JP2931820B2 - 板状体の処理装置及び搬送装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は板状体の処理装置及び搬
送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハの製造工程においては、多
数の処理ステ−ションを必要とするため、各部のレイア
ウトについては、処理ステ−ションや、各処理ステ−シ
ョン間のウエハの受け渡しを行うインターフェイスステ
−ションなどをなるべくコンパクト化して、工場内のス
ペースをできるだけ有効に活用することを考慮する必要
があるし、またスループットの向上を図るためにウエハ
の搬送をできるだけ効率よく行うことが重要である。

【０００３】このような点から、例えば従来ウエハにレ
ジスト膜の形成及び現像を行う塗布、現像処理装置とし
て図９に示すように構成されているものがある。図９の
装置では、処理ステ−ションＡの中央に２つに分割され
たメイン搬送路１１、１２が配置されると共に、夫々に
メイン搬送アーム１３、１４が設置されている。これら
メイン搬送路１１、１２の両側にはアドヒージョン部、
塗布部、ベーク部、冷却部、現像部などの処理部１５
（各処理部を共通の１５の符号で表す）が配置されてお
り、メイン搬送路１１、１２間には、メイン搬送アーム
１３、１４間でウエハの受け渡しを行うための待機台１
６が介在して設けられている。

【０００４】そして処理ステ−ションＡに隣接し、露光
ステ−ション（図示せず）との間でウエハの搬出入を行
うためのインターフェイスステ−ションＢには、メイン
搬送路１２の端部に面して昇降自在で冷却可能な中間受
け渡し台２１が設けられると共に、この中間受け渡し台
２１の両サイドに一列に４個のバッファ用キャリア２２
が昇降台上に配置されており、更に中間受け渡し台２１
の前に、図７中Ｘ、Ｙ、θ方向に移動自在な搬送機構２
３が設けられ、この搬送機構２３における中間受け渡し
台２１と反対側（外部側）に搬入用載置台２４及び搬出
用載置台２５が昇降台上に配置されている。

【０００５】上述の装置では、例えば一方のメイン搬送
アーム１３からウエハが待機台１６を介して他方のメイ
ン搬送アーム１４に搬送され、更にインターフェイスス
テ−ションＢの中間受け渡し台２１で必要に応じて冷却
された後、搬送機構２３により搬出用載置台２５に搬送
される。また露光ステ−ションから前記処理ステ−ショ
ンＡ内にウエハを搬入するときは逆の経路でウエハが搬
送され、双方のウエハの搬入、搬出のタイミングが大き
くずれる場合などには、ウエハはバッファ用キャリア２
２内に一時収納される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の装
置では、各バッファ用キャリア毎に昇降機構を設けてお
り、更に搬入用載置台２４及び搬出用載置台２５につい
ても昇降機構を設けているため装置構成が複雑である。
また、平面的には載置台２４，２５の並びと搬送機構２
３の搬送に必要なスペースと、中間受け渡し台２１とが
前後に（図７中左右に）配列されているので、インター
フェイスステ−ションＢが大型化してしまい、その上メ
イン搬送路１１、１２間に待機台１６が介在しているた
め、処理ステ−ションＡの前後の長さが大きくなり、結
局処理装置全体が大型化している。

【０００７】そして冷却機能を兼ねた中間受け渡し台２
１にてウエハのセンタリングを行っているため、その分
だけ搬送機構２３とメイン搬送アーム１４との受け渡し
に時間がかかるし、更にバッファ用のキャリア２２をス
テッピングモータで間欠的に昇降させてウエハのマッピ
ングを行っていることも加わってウエハの搬送に長い時
間を要する。

【０００８】本発明はこのような背景のもとになされた
ものであり、その目的は、装置のコンパクト化を図り、
また高いスループットが得られる板状体処理装置を提供
することにある。

【０００９】更に本発明の他の目的は、例えば板状体処
理装置に適用することにより板状体の損傷などを防止す
ることができる好適な板状体の搬送装置を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は板状体
を処理するための処理ステ−ション内の処理部用搬送機
構と、受け渡しステ−ション内の外部受け渡し用載置部
との間で、進退自在な板状体保持部材を備えた受け渡し
用搬送機構により中間受け渡し台を介して板状体を搬送
する処理装置において、前記中間受け渡し台と受け渡し
用搬送機構との間の板状体の受け渡しにおいて一時板状
体を載置するためのバッファ用載置部を受け渡し用搬送
機構の搬送路に臨む位置に設け、前記受け渡し用搬送機
構を、昇降自在及び回転自在に構成すると共に、前記中
間受け渡し台と上下に重なる位置にて処理部用搬送機構
の搬送路と交差する方向に移動自在に構成したことを特
徴とする。

【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て保持部材の上に載置した板状体を保持部材の後退時に
位置決めする位置決め機構を受け渡し用搬送機構に設け
て構成される。

【００１２】請求項３の発明は、少なくとも１個のユニ
ットが移動可能である３個以上の板状体載置ユニットを
備え、これらユニット間で、進退自在な板状体保持部材
を備えた搬送機構により板状体の受け渡しを行う板状体
搬送装置において、移動可能なユニットを挟んで配置さ
れた移動元ユニットから移動先ユニットへ搬送機構が移
動するときに、前記搬送機構の移動経路と前記移動可能
なユニットの移動領域とが交差するような移動元ユニッ
トと移動先ユニットとの予め定められた組み合わせにお
いては、搬送機構が移動元ユニットから移動先ユニット
へ移動するときに、前記搬送機構を、移動可能なユニッ
トの移動領域から外れた搬送経路であるセ−フティポジ
ションに一旦移動させる制御部を設けたことを特徴とす
る。

【００１３】請求項４の発明は板状体の表面にレジスト
膜を塗布し、露光後の板状体の表面に対して現像処理す
るための複数の処理室と、これら処理室の間で板状体を
搬送するための処理部用搬送機構とを有する塗布、現像
処理ステ−ションと、前記板状体の表面を露光するため
の露光ステ−ションと、前記塗布、現像処理ステ−ショ
ンと露光ステ−ションとの間に介在すると共に中間受け
渡し台、受け渡し用搬送機構、バッファ用載置部及び外
部受け渡し用載置部を有し、前記塗布、現像処理ステ−
ションの処理部用搬送機構により中間受け渡し台に受け
渡された板状体を、前記受け渡し用搬送機構により受け
取ってそのままあるいは一時前記バッファ用載置部に載
置した後、外部受け渡し用載置部に搬送し、また前記露
光ステ−ションから外部受け渡し用載置部に受け渡され
た板状体を、前記受け渡し用搬送機構により受け取って
そのままあるいは一時前記バッファ用載置部に載置した
後、前記中間受け渡し台に搬送する受け渡しステ−ショ
ンと、前記受け渡しステ−ション内に清浄な気体のダウ
ンフロ−を形成する手段と、を備え、前記中間受け渡し
台は、外部受け渡し用載置部よりも高い位置に設けられ
ていることを特徴とする。

【００１４】請求項５の発明は、板状体の表面にレジス
ト膜を塗布し、露光後の板状体の表面に対して現像処理
するための複数の処理室と、これら処理室の間で板状体
を搬送するための処理部用搬送機構とを有する塗布、現
像処理ステ−ションと、前記板状体の表面を露光するた
めの露光ステ−ションと、前記塗布、現像処理ステ−シ
ョンと露光ステ−ションとの間に介在すると共に中間受
け渡し台、受け渡し用搬送機構、バッファ用載置部及び
外部受け渡し用載置部を有し、前記塗布、現像処理ステ
−ションの処理部用搬送機構により中間受け渡し台に受
け渡された板状体を、前記受け渡し用搬送機構により受
け取ってそのままあるいは一時前記バッファ用載置部に
載置した後、外部受け渡し用載置部に搬送し、また前記
露光ステ−ションから外部受け渡し用載置部に受け渡さ
れた板状体を、前記受け渡し用搬送機構により受け取っ
てそのままあるいは一時前記バッファ用載置部に載置し
た後、前記中間受け渡し台に搬送する受け渡しステ−シ
ョンと、前記塗布、現像ステ−ション内に清浄な気体の
ダウンフロ−を形成するために当該ステ−ションの上部
に設けられた気体清浄用フィルタと、前記受け渡しステ
−ション内に清浄な気体のダウンフロ−を形成するため
に当該ステ−ションの上部に前記気体清浄用フィルタと
は別個に設けられた気体清浄用フィルタと、を備えたこ
とを特徴とする。

【００１５】

【作用】処理ステ−ション内で処理された板状体は、処
理部用搬送機構によって中間受け渡し台に載置され、こ
こで必要に応じて冷却される。その後受け渡し用搬送機
構が当該板状体を保持した後位置決めし、例えば中間受
け渡し台の下方を通ってバッファ用載置部に搬送される
かあるいは外部受け渡し用載置部に搬送される。また外
部受け渡し用載置部から処理ステ−ション内に板状体を
取り込む場合は逆の経路で搬送される。従って受け渡し
用搬送機構の搬送路は中間受け渡し台と上下に重なって
いるため受け渡しステ−ションの前後の幅を小さくでき
る。

【００１６】そして例えば中間受け渡し台が昇降するよ
うに構成され、受け渡し用搬送機構が中間受け渡し台を
越えて移動する場合には、請求項３の発明のように受け
渡し用搬送機構を一旦セ−フティポジションに位置させ
ることにより中間受け渡し台との衝突を確実に防止する
ことができる。

【００１７】

【実施例】以下本発明を半導体ウエハの塗布／現像装置
に適用した実施例について説明する。図１は本発明の実
施例の要部を示す斜視図、図２は本発明の実施例の全体
を示す平面図である。図中Ｓ１は板状体である半導体ウ
エハについてレジスト膜形成処理及び現像処理を行うた
めの塗布／現像ステ−ションであり、この塗布／現像ス
テ−ションＳ１に隣接して、露光ステ−ション（図示せ
ず）との間でウエハの搬入及び搬出を行うための受け渡
しステ−ションであるインターフェイスステ−ションＳ
２が設置されている。

【００１８】前記塗布／現像ステ−ションＳ１には、図
２に示すようにＸ方向に伸びるメイン搬送路３０に沿っ
て移動自在でかつ昇降、回転自在な処理部用搬送機構で
あるメイン搬送アーム３が設けられると共に、このメイ
ン搬送路３０の両側には、例えばアドヒージョン部３
１、冷却部３２、ベ−ク部３３、塗布部３４、３５、現
像部３６などの処理部が配置されている。

【００１９】前記インターフェイスステ−ションＳ２に
は、前記メイン搬送路３０の端部即ち塗布／現像ステ−
ションＳ１の搬出入口に面して昇降自在に、冷却部兼用
の中間受け渡し台４が設けられる。この中間受け渡し台
４の下方側には、Ｙ方向に即ち前記メイン搬送路３０と
直交する方向に伸びる搬送路に沿って移動自在に受け渡
し用搬送機構５が設置されており、この搬送機構５は昇
降自在かつ回転自在な搬送基台５１と、この搬送基台５
１に沿って進退自在に板状体保持部材であるピンセット
６とを備えている。この搬送機構５を駆動する部分に関
して述べると、図１中５２は例えばボールネジ機構によ
りＹ方向に移動される移動体であり、この移動体５２に
は例えばボールネジ機構により昇降される昇降台５３が
取り付けられると共に、この昇降台５３上に前記搬送基
台５１を回転させる（θ方向に駆動する）ための回転軸
５４が設けられており、これらによって搬送機構５が構
成される。

【００２０】ここでこの例では、前記中間受け渡し台４
が下降位置にあるときに昇降台５３を上昇位置に置い
て、中間受け渡し台４と搬送機構５との間でウエハＷの
受け渡しを行っているが、搬送機構５の上昇ストローク
を大きくして中間受け渡し台４を固定するするようにし
てもよい。そして前記ピンセット６は、前端部及び後端
部にウエハの前後の位置を規制するためにウエハの載置
面から上方に突起した段部６１、６２を有しており、ピ
ンセット６の中央部は後述の作用説明図である図３に示
しているように、ウエハとの接触面積を小さくするため
にウエハの載置面よりも下がっている。

【００２１】前記搬送基台５１には、ピンセット６が後
端位置まで後退したときに、ピンセット６に保持されて
いるウエハの後方側の周縁に当接する当接部６３を内面
に形成した位置決め部材６４がピンセット６の移動路を
挟んで両側に固定して設けられている。そして前記ピン
セット６の前端側の段部６１と、前記位置決め部材６４
におけるウエハの当接部６３とは、ピンセット６が後端
位置付近まで後退したときに、いずれもがウエハの周縁
に当接するようにウエハの周縁が描く円上あるいは若干
その円よりも大きい円上に位置設定されており、ウエハ
の周縁が前記段部６１及び位置決め部材６４によって位
置規制されることによってセンタリング（ウエハの中心
の位置決め）が行われることになる。この例ではピンセ
ットの段部６１及び位置決め部材６４によって位置決め
機構６５が構成されており、この位置決め機構６５は搬
送機構５に組み合わせて構成されている。

【００２２】前記搬送基台５１の前端部には、ウエハの
周縁の一部の左右両側に位置するように互いに離間して
設けられた発光部５５及び受光部５６よりなるマッピン
グセンサが進退自在に設けられており、このマッピング
センサは、後述のキャリアＣと対向した後前進してウエ
ハの有無を検出する役割をもつ。そして搬送機構５にお
いては、例えば搬送基台５１も含めてピンセット６の下
方側の機構を筐体内に収納し、この筐体内の下方に吹き
出しファンを設ければ、ピンセット６の駆動に伴うパー
ティクルを吸引排出することができ、ウエハへのパーテ
ィクルの付着を抑えることができるので望ましい。

【００２３】更に前記受け渡し用搬送機構５を挟んで処
理ステ−ションＳ１に対向するように、ウエハＷの周縁
を保持するガイド部により構成された外部受け渡し用載
置部としての搬入載置台７１及び搬出載置台７２が位置
固定して設けられている。なおこれら搬入載置台７１及
び搬出載置台７２は昇降機構により昇降自在であっても
よい。また前記受け渡し用搬送機構５の搬送路の両端位
置に当該搬送路に臨むようにバッファ用載置台であるバ
ッファ用カセットが１段あるいは複数段例えば２段図示
しない支持部材により支持されている。

【００２４】次に上述実施例の作用について述べる。今
処理ステ−ションＳ１で、順次、アドヒ−ジョン部３
１、冷却部３２、塗布部３４又は３５、ベ−ク部３３に
てそれぞれ処理されてレジスト膜が形成されたウエハが
メイン搬送アーム３により中間受け渡し台４に受け渡さ
れたとすると、当該受け渡し台４が下降すると共に搬送
基台５１を、ピンセット６が受け渡し台４の下降位置と
対向する位置まで上昇させ、その後例えば中間受け渡し
台４より図示しないピンを押し上げてウエハをピンで支
持する。続いてピンセット６の下面側に前進させ、若干
上昇させてウエハを持ち上げ、ピンセット６を後退させ
る。ウエハはピンセットによって受け取られるまでの
間、必要に応じて中間受け渡し台４上で冷却されること
になる。

【００２５】ここで、図３（ａ）はピンセットが前進し
てウエハを保持した状態を示し（ただし図の便宜上ウエ
ハＷを載置面から浮かせて描いてある）、図３（ｂ）は
ピンセット６を後端位置まで戻したときの状態を示して
いる。ピンセット６を後端位置まで戻したときに、ピン
セット６の段部６１及び両側の位置決め部材６４の当接
部６３がウエハＷの周縁に当接するので、ウエハＷはこ
れらによって決定される円の中に収まり、結局図３
（ｂ）に示すようにセンタリングが行われることにな
る。

【００２６】しかる後、搬送基台５１を中間受け渡し台
４と高さ位置が干渉しない位置まで下降させ、搬出載置
台７２と対向する位置まで移動してピンセット６上のウ
エハを当該搬出載置台７２に受け渡すか、あるいはここ
にウエハが載置されておりウエハ渡しが不可能な場合に
は、例えば中間受け渡し台４の下を潜って図１中右側の
バッファ用キャリアＣ内に搬送する。ピンセット６から
のウエハＷの受け渡しについては、ピンセット６を前進
させた後下降させることによって行われる。

【００２７】また露光ステ−ションにて露光されたウエ
ハＷを搬入する場合には、ピンセット６により搬入載置
台７１上のウエハＷが中間受け渡し台４に搬送されると
共に中間受け渡し台４上にウエハが載置されており、受
け渡す事が出来ないときにはバッファ用キャリアＣ内に
一時収納される。次いで中間受け渡し台４上のウエハＷ
は必要に応じて冷却された後、メイン搬送アーム３によ
って塗布／現像ステ−ションＳ１内に搬入されて現像が
行われる。そしてピンセット６によりキャリアＣに対し
てウエハＷを収納あるいは取り出す場合には発光部５５
及び受光部５６をキャリアＣ内のウエハの周縁部の一部
がその間に入る位置まで前進させた後、搬送基台５１を
例えば連続的にキャリアＣの最上段から最下段のレベル
まで降下させる。これによって例えばサーボモータにエ
ンコーダを設けて置くことにより各高さ位置と光のオ
ン、オフとを対応させたデータを図示しない制御部に取
り込んでキャリアＣ内の各段のウエハの有無を高速に検
出することができる。この場合ウエハの実際の高さ位置
を検出できるので、検出した高さ位置に応じてピンセッ
ト６を停止させる。なお、このようにすれば高速なマッ
ピングを実現できるが、本発明では、間欠的にマッピン
グセンサを移動させてもよい。

【００２８】以上においてウエハのセンタリングを行う
ための位置決め機構は、ピンセット６の段部６１を利用
しなくともピンセット６とは別個の部材により構成して
もよい。このように位置決め機構を搬送機構５に組み合
わせれば、中間受け渡し台４におけるセンタリングが不
要なので搬送時間が短縮できるが、本発明では中間受け
渡し台４にてセンタリングを行ってもよいし、またセン
タリングを行わない処理装置に対しても適用できる。

【００２９】次に搬送機構５における、中間受け渡し台
４や載置台７１、７２等の間の移動制御を行う搬送装置
の一例に関して述べる。図４は、図１に示す中間受け渡
し台４等の搬送用に設けられたユニットと搬送機構５と
の位置関係を示す概略正面図であり、図４中７３〜７５
は夫々バッファ用キャリアａ〜ｃの載置台、７６は搬送
機構５を制御するＣＰＵやメモリ等を含む制御部であ
る。

【００３０】この実施例では、中間受け渡し台４が昇降
し、この中間受け渡し台４と搬送機構５とは互いに独立
に制御されるので、例えば搬送機構５がバッファ用載置
台７３からバッファ用載置台７４にそのまま横方向（Ｙ
方向）に移動すると、搬送機構５が中間受け渡し台４に
衝突するおそれがある。そこでこのように搬送機構５が
一つのユニット（一つのユニットに対してアクセスする
位置）から他のユニット（他のユニットに対してアクセ
スする位置）へ直線的に移動すると中間受け渡し台４に
衝突するおそれがある場合には、セ−フティポジショ
ン、即ち中間受け渡し台４の占める昇降領域から外れた
衝突するおそれがない安全な位置に一旦移動し、ここか
ら目的とする他のユニットへ移動させるように制御して
おり、具体的には図５に示すユニット間移動管理ファイ
ルを制御部７６のメモリ内に格納しておく。

【００３１】このファイルの先頭には、ブロック番号、
ユニット数がこの順に記述されており、ここでいうブロ
ック番号とは、インタ−フェイスの番号、ユニット数と
は、搬送機構５との間でウエハの受け渡しが行われるユ
ニット（搬入、搬出載置台７１、７２、中間受け渡し台
４及びバッファ用載置台７３〜７５等）の数である。更
に前記ファイルには、移動元ユニット毎に、移動先のユ
ニットへの移動方法を記述した移動情報が記載されてお
り、各移動情報には、移動先ユニット番号毎に、セ−フ
ティポジション経由フラグ及び軸動作順序が記述されて
いる。

【００３２】セ−フティポジションのＺ方向位置は、例
えば図４に示すように中間受け渡し台４が下限レベルに
位置しているときには搬送機構４が当該中間受け渡し台
４の下方側を横切ることが可能な高さ位置であり、Ｙ方
向、θ方向の各位置についてはユニット間を移動するに
あたって、またウエハを受け渡すにあたって無駄の少な
い位置に設定する。この例ではセ−フティポジションは
中間受け渡し台４の下方側に設定され、そしてセ−フテ
ィポジション経由フラグはこのセ−フティポジションを
経由するときには「１」であり、経由しないときには
「０」である。

【００３３】また前記移動情報の中の軸移動順序は、搬
送機構５のＹ軸、Ｚ軸、θ軸の動作順序を規定したもの
であり、例えば全軸同時に動作させる「ＹＺθ」、Ｙ軸
とθ軸を同時に移動させた後Ｚ軸を動作させる「Ｙθ−
Ｚ」、Ｚ軸とθ軸を同時に動作させた後Ｙ軸を動作させ
る「Ｚθ−Ｙ」のいずれかのモ−ドが夫々「０」、
「１」、「２」、として記述される。

【００３４】このように搬送機構５が一つのユニットか
ら他のユニットへ移動する場合には、制御部７６内のＣ
ＰＵが、メモリに格納されている前記移動管理ファイル
を読み込み、記述内容に従って搬送機構５を移動させる
が、移動元ユニット、移動先ユニットと移動方法との関
係は、例えば表１のようになる。ただしバッファａ〜ｃ
は夫々バッファ用キャリアａ〜ｃの載置台、ＳＰはセ−
フティポジションを示す。

【００３５】

【表１】従って例えば搬送機構５が図４の鎖線で示す位
置（表１の「中間受け渡し台」のユニットに対応する位
置）にて中間受け渡し台４からウエハＷを受け取り、そ
の後当該位置とは中間受け渡し台４に対して反対側に位
置するバッファ用キャリアｂ（ユニットとしては載置台
７４）に向かって移動する場合には、先ずセ−フティポ
ジションに移動し、次いでＹ軸とθ軸とを同時に移動さ
せた後Ｚ軸を動作させてバッファ用キャリアｂと対向す
る位置に移動させる。なおセ−フティポジションまでの
移動は例えばＺ軸を動作させた後Ｙ軸、θ軸を動作する
ことによって行われる。また表１中ホ−ムポジション
は、待機する場合に予め定められた位置であり、図５中
ユニット番号０はホ−ムポジションに相当する。

【００３６】このようにして搬送機構５を移動させれ
ば、搬送機構５が一つのユニットから中間受け渡し台４
の移動領域を越えて他のユニットに移動する場合にも一
旦Ｚ方向、Ｙ方向の順序でセ−フティポジションに移動
した後他のユニットに向かうため、中間受け渡し台４が
いずれの位置にあっても接触することがないし、また中
間受け渡し台などの移動可能なユニットの移動に関連さ
せて搬送機構を制御することなく、唯一のプログラムで
実行できる。そして上述のような搬送機構の移動制御
は、図１に示すシステムに限られるものでないし、セ−
フティポジションについても１個に限らず２個以上であ
ってもよい。

【００３７】ここで塗布／現像ステ−ションＳ１におい
ては、図６の展開図に示すようにメイン搬送路を２つの
メイン搬送路８１、８２に、わずかな間隙をもって分割
すると共に、夫々前記メイン搬送アーム３と同様の構成
のメイン搬送アーム８３、８４が設置されている。これ
らメイン搬送路８１、８２の両側には、夫々例えば塗布
部８１及び現像部８６の並びと、ベーク部や冷却部など
を構成する多数のウエハ載置棚８７とが設置されてお
り、図４は展開図であるため、各載置棚８７は上下に積
層された構造となっている。図中ＡＤはアドヒージョン
部、ＨＰはホットプレート、ＣＯＬは冷却プレートであ
る。そして載置棚８７群の例えば最上段において、２つ
のメイン搬送路８１、８２の中間位置上に、メイン搬送
アーム８３、８４間にてウエハＷを受け渡しするための
載置台により構成される待機部８８が設けられている。
但し待機部８８は載置棚８７群の最下段に設けてもよ
い。

【００３８】このような構成によれば、例えば１フレー
ムタイプにおいて、あるいは別体のフレームを結合して
メイン搬送路が２本以上に分割される場合、処理部と待
機部８８とが上下に重なっているので、処理部の間に待
機部８８に相当するスペースを設けた従来の構造に比較
して、塗布／現像ステ−ションＳ１の長さを短くでき、
しかも２つのメイン搬送路８１、８２の間にはスペース
を必要としないので、メイン搬送アーム８３、８４は待
機部８８に接近することができ、従ってアームのストロ
ークが小さくて済み、メイン搬送アーム８３、８４が大
型化しない。また、上述の構成では載置棚８７の仕切り
を取り外すことにより待機部８８を位置設定できるの
で、待機部８８の増設、変更が容易である。

【００３９】なおこのような構成はメイン搬送路が３つ
以上に分割されている場合にも適用することができ、分
割されたメイン搬送路同士が重なっているときにも適用
することができる。

【００４０】更にまた本発明では、図７に示すように、
搬送に伴って発生するパーティクルのウエハへの付着を
防止するために、塗布／現像ステ−ションＳ１とインタ
ーフェイスステ−ションＳ２との上部に空気清浄用フィ
ルタＦを設けると共に、下方側に図示しない排気ファン
を設けて、ダウンフローを形成することが好ましい。

【００４１】そしてまた図５及び図６に示すように各ス
テ−ションＳ１、Ｓ２の下端に例えばアジャスタ９１及
びキャスタ９２を組み合わせてなる車輪体９を取り付け
ると共に、各ステ−ションＳ１、Ｓ２を互いに別体のフ
レーム構成し、図８に示すようにガイドレール９３、９
４の係合によってインターフェイスステ−ションＳ２が
塗布／現像ステ−ションＳ１にガイドされながら横方向
に即ちメイン搬送路と直交する方向に引き出すことがで
きるように構成することが望ましく、このようにすれば
メイン搬送路の搬出入口から塗布／現像ステ−ションＳ
１のメンテナンスを行うことができるので便利であり、
特に図４に示すように複数のフレームの間に待機部８８
に相当するスペースを設けない構造にあっては、側面か
らのメンテナンス空間が狭いので、非常に有効である。
そしてインターフェイスステ−ションＳ２を引き出す構
造を採用する場合、ステ−ションＳ１、Ｓ２間に互いの
位置を固定するストッパ（図示せず）を設けて、通常時
はストッパを作用させておくことが望ましい。

【００４２】なお本発明は、半導体ウエハの塗布／現像
装置に限らずガラス基板などに対して他の処理を行う装
置に適用することができ、また中間受け渡し台において
は冷却に限らず加熱など他の処理を行うようにしてもよ
い。

【００４３】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、処理ステ−シ
ョンと受け渡しステ−ションとの間で中間受け渡し台を
介して板状体を搬送するにあたって、受け渡しステ−シ
ョンの搬送機構を昇降自在に構成し、その搬送領域と中
間受け渡し台の占める領域とを上下に重ねているので、
処理装置全体の長さを短くして装置のコンパクト化を図
ることができ、設置スーペスが小さくてすむ。

【００４４】請求項２の発明によれば、受け渡し用の搬
送機構と板状体の位置決め機構とを組み合わせているた
め、板状体の搬送中に位置決めを行うことができ、従っ
て板状体の受け渡しに要する時間を短縮することができ
る。

【００４５】請求項３の発明によれば、一のユニットか
ら他のユニットに搬送機構を移動させる場合、一旦セ−
フティポジションに移動させているため、例えば請求項
１の発明の中間受け渡し台と搬送機構とが独立に制御さ
れていても、これらの衝突を確実に防止することがで
き、しかも互いの移動を関連させなくてよいので制御が
容易である。

【００４６】請求項４の発明によれば、塗布、現像処理
ステーションにてレジスト膜が塗布されて中間受け渡し
台に搬出された板状体は、レジスト膜の硬化が十分でな
いのでパ−ティクルが付着しやすいが、中間受け渡し台
を外部受け渡し用載置部よりも高い位置に設け、清浄な
気体のダウンフローを形成しているので、パーティクル
の付着を抑えることができる。請求項５の発明によれ
ば、塗布、現像処理ステーションと受け渡しステーショ
ンとに、互に別個に気体清浄用フィルタを設けてダウン
フローを形成しているため、フィルタを通過する気体の
圧力を夫々ステーションで独立して調整することができ
る。この構成は、両ステーションでフィルタの種類を変
える場合に有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例の要部を示す斜視図である。

【図２】図１の実施例を示す平面図である。

【図３】本発明の実施例の搬送機構の動作を示す展開図
である。

【図４】図１の装置の模式的に示す概略正面図である。

【図５】搬送機構の移動管理ファイルの一例を示す説明
図である。

【図６】本発明の他の実施例を示す展開図である。

【図７】本発明の実施例の外観を示す斜視図である。

【図８】図７の実施例の一部を示す拡大断面図である。

【図９】従来のウエハ処理装置の一例を示す平面図であ
る。

【符号の説明】

Ｓ１ 塗布／現像ステ−ション Ｓ２ インターフェイス ３ メイン搬送アーム ４ 中間受け渡し台 ５ 受け渡し用搬送機構 ６ 保持部材 ６５ 位置決め機構 ７１ 搬入載置台 ７２ 搬出載置台 ７６ 制御部 Ｃ バッファ用キャリア ８１、８２ メイン搬送路 ８８ 待機部 ９ 車輪部

フロントページの続き (72)発明者 清田 誠 熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地 東 京エレクトロン九州株式会社内 (56)参考文献 特開 平１−209737（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−132840（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−144333（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−290946（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−30549（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) H01L 21/68 H01L 21/027 B65G 49/07

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状体を処理するための処理ステ−ショ
   ン内の処理部用搬送機構と、受け渡しステ−ション内の
   外部受け渡し用載置部との間で、進退自在な板状体保持
   部材を備えた受け渡し用搬送機構により中間受け渡し台
   を介して板状体を搬送する処理装置において、 前記中間受け渡し台と受け渡し用搬送機構との間の板状
   体の受け渡しにおいて一時板状体を載置するためのバッ
   ファ用載置部を受け渡し用搬送機構の搬送路に臨む位置
   に設け、 前記受け渡し用搬送機構を、昇降自在及び回転自在に構
   成すると共に、前記中間受け渡し台と上下に重なる位置
   にて処理部用搬送機構の搬送路と交差する方向に移動自
   在に構成したことを特徴とする板状体の処理装置。
2. 【請求項２】 受け渡し用搬送機構には、保持部材の上
   に載置した板状体を、当該保持部材の後退時に位置決め
   する位置決め機構が組み合わせて設けられている請求項
   １記載の板状体の処理装置。
3. 【請求項３】 少なくとも１個のユニットが移動可能で
   ある３個以上の板状体載置ユニットを備え、これらユニ
   ット間で、進退自在な板状体保持部材を備えた搬送機構
   により板状体の受け渡しを行う板状体搬送装置におい
   て、移動可能なユニットを挟んで配置された移動元ユニット
   から移動先ユニットへ搬送機構が移動するときに、前記
   搬送機構の移動経路と前記移動可能なユニットの移動領
   域とが交差するような 移動元ユニットと移動先ユニット
   との予め定められた組み合わせにおいては、搬送機構が
   移動元ユニットから移動先ユニットへ移動するときに、
   前記搬送機構を、移動可能なユニットの移動領域から外
   れた搬送経路であるセ−フティポジションに一旦移動さ
   せる制御部を設けたことを特徴とする板状体の搬送装
   置。
4. 【請求項４】 板状体の表面にレジスト膜を塗布し、露
   光後の板状体の表面に対して現像処理するための複数の
   処理室と、これら処理室の間で板状体を搬送するための
   処理部用搬送機構とを有する塗布、現像処理ステ−ショ
   ンと、 前記板状体の表面を露光するための露光ステ−ション
   と、 前記塗布、現像処理ステ−ションと露光ステ−ションと
   の間に介在すると共に中間受け渡し台、受け渡し用搬送
   機構、バッファ用載置部及び外部受け渡し用載置部を有
   し、前記塗布、現像処理ステ−ションの処理部用搬送機
   構により中間受け渡し台に受け渡された板状体を、前記
   受け渡し用搬送機構により受け取ってそのままあるいは
   一時前記バッファ用載置部に載置した後、外部受け渡し
   用載置部に搬送し、また前記露光ステ−ションから外部
   受け渡し用載置部に受け渡された板状体を、前記受け渡
   し用搬送機構により受け取ってそのままあるいは一時前
   記バッファ用載置部に載置した後、前記中間受け渡し台
   に搬送する受け渡しステ−ションと、 前記受け渡しステ−ション内に清浄な気体のダウンフロ
   −を形成する手段と、を備え、 前記中間受け渡し台は、外部受け渡し用載置部よりも高
   い位置に設けられていることを特徴とする板状体の処理
   装置。
5. 【請求項５】 板状体の表面にレジスト膜を塗布し、露
   光後の板状体の表面に対して現像処理するための複数の
   処理室と、これら処理室の間で板状体を搬送するための
   処理部用搬送機構とを有する塗布、現像処理ステ−ショ
   ンと、 前記板状体の表面を露光するための露光ステ−ション
   と、 前記塗布、現像処理ステ−ションと露光ステ−ションと
   の間に介在すると共に中間受け渡し台、受け渡し用搬送
   機構、バッファ用載置部及び外部受け渡し用載置部を有
   し、前記塗布、現像処理ステ−ションの処理部用搬送機
   構により中間受け渡し台に受け渡された板状体を、前記
   受け渡し用搬送機構により受け取ってそのままあるいは
   一時前記バッファ用載置部に載置した後、外部受け渡し
   用載置部に搬送し、また前記露光ステ−ションから外部
   受け渡し用載置部に受け渡された板状体を、前記受け渡
   し用搬送機構により受け取ってそのままあるいは一時前
   記バッファ用載置部に載置した後、前記中間受け渡し台
   に搬送する受け渡しステ−ションと、 前記塗布、現像ステ−ション内に清浄な気体のダウンフ
   ロ−を形成するために当該ステ−ションの上部に設けら
   れた気体清浄用フィルタと、 前記受け渡しステ−ション内に清浄な気体のダウンフロ
   −を形成するために当該ステ−ションの上部に前記気体
   清浄用フィルタとは別個に設けられた気体清浄用フィル
   タと、を備えたことを特徴とする板状体の処理装置。