JP2005101058A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光された基板を加熱処理する加熱部を現像処理ブロック4に設けることにより、この加熱部と露光装置STPとの間にインターフェイスブロック5を介在させて、露光装置STPに熱的影響が及ばないようにする。また、加熱部に対して基板を受け渡しする搬送機構10Dをインターフェイスブロック5に設けて、露光された基板Wを速やかに加熱部に移送する。
【選択図】 図1
Description
すなわち、従来の基板処理装置は、露光後加熱処理のために、インターフェイス部に加熱部を設けているので、インターフェイス部に隣接する露光装置に熱的悪影響を及ぼすおそれがある。
すなわち、請求項1記載の発明は、基板に現像処理を施す現像処理部を含む処理装置本体と、この処理装置本体と外部装置である露光装置との間で基板の受け渡しを仲介するインターフェイス部と、露光された基板を現像処理する前に加熱処理する加熱手段と、前記加熱手段で加熱処理された基板を冷却する冷却手段とを備えた基板処理装置において、前記加熱手段を前記処理装置本体に備え、この加熱手段に対して基板を渡す基板搬送機構をインターフェイス部に備えたことを特徴とする。
図1は実施例に係る基板処理装置の平面図、図2はその正面図、図3は熱処理部の正面図である。
図7を参照する。同図(a)は加熱部PHPの破断側面図、(b)は破断平面図である。加熱部PHPは、基板Wを載置して加熱処理をする加熱プレートHPと、この加熱プレートHPから離れた上方位置または下方位置(本実施例では上方位置)に基板Wを載置しておく基板仮置部19と、加熱プレートHPと基板仮置部19との間で基板Wを搬送する熱処理部用のローカル搬送機構20とを備えている。加熱プレートHPには、プレート表面に出没する複数本の可動支持ピン21が設けられている。加熱プレートHPの上方には加熱処理時に基板Wを覆う昇降自在の上蓋22が設けられている。基板仮置部19には基板Wを支持する複数本の固定支持ピン23が設けられている。
上述したインデクサブロック1、反射防止膜用処理ブロック2、レジスト膜用処理ブロック3、現像処理ブロック4、およびインターフェイスブロック5は、本実施例に係る基板処理装置を機構的に分割した要素である。具体的には、各ブロックは、各々個別のブロック用フレーム(枠体)に組み付けられ、各ブロック用フレームを連結して基板処理装置が構成されている(図8(a)参照)。
各セルC1〜C6間の基板の受け渡しは、基板載置部PASS1〜PASS10を介して行われる。換言すれば、本発明における単一の被制御ユニット(セル)は、単一の主搬送機構を含み、その主搬送機構が、特定の基板載置部から受け取った基板を別の基板載置部に置くまでに、基板の受け渡しを行う処理部を含んで構成される。
(1)実施例では、露光後に基板Wを加熱する加熱手段と、加熱処理後に基板Wを冷却する冷却手段の両方を処理装置本体側に設けた(具体的には、現像処理ブロック4に配備された加熱部PHP)が、加熱手段のみを処理装置本体側に設け、冷却手段はインターフェイス部に設けるようにしてもよい。
2 …反射防止膜用処理ブロック
3 …レジスト膜用処理ブロック
4 …現像処理ブロック
5 …インターフェイスブロック
7 …インデクサ用搬送機構
10A〜10D …第1〜第4の主搬送機構
35 …インターフェイス用搬送機構
C1 …インデクサセル
C2 …反射防止膜用処理セル
C3 …レジスト膜用処理セル
C4 …現像処理セル
C5 …露光後加熱用処理セル
C6 …インターフェイスセル
W …基板
PASS1〜PASS10 …基板載置部
PHP … 加熱部
Claims (8)
- 基板に現像処理を施す現像処理部を含む処理装置本体と、この処理装置本体と外部装置である露光装置との間で基板の受け渡しを仲介するインターフェイス部と、露光された基板を現像処理する前に加熱処理する加熱手段と、前記加熱手段で加熱処理された基板を冷却する冷却手段とを備えた基板処理装置において、
前記加熱手段を前記処理装置本体に備え、この加熱手段に対して基板を渡す基板搬送機構をインターフェイス部に備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置おいて、
前記加熱手段と前記冷却手段は近接して、ともに処理装置本体に備えられている基板処理装置。 - 請求項2記載の基板処理装置において、
前記加熱手段は、基板を載置して加熱処理する加熱プレートであり、
この加熱プレートに近接して、冷却された基板を載置しておく基板仮置部と、
加熱プレートから基板仮置部へ基板を搬送する専用のローカル搬送機構と、
基板仮置部に載置された冷却済みの基板を現像処理部へ搬送する主搬送機構と
を備えた基板処理装置。 - 請求項3記載の基板処理装置において、
前記冷却手段は、ローカル搬送機構に備えられている基板処理装置。 - 前記冷却手段は、基板仮置部に備えられている基板処理装置。
- 請求項1記載の基板処理装置において、
前記インターフェイス部は、露光装置が基板を受け入れることができない場合に、露光処理前の基板を一時的に収納保管しておく送り用バッファを備えている基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記インターフェイス部は、現像処理部が基板を受け入れることができない場合に、前記加熱手段および前記冷却手段で露光後の加熱・冷却処理が施された基板を一時的に収納保管しておく戻し用バッファを備えている基板処理装置。 - 請求項1記載の基板処理装置において、
前記インターフェイス部は、露光装置が基板を受け入れることができない場合に、露光処理前の基板を一時的に収納保管しておく送り用バッファと、現像処理部が基板を受け入れることができない場合に、前記加熱手段および前記冷却手段で露光後の加熱・冷却処理が施された基板を一時的に収納保管しておく戻し用バッファと、2つの基板搬送機構とを備え、
一方の基板搬送機構は、前記加熱手段と前記戻し用バッファへの基板の受け渡しを少なくとも行い、
他方の基板搬送機構は、前記露光装置と前記送り用バッファへの基板の受け渡しを少なくとも行う基板処理装置。
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