JP5663297B2 - 塗布装置 - Google Patents
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Description
このような構成によれば、第一浮上部から第二浮上部に向かうにつれて浮上量が第一浮上量から徐々に第二浮上量へ変化するように基板を浮上させることができるため、浮上量の急激な変化を確実に抑えることができる。
このような構成によれば、基板搬入部から第二浮上部に基板が搬送される場合、及び、第二浮上部から基板搬出部に基板が搬送される場合、の両方について、基板の浮上量の急激な変化を防ぐことができるため、当該基板を安定して搬送することができる。
このような構成によれば、第二浮上部及び浮上量調整部がステージに設けられた構成であり、当該ステージには複数の噴出口及び複数の吸引口のうち少なくとも一方が形成されているため、基板とステージとの間に配置される気体の量を調整することができる。このため、基板の浮上量が急激に変化するのを防ぐことができる。
このような構成によれば、第二浮上部と浮上量調整部とが一部材で形成されたステージに設けられているため、当該第二浮上部と浮上量調整部との間で基板をスムーズに移動させることができる。
このような構成によれば、ステージのうち案内面の裏面を覆うように設けられた保護部材が、板面視で複数の領域に分割されると共に、分割された領域毎に分離可能に設けられていることとしたので、一部材で形成されたステージに対してメンテナンスを行いやすい構成となる。例えば、ステージの一部分に対してメンテナンスを行う場合、当該ステージの一部分に対応する領域の保護部材を分離すれば良いことになる。これにより、メンテナンス時の負担を軽減することができる。
このような構成によれば、ステージが複数の噴出口及び複数の吸引口を有する場合において、第二浮上部に設けられる噴出口及び吸引口の個数が、浮上量調整部に設けられる噴出口及び吸引口の個数よりも多いこととしたので、浮上量調整部よりも第二浮上部の浮上量をより精密に調整することができる。
このような構成によれば、第一浮上部が基板を搬送する外部搬送機構との間で基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する複数の収容部を有することとしたので、外部搬送機構の一部を収容させる際に併せて基板の受け渡しを行うことができる。これにより、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、その分のコストを低下させることができる。また、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、処理タクトを短縮化することが可能となる。また、基板搬入領域又は基板搬出領域において直接基板の受け渡しを行うことができるため、基板搬送部上のスペースを効率的に利用することができる。これにより、塗布装置を小型化することができる。
このような構成によれば、収容部が基板の搬送方向に直交する方向に所定の間隔を空けて複数設けられているので、異なる構成の外部搬送機構であっても幅広く当該外部搬送機構の一部を収容させることができる。また、複数の収容部のそれぞれが基板の搬送方向に沿った方向に形成されているので、基板の受け渡し後、スムーズに当該基板の搬送を行うことができる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部(基板搬送系)2と、塗布部(塗布系)3と、管理部4と、制御部CONTとを主要な構成要素としている。この塗布装置1は、基板搬送部(基板搬送系)2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部(塗布系)3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域(第一浮上部)20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域(第一浮上部)22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出口25aと、収容部25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出口25aは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
次に、上記の処理ステージ27に設けられた検出部MSの構成を説明する。
図6は、処理ステージ27の構成を示す平面図である。図7は、処理ステージ27をY方向に見たときの図である。
図6及び図7に示すように、処理ステージ27は、一枚の板状に形成されており、一部材として形成されている。また、処理ステージ27のステージ表面27c全体が平坦に形成されている。このため、浮上量緩和領域RC及び塗布浮上領域TCは、面一状態に形成されている。
図8〜図14は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図11〜図14には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
例えば、上記実施形態では、第一搬送機構60及び第二搬送機構61が、それぞれ搬送機60a、61aを一個ずつ備えた構成について説明したが、本発明はこれに限定されることはない。例えば、図17に示すように、第一搬送機構60としてレール60cに搬送機60aが3個設けられた構成とすることができる。なお、図17においては、図示を省略するものの、第二搬送機構61についても搬送機61aを3個備えた構成とすることができる。また、本説明では、搬送機60a、61aが3個ずつ備える構成について説明するが、本発明はこれに限定されることは無く、搬送機60a、61aを2個ずつ、或いは4個以上ずつ備える構成についても適用可能である。
Claims (4)
- 第一浮上量で基板を浮上させる第一浮上部、及び、前記第一浮上量よりも小さい第二浮上量で前記基板を浮上させる第二浮上部、を有し、前記第一浮上部と前記第二浮上部との間で前記基板を連続的に搬送する基板搬送部と、
前記第二浮上部において浮上する前記基板に液状体を塗布する塗布部と、
前記第一浮上部と前記第二浮上部との間に設けられ、前記基板の浮上量を調整する浮上量調整部と、を備え、
前記基板搬送部は、板状の一部材から形成されると共に一方の板面に前記基板を案内する案内面を含むステージを有しており、
前記第二浮上部及び前記浮上量調整部は、前記ステージに設けられており、
前記ステージは、前記案内面に形成され当該案内面と前記基板との間の空間に気体を噴出する複数の噴出口と、
前記空間を吸引する複数の吸引口と、
前記案内面の裏面を覆うように前記ステージに設けられ、前記噴出口及び前記吸引口に接続される複数の溝が形成された板状部材と、を備え、
前記板状部材は、板面視で複数の領域に分割されると共に、分割された領域毎に前記裏面に対して分離可能とされている塗布装置。 - 前記浮上量調整部は、前記第一浮上部から前記第二浮上部に向かうにつれて前記基板の前記浮上量が前記第一浮上量から徐々に前記第二浮上量へ変化するように設けられている
請求項1に記載の塗布装置。 - 前記浮上量調整部は、前記第二浮上部に対して前記基板の搬送方向の上流側に配置される上流側調整部と、前記第二浮上部に対して前記基板の搬送方向の下流側に配置される下流側調整部と、を有し、
前記第一浮上部は、前記上流側調整部に対して前記基板の搬送方向の上流側に配置される基板搬入部と、前記下流側調整部に対して前記基板の搬送方向の下流側に配置される基板搬出部と、を有する
請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。 - 前記ステージは、複数の前記噴出口及び複数の前記吸引口を有し、
前記ステージのうち前記第二浮上部に設けられる前記噴出口及び前記吸引口の個数は、前記ステージのうち前記浮上量調整部に設けられる前記噴出口及び前記吸引口の個数よりも多い
請求項1から請求項3のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
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