CN108525941B - 涂覆装置以及涂覆方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供涂覆装置及方法。抑制从涂覆载台的上方向基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆后将基板搬运至出口载台时产生涂覆不均。具有：搬运部，保持并搬运基板；喷嘴，向搬运的基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆；涂覆载台，配置于喷嘴的下方位置，通过向搬运的基板的下表面喷出第一气体来使基板以水平姿势浮起；出口载台，在搬运基板的搬运方向上，在涂覆载台的下游侧与涂覆载台分离，通过向从涂覆载台搬运的基板的下表面喷出第二气体来使基板以水平姿势浮起；温度控制机构，以与第一气体以及第二气体的温度接近的方式控制夹在缝隙区域和通过缝隙区域的上方搬运的基板的下表面之间的环境的温度，缝隙区域是夹在涂覆载台和出口载台之间的区域。

Description

涂覆装置以及涂覆方法

技术领域

本发明涉及一边在使基板从载台浮起的状态下沿水平方向搬运基板，一边在基板的上表面涂覆涂覆液的涂覆装置以及涂覆方法。应予说明，上述基板包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机EL显示用基板、等离子体显示用基板、FED(FieldEmission Display：场发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板等。

背景技术

在半导体装置、液晶显示装置等电子部件等的制造工序中，使用向基板的上表面喷出涂覆液来对基板的上表面进行涂覆的涂覆装置。例如，日本专利第5346643号所记载的涂覆装置，一边向基板的下表面喷吹气体，在使基板从载台浮起的状态下搬运该基板，一边利用泵将涂覆液输送至狭缝喷嘴，并从狭缝喷嘴的喷出口喷出至基板的表面，对几乎整个基板涂覆涂覆液。

发明内容

在该日本专利第5346643号所记载的装置中，利用配置于狭缝喷嘴的下方的涂覆载台使基板浮起地进行涂覆处理。而且，对于涂覆涂覆液而形成有涂覆膜的基板，使其保持浮起状态地搬运至配置于涂覆载台的下游侧的出口浮起载台。这样，一边利用涂覆载台以及出口浮起载台使担载涂覆液的基板浮起一边进行搬运。

在涂覆载台以及出口浮起载台中，通过向基板的下表面喷出压缩空气来使基板浮起，在夹着基板的下表面和涂覆载台之间的区域形成压缩空气的环境(以下称作“涂覆环境”)，并且，在夹在基板的下表面和出口浮起载台之间的区域也形成压缩空气的环境(以下称作“出口环境”)。另一方面，难以使涂覆载台和出口浮起载台在基板的搬运方向上相互紧贴，产生1mm左右的缝隙。因此，在上述的涂覆环境与出口环境之间产生成为两者的边界的不同的环境(以下称作“边界环境”)。

在现有装置中，不特别关心边界环境，存在在涂覆环境与边界环境之间、以及在边界环境与出口环境之间产生温度差的情况。结果，存在基板上的涂覆膜由温度引起涂覆不均的情况。尤其是，当在具有涂覆膜的基板的下表面的一部分位于上述缝隙的上方的状态下暂时停止基板的搬运时，在该停止中，与边界环境接触的部位的基板的温度与其它部位不同，在该部位的涂覆不均变得显著。

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于，提供如下的涂覆技术：在从涂覆载台的上方向基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆后将该基板搬运至出口载台时抑制产生涂覆不均，从而能够进行高品质的涂覆处理。

本发明的一方式是一种涂覆装置，其特征在于，具有：搬运部，保持并搬运基板；喷嘴，向搬运的基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆；涂覆载台，配置于喷嘴的下方位置，通过向搬运来的基板的下表面喷出第一气体来使基板以水平姿势浮起；出口载台，在搬运基板的搬运方向上，在涂覆载台的下游侧与涂覆载台分离配置，通过向从涂覆载台搬运来的基板的下表面喷出第二气体来使基板以水平姿势浮起；温度控制机构，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在缝隙区域和通过缝隙区域的上方搬运的基板的下表面之间的环境的温度，所述缝隙区域是夹在涂覆载台和出口载台之间的区域。

另外，本发明的其它的方式一种涂覆方法，一边涂覆载台和出口载台的顺序搬运基板，一边从涂覆载台的上方朝向基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆，涂覆载台通过向基板的下表面喷出第一气体来使基板以水平姿势浮起，出口载台通过在与涂覆载台分离的位置向基板的下表面喷出第二气体来使基板以水平姿势浮起，在涂覆有涂覆液的基板位于夹在涂覆载台以及出口载台之间的缝隙区域的上方时，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在通过缝隙区域的上方搬运的基板的下表面和缝隙区域之间的环境的温度。

在这样构成的发明中，从涂覆载台喷出第一气体，在涂覆载台与基板的下表面之间形成第一气体的环境，换句话说，形成涂覆环境，并且，从出口载台喷出第二气体，在出口载台与基板的下表面之间形成第二气体的环境，换句话说，形成出口环境。另外，由于涂覆载台和出口载台分离，因此，在两者之间形成缝隙区域，形成夹在上述缝隙区域和基板的下表面之间的环境。该环境是在涂覆环境以及出口环境之间成为两者的边界的边界环境，若边界环境的温度与第一气体以及第二气体的温度不同而产生大的温度差，则上述温度差给涂覆至基板的涂覆液的品质带来负面影响。然而，在本发明中，由于边界环境的温度与第一气体以及第二气体的温度接近，因此，抑制因温度差而产生涂覆不均。

如上那样，由于以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在缝隙区域和通过缝隙区域的上方搬运的基板的下表面之间的边界环境的温度，因此，能够抑制涂覆不均，良好地进行涂覆处理，上述缝隙区域是夹在涂覆载台和出口载台之间的区域。

附图说明

图1是示意性表示本发明的涂覆装置的第一实施方式的整体结构的图。

图2是从铅垂上方观察涂覆装置的俯视图。

图3是从图2取下涂覆机构的俯视图。

图4是图2的A－A线剖视图。

图5是表示浮起载台部以及浮起控制机构的结构的图。

图6是示意性表示涂覆处理中的装置的各部的位置关系的图。

图7是表示本发明的涂覆装置的第二实施方式的图。

图8是表示本发明的涂覆装置的第三实施方式的图。

图9是表示本发明的涂覆装置的第四实施方式的图。

其中，附图标记说明如下：

1…涂覆装置

6…气体供给管(气体供给部)

32…涂覆载台

33…出口浮起载台(出口载台)

332…(第一)喷出孔

333…(第二)喷出孔

37…密封部件

51…卡盘机构(搬运部)

71…喷嘴

A1…压缩空气(第一气体)

A2…压缩空气(第二气体)

A3…压缩空气(第三气体)

AM3…边界环境

W…基板

Wf…(基板的)上表面

Wb…(基板的)下表面

X…搬运方向

具体实施方式

图1是示意性表示本发明的涂覆装置的第一实施方式的整体结构的图。该涂覆装置1是在以水平姿势从图1的左手侧朝向右手侧搬运的基板W的上表面Wf涂覆涂覆液的狭缝涂覆机。应予说明，在以下的各图中，为了使装置各部的配置关系明确，将基板W的搬运方向作为“X方向”，将从图1的左手侧朝向右手侧的水平方向称作“+X方向”，将相反方向称作“－X方向”。另外，将与X方向正交的水平方向Y中的、装置的正面侧称作“－Y方向”，并且，将装置的背面侧称作“+Y方向”。并且，将铅垂方向Z的上方向以及下方向分别称作“+Z方向”以及“－Z方向”。

首先，使用图1，对该涂覆装置1的结构以及动作的概要进行说明，之后对各部的更加详细的结构进行说明。应予说明，涂覆装置1的基本的结构、动作原理与本申请的申请人先前公开的日本专利第5346643号所记载的结构、动作原理共用。因此，在本说明书中，对于涂覆装置1的各结构中的、能够适用与这些公知文献所记载的结构相同的结构、以及能够根据这些文献的记载容易理解的结构，省略详细的说明，主要对本实施方式的特征部分进行说明。

在涂覆装置1中，沿基板W的搬运方向Dt(+X方向)，将输入输送部100、输入移载部2、浮起载台部3、输出移载部4、输出输送部110依次接近地配置，如以下详述的那样，由这些形成了大致沿水平方向延伸的基板W的搬运路径。应予说明，在以下的说明中，在与基板W的搬运方向Dt关联地表示位置关系时，有时将“基板W的搬运方向Dt的上游侧”仅简称为“上游侧”，另外，将“基板W的搬运方向Dt的下游侧”仅简称为“下游侧”。在该例子中，从某基准位置观察时，相对地(－X)侧相当于“上游侧”，(+X)侧相当于“下游侧”。

作为处理对象的基板W被从图1的左手侧搬入至输入输送部100。输入输送部100具有辊输送部101、以及对辊输送部101进行旋转驱动的旋转驱动机构102，利用辊输送部101的旋转，基板W被以水平姿势向下游侧搬运，换句话说向(+X)方向搬运。输入移载部2具有辊输送部21、以及具有对辊输送部21进行旋转驱动的功能以及使辊输送部21升降的功能的旋转/升降驱动机构22。通过辊输送部21旋转，基板W被进一步向(+X)方向搬运。另外，通过辊输送部21升降来变更基板W的铅垂方向位置。利用这样构成的输入移载部2，将基板W从输入输送部100移载至浮起载台部3。

浮起载台部3具有沿基板的搬运方向Dt被分割成三个的平板状的载台。即，浮起载台部3具有入口浮起载台31、涂覆载台32以及出口浮起载台33，这些各载台的上表面形成相互同一平面的一部分。在入口浮起载台31以及出口浮起载台33的上表面分别以矩阵状设置有多个喷出从浮起控制机构35供给的压缩空气的喷出孔，基板W借助由喷出的气流提供的浮力浮起。这样，基板W在下表面Wb从载台上表面分离的状态下支承为水平姿势。能够将基板W的下表面Wb与载台上表面的距离即浮起量例如设为10微米至500微米。

另一方面，在涂覆载台32的上表面，交替地配置有喷出压缩空气的喷出孔和吸引基板W的下表面Wb与载台上表面之间的空气的吸引孔。浮起控制机构35通过控制从喷出孔喷出的压缩空气的喷出量和从吸引孔吸引的吸引量，来精密地控制基板W的下表面Wb与涂覆载台32的上表面的距离。由此，将通过涂覆载台32的上方的基板W的上表面Wf的铅垂方向位置控制在规定值。作为浮起载台部3的具体结构，例如能够适用日本专利第5346643号所记载的浮起载台部。

如图1所示，出口浮起载台33与涂覆载台32在搬运方向(+X)上分离并排设置，在两者之间产生缝隙区域CL。在该缝隙区域CL的铅垂下方配置气体供给管6，接受来自浮起控制机构35的压缩空气的供给并向缝隙区域CL喷出压缩空气。由此，抑制涂覆不均的产生。关于该点，后面与浮起控制机构35的结构说明一并详述。

应予说明，在入口浮起载台31配设有在图中未出现的升降销，在浮起载台部3设置有使该升降销升降的升降销驱动机构34。

利用辊输送部21的旋转向经由输入移载部2搬入至浮起载台部3的基板W施加向(+X)方向的推进力，将基板W搬运至入口浮起载台31上。入口浮起载台31、涂覆载台32以及出口浮起载台33将基板W支承为浮起状态，但不具有使基板W沿水平方向移动的功能。基板W在浮起载台部3的搬运利用配置于入口浮起载台31、涂覆载台32以及出口浮起载台33的下方的基板搬运部5来进行。

基板搬运部5具有：卡盘机构51，通过与基板W的下表面周边部部分抵接来从下方支承基板W；以及吸附/行进控制机构52，具有向设置于卡盘机构51上端的吸附部件(下面的图3、图4、图6中的附图标记513)的吸盘(省略图示)提供负压来使基板W吸附保持的功能以及使卡盘机构51沿X方向往复行进的功能。在卡盘机构51保持基板W的状态下，基板W的下表面Wb位于比浮起载台部3的各载台的上表面高的位置。因此，基板W一边被卡盘机构51吸附保持周边部，一边借助从浮起载台部3提供的浮力作为整体维持水平姿势。

卡盘机构51保持从输入移载部2搬入至浮起载台部3的基板W，在该状态下使卡盘机构51向(+X)方向移动，从而将基板W从入口浮起载台31的上方经由涂覆载台32的上方向出口浮起载台33的上方搬运。搬运的基板W交至配置于出口浮起载台33的(+X)侧的输出移载部4。

输出移载部4具有辊输送部41、以及具有对辊输送部41进行旋转驱动的功能以及使辊输送部41升降的功能的旋转/升降驱动机构42。通过辊输送部41旋转，向基板W施加向(+X)方向的推进力，使基板W进一步沿搬运方向Dt搬运。另外，通过辊输送部41升降来变更基板W的铅垂方向位置。然后，利用输出移载部4，将基板W从出口浮起载台33的上方移载至输出输送部110。

输出输送部110具有辊输送部111、以及对辊输送部111进行旋转驱动的旋转驱动机构112，利用辊输送部111的旋转将基板W进一步向(+X)方向搬运，最终取出至涂覆装置1外。应予说明，输入输送部100以及输出输送部110可以作为涂覆装置1的结构的一部分来设置，但也可以与涂覆装置1独立设置。另外，例如，设置于涂覆装置1的上游侧的其它单元的基板取出机构也可以作为输入输送部100使用。另外，设置于涂覆装置1的下游侧的其它单元的基板接受机构也可以作为输出输送部110使用。

在这样搬运的基板W的搬运路径上配置用于对基板W的上表面Wf涂覆涂覆液的涂覆机构7。涂覆机构7具有作为狭缝喷嘴的喷嘴71、以及用于对喷嘴71进行维护的维护单元75。从未图示的涂覆液供给部向喷嘴71供给涂覆液，从在喷嘴下部向下开口的喷出口喷出涂覆液。

喷嘴71能够由定位机构73在X方向以及Z方向上移动定位。利用定位机构73，将喷嘴71定位于涂覆载台32的上方的涂覆位置(以虚线表示的位置)。从定位于涂覆位置的喷嘴喷出涂覆液，涂覆至在喷嘴与涂覆载台32之间搬运的基板W。这样，向基板W涂覆涂覆液。

维护单元75具有贮存用于清洗喷嘴71的清洗液的槽(Vat)751、预备喷出滚子752、喷嘴清洁器753、以及控制预备喷出滚子752和喷嘴清洁器753的动作的维护控制机构754。作为维护单元75的具体的结构，例如能够适用日本特开2010－240550号公报所记载的结构。

在喷嘴71在预备喷出滚子752的上方且喷出口与预备喷出滚子752的上表面对置的位置(预备喷出位置)，从喷嘴71的喷出口向预备喷出滚子752的上表面喷出涂覆液。喷嘴71在定位于涂覆位置之前定位于预备喷出位置，从喷出口喷出规定量的涂覆液来执行预备喷出处理。通过这样使喷嘴71在向涂覆位置移动前进行预备喷出处理，能够使涂覆液在涂覆位置的喷出从其初始阶段开始稳定。

通过维护控制机构754使预备喷出滚子752旋转，喷出的涂覆液混合在贮存于缸751的清洗液中被回收。另外，在喷嘴71处于喷嘴清洁器753的上方位置(第一清洗位置)的状态下，喷嘴清洁器753一边喷出清洗液一边沿Y方向移动，由此，将附着于喷嘴71的喷出口及其周围的涂覆液冲洗。

另外，定位机构73能够将喷嘴71定位于比第一清洗位置靠下方且喷嘴下端容纳在缸751内的位置(待机位置)。在未使用喷嘴71执行涂覆处理时，喷嘴71定位于该待机位置。应予说明，虽省略图示，但也可以配置待机容器，该待机容器用于防止定位于待机位置的喷嘴71的喷出口处的涂覆液干燥。

除此之外，在涂覆装置1设置有用于控制装置各部的动作的控制单元9。控制单元9具有存储规定的控制程序以及各种数据的存储单元、通过执行该控制程序来使装置各部执行规定的动作的CPU等运算单元、承担与用户及外部装置的信息交换的接口单元等。

图2是从铅垂上方观察涂覆装置的俯视图。另外，图3是从图2取下涂覆机构的俯视图。另外，图4是图2的A－A线剖视图。以下，参照这些图对涂覆装置1的具体的机械结构进行说明。对于几个机构，通过参照日本专利第5346643号的记载，能够了解更加详细的结构。应予说明，在图2以及图3中省略了输入输送部100等具有的辊的记载。

涂覆机构7的喷嘴单元70具有如图2以及图4所示的架桥构造。具体而言，喷嘴单元70具有利用从基台10向上方竖立设置的一对柱部件732、733支承在浮起载台部3的上方沿Y方向延伸的梁部件731的Y方向两端部的结构。在柱部件732安装有例如由滚珠丝杠机构构成的升降机构734，利用升降机构734将梁部件731的(+Y)侧端部升降自如地支承。另外，在柱部件733安装有例如由滚珠丝杠机构构成的升降机构735，利用升降机构735将梁部件731的(－Y)侧端部升降自如地支承。使升降机构734、735根据来自控制单元9的控制指令连动，从而，使梁部件731保持水平姿势地沿铅垂方向(Z方向)移动。

在梁部件731的中央下部，使喷出口711向下地安装有喷嘴71。因此，通过使升降机构734、735动作，来实现喷嘴71沿Z方向的移动。

柱部件732、733能够在基台10上沿X方向移动。具体而言，在基台10的(+Y)侧以及(－Y)侧端部上表面分别安装有沿X方向延伸设置的一对行进导轨81L、81R，柱部件732经由安装于其下部的滑块736与(+Y)侧的行进导轨81L卡合。滑块736沿行进导轨81L在X方向上移动自如。同样地，柱部件733经由安装于其下部的滑块737与(－Y)侧的行进导轨81R卡合，在X方向上移动自如。

另外，柱部件732、733利用线性马达82L、82R沿X方向移动。具体而言，线性马达82L、82R的磁铁模块作为固定件在基台10上沿X方向延伸设置，线圈模块作为移动件分别安装于柱部件732、733的下部。通过使线性马达82L、82R根据来自控制单元9的控制指令动作，使喷嘴单元70整体沿X方向移动。由此，实现喷嘴71沿X方向的移动。对于柱部件732、733在X方向的位置，能够由设置于滑块736、737的附近的线性标尺83L、83R来检测。

这样，通过使升降机构734、735动作，使喷嘴71沿Z方向移动，通过使线性马达82L、82R动作，使喷嘴71沿X方向移动。即，通过控制单元9控制这些机构，实现喷嘴71在各停止位置(涂覆位置、预备喷出位置等)的定位。因此，升降机构734、735、线性马达82L、82R以及控制升降机构734、735和线性马达82L、82R的控制单元9等成为一体，发挥作为图1的定位机构73的功能。

维护单元75具有在缸751容纳预备喷出滚子752以及喷嘴清洁器753的结构。另外，虽省略图示，但在维护单元75设置有用于驱动预备喷出滚子752以及喷嘴清洁器753的维护控制机构754。缸751被沿Y方向延伸设置的梁部件761支承，梁部件761的两端部被一对柱部件762、763支承。一对柱部件762、763安装于沿Y方向延伸的板764的Y方向两端部。

在板764的Y方向两端部的下方，在基台10上沿X方向延伸设置有一对行进导轨84L、84R。板764的Y方向两端部经由滑块766、767与行进导轨84L、84R卡合。因此，维护单元75能够沿行进导轨84L、84R在X方向上移动。在板764的(－Y)方向端部的下方设置有线性马达85。线性马达85也可以设置于板764的(+Y)方向端部的下方，还可以分别设置于Y方向两端部的下方。

在线性马达85中，磁铁模块作为固定件在基台10上沿X方向延伸设置，线圈模块作为移动件安装于维护单元75。通过使线性马达85根据来自控制单元9的控制指令动作，维护单元75整体沿X方向移动。对于维护单元75在X方向的位置，能够利用设置于滑块766、767的附近的线性标尺86来检测。

接下来，参照图3以及图4对卡盘机构51的结构进行说明。卡盘机构51具有一对卡盘51L、51R，该一对卡盘51L、51R具有关于XZ平面相互对称的形状，且在Y方向上分离配置。该一对卡盘51L、51R中的、配置于(+Y)侧的卡盘51L被在基台10上沿X方向延伸设置的行进导轨87L支承为能够沿X方向行进。具体而言，卡盘51L具有基部512，该基部512具有在X方向上的位置不同的两个水平的板部位和连接该两个板部位的连接部位。在基部512的两个板部位的下部分别设置有滑块511，通过滑块511与行进导轨87L卡合，基部512能够沿行进导轨87L在X方向上行进。

在基部512的两个板部位的上部设置有吸附部件513、513，该吸附部件513、513向上方延伸且在其上端部设置有省略图示的吸盘。若基部512沿行进导轨87L在X方向上移动，则两个吸附部件513、513与基部512一体地在X方向上移动。应予说明，也可以是如下的结构：基部512的两个板部位相互分离，该两个板部位在X方向上保持恒定的距离地移动，从而作为外观上一体的基部发挥功能。若根据基板的长度设定该距离，则能够应对各种长度的基板。

卡盘51L能够利用线性马达88L沿X方向移动。即，线性马达88L的磁铁模块作为固定件在基台10上沿X方向延伸设置，线圈模块作为移动件安装于卡盘51L的下部。通过使线性马达88L根据来自控制单元9的控制指令动作，卡盘51L沿X方向移动。对于卡盘51L在X方向的位置，能够利用线性标尺89L来检测。

设置于(－Y)侧的卡盘51R也同样，具有两个板部位以及连接部位的基部512以及吸附部件513、513。但是，卡盘51R的形状是关于XZ平面与卡盘51L对称的形状。各板部位分别通过滑块511与行进导轨87R卡合。另外，卡盘51R能够利用线性马达88R沿X方向移动。即，线性马达88R的磁铁模块作为固定件在基台10上沿X方向延伸设置，线圈模块作为移动件安装于卡盘51R的下部。通过使线性马达88R根据来自控制单元9的控制指令动作，卡盘51R沿X方向移动。对于卡盘51R在X方向的位置，能够利用线性标尺89R来检测。

控制单元9进行卡盘51L、51R的位置控制，使卡盘51L、51R在X方向上总是在同一位置。由此，一对卡盘51L、51R作为外观上一体的卡盘机构51移动。与将卡盘51L、51R机械结合的情况相比，能够容易避免卡盘机构51和浮起载台部3的干扰。

如图3所示，四个吸附部件513分别与被保持的基板W的四角对应。即，卡盘51L的两个吸附部件513、513分别保持作为基板W的(+Y)侧周边部的在搬运方向Dt上的上游侧端部和下游侧端部。另一方面，卡盘51R的两个吸附部件513、513分别保持基板W的(－Y)侧周边部的在搬运方向Dt上的上游侧端部和下游侧端部。根据需要向各吸附部件513的吸盘供给负压，由此，基板W的四角被卡盘机构51从下方吸附保持。

通过卡盘机构51一边保持基板W一边沿X方向移动来搬运基板W。这样，线性马达88L、88R、用于向各吸附部件513供给负压的机构(未图示)、以及控制它们的控制单元9等成为一体来作为图1的吸附/行进控制机构52发挥功能。

如图1以及图4所示，卡盘机构51在将基板W的下表面Wb保持于比浮起载台部3的各载台靠上方的状态下搬运基板W，即在将基板W的下表面Wb保持于比入口浮起载台31、涂覆载台32以及出口浮起载台33的上表面靠上方的状态下搬运基板W。由于卡盘机构51仅保持基板W中的在Y方向上比与各载台31、32、33对置的中央部分靠外侧的周边部的一部分，因此，基板W的中央部相对于周边部向下方挠曲。浮起载台部3具有通过向这样的基板W的中央部提供浮力来控制基板W的铅垂方向位置，从而将基板W维持为水平姿势的功能。

对于浮起载台部3的各载台中的出口浮起载台33，能够在出口浮起载台33的上表面位置低于卡盘机构51的上表面位置的下部位置与出口浮起载台33的上表面位置高于卡盘机构51的上表面位置的上部位置之间升降。为了实现该目的，出口浮起载台33被升降驱动机构36支承。

接下来，参照图5对浮起控制机构35的结构进行说明。图5是表示浮起载台部以及浮起控制机构的结构的图，在该图中，对于浮起载台部3示意性示出了涂覆载台32的全部、以及入口浮起载台31和出口浮起载台33的一部分。

浮起控制机构35具有压缩机等压缩部351和温度调节部352，利用温度调节部352将被压缩部351压缩的空气调整为规定的温度来生成浮起用的压缩空气。使该压缩空气流通的配管353分支为四个，分别经由压力控制部354与入口浮起载台31、涂覆载台32、出口浮起载台33以及气体供给管6连接。四个压力控制部354均具有相同结构，根据来自控制单元9的指令进行压缩空气的压力控制以及对压缩空气的供给和停止进行切换。

各压力控制部354具有过滤器354a、针形阀354b、流量计354c、压力计354d以及气动阀354e。例如在与出口浮起载台33对应设置的压力控制部354中，若气动阀354e根据来自控制单元9的指令打开，则通过过滤器354a而被净化的压缩空气在由针形阀354b进行压力调节后，通过流量计354c、压力计354d、气动阀354e而被压送至设置于出口浮起载台33的喷出孔331。由此，从喷出孔331喷出进行了温度调节的压缩空气，利用压缩空气的环境压力使基板W浮起。此时，形成在基板W的下表面Wb与出口浮起载台33之间的出口环境(在后面说明的图6中的附图标记AM2)的温度几乎成为压缩空气的温度。关于这点，在与入口浮起载台31对应设置的压力控制部354中也相同。

与涂覆载台32对应设置的压力控制部354也与上述相同，与气动阀354e的打开对应地，压缩空气被朝向涂覆载台32压送。在该涂覆载台32中，以比喷出孔312、331窄的间距，以矩阵状分散设置多个孔，这些孔中的一半作为喷出孔321接受上述压缩空气的供给，并朝向基板W的下表面Wb喷出。利用此时的环境压力使基板W浮起，此时，形成在基板W的下表面Wb与涂覆载台32之间的涂覆环境(下面说明的图6中的附图标记AM1)的温度几乎成为压缩空气的温度。

另外，为了使上述涂覆环境的压力稳定，剩余的一半孔作为吸引孔322通过吸引配管355与吸引部356连接。该吸引部356具有作为吸引单元的鼓风机356a、压力计356b、以及安全阀356c，在经由吸引配管355连接的吸引孔322内的压力比利用鼓风机356a得到的吸引压力高的情况下，经由吸引孔322以及吸引配管355从安全阀356c向外部释放空气，从而，能够进行用于使涂覆环境内的压力保持恒定的微调。

并且，剩余的压力控制部354与气体供给管6连接。在该压力控制部354中，若气动阀354e根据来自控制单元9的指令打开，则与其它的压力控制部354相同地，净化的压缩空气被压送至气体供给管6。在该气体供给管6的顶部，沿气体供给管6的长度方向(与该图纸面垂直的方向Y)以列状设置有多个喷出口(参照在下面说明的图6中的附图标记61)，从各喷出口朝向缝隙区域CL喷出，使边界环境(在下面说明的图6中的附图标记AM3)的温度与和边界环境邻接的涂覆环境以及出口环境的温度接近。这样，在本实施方式中，浮起控制机构35除了使基板W浮起的功能以外，也作为本发明的“温度控制机构”的一部分发挥功能。当然，为了向气体供给管6压送进行了温度调节的压缩空气，也可以设置专用的压缩部351、温度调节部352、配管353以及压力控制部354，由它们和气体供给管6构成本发明的“温度控制机构”。

接下来，参照图6对这样构成的涂覆装置1的涂覆处理进行说明。在本实施方式中，通过运算单元根据预先存储于存储单元的控制程序以如下方式控制装置各部，一边抑制边界环境与涂覆环境以及出口环境的温度差，一边执行针对基板W的涂覆处理。

在本实施方式中，使用于涂覆处理的喷嘴71移动至预备喷出位置并执行预备喷出处理。另外，进行如下准备：开始从浮起载台部3喷出压缩空气，使搬入的基板W浮起，并且，开始从气体供给管6喷出压缩空气，能够实现减小上述的温度差。通过在预备喷出位置，喷嘴71朝向预备喷出滚子752喷出规定量的涂覆液，能够使从喷嘴71喷出的涂覆液的喷出量稳定。应予说明，也可以在预备喷出处理前进行喷嘴71的清洗处理。

接下来，开始向涂覆装置1搬入基板W。利用上游侧的其它处理单元、搬运机械手等将成为处理对象的基板W载置于输入输送部100，通过辊输送部101旋转，向(+X)方向搬运基板W。此时，喷嘴71在预备喷出位置执行预备喷出处理。另外，卡盘机构51退避至比入口浮起载台31靠下游侧并被定位。

通过输入输送部100和输入移载部2协作，基板W被搬运至通过喷出压缩空气向基板W提供浮力的入口浮起载台31的上部，输入移载部2的辊输送部21的上表面定位于与输入输送部100的辊输送部101相同的高度位置。此时，入口浮起载台31的上表面处于比辊输送部21的上表面靠下方，基板W处于上游侧端部(移动方向的后端部)搭在辊输送部21上的状态。因此，不存在基板W在入口浮起载台31上滑动地移动的情况。

若这样基板W被搬入至入口浮起载台31，则设置于入口浮起载台31的升降销被升降销驱动机构34定位于升降销的上端比入口浮起载台31的上表面向上方突出的上方位置。由此，基板W被举起，更具体而言，与升降销抵接的基板W的Y方向两端部被举起。

然后，卡盘机构51向(－X)方向移动，移动至基板W正下方的搬运开始位置。由于基板W的Y方向两端部被升降销311举起，因此，避免进入至基板W的下方的卡盘机构51与基板W接触。通过使辊输送部21以及升降销从该状态下降至辊输送部21以及升降销的上表面比卡盘机构51的上表面靠下方，基板W被移载至卡盘机构51。卡盘机构51吸附保持基板W的周边部。

以后，在由卡盘机构51保持周边部，且由浮起载台部3将中央部维持为水平姿势的状态下搬运基板W。接着，卡盘机构51向(+X)方向移动而将基板W搬运至涂覆开始位置。另外，与搬运基板W并行地进行喷嘴71从预备喷出位置向涂覆位置的移动定位。涂覆开始位置是基板W的下游侧(在移动方向上为前端侧)的端部来到定位于涂覆位置的喷嘴71的正下方位置这样的基板W的位置。应予说明，很多情况下，基板W的端部作为留白区域不涂覆涂覆液，在这样的情况下，基板W的下游侧端部从喷嘴71的正下方位置前进留白区域的长度后的位置成为涂覆开始位置。

若喷嘴71定位于涂覆位置，则以如下方式执行涂覆处理。即，从喷嘴71的喷出口喷出的涂覆液着落到基板W的上表面Wf。另外，通过卡盘机构51以等速搬运基板W，来执行利用喷嘴71在基板W的上表面Wf涂覆涂覆液的涂覆动作，如图6所示，在基板上表面Wf形成由涂覆液形成的恒定厚度的涂覆膜CF。

继续涂覆动作，直至基板W被搬运至应结束涂覆的结束位置，若基板W到达结束位置，则如图6所示，暂时停止基板W的搬运，喷嘴71从涂覆位置脱离，返回至预备喷出位置。之后，再次执行预备喷出处理，并且，再次开始基板W的搬运。通过这样的基板搬运动作，担载涂覆膜CF的基板W从涂覆载台32的上方通过缝隙区域CL的上方而被搬运至出口浮起载台33的上方。此时，基板W一边与三个环境按照如下的顺序接触一边被搬运。

·形成在基板W的下表面Wb与涂覆载台32之间的涂覆环境AM1，

·夹在基板W的下表面Wb和缝隙区域CL之间的边界环境AM3，

·形成在基板W的下表面Wb与出口浮起载台33之间的出口环境AM2。

因此，若在涂覆环境AM1、边界环境AM3以及出口环境AM2之间产生温度差，则存在涂覆膜CF产生涂覆不均的情况。尤其在暂时停止基板搬运的期间，存在极大地受到上述温度差的影响，涂覆不均变得显著的情况。

然而，在本实施方式中，利用从气体供给管6喷出的压缩空气A3在边界环境AM3中产生气流，与分别供给至涂覆环境AM1以及出口环境AM2的压缩空气A1、A2混合，使得边界环境AM3的温度与涂覆环境AM1以及出口环境AM2的温度接近，实现温度差的降低。并且，在本实施方式中，由于涂覆环境AM1、边界环境AM3以及出口环境AM2均经由从温度调节部352分支的配管353使被压送的压缩空气A1、A3、A2喷出，因此，涂覆环境AM1、边界环境AM3以及出口环境AM2的温度几乎成为同一值。由于在继续基板搬运的期间和暂时停止基板搬运的期间均进行这样的温度调整，因此，能够有效地抑制上述涂覆不均的产生。

接下来，在卡盘机构51到达基板W的下游侧端部位于输出移载部4上的搬运结束位置的时刻，停止卡盘机构51的移动，解除吸附保持。然后，依次开始使输出移载部4的辊输送部41上升以及使出口浮起载台33上升。

然后，通过使辊输送部41以及出口浮起载台33上升至比卡盘机构51的上表面靠上方，基板W从卡盘机构51离开。在该状态下，通过辊输送部41旋转，向基板W提供向(+X)方向的推进力。若由此基板W向(+X)方向移动，则通过辊输送部41与输出输送部110的辊输送部111的协作，基板W被进一步向(+X)方向搬出(步骤S21)，最终被取出至下游侧单元。在存在应处理的下一基板的情况下，反复执行与上述相同的处理，若不存在应处理的下一基板，则结束处理。此时，喷嘴71返回至待机位置。

如上述那样，在本实施方式中，在缝隙区域CL的铅垂下方配置气体供给管6，接受来自浮起控制机构35的压缩空气的供给并向缝隙区域CL喷出压缩空气A3。因此，能够有效地抑制形成于基板W的上表面Wf的涂覆膜CF产生涂覆不均，能够良好地进行涂覆处理。

如以上说明的那样，在该实施方式中，卡盘机构51作为本发明的“搬运部”发挥功能。另外，出口浮起载台33与本发明的“出口载台”的一个例子相当。另外，压缩空气A1～A3分别与本发明的“第一气体”、“第二气体”、“第三气体”相当。另外，边界环境AM3与本发明的“环境”的一个例子相当。并且，气体供给管6与本发明的“气体供给部”的一个例子相当。

应予说明，本发明并不局限于上述的实施方式，只要不脱离其主旨，除上述的实施方式以外，能够进行各种变更。例如，在上述实施方式中，气体供给管6和浮起控制机构35的组合作为本发明的“温度控制机构”发挥功能，但可以采用其它的供给单元来代替气体供给管6。例如，如图7所示，也可以设置喷出孔332来作为本发明的“第一喷出孔”，该喷出孔332在出口浮起载台33中的与缝隙区域CL邻接的(－X)方向端部以面向边界环境AM3的方式设置有开口。而且，也可以从温度调节部352压送至出口浮起载台33的压缩空气A2的一部分经由喷出孔332直接供给至边界环境AM3的方式构成。在该情况下，喷出孔332和浮起控制机构35的组合作为本发明的“温度控制机构”发挥功能。

另外，作为温度控制机构的一部分发挥功能的喷出孔的形式并不局限于上述喷出孔332，例如，也可以如图8所示那样，将喷出孔333作为本发明的“第二喷出孔”使用，该喷出孔333以面向缝隙区域CL的方式设置有开口。在该情况下，与图6所示的实施方式相同地，能够经由缝隙区域CL向边界环境AM3供给压缩空气A2，实现温度差的降低。另外，也可以在出口浮起载台33并排设置上述第一喷出孔332以及第二喷出孔333。当然，作为温度控制机构的一部分发挥功能的喷出孔也可以设置于涂覆载台32。

另外，在上述实施方式中，向边界环境AM3积极地供给压缩空气A3，使边界环境AM3的温度接近涂覆环境AM1以及出口环境AM2的温度，但也可以如图9所示那样，在缝隙区域CL设置密封部件37，通过堵塞缝隙区域CL，来使压缩空气A1、A2在边界环境AM3中混合，实现温度的均匀化。另外，通过在缝隙区域CL设置密封部件37，能够阻止混合空气(＝压缩空气A1+压缩空气A2)从边界环境AM3向缝隙区域CL流出。应予说明，在本实施方式中，由于出口浮起载台33能够升降，因此，对于密封部件37优选由具有弹性、挠性的材料构成，或者采用伸缩自如的结构。另外，对于密封部件37，也可以适用于图7所示的实施方式。

本发明能够普遍适用于一边在使基板从载台浮起的状态下沿水平方向搬运基板，一边在基板的上表面涂覆涂覆液的涂覆装置以及涂覆方法。

Claims (11)

1.一种涂覆装置，其特征在于，具有：

搬运部，保持并搬运基板；

喷嘴，向搬运的所述基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆；

涂覆载台，配置于所述喷嘴的下方位置，通过向搬运来的所述基板的下表面喷出第一气体来使所述基板以水平姿势浮起；

出口载台，在搬运所述基板的搬运方向上，在所述涂覆载台的下游侧与所述涂覆载台分离配置，通过向从所述涂覆载台搬运来的所述基板的下表面喷出第二气体来使所述基板以水平姿势浮起；以及

温度控制机构，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在缝隙区域和通过所述缝隙区域的上方搬运的所述基板的下表面之间的环境的温度，所述缝隙区域是夹在所述涂覆载台和所述出口载台之间的区域，

所述温度控制机构具有气体供给部，所述气体供给部经由所述缝隙区域向所述环境供给第三气体。

2.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，

所述第一气体、所述第二气体以及所述第三气体均是相同温度。

3.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，

所述温度控制机构具有设置于所述出口载台并向所述缝隙区域喷出所述第二气体的第二喷出孔，经由所述缝隙区域向所述环境供给从所述第二喷出孔喷出的所述第二气体。

4.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，

所述温度控制机构具有密封部件，所述密封部件设置于所述缝隙区域，阻止所述第一气体以及所述第二气体从所述环境向所述缝隙区域流出。

5.根据权利要求1所述的涂覆装置，其特征在于，

所述第一气体以及所述第二气体均是相同温度。

6.一种涂覆装置，其特征在于，具有：

搬运部，保持并搬运基板；

喷嘴，向搬运的所述基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆；

涂覆载台，配置于所述喷嘴的下方位置，通过向搬运来的所述基板的下表面喷出第一气体来使所述基板以水平姿势浮起；

出口载台，在搬运所述基板的搬运方向上，在所述涂覆载台的下游侧与所述涂覆载台分离配置，通过向从所述涂覆载台搬运来的所述基板的下表面喷出第二气体来使所述基板以水平姿势浮起；以及

温度控制机构，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在缝隙区域和通过所述缝隙区域的上方搬运的所述基板的下表面之间的环境的温度，所述缝隙区域是夹在所述涂覆载台和所述出口载台之间的区域，

所述温度控制机构具有设置于所述出口载台并向所述环境喷出所述第二气体的第一喷出孔，向所述环境供给从所述第一喷出孔喷出的所述第二气体。

7.根据权利要求6所述的涂覆装置，其特征在于，

所述温度控制机构具有设置于所述出口载台并向所述缝隙区域喷出所述第二气体的第二喷出孔，经由所述缝隙区域向所述环境供给从所述第二喷出孔喷出的所述第二气体。

8.根据权利要求6所述的涂覆装置，其特征在于，

所述温度控制机构具有密封部件，所述密封部件设置于所述缝隙区域，阻止所述第一气体以及所述第二气体从所述环境向所述缝隙区域流出。

9.根据权利要求6所述的涂覆装置，其特征在于，

所述第一气体以及所述第二气体均是相同温度。

10.一种涂覆方法，其特征在于，

一边按照涂覆载台和出口载台的顺序搬运基板，一边从所述涂覆载台的上方朝向所述基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆，所述涂覆载台通过向基板的下表面喷出第一气体来使所述基板以水平姿势浮起，所述出口载台通过在与所述涂覆载台分离的位置向所述基板的下表面喷出第二气体来使所述基板以水平姿势浮起，

在涂覆有所述涂覆液的所述基板位于夹在所述涂覆载台以及所述出口载台之间的缝隙区域的上方时，经由所述缝隙区域向环境供给第三气体，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在通过所述缝隙区域的上方搬运的所述基板的下表面和所述缝隙区域之间的所述环境的温度。

11.一种涂覆方法，其特征在于，

一边按照涂覆载台和出口载台的顺序搬运基板，一边从所述涂覆载台的上方朝向所述基板的上表面喷出涂覆液进行涂覆，所述涂覆载台通过向基板的下表面喷出第一气体来使所述基板以水平姿势浮起，所述出口载台通过在与所述涂覆载台分离的位置向所述基板的下表面喷出第二气体来使所述基板以水平姿势浮起，

在涂覆有所述涂覆液的所述基板位于夹在所述涂覆载台以及所述出口载台之间的缝隙区域的上方时，向环境供给从设置于所述出口载台的第一喷出孔喷出的所述第二气体，以与所述第一气体以及所述第二气体的温度接近的方式控制夹在通过所述缝隙区域的上方搬运的所述基板的下表面和所述缝隙区域之间的所述环境的温度。

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