JP2018113327A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
0≦X2<(X3−D)
となるように設定すればよいこととなる。
3 浮上ステージ部(浮上部)
32 塗布ステージ(ステージ)
35 浮上制御機構(浮力発生機構)
51 チャック(搬送部)
61 第1ノズル
63,73 位置決め機構
65 第1メンテナンスユニット
71 第2ノズル
75 第2メンテナンスユニット
81L,81R 走行ガイド(支持機構)
631 梁部材(第1支持部)
632,633 柱部材(第1支持部)
652 予備吐出ローラ(第1回収部)
653 ノズルクリーナ(第1洗浄部)
731 梁部材(第2支持部)
732,733 柱部材(第2支持部)
752 予備吐出ローラ(第2回収部)
753 ノズルクリーナ(第2洗浄部)
W 基板
Claims (8)
- 基板を部分的に保持して所定の搬送方向に搬送する搬送部と、
搬送される前記基板に下方から浮力を与えて前記基板を水平姿勢に制御するとともに、前記基板の搬送経路のうち前記搬送方向における一部を位置制御領域として前記基板のうち前記位置制御領域に位置する部分の鉛直方向位置を制御する浮上部と、
処理液を吐出する吐出口をそれぞれ有する第1ノズルおよび第2ノズルと、
前記第1ノズルを移動させて第1処理位置を含む複数の停止位置に位置決めする一方、前記第2ノズルを前記第1ノズルとは独立に移動させて第2処理位置を含む複数の停止位置に位置決めする位置決め機構と
を備え、
前記第1処理位置は、前記位置制御領域に位置する前記基板の上面に前記第1ノズルの前記吐出口が近接配置される位置であり、
前記第2処理位置は、前記位置制御領域に位置する前記基板の上面に前記第2ノズルの前記吐出口が近接配置される位置であり、
前記位置決め機構は、前記第1ノズルの前記第1処理位置への位置決めと、前記第2ノズルの前記第2処理位置への位置決めとを選択的に行い、前記第1ノズルを前記第1処理位置に位置決めするときには前記第2ノズルを前記第2処理位置よりも前記搬送方向の下流側位置であって前記第2ノズルが前記第1処理位置に位置決めされる前記第1ノズルと干渉しない位置に位置決めし、前記第2ノズルを前記第2処理位置に位置決めするときには前記第1ノズルを前記第1処理位置よりも前記搬送方向の上流側位置であって前記第1ノズルが前記第2処理位置に位置決めされる前記第2ノズルと干渉しない位置に位置決めする基板処理装置。 - 前記第1処理位置よりも前記搬送方向の上流側の第1予備吐出位置に位置決めされた前記第1ノズルから吐出される処理液を回収する第1回収部、および、前記第1予備吐出位置よりも前記搬送方向の上流側の第1洗浄位置に位置決めされた前記第1ノズルを洗浄する第1洗浄部を有する第1メンテナンスユニットと、
前記第2処理位置よりも前記搬送方向の下流側の第2予備吐出位置に位置決めされた前記第2ノズルから吐出される処理液を回収する第2回収部、および、前記第2予備吐出位置よりも前記搬送方向の下流側の第2洗浄位置に位置決めされた前記第2ノズルを洗浄する第2洗浄部を有する第2メンテナンスユニットと
を備える請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記第1処理位置に位置決めされたときに前記第1ノズルが占める空間と、前記第2処理位置に位置決めされたときに前記第2ノズルが占める空間とが、少なくとも一部において互いに重なり合う請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記第1処理位置に位置決めされた前記第1ノズルの前記吐出口から吐出される処理液が前記基板に着液する着液位置と、前記第2処理位置に位置決めされた前記第2ノズルの前記吐出口から吐出される処理液の前記基板に着液する着液位置とが前記搬送方向において少なくとも一部で重複する請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記浮上部は、水平な上面に気体を流通させるための流通孔が設けられたステージと、前記流通孔を介して気体を流通させることで前記基板に浮力を与える浮力発生機構とを備え、
前記搬送経路のうち搬送される前記基板の下面と前記ステージの上面とが対向する部分の少なくとも一部が前記位置制御領域である請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記搬送部は、前記搬送方向に直交する方向において前記ステージの上面よりも外側で前記基板の周縁部を保持する請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記第1ノズルが第1支持部に支持される一方、前記第2ノズルが前記第1支持部材と別体の第2支持部に支持され、
前記第1支持部と前記第2支持部とが同じ支持機構により前記搬送方向に移動自在に支持されており、
前記位置決め機構は、前記第1支持部と前記第2支持部とを個別に前記支持機構に対し移動させる請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置。 - 前記第1ノズルと前記第2ノズルとの間で、吐出される処理液が互いに異なる請求項1ないし7のいずれかに記載の基板処理装置。
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