JP2010083663A - 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法 - Google Patents

基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010083663A
JP2010083663A JP2008257848A JP2008257848A JP2010083663A JP 2010083663 A JP2010083663 A JP 2010083663A JP 2008257848 A JP2008257848 A JP 2008257848A JP 2008257848 A JP2008257848 A JP 2008257848A JP 2010083663 A JP2010083663 A JP 2010083663A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
glass substrate
unit
floating
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008257848A
Other languages
English (en)
Inventor
Yousuke Kataoka
陽輔 片岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Corp filed Critical Olympus Corp
Priority to JP2008257848A priority Critical patent/JP2010083663A/ja
Publication of JP2010083663A publication Critical patent/JP2010083663A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

【課題】基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法において、簡単な構成で確実にガラス基板の浮上状態を検知する。
【解決手段】基板(G)に対しエアを吐出するステージ部2と、基板(G)の浮上状態を、基板(G)に接触することで検知する検知部(3)と、を備える構成とする。好ましくは、検知部(3)は、ステージ部2の上部に配置される構成とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、液晶ディスプレイ(LCD)その他のフラットパネルディスプレイ(FPD)等に用いられる基板を浮上させる基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法に関する。
従来、液晶ディスプレイ(LCD)等のフラットパネルディスプレイ(FPD)の製造工程では、各製造工程で製造されたガラス基板(マザーガラス基板)に対し、ミクロ検査等の欠陥の検査が行われている。
ガラス基板を検査・搬送する際には、検査装置や搬送装置の振動が検査精度等に影響を与えないようにするために或いはガラス基板の破損を防ぐために、ガラス基板に対しエアを吐出する浮上ステージを用いる手法がとられている。
ガラス基板をエアにより浮上させる場合、ガラス基板に静電気が溜まってガラス基板と浮上ステージとの間に静電引力が作用することで、ガラス基板がステージに張り付く現象が生じる。このようにガラス基板が浮上ステージに張り付くと、ガラス基板を浮上ステージから剥がすときに、静電気によるスパークが生じ、ガラス基板が静電破壊することがある。
なお、ガラス基板の浮上ステージへの張り付きは、ガラス基板の裏面に付着した薬剤液が乾いていない場合に薬剤液が浮上ステージと接触することなどによって生じることもある。
上述のようにガラス基板が浮上ステージに張り付く態様としては、部分的な張り付きと全体的な張り付きとがある。
ガラス基板が部分的に浮上ステージに張り付く場合、張り付き面積が小さければ、ガラス基板を引きずりながら搬送できる場合もある。しかし、この張り付き部分が浮上ステージに引っ掛かってガラス基板が破損することがある。また、張り付き面積が比較的大きければ、保持部によるガラス基板の保持が外れてしまい、ガラス基板が浮上ステージ上に置き去りになることがある。場合によっては、保持部から外れてコントロールを失ったガラス基板が搬送装置や検査装置の何らかの部材と衝突して割れることもある。
一方、ガラス基板が全体的に浮上ステージに張り付く場合、保持部によるガラス基板の保持が外れてしまい、ガラス基板が浮上ステージ上に置き去りになることが多く、この場合には上述のようにガラス基板が割れることもある。また、ガラス基板が完全に浮上ステージに張り付いてしまうため、浮上ステージによりエアを吐出してもガラス基板は動かなくなってしまう。
ところで、ガラス基板の浮上量を検出する装置として、例えば、特許文献1記載の支持装置、特許文献2記載の搬送装置等が提案されている。
上記特許文献1記載の支持装置は、レーザ変位計を含む検出用ブロックを浮上ステージ上に配置し、レーザにより非接触でガラス基板の浮上量を検出している。
また、上記特許文献2記載の搬送装置は、ガラス基板の底面と浮上ステージの上面との間に電圧を印加し、ガラス基板が浮上ステージに接触したことを浮上ステージ上の電流を検出することで、接触箇所を特定する。
特開2006−266352号公報 特開2007−76836号公報
しかしながら、上記特許文献1記載の支持装置は、レーザにより非接触でガラス基板の浮上量を検出するため、ガラス基板の浮上量を検出するための構成が複雑になる。また、非接触で浮上量を検出する場合、ガラス基板の浮上量は例えば1mm以下であるため、確実に浮上量を検出するのが困難である。
上記特許文献2記載の搬送装置は、ガラス基板の底面及び浮上ステージの上面を導電体で構成する必要がある。また、電流を検出できるのは、ガラス基板が浮上ステージに接触したときであり、ガラス基板の浮上ステージへの接触を未然に防ぐことができない。
本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、簡単な構成で確実に基板の浮上状態を検知することができる基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明の基板浮上装置は、基板に対しエアを吐出するステージ部と、上記基板の浮上状態を、この基板に接触することで検知する検知部と、を備える構成とする。
上記課題を解決するために、本発明の基板検査装置は、上記基板浮上装置と、この基板浮上装置のステージ部上で上記基板の検査を行う基板検査部と、を備える構成とする。
上記課題を解決するために、本発明の基板検査方法は、エアにより浮上させた基板の検査を行う基板検査方法において、上記基板の浮上状態を、検知部が基板に接触することで検知するようにする。
本発明によれば、基板の浮上状態を、検知部が基板に接触することで検知するため、簡単な構成で確実に基板の浮上状態を検知することができる。
以下、本発明の実施の形態に係る基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法について、図面を参照しながら説明する。
本実施の形態では、フラットパネルディスプレイ(FPD)の製造ラインで製造される矩形状のガラス基板(マザーガラス基板)Gを浮上させて搬送する基板浮上装置1、及び、この基板浮上装置1を備える基板検査装置10について説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置1を示す概略斜視図である。
図2は、基板浮上装置1を示す概略構成図である。
図1及び図2に示す基板浮上装置1は、ガラス基板Gに対しエアを吐出するステージ部2(図1では、浮上プレート2aのみ図示)と、ガラス基板Gの浮上状態をガラス基板Gに接触することで検知する複数の接触式スイッチ(検知部)3と、ガラス基板Gをステージ部2上で搬送する基板搬送部4と、基板搬送軸部5と、基板保持部6と、制御部(吐出量制御部・搬送速度制御部)7とを備える。
ステージ部2は、基板搬送方向(矢印D)に平行に延びる複数の浮上プレート2aを有
する。また、ステージ部2は、浮上プレート2aがその上面に形成された吐出孔2bから上方にエアを吐出することで、ガラス基板Gに対しエアを吐出している。
各浮上プレート2aには、図2に示すように、バルブポート8を介して圧空源9が接続されている。また、各浮上プレート2aには、吐出孔2bから吐出されるエアの圧力を検知する圧力センサ10がそれぞれ接続されている。
接触式スイッチ3は、ステージ部2の上部に配置され、図2に示すように、ステージ部2の上面から突出する当接ピン3aを有する。
接触式スイッチ3は、当接ピン3aがガラス基板Gに上方から押圧されてスイッチが切り替わることでガラス基板Gの浮上状態、例えば、ガラス基板Gの浮上高さH1が一定高さ以下となったこと、を検知する。
ガラス基板Gの所定の浮上高さH1が200μm〜300μmである場合、当接ピン3aがステージ部2の上面から突出する高さH2は、例えば数μm〜数十以下とするとよい。当接ピン3aの突出する高さをガラス基板Gの所定の浮上高さH1に近似させると、ガラス基板Gをステージ部2上で搬送する際に、当接ピン3aの側面にガラス基板Gが接触してしまうためである。
なお、本実施の形態では、接触式スイッチ3の当接ピン3aは、ステージ部2から上方に突出するが、ガラス基板Gを一方向にのみ搬送する場合には、鉛直上方から基板搬送方向(矢印D)と反対方向に傾けてステージ部2から当接ピン3aを突出させることで、鉛直下方へのガラス基板Gによる押圧に加え、基板搬送方向(矢印D)へのガラス基板Gによる押圧にも対応することができ、したがって、ガラス基板Gと当接ピン3aとの接触によるガラス基板Gの破損を確実に防ぐことができる。
当接ピン3aが上方から押圧されて接触を検知するまでの距離(高さ)は、ガラス基板Gの浮上高さH1が200μm〜300μmである場合、数μm〜数10μm程度とするとよい。
基板搬送部4は、ステージ部2の片側において基板搬送方向(矢印D)に延びる基板搬送軸部5のガイド部5aに沿って、例えばリニアモータ等の図示しない駆動手段によって移動する。
基板搬送部4には、ガラス基板Gの底面端部を吸着保持する3つの基板保持部6が配置されている。これら基板保持部6は、ガラス基板Gを吸着する吸着部6a及びこの吸着部6aを支持する支持部6bを有する。
そのため、ガラス基板Gは、基板保持部6により吸着保持された状態で基板搬送部4によって基板搬送方向(矢印D)に移動可能となっている。
制御部7は、接触式スイッチ3がガラス基板Gと接触してスイッチが切り替わった信号を受けたときにガラス基板Gがステージ部2上で静止している場合、エアの増圧及び増量の少なくとも一方の信号をバルブポート8に送る。なお、制御部7は、エアの増圧を行う場合には、圧力センサ10により検出されたエアの圧力を基に増圧を行う。
また、制御部7は、接触式スイッチ3がガラス基板Gと接触してスイッチが切り替わった信号を受けたときに基板搬送部4がガラス基板Gを搬送している場合、エアの増圧及び増量の少なくとも一方の信号をバルブポート8に送る制御、並びに、搬送を停止させるか又は搬送速度を下げる信号を基板搬送部4に送る制御、のうち少なくとも一方の制御を行う。
なお、制御部7は、接触式スイッチ3がガラス基板Gと接触してスイッチが切り替わった信号を受けたときに、基板保持部6によるガラス基板Gの保持を解除し、ガラス基板Gを引きずりながら搬送するのを回避するようにしてもよい。
また、制御部7は、例えば、10個中7個以上の接触式スイッチ3が接触を検知していればガラス基板Gがステージ部2に完全に張り付いていると判断し、4個以上の接触式スイッチ3が接触を検知していれば部分的に張り付いていると判断し、3個以下の接触式スイッチ3のみが接触を検知していれば張り付いていないと判断するようにするとよい。また、制御部7は、例えば、接触が一定時間以上続かなければ張り付きでないと判断するようにしてもよい。更には、反りや撓みが生じやすいガラス基板Gについては、1つや2つの接触式スイッチ3が接触を検知するだけでも、張り付いていると判断するようにしてもよい。
制御部7は、ガラス基板Gがステージ部2に完全に張り付いていると判断した場合には、ガラス基板Gの搬送を停止させ、部分的に張り付いていると判断した場合には搬送速度を下げる、といったように、接触の度合いによって、異なる制御を行うようにしてもよい。
図3は、上記基板浮上装置1を備える基板検査装置10を示す概略平面図である。なお、図3においては、浮上プレート2aの梨地の黒い点が吐出孔2bを示すものとする。
基板検査装置10は、上述の基板浮上装置1と、固定式のガントリ11と、検査ヘッド(基板検査部)12とを備える。
ガントリ11は、ステージ部2及び基板搬送軸部5を跨ぐ門型形状を呈する。
検査ヘッド12は、ステージ部2上でガラス基板Gの拡大観察(検査)を行う顕微鏡、ガラス基板Gの画像を撮像する撮像部等を有する。なお、検査ヘッド12は、ガラス基板Gの欠陥を修正するためのレーザ照射手段等を有するものとしてもよい。
検査ヘッド12は、ガントリ11の側面に設けられた図示しないガイド部に沿って基板搬送方向(矢印D)と直交する方向に移動自在となっており、基板搬送部4によって基板搬送方向(矢印D)に移動するガラス基板Gとの相対位置を、直交する2軸方向に自在に移動させることが可能となっている。
以下、ガラス基板Gの浮上状態の検知方法及び検査方法について、上述の図2及び図3を参照しながら説明する。
まず、図示しない搬送ロボットにより、図3に示す基板検査装置10のステージ部2にガラス基板Gが搬送される。ステージ部2に搬送されてきたガラス基板Gは、ステージ部2上の浮上プレート2aの吐出孔2bから吐出されるエアにより浮上し、図示しない基板位置決め機構によりステージ部2上で位置決めされる。位置決めされたガラス基板Gは、基板保持部6の吸着部6aにより吸着保持される。
ガラス基板Gがステージ部2に搬入されてから吸着部6aにより吸着保持されるまでの間に接触式スイッチ3がガラス基板Gとの接触を検知した場合には、制御部7は、上述のエアの増圧・増量の信号をバルブポート8に送る。なお、制御部7は、接触式スイッチ3のスイッチが元に戻ってガラス基板Gがステージ部2に接触しなくなったと判断するまでは、エアの更なる増圧・増量の信号を断続的に送るようにするとよい。
吸着部6aにより吸着保持されたガラス基板Gは、基板搬送部4が図示しないリニアモータ等の駆動手段によって基板搬送軸部5のガイド部5aに沿って移動することで、基板
搬送方向(矢印D)に搬送される。
ガラス基板Gの一部が検査ヘッド12の下方まで到達すると、上述の直交2軸方向へのガラス基板Gと検査ヘッド12との相対移動を行いながら、検査ヘッド12の顕微鏡等により拡大観察等の検査が行われる。制御部7は、ガラス基板Gの搬送中及び検査中に接触式スイッチ3がガラス基板Gとの接触を検知した場合には、ガラス基板Gが静止した状態では、エアの増圧及び増量の少なくとも一方の信号をバルブポート8に送る制御を行い、ガラス基板Gが搬送されている最中であれば、エアの増圧及び増量の少なくとも一方の信号をバルブポート8に送る制御、並びに、ガラス基板Gの搬送を停止させる信号又は速度を下げる信号を基板搬送部4に送る制御、のうち少なくとも一方の制御を行う。
検査が終了したガラス基板Gは、図示しない搬送ロボットにより、ステージ部2から搬出され、基板検査装置10h、新たに搬入されてきたガラス基板Gに対し、上述の処理を同様に行う。
以上説明した本実施の形態では、ガラス基板Gの浮上状態を、接触式スイッチ(検査部)3がガラス基板Gに接触することで検知するため、簡単な構成で確実にガラス基板Gの浮上状態を検知することができる。
また、本実施の形態では、接触式スイッチ(検査部)3は、ステージ部2の上部に配置されるため、基板浮上装置1及び基板検査装置10の構成をより簡素にすることができる。
また、本実施の形態では、検知部として接触式スイッチ3を用いているため、基板浮上装置1及び基板検査装置10の構成をより簡素にすることができる。
また、本実施の形態では、制御部7は、接触式スイッチ3により検知された浮上状態に基づいてステージ部2によるエアの吐出量を制御するため、ガラス基板Gの破損や静電気の電位の増大を防ぐことができる。
また、本実施の形態では、制御部7は、接触式スイッチ3により検知された浮上状態に基づいて基板搬送部4によるガラス基板Gの搬送を停止させる又は搬送速度を下げる。そのため、ガラス基板Gの破損を防ぐことができる。
なお、本実施の形態では、検知部として接触式スイッチ3を設ける例について説明したが、検知部としては、ガラス基板Gと接触することでガラス基板Gの浮上状態を検知することができるものであればよく、例えば、検知部に圧電素子を用いて圧電素子がガラス基板Gに押圧されたことを制御部7が電圧の計測により検知するようにしてもよく、また、ステージ部2から突出するピンが上方からガラス基板Gにより押圧された距離を測定し浮上高さを検知するものとしてもよい。
また、本実施の形態では、ステージ部2の全面に亘って浮上プレート2aを配置しているが、例えば、検査ヘッド12の下方のみに浮上プレート2aを配置して、その他の部分には搬送ローラ等の他の搬送手段を配置してもよい。
また、本実施の形態では、基板保持部6により保持したガラス基板Gを基板搬送部4によって基板搬送方向(矢印D)に搬送する基板検査装置10について説明したが、ガラス基板Gを静止させた状態のままガントリ11を基板搬送方向(矢印D)に移動させてガラス基板Gの検査を行うようにしてもよい。
また、本実施の形態では、接触式スイッチ3をステージ部2の上部に配置する例につい
て説明したが、接触式スイッチ3は、ステージ部2の側方に配置されてガラス基板G端部との接触の検知を行うものとしてもよい。
また、本実施の形態では、基板検査装置10の基板検査部として、顕微鏡を有する検査ヘッド12を用いる例について説明したが、ガラス基板Gの検査を行うものであれば基板検査部として用いることができ、例えば、ラインセンサ等を用いてもよい。
本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を示す概略斜視図である。 本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を示す概略構成図である。 本発明の一実施の形態に係る基板検査装置を示す概略平面図である。
符号の説明
1 基板浮上装置
2 ステージ部
2a 浮上プレート
2b 吐出孔
3 接触式スイッチ
3a 当接ピン
4 基板搬送部
5 基板搬送軸部
5a ガイド部
6 基板保持部
6a 吸着部
6b 支持部
7 制御部
8 バルブポート
9 圧空源
10 圧力センサ
11 ガントリ
12 検査ヘッド
G ガラス基板

Claims (10)

  1. 基板に対しエアを吐出するステージ部と、
    前記基板の浮上状態を、該基板に接触することで検知する検知部と、
    を備えることを特徴とする基板浮上装置。
  2. 前記検知部は、前記ステージ部の上部に配置されることを特徴とする請求項1記載の基板浮上装置。
  3. 前記検知部は、接触式スイッチであることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板浮上装置。
  4. 前記検知部は、圧電素子であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の基板浮上装置。
  5. 前記検知部により検知された浮上状態に基づいて前記ステージ部によるエアの吐出量を制御する吐出量制御部を更に備えることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項記載の基板浮上装置。
  6. 前記基板を前記ステージ部上で搬送する基板搬送部と、
    前記検知部により検知された浮上状態に基づいて前記基板搬送部による前記基板の搬送を停止させる又は搬送速度を下げる搬送速度制御部と、
    を更に備えることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項記載の基板浮上装置。
  7. 請求項1から請求項6のいずれか1項記載の基板浮上装置と、
    該基板浮上装置のステージ部上で前記基板の検査を行う基板検査部と、
    を備えることを特徴とする基板検査装置。
  8. エアにより浮上させた基板の検査を行う基板検査方法において、
    前記基板の浮上状態を、検知部が基板に接触することで検知する、
    ことを特徴とする基板検査方法。
  9. 前記検知された浮上状態に基づいて前記ステージ部によるエアの吐出量を制御することを特徴とする請求項8記載の基板検査方法。
  10. 前記検知された浮上状態に基づいて前記基板の搬送を停止させる又は搬送速度を下げることを特徴とする請求項8又は請求項9記載の基板検査方法。
JP2008257848A 2008-10-02 2008-10-02 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法 Withdrawn JP2010083663A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008257848A JP2010083663A (ja) 2008-10-02 2008-10-02 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008257848A JP2010083663A (ja) 2008-10-02 2008-10-02 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010083663A true JP2010083663A (ja) 2010-04-15

Family

ID=42248001

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008257848A Withdrawn JP2010083663A (ja) 2008-10-02 2008-10-02 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010083663A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010147232A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Ihi Corp 薄板の搬送面接触状態検出方法
JP2011243834A (ja) * 2010-05-20 2011-12-01 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置,基板保持機構,基板位置ずれ検出方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010147232A (ja) * 2008-12-18 2010-07-01 Ihi Corp 薄板の搬送面接触状態検出方法
JP2011243834A (ja) * 2010-05-20 2011-12-01 Tokyo Electron Ltd プラズマ処理装置,基板保持機構,基板位置ずれ検出方法
KR101314511B1 (ko) * 2010-05-20 2013-10-07 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 플라즈마 처리 장치, 기판 유지 기구, 기판 위치 어긋남 검출 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6023440B2 (ja) 塗布装置
JP2008166348A (ja) 基板搬送装置
JP2009033214A (ja) 基板搬送装置
JP2008063020A (ja) 基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システム
JP5028919B2 (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
JP4957133B2 (ja) 基板搬送装置及び基板搬送方法
CN101883987A (zh) 探针卡
JP5943799B2 (ja) ガラス基板の搬送装置、および、ガラス基板の製造方法
JP2010227850A (ja) 基板塗布装置および基板塗布方法
JP2007051001A (ja) 薄板状材料の搬送方法及び装置
KR102605917B1 (ko) 스크라이빙 장치
JP2008076170A (ja) 基板検査装置
JP5303129B2 (ja) 塗布装置及び塗布方法
JP2007281285A (ja) 基板搬送装置
JP2010083663A (ja) 基板浮上装置、基板検査装置、及び、基板検査方法
JP2009166955A (ja) 分離装置及び基板の検査装置
JP2014135390A (ja) 基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法
JP5165718B2 (ja) 基板処理装置
JP2011199218A (ja) 基板搬送装置およびそれを用いた基板検査システム
JP2004238133A (ja) 薄板把持装置、薄板搬送装置および薄板検査装置
CN108455164B (zh) 传送组件及传送装置
JP2010066242A (ja) 基板検査装置、及び、基板検査方法
JP2012182273A (ja) ガラス基板インライン検査方法及びその装置
JP2014130899A (ja) 基板搬送装置、基板検査装置及び基板搬送方法
JP2010064893A (ja) 基板搬送装置、基板搬送方法、及び、クリーニング方法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20111206