ねたりすることなく、安定した接触状態を保って押圧を行うことができる。

また、本実施形態の基板検査システム１によれば、基板搬送装置２を用いることで、反りや捩れが生じたガラス基板７でも、反りや捩れを矯正して吸着パッド１６ａの整列面上に確実に吸着保持することができるので、ガラス基板７が浮き上がって検査精度が低下することを防止することができる。
また、ガラス基板７の基板表面７ａを傷つけることなくガラス基板７の裏面で吸着保持することができるので、ガラス基板７の品質を損なうことなく検査を行うことができる。

次に、本実施形態の第１変形例について説明する。
図６は、本発明の第１の実施形態の第１変形例に係る基板搬送装置の動作を説明する模式的な平面図である。
本変形例の基板搬送装置２は、上記第１の実施形態と同様の構成を備えるが、上記第１の実施形態では、ガラス基板７の吸着動作時に、すべてのアクチュエータ３０を進出させるのに対して、圧力センサ４の検出出力に応じてアクチュエータ３０を選択的に進退させる点が異なる。以下では、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

本変形例では、ガラス基板７を吸着保持する際に、制御部２３は、吸着不良を検知した圧力センサ４に対応するアクチュエータ３０のみを、選択的に進退させる制御を行うようにする。
例えば、図６に示すように、吸着不良を検知した圧力センサ４が、Ｘ方向先端側の５つの吸着部１６では圧力センサ４Ａ、Ｘ方向の中間部の３つの吸着部１６では圧力センサ４Ｂ、Ｘ方向の後端部の５つの吸着部１６では、圧力センサ４Ｃ、４Ｄが、吸着不良を検視したとする。このとき、制御部２３は、圧力センサ４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄが設けられた吸着部１６にそれぞれ対応する位置の、押圧ローラ１９Ａ、１９Ｂ、１９Ｃ、１９Ｄを進出させ、それぞれの吸着部１６の吸着補助を行う。
これらの進出動作により、各圧力センサ４の吸着不良が解消された場合、進出された各押圧ローラ１９を後退させる制御を行う。
このようにすれば、吸着不良を起こしていない吸着部１６上には、押圧ローラ１９が進出しないので、上記第１の実施形態に比べて、ガラス基板７への接触負荷がより低減される。

次に、本実施形態の第２変形例について説明する。
本変形例は、第１変形例の制御に変形を加えたもので、制御部２３は、ガラス基板７を搬送する間、吸着解除状態以外では、常時、圧力センサ４の出力をモニタし、吸着不良を検知した場合には、直ちに対応する吸着部１６へ向けて、押圧ローラ１９を進出させる制御を行うようにする。
この場合、基板搬入出部６での吸着工程に限らず、搬送中も吸着不良を検知するたびに、対応する吸着部１６の吸着補助を行うので、搬送中も確実にガラス基板７を吸着保持することができる。
なお、押圧ローラ１９が、検査装置３の検査の妨げとならない場合には、検査工程でも同様の吸着補助動作を行うようにしてもよい。

次に、本実施形態の第３変形例について説明する。
図７は、本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板搬送装置の主要部の構成を示す斜視図である。図８（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板搬送装置の動作の様子を示す図７のＣ視の側面図である。

本変形例の基板搬送装置５０は、図１に示すように、上記第１の実施形態の基板搬送装置２において、搬送機構８に代えて搬送機構６０を備えたものである。
搬送機構６０は、図７、８に示すように、上記第１の実施形態の吸着アシスト部１８に代えて、吸着アシスト部６１をスライダー１４、１５上にそれぞれ設けたものである。
吸着アシスト部６１は、上記第１の実施形態の押圧ローラ支持アーム２５に代えて、押圧ローラ支持アーム３２を備え、上記第１の実施形態のアーム保持部２７を削除し、アクチュエータ保持部３１、乗り越え板２９（位置規制手段）、乗り越えローラ２８を追加したものである。以下では、上記第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。

吸着アシスト部６１のアクチュエータ本体３０ａの進退方向の先端部には、押圧ローラ支持アーム３２の基端部が固定されている。
押圧ローラ支持アーム３２は、図７に示すように、先端側に４本のアーム部を備え、その２本一組で、それぞれ押圧ローラ１９を回転自在に保持している。各押圧ローラ１９は、Ｘ方向に沿って同軸に整列され、吸着部１６、ガラス基板７に対して上記第１の実施形態と同様の位置関係とされている。

乗り越えローラ２８は、アクチュエータ本体３０ａの進退方向の先端部の下面側に設けられ、押圧ローラ１９のローラ支軸２５ａと平行な回転軸を中心として回転自在とされたものである。

アクチュエータ保持部３１は、スライダー１４、１５のガラス基板７の側方側の上端部において、ＹＺ面内で回動可能な回動支点３１ａにより回動支持されている。このアクチュエータ保持部３１の上面に、アクチュエータ駆動部３０ｂを下面が固定されている。そのため、アクチュエータ本体３０ａが回動支点３１ａを中心として、ＹＺ面内で回転できるようになっている。
そして、アクチュエータ保持部３１は、回動支点３１ａに対してガラス基板７よりの位置に、スライダー１５（１４）との間でＺ方向の引張力を付勢するばね２６が設けられている。

乗り越え板２９は、アクチュエータ３０の下方において、略Ｙ方向に沿って延ばされた十分な剛性を有する板状部材であり、その上面に乗り越えローラ２８が当接される。そのため、アクチュエータ本体３０ａの進退に際して、乗り越えローラ２８が、乗り越え板２９の上面の形状に沿って転がるので、乗り越え板２９は、乗り越えローラ２８の移動軌跡を規制するガイド部材となっている。
乗り越え板２９のＸ方向視の形状は、本実施形態では、Ｙ方向に沿って延びる平板の一部に、例えば曲げ加工などによって、上方に突出する山形の突部２９ａが設けられている。そして、アクチュエータ本体３０ａを進出させたとき、押圧ローラ１９が、基板端部７ｃの近傍で上方に移動し、基板端部７ｃ上で最大の高さとなり、基板端部７ｃを超えてから下降して基板表面７ａに着地して、ガラス基板７を下方に押圧できるような形状とされている。突部２９ａの最大高さは、ガラス基板７に想定される反りの範囲で、基板端部７ｃと押圧ローラ１９とが接触しない高さに設定する。

このような吸着アシスト部６１によれば、ばね２６により、乗り越えローラ２８が、乗り越え板２９に当接する状態で、Ｙ方向に進退される。そして、アクチュエータ本体３０ａの後退時（図８（ａ）参照）には、押圧ローラ１９が基板端部７ｃに略対向して、押圧ローラ１９の下端部がガラス基板７の押圧位置より低い状態とされ、アクチュエータ本体３０ａの進出とともに、Ｙ方向に水平に移動する。
そして、乗り越えローラ２８が突部２９ａにさしかかると、図８（ｂ）に示すように、突部２９ａの傾斜に沿って乗り越えローラ２８が移動し、アクチュエータ本体３０ａおよびその先端の押圧ローラ支持アーム３２が、回動支点３１ａを中心として図示時計回りに回動しつつＹ方向に進出される。
このため、乗り越えローラ２８が突部２９ａに到達すると押圧ローラ１９は、基板端部７ｃに対して十分高い位置に上昇されるので、ガラス基板７に反りが生じていても、押圧ローラ１９と基板端部７ｃとの接触を回避することができる。
さらにアクチュエータ本体３０ａが進出すると、乗り越えローラ２８が突部２９ａに沿って降下し、押圧ローラ１９が基板表面７ａに当接し、所定の押圧力でガラス基板７を押圧する状態となる。そのため、基板端部７ｃを越えた位置で、押圧ローラ１９の押圧が始まり、吸着パッド１６ａに対向する位置に進出する間、徐々にガラス基板７を押圧していく（図８（ｃ）参照）。

このように、本変形例によれば、押圧ローラ１９を進出させる際、基板端部７ｃに接触することなく上方に越えてから、基板表面７ａを押圧するので、ガラス基板７が大きく反っている場合にも、押圧ローラ１９が基板端部７ｃに衝突したり、引っかかったりすることを回避することができる。そのため、ガラス基板７にＹ方向の余計な押圧負荷をかけることなくＺ方向に円滑に押圧することができる。

［第２の実施形態］
本発明の第２の実施形態に係る基板搬送装置について、それを用いた基板検査システムとともに説明する。
図９は、本発明の第２の実施形態に係る基板搬送装置を備える基板検査システムの概略構成を示す平面図である。

本実施形態の基板検査システム１００は、吸着補助部を搬送機構と別体とし、搬送機構を所定位置に移動した時に吸着補助部による吸着補助動作を行って、基板を吸着するようにしたものであり、図９に示すように、上記第１の実施形態の基板搬送装置２に代えて基板搬送装置７０を備える。
本実施形態の基板搬送装置７０は、上記第１の実施形態の搬送機構８に代えて搬送機構７２を備え、基板浮上ステージ９上に搬入する位置である基板搬入出部６においてガラス基板７の載置位置のＹ方向の両側方に、それぞれ３個の吸着アシスト部７１（吸着補助部）を設けたものである。
ここで、搬送機構７２は、搬送機構８から、吸着アシスト部１８を削除したものである。また、吸着アシスト部７１は、上記第１の実施形態の吸着支持部１７に固定された吸着アシスト部１８と同様の構成を、吸着支持部１７に代えてベース部２ａに固定したものである。

各吸着アシスト部７１は、本実施形態のスライダー１４、１５上の吸着支持部１７にそれぞれ対応して設けられており、各吸着アシスト部７１には、本実施形態の各吸着支持部１７上の各吸着部１６に対応した複数の押圧ローラ１９が設けられている。
そして、各吸着アシスト部７１の配置位置は、Ｘ方向の配列ピッチがスライダー１４、１５上の吸着部１６の配置ピッチに合わされており、基板搬送ロボット５によって基板搬入出部６に移載されたガラス基板７を吸着する位置において、各吸着部１６と各吸着アシスト部７１とが、上記第１の実施形態と同様の位置関係に対向される設定となっている。

本実施形態の基板搬送装置７０によれば、上記第１の実施形態と同様にして、ガラス基板７を基板搬入出部６に搬入し、基板浮上ステージ９上に浮上させ、ガラス基板７を吸着部１６上に載置した状態で、上記第１の実施形態と同様にして、必要に応じて押圧ローラ１９を進出させて基板表面７ａを押圧し、進出先の吸着部１６でのガラス基板７の吸着補助動作を行う。
各圧力センサ４により、すべての吸着部１６で吸着保持が完了したことが検知されると、進出した押圧ローラ１９を基板表面７ａ上から後退させる。
そして、スライダー１４、１５をＸ方向に移動して、ガラス基板７を搬送し、検査工程を行う。

本実施形態によれば、吸着アシスト部７１を搬送機構７２の外部に設けるので、搬送機構７２の構成を簡素化することができる。

なお、上記の説明では、吸着部を有する搬送機構が搬送方向に直交する基板の両側縁部側に設けられ、基板を両側縁部で吸着保持する場合の例で説明したが、十分な保持力が得られる場合には、基板のいずれかの側縁部で吸着保持するようにしてもよい。

また、上記の第１の実施形態の説明では、押圧ローラ進退機構が押圧ローラを選択的に進退される構成の例で説明したが、選択的に進退する押圧ローラは必要に応じて適宜に設定することができる。例えば、第２の実施形態の構成のように、隣接した吸着部に対して複数の押圧ローラをともに進退させてもよい。また、例えば、圧力センサ４の検出出力によらず常にすべての押圧ローラを用いて吸着補助を行う場合には、１つの押圧ローラ進退機構で進退させてもよい。

また、上記に説明した各実施形態、各変形例の各構成要素は、技術的に可能であれば、本発明の技術的思想の範囲内で適宜組み合わせて実施してもよい。

本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置を備える基板検査システムの概略構成を示す平面図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の主要部の構成を示す斜視図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の動作の様子を示す図２のＢ視の側面図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の概略構成を示す図１のＡ視の模式的な側面図である。 本発明の第１の実施形態に係る基板搬送装置の制御ブロック図である。 本発明の第１の実施形態の第１変形例に係る基板搬送装置の動作を説明する模式的な平面図である。 本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板搬送装置の主要部の構成を示す斜視図である。 本発明の第１の実施形態の第３変形例に係る基板搬送装置の動作の様子を示す図７のＣ視の側面図である。 本発明の第２の実施形態に係る基板搬送装置を備える基板検査システムの概略構成を示す平面図である。

符号の説明

１、 １００ 基板検査システム
２、 ５０、７０ 基板搬送装置
２ａ ベース部
３ 検査装置
３ａ 顕微鏡
４、４Ａ、４Ｂ、４Ｃ、４Ｄ 圧力センサ（吸着不良検知センサ）
６ 基板搬入出部
７ ガラス基板（基板）
７ａ 基板表面
７ｂ 基板裏面
７ｃ 基板端部
８、６０、７２ 搬送機構
９ 基板浮上ステージ（ステージ）
１２、１３ ガイド
１４、１５ スライダー
１６ 吸着部
１６ａ 吸着パッド
１６ｃ 吸気管路
１８、６１、７１ 吸着アシスト部（吸着補助部）
１９、１９Ａ、１９Ｂ、１９Ｃ、１９Ｄ 押圧ローラ
２３ 制御部
２５、３２ 押圧ローラ支持アーム
２６ ばね
２８ 乗り越えローラ
２９ 乗り越え板（位置規制手段）
３０ アクチュエータ（押圧ローラ進退機構）

Claims (7)

1. 基板を浮上させるステージと、
   該ステージに沿って移動可能に設けられるとともに、前記基板のいずれかの側縁部の裏面側で前記基板を吸着して保持する吸着部を有する搬送機構と、
   前記吸着部上に載置された前記基板を表面側から前記吸着部に押圧する押圧ローラと、該押圧ローラを前記基板の搬送方向の側方から進退させる押圧ローラ進退機構とを有する吸着補助部とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
2. 前記吸着補助部が、前記基板を前記ステージ上に搬入する位置に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
3. 前記吸着補助部が、前記搬送機構に一体に設けられたことを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
4. 前記吸着部が、前記搬送方向に沿って複数設けられ、
   前記押圧ローラを、前記複数の吸着部のいずれかの上方に選択的に進退させることができるようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の基板搬送装置。
5. 前記複数の吸着部が、吸着不良の有無を検知する吸着不良検知センサをそれぞれ備え、
   該吸着不良検知センサの検知出力に応じて、前記押圧ローラを選択的に進出させるようにしたことを特徴とする請求項４に記載の基板搬送装置。
6. 前記押圧ローラ進退機構が、
   前記押圧ローラの進出時に、前記基板の端部との接触を回避するために前記基板の表面に対する高さ方向の位置を規制する位置規制手段を備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の基板搬送装置。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の基板搬送装置と、
   該基板搬送装置の搬送経路上で前記基板の外観を検査する検査装置とを備えることを特徴とする基板検査システム。

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