JP6023440B2

JP6023440B2 - 塗布装置

Info

Publication number: JP6023440B2
Application number: JP2012054677A
Authority: JP
Inventors: 森　俊裕; 俊裕森; 健史濱川
Original assignee: Toray Engineering Co Ltd
Current assignee: Toray Engineering Co Ltd
Priority date: 2012-03-12
Filing date: 2012-03-12
Publication date: 2016-11-09
Anticipated expiration: 2032-03-12
Also published as: TWI559365B; TW201338017A; CN103301998A; KR102018506B1; JP2013191604A; CN103301998B; KR20130105332A

Description

本発明は、搬送する基板に対して塗布液を塗布する塗布装置に関する。

液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、太陽電池パネル等には、画素、回路パターン等が形成された基板が用いられており、このような基板は、例えばレジスト液（塗布液）を塗布して行うフォトリソグラフィ技術が用いられることにより、製作されている。
そして、塗布液を基板に対して塗布する装置として、基板を水平として固定するステージと、幅方向に長いスリットが内部に形成されているノズルとを備えた塗布装置が知られており、この塗布装置によれば、ステージ上の基板に対してノズルを水平方向に移動させながらスリットから塗布液を吐出することで、基板の表面に塗布液による塗膜を形成することができる。また、スリットから塗布液を吐出する際、基板とノズル（スリット）との間には高さ方向の隙間が設けられた状態にあり、この隙間の値を調整するために、ノズルは昇降可能に構成されている。

このような塗布装置によって塗布作業を行い、基板上に形成される塗膜の品質を向上させる（膜厚を均一とする）ためには、ノズルを基板（水平面）に対して平行とし、かつ、ノズルと基板との隙間を幅方向に一定とする必要がある。このために、ステージの端部であってノズルの幅方向両端部に対応する位置それぞれに、センサが設けられている。そして、これらセンサの上方までノズルを水平方向に移動させ、これらセンサによってノズルの幅方向両端部の高さの差を求め、その差に基づいてノズルを昇降させることでその傾き等の姿勢を調整する。これにより、ノズルを水平とし、かつ、基板との隙間を一定とすることができる。

このように、ノズルがステージ上を水平方向に移動する型式の塗布装置の場合、別の機構を設けずに、ノズルの姿勢を調整するためのセンサを設置することは比較的容易であるが、ノズルが上下に昇降するのみであって基板が水平方向に搬送される型式の塗布装置（例えば特許文献１参照）の場合、前記センサの構成をそのまま採用することはできない。

特開２００５−２４４１５５号公報（図２参照）

そこで、基板が水平方向に搬送される型式の塗布装置の場合、図６に示すように、ノズル９１を取り付けている昇降体９５を昇降させるガイドとなる支柱９０から、ノズル９１の幅方向の端部９２に向かって延びるアーム９３を設け、このアーム９３の先端にセンサ９４を取り付ける構成が考えられる。しかし、この場合、アーム９３は長くなり、また、ノズル９１を清掃（初期化）するためのユニット（図示せず）がノズル９１に接近移動した際に、このユニットの一部がアーム９３と干渉することから、これを避けるためにアーム９３又はユニットの形状に工夫が必要となり、構成が複雑になるという問題点がある。

アーム９３又はユニットの形状を工夫すれば、センサ９４をノズル９１の幅方向の端部９２の直下に設置させることは可能であるが、センサ９４による高い測定精度を確保するためには剛性の高いアーム９３が必要となる。しかし、アーム９３の剛性を高めるためにその断面積を大きくすると、ユニットとの干渉がさらに問題となる。これとは反対に、ユニットとアーム９３との干渉を防ぐためにアーム９３を細くすると、アーム９３の剛性が低下し、センサ９４の支持が不安定となって正確な計測が困難となる。

そこで、本発明の目的は、搬送される基板に対して塗布が行われる塗布装置において、簡単な構成によって、センサによるノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出精度を高めることにある。

（１）本発明は、基板を水平な搬送方向に搬送する搬送機構部と、前記搬送方向に直交する水平な幅方向に長くかつ搬送される基板に対して高さ方向の隙間をあけて対向するノズル、及び、このノズルを高さ方向に昇降させる昇降駆動部を有し、当該基板に対して当該ノズルから塗布液を吐出する塗布機構部と、水平面に対する前記ノズルの姿勢を調整するために当該ノズルの幅方向両端部における高さ位置を検出するセンサとを備え、前記搬送機構部は、搬送する基板の幅方向両側に設置され前記搬送方向に延びているレールと、前記レールに沿って移動するベース部材と、前記ベース部材に搭載され前記基板を搬送する際に当該基板の幅方向両端部を保持する保持部とを有し、前記センサは、前記保持部と共に前記ベース部材に搭載されており、前記ベース部材は、前記レールの上面に対して当該ベース部材を浮上させる浮上機構部を有し、この浮上機構部によって当該ベース部材は当該レールに対して浮上した状態で移動可能であり、前記センサにより前記ノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出を行う際、前記ベース部材に搭載の前記センサが前記ノズルの直下に位置している状態で、前記浮上機構部による前記ベース部材の浮上を解除して、当該ベース部材を前記レール上に着座させる。

本発明によれば、搬送機構部によって基板を水平な搬送方向に搬送するために、レールは水平面に対して寸法精度良く構成されており、また、この基板を保持する保持部を搭載しているベース部材も、水平面に対して寸法精度良く構成されかつ水平を保った状態で精度良くレールに沿って移動する構成とされる。そこで、このようなベース部材にセンサが搭載されていることで、水平面に対するセンサの取り付け位置も高精度となり、このセンサによってノズルの幅方向両端部の高さ位置を精度良く検出することが可能となる。また、保持部は、基板の搬送の際にその基板の幅方向両端部を保持するものであることから、保持部及びこの保持部を搭載するベース部材は、基板の幅方向両端部に対応した位置に存在する。そして、このような位置に存在するベース部材にセンサを搭載することで、従来のような長いアームを必要とせずに、ノズルの幅方向両端部に対応した位置にセンサを設置することができ、センサを設けるための構成が簡単となる。
また、前記ベース部材は、前記レールの上面に対して当該ベース部材を浮上させる浮上機構部を有し、この浮上機構部によって当該ベース部材は当該レールに対して浮上した状態で移動可能であり、これにより、ベース部材はスムーズにレールに沿って移動することが可能となる。
そして、前記センサにより前記ノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出を行う際、前記ベース部材に搭載の前記センサが前記ノズルの直下に位置している状態で、前記浮上機構部による前記ベース部材の浮上を解除して、当該ベース部材を前記レール上に着座させる。
この場合、前記のとおり、レールは水平面に対して寸法精度良く構成されており、また、ベース部材も水平面に対して寸法精度良く構成されていることから、このようなベース部材をレール上に着座させることで、このベース部材に搭載されているセンサは、水平面に対して寸法精度が高い状態で、ノズルの直下に位置することができる。したがって、この状態で、センサがノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出を行うことで、その検出精度を高めることが可能となる。

（２）前記浮上機構部は、前記レールの上面に対して気体を噴出することによって前記ベース部材を浮上させる噴出部からなるのが好ましい。
この場合、噴出部から気体の噴出を行うことでベース部材を浮上させることができ、そして、この噴出を停止することでこの浮上を解除することができ、これらの切り換えが容易である。

（３）また、前記（２）に記載の塗布装置において、前記ベース部材を前記レール上に着座させる際に前記噴出部に残留する気体を外部に放出させる流路が、当該噴出部に接続されているのが好ましい。
制御装置によって、噴出部からの気体の噴出を停止させてベース部材をレール上に着座させようとしても、エア噴出部内にエアが残存していると、ベース部材が浮上したままの状態となって、ベース部材をレール上に着座させることができなくなるが、この流路によれば、このような不具合を防止することができる。この結果、前記センサにより前記ノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出を行う作業毎に、ベース部材の高さ位置を一定とすることができる（再現性が確保される）。

本発明によれば、水平面に対して寸法精度良く構成されているベース部材に、センサが搭載されていることから、このセンサによってノズルの幅方向両端部の高さ位置を精度良く検出することが可能となる。また、ベース部材にセンサを搭載することで、従来のように長いアームを必要とせずに、ノズルの幅方向両端部に対応した位置にセンサを設置することができ、センサを設けるための構成が簡単となる。

本発明の塗布装置の概略構成を示す斜視図である。レール、移動ユニット、浮上ステージ及びノズルを、搬送方向から見た図である。供給用エア流路及び排気用エア流路の説明図である。センサの説明図である。リセット機構の説明図である。従来の塗布装置の説明図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本発明の塗布装置１の概略構成を示す斜視図である。この塗布装置１は、搬送する薄板状の基板Ｗに対して、薬液やレジスト液等の液状物である塗布液を塗布するものであり、基板Ｗを水平な搬送方向に搬送する搬送機構部２と、この搬送機構部２によって搬送される基板Ｗに対して塗布液を吐出して塗布するノズル３０を有している塗布機構部３とを備えている。さらに、この塗布装置１は、搬送機構部２及び塗布機構部３の動作を制御するコンピュータからなる制御装置４を備えている。この塗布装置１は、固定状態にあるノズル３０に対して、基板Ｗが水平方向に搬送される型式の装置である。なお、本実施形態では、基板Ｗの搬送方向をＸ方向とし、このＸ方向に直交する水平方向（Ｙ方向）を幅方向という。そして、Ｘ方向とＹ方向とに直交するＺ方向を、高さ方向という。

本実施形態に係る搬送機構部２は、上面から気体（エア）を噴出して基板Ｗを浮上させる浮上ステージ２０と、この浮上ステージ２０の幅方向両側に設置されているレール２１と、浮上ステージ２０によって浮上させた基板Ｗの幅方向の端部Ｅを保持してレール２１に沿って水平移動する移動ユニット２２とを有している。なお、レール２１は、幅方向両側に設置されていることから、移動ユニット２２も幅方向両側に設けられている。

浮上ステージ２０は、複数に分割されており、搬送方向に並ぶ複数のステージユニットを備えている。浮上ステージ２０の幅方向寸法は基板Ｗの左右方向寸法よりも小さく、基板Ｗの幅方向の端部Ｅは浮上ステージ２０からはみ出した状態となる。噴出するエアの流量（噴出強さ）は制御装置４によって制御され、この制御により、基板Ｗを水平状の姿勢で浮上させる。この浮上ステージ２０の上面２０ａは、後に説明する調整作業の基準面Ｈ_０（図４参照）となることから、この上面２０ａが水平面となるようにして浮上ステージ２０は精度良く構成され設置されている。

レール２１は、搬送方向に直線状に延びており、搬送する基板Ｗの幅方向両側に設置されている。また、レール２１の横断面は矩形であり、その上面は水平であり、レール２１は精度よく構成され設置されている。
移動ユニット２２は、レール２１に沿って移動するベース部材２３と、このベース部材２３を移動させる駆動装置と、ベース部材２３に搭載され基板Ｗの搬送の際に基板Ｗの幅方向端部Ｅを保持する保持部とを有している。なお、本実施形態に係る駆動装置は、リニアモータ２４を含む構成からなり、また、本実施形態に係る保持部は、浮上した基板Ｗの幅方向端部Ｅの下面を吸着する吸着機構２５からなる。

吸着機構２５は、浮上ステージ２０の上流側に搬入され浮上させた基板Ｗの端部Ｅの下面を吸着し、その吸着状態を保ったまま、この吸着機構２５を搭載したベース部材２３が、制御装置４の制御に基づいてリニアモータ２４によって下流側まで移動する。これにより基板Ｗが水平方向に直線搬送される。また、吸着機構２５は、浮上ステージ２０の左右両側それぞれに設けられており、基板Ｗの片側の端部Ｅに沿って前後方向に所定間隔を有して複数台（本実施形態では三台）設けられている。片側の複数台の吸着機構２５は、共通するベース部材２３に搭載されており、一体となって移動する。

図２は、レール２１、移動ユニット２２、浮上ステージ２０及びノズル３０を、搬送方向から見た図である。前記のとおり、レール２１は横断面矩形であり、また、ベース部材２３は、このレール２１の上面２１ａと平行となる上側部材１１と、この上側部材１１の幅方向両側部から下へ延びる側壁部材１２，１３とを有し、レール２１の上部を上からと幅方向両側とから囲む断面形状を有している。

また、ベース部材２３は、レール２１の上面２１ａに対して非接触でこのベース部材２３を浮上させる浮上機構部を有しており、本実施形態に係る浮上機構部は、レール２１の上面２１ａに対してエア（圧縮エア）を噴出するエア噴出部２６である。エア噴出部２６は、上側部材１１に取り付けられており、本実施形態では幅方向に二つ設けられている。また、搬送方向についても、エア噴出部２６は並んで複数設置されている。エア噴出部２６は、その下部にエアパッド２７を有しており、このエアパッド２７内から圧縮エアをレール２１の上面２１ａに対して吹き付けており、このエアパッド２７は、上面２１ａから僅かに浮上した状態、すなわち非接触の状態となる。なお、エアパッド２７を、例えば、多孔質のカーボン、セラミック、焼結金属等から構成することができる。この浮上量、つまり圧縮エアの噴出量については制御装置４の制御に基づく。これらエア噴出部２６によれば、ベース部材２３はレール２１に対して浮上した状態でレール２１に沿って移動することができる。

また、図３に示すように、エア噴出部２６には、圧縮エアの供給源となるポンプ１４が接続され圧縮エアをエアパッド２７に供給する供給用エア流路１５の他に、エア噴出部２６（エアパッド２７）中に残留するエアを外部に放出（大気開放）させる排気用エア流路１６が接続されている。そして、全てのエア噴出部２６のポンプ側（上流側）の流路にはバルブ１７が設けられており、このバルブ１７によって、エア噴出部２６と繋がる流路を、供給用エア流路１５と排気用エア流路１６とのいずれか一方に選択することが可能である。この選択（バルブ１７の切り換え）は、制御装置４がバルブ１７に対して制御信号を送信することで実行される。塗布作業のために基板Ｗを搬送する際は、供給用エア流路１５が選択される。排気用エア流路１６が選択される場合としては、後に説明するが、水平面に対するノズル３０の姿勢を調整する調整作業の際である。

図１により塗布機構部３について説明する。塗布機構部３は、前記のとおり幅方向に長いノズル３０を有している。ノズル３０は、幅方向に長い昇降体３４に取り付けられている。ノズル３０内には、その幅方向のほぼ全長にわっってスリット３１が形成されており、スリット３１は、ノズル３０の先端（下端）で開口している。ノズル３０に塗布液が供給され、基板Ｗを搬送しながらスリット３１から塗布液を吐出させることで、基板Ｗの幅方向のほぼ全長（全幅）に対して塗布液を塗布することができる。そして、ノズル３０の先端は、搬送される基板Ｗに対して高さ方向の隙間をあけて対向した状態にある。

以上の搬送機構部２及び塗布機構部３によれば、基板Ｗは、浮上ステージ２０の上面から所定高さに浮上した状態となり、この状態で、基板Ｗの幅方向の端部Ｅの下面が、吸着機構２５によって吸着される。この吸着機構２５を搭載したベース部材２３がレール２１に沿って水平移動することにより、基板Ｗは水平方向に搬送され、この搬送の途中で、基板Ｗの上面に対してノズル３０から塗布液が吐出され塗膜が形成される。

また、塗布機構部３の一部として幅方向両側に支柱３３が設けられており、ノズル３０を取り付けている昇降体３４は、支柱３３，３３間に跨って設けられている。支柱３３は、昇降体３４の幅方向両端部を支持すると共に昇降体３４を上下方向に誘導するガイドとしての機能を有している。そして、塗布機構部３は、支柱３３に沿って昇降体３４を高さ方向に昇降させる昇降駆動部３２を有している。昇降駆動部３２は、両側の支柱３３それぞれに設けられており、昇降体３４の幅方向の端部を独立して上下移動させるアクチュエータからなる。また、昇降駆動部３２は制御装置４からの制御信号に基づいて動作可能であり、幅方向両側の昇降駆動部３２が同期して動作するとノズル３０を高さ方向に平行移動させることができ、また、一方の昇降駆動部３２のみが動作することでノズル３０の姿勢を調整することができる（調整作業）。例えば、ノズル３０が水平面に対して傾いている場合、調整作業として、その傾きを解消することができる。

以上の構成を備えた塗布装置１によって基板Ｗの上に塗布液を塗布する塗布作業を行うことが可能となるが、この基板Ｗ上に形成される塗布液による塗膜の品質を向上させる（膜厚を均一とする）ためには、ノズル３０は基板Ｗの上面（水平面）に対して平行であり、かつ、ノズル３０と基板Ｗとの隙間は幅方向に一定であるのが好ましい。
したがって、例えばノズル３０を昇降体３４から取り替える作業を行った場合に、取り替え後のノズル３０の姿勢を水平とする調整作業を行う必要がある。このように水平面に対するノズル３０の姿勢を調整するために、図２に示すように、塗布装置１は、ノズル３０の幅方向両端部３５における高さ位置を検出するセンサ７を備えている。そして、このセンサ７は、吸着機構２５と共にベース部材２３に搭載されている。なお、ベース部材２３は、幅方向両側に設置されていることから、センサ７も幅方向両側に設置されており、これら両側のセンサ７，７は、幅方向に延びる同一直線（仮想線）上に配置されている。また、幅方向両側それぞれのベース部材２３上において、センサ７は、吸着機構２５と搬送方向に直線状に並んだ配置で搭載されている。

センサ７は、ベース部材２３に搭載されていることにより、ベース部材２３がノズル３０の下の位置まで移動することで、センサ７をノズル３０の直下に位置させることができる。なお、ベース部材２３の位置は、制御装置４によって管理されており、制御装置４の制御によって、ノズル３０の直下位置にセンサ７を位置させることが可能となる。
図４に示すように、本実施形態に係るセンサ７は、接触式のセンサであり、ノズル３０の幅方向の端部３５の下端面に接触可能な接触子８と、基準面Ｈ_０からの接触子８の先端の高さ位置を計測する計測器９とを有しており、接触子８の先端をノズル３０の端部３５の下端面に接触させることで、基準面Ｈ_０からノズル３０の端部３５の下端面までの高さｈを計測器９が計測することができる。なお、本実施形態では、基準面Ｈ_０は、浮上ステージ２０の上面２０ａである。
そして、このセンサ７による、基準面Ｈ_０からのノズル３０の端部３５の下端面までの高さの値ｈは、幅方向両側において計測され、計測値が制御装置４に出力される。制御装置４は、この計測値に基づいて、高さｈの差を求めることができ、この差に基づいてノズル３０を水平とするための調整作業を行うことが可能となる。

また、この調整作業のために、センサ７によりノズル３０の幅方向両端部３５における高さ位置の検出を行う際、ベース部材２３が有しているエア噴出部２６（図２参照）から圧縮エアの噴出を行ってベース部材２３をレール２１に対して浮上させた状態であってもよいが、本実施形態では、調整作業のために、制御装置４は、ベース部材２３に搭載のセンサ７がノズル３０の直下に位置している状態で、全てのエア噴出部２６からの圧縮エアの噴出を停止させる制御を行う。前記のとおり、圧縮エアの噴出を行っているエアパッド２７は、レール２１の上面２１ａから僅かに浮上した状態にあるが、その噴出を停止することで、エア噴出部２６は、レール２１の上面２１ａに接触した状態となる（浮上が解除された状態となる）。つまり、調整作業のために、浮上していたベース部材２３をレール２１上に着座させた状態とする。

さらに、全てのエア噴出部２６への圧縮エアの供給を停止すると共に、制御装置４は、バルブ１７（図３参照）に対して制御信号を送信して流路の切り換えを行い、全てのエア噴出部２６を排気用エア流路１６と繋がるように制御する。これにより、ベース部材２３をレール２１上に着座させる際に、全てのエア噴出部２６に残留するエアを外部に放出（大気開放）させることができる。
制御装置４によって、エア噴出部２６からの圧縮エアの噴出を停止させてベース部材２３をレール２１上に着座させようとしても、エア噴出部２６（エアパッド２７）内にエアが残存していると、ベース部材２３が浮上したままの状態となって、ベース部材２３をレール２１上に確実に着座させることができない。この場合、前記調整作業毎に、ベース部材２３の高さ位置を一定とすることができず再現性が確保されなくなり、この結果、計測値に誤差が発生してしまう。
しかし、本実施形態では、エア噴出部２６中に残存している圧縮エアを排気用エア流路１６を通じて外部に放出することができるため、ベース部材２３をレール２１上に確実に着座させることが可能となり、そして、この状態を前記調整作業毎に確実に再現させることができる。また、圧縮エアを排気用エア流路１６を通じて外部に放出することで、ベース部材２３をレール２１上に迅速に着座させることが可能となる。これにより、センサ７による計測が迅速に行われる。

以上のように、本実施形態に係る塗布装置では、基板Ｗを水平な搬送方向に搬送するために、レール２１は水平面に対して寸法精度良く構成されかつ設置されており、また、この基板Ｗを保持する吸着機構２５を搭載しているベース部材２３も、水平面に対して寸法精度良く構成されかつ水平を保った状態で精度良くレール２１に沿って移動する構成にある。そして、このようなベース部材２３にセンサ７が搭載されていることで、水平面に対するセンサ７の取り付け位置も高精度となり、このセンサ７によってノズル３０の幅方向両端部３５の高さ位置を精度良く検出することが可能となる。例えば、調整作業を行う毎に、水平面に対するセンサ７の位置が再現され、検出精度を高くすることが可能となる。

さらに、ベース部材２３に搭載されている吸着機構２５は、基板Ｗの搬送の際にその基板Ｗの幅方向両端部Ｅ（図１参照）を保持するものであることから、この吸着機構２５及びこの吸着機構２５を搭載するベース部材２３は、基板Ｗの幅方向両端部Ｅに対応した位置に存在する。そして、このような位置に存在するベース部材２３にセンサ７を搭載することで、図６に示した従来のような長いアームを必要とせずに、ノズル３０の幅方向両端部３５に対応した位置にセンサ７を設置することができ、センサ７を設けるための構成が簡単となる。

さらに、本実施形態では、調整作業のために、ベース部材２３に搭載のセンサ７がノズル３０の直下に位置している状態で、エア噴出部２６からの圧縮エアの噴出を停止させ、ベース部材２３をレール２１上に着座させている。このため、前記のとおり、レール２１は水平面に対して寸法精度良く構成されており、また、基板Ｗを保持する吸着機構２５を搭載しているベース部材２３も水平面に対して寸法精度良く構成されていることから、このようなベース部材２３をノズル３０の直下位置でレール２１上に着座させることで、このベース部材２３に搭載されているセンサ７は、水平面に対して寸法精度が高い状態で、ノズル３０の直下に位置することができる。したがって、この状態で、センサ７がノズル３０の幅方向両端部３５における高さ位置の検出を行うことで、その検出精度を高めることが可能となる。

また、吸着機構２５は基板Ｗの幅方向両端部Ｅを吸着保持するが、塗布作業の際、この基板Ｗの端部Ｅの上方にはノズル３０の幅方向の端部３５が位置する。このため、センサ７を、吸着機構２５と搬送方向に並んだ配置でベース部材２３に搭載することで、このベース部材２３をレール２１に沿って移動させてセンサ７をノズル３０の直下に位置させると、ノズル３０の幅方向の端部３５に対応してセンサ７は位置することができる。このため、センサ７を用いてノズル３０の高さ位置の検出を迅速に開始することが可能となる。

また、図４において、所定の水平面を基準面Ｈ_０として、ノズル３０の端部３５の下端面の高さ位置を精度良く検出することができるように、センサ７の計測器９は設定されているが、この設定を見直す必要が生じた場合のために、本実施形態の塗布装置１は、リセット機構を備えている。
このリセット機構は、図５に示すように、基準面Ｈ_０上に設置される基準部材４０と、この基準部材４０を基準面Ｈ_０上の所定位置に搬送するアクチュエータ（図示せず）とを有している。本実施形態では、基準面Ｈ_０が浮上ステージ２０の上面２０ａである。アクチュエータは、直線的な伸縮動作を行う構成であり、このアクチュエータが伸張すると、基準部材４０を浮上ステージ２０の上面２０ａに載置させ、アクチュエータが短縮すると基準部材４０を退避位置に退避させる。この退避位置は、塗布作業などの際に、基準部材４０が邪魔とならない位置である。

基準部材４０の底面４１が、浮上ステージ２０の上面２０ａに載ると、その一部が浮上ステージ２０の幅方向端部からはみ出し、そのはみ出した部分の底面４１にセンサ７の接触子８の先端を接触させることができる。基準部材４０の底面４１は水平面として構成されており、接触子８の先端と、浮上ステージ２０の上面２０ａとを同じ高さに揃えることができる。そして、この同じ高さに揃えた状態で、計測器９はセンサ７の原点を設定し直す。これにより、センサ７では、浮上ステージ２０の上面２０ａが基準面Ｈ_０となって設定し直される。この結果、センサ７（計測器９）の設定を見直す必要が生じた場合、リセット機構によって迅速にその作業を行うことが可能となる。

また、本発明の塗布装置は、図示する形態に限らず本発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。例えば、本実施形態に係る浮上ステージ２０は、基板Ｗを浮上させるためにエアを用いた場合を説明したが、これに限らず、超音波を用いてもよい。また、基板Ｗの搬送は浮上搬送以外であってもよい。また、センサ７を接触式としたが、非接触式としてもよい。さらに、基板Ｗの端部Ｅを保持する保持部として、エアの吸引に基づく吸着機構２５として説明したが、これ以外であってもよい。

さらに、前記実施形態では、浮上機構部を、エアを噴出するエア噴出部２６とし、ベース部材２３をエアにより浮上させる場合として説明したが、エア以外に窒素ガス等の他の気体であってもよい。
また、レール２１に対してベース部材２３を非接触とする構成、つまり、浮上機構部の構成は、気体の噴出に基づく構成以外に、例えば磁気浮上、超音波浮上、静電浮上等であってもよい。

また、前記実施形態では、ベース部材２３をレール２１上に着座させる際に、排気用エア流路１６（図３参照）によって、エア噴出部２６に残留するエアを外部に放出（大気開放）させる場合を説明したが、ベース部材２３をさらに迅速に着座させるために、図示しないが、エア噴出部２６（エアパッド２７）内のエアを強制的に排気する吸引装置を設置してもよい。吸引装置としては、ポンプ、ブロワ等とすることができ、排気用エア流路１６にこの吸引装置を接続すればよい。この場合、吸引装置によって生じさせた負圧により、エア噴出部２６（エアパッド２７）をレール２１上に吸着させることができる。
または、ベース部材２３を迅速に着座させるために、ベース部材２３（少なくともその一部）を磁性体とし、例えばレール２１に電磁石を内蔵させ、この電磁石の磁力によってベース部材２３をレール２１上に吸着させてもよい。
さらに、ベース部材２３を迅速に着座させるための別の手段として、伸縮シリンダ等のアクチュエータや、モータにより駆動するアーム等の部材により、ベース部材２３に対して、レール２１の上面２１ａに向かう方向の外力を与え、ベース部材２３をレール２１上に押し付ける構成であってもよい。

１：塗布装置２：搬送機構部３：塗布機構部４：制御装置７：センサ１６：排気用流路２１：レール２１ａ：上面２２：移動ユニット２３：ベース部材２５：吸着機構（保持部）２６：噴出部（浮上機構部）３０：ノズル３２：昇降駆動部３５：端部Ｅ：端部Ｗ：基板

Claims

基板を水平な搬送方向に搬送する搬送機構部と、
前記搬送方向に直交する水平な幅方向に長くかつ搬送される基板に対して高さ方向の隙間をあけて対向するノズル、及び、このノズルを高さ方向に昇降させる昇降駆動部を有し、当該基板に対して当該ノズルから塗布液を吐出する塗布機構部と、
水平面に対する前記ノズルの姿勢を調整するために当該ノズルの幅方向両端部における高さ位置を検出するセンサと、
を備え、
前記搬送機構部は、
搬送する基板の幅方向両側に設置され前記搬送方向に延びているレールと、
前記レールに沿って移動するベース部材と、
前記ベース部材に搭載され前記基板を搬送する際に当該基板の幅方向両端部を保持する保持部と、を有し、
前記センサは、前記保持部と共に前記ベース部材に搭載されており、
前記ベース部材は、前記レールの上面に対して当該ベース部材を浮上させる浮上機構部を有し、この浮上機構部によって当該ベース部材は当該レールに対して浮上した状態で移動可能であり、
前記センサにより前記ノズルの幅方向両端部における高さ位置の検出を行う際、前記ベース部材に搭載の前記センサが前記ノズルの直下に位置している状態で、前記浮上機構部による前記ベース部材の浮上を解除して、当該ベース部材を前記レール上に着座させることを特徴とする塗布装置。
前記浮上機構部は、前記レールの上面に対して気体を噴出することによって前記ベース部材を浮上させる噴出部からなる請求項１に記載の塗布装置。
前記ベース部材を前記レール上に着座させる際に前記噴出部に残留する気体を外部に放出させる流路が、当該噴出部に接続されている請求項２に記載の塗布装置。