JP5518284B2 - ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Description
本発明によれば、第1パッド及び第2パッドのうち少なくとも一方が複数設けられているので、洗浄液を用いたノズルの洗浄及び洗浄液の掻き取りを一層効率良く行うことができる。これにより、更なる洗浄時間の短縮化を図ることができる。
本発明によれば、第1パッドと第2パッドとが同数設けられているので、洗浄液を用いたノズルの洗浄と当該洗浄液の掻き取りとをバランス良く行うことができる。
本発明によれば、周辺領域へ向けて気体を噴出する気体噴出部を更に備えるので、当該気体によって洗浄液を除去することが可能となる。これにより、ノズルの洗浄を効率良く行うことができる。
本発明によれば、ノズル先端の周囲の雰囲気及び洗浄液を吸引する吸引部を更に備えるので、洗浄液がノズルの周囲に残存するのを回避することができる。これにより、ノズルの洗浄を効果的に行うことが可能となる。
本発明によれば、開口部に対向するように設けられ吸引部による吸引を規制する吸引規制部材を更に備えるので、吸引によってノズルの開口部から液状体が飛び出してしまうのを回避することができる。
本発明によれば、ノズルの形状に沿って設けられ第1パッド及び第2パッドを支持する支持部材を更に備えるので、第1パッド及び第2パッドをノズルの形状に沿ってフィットさせることができる。これにより、洗浄効率を向上させることができる。
本発明によれば、第1摺動ステップ及び第2摺動ステップのうち少なくとも一方では、周辺領域へ向けて気体を噴出することとしたので、当該気体によって洗浄液を除去することが可能となる。これにより、ノズルの洗浄を効率良く行うことができる。
本発明によれば、第1摺動ステップ及び第2摺動ステップのうち少なくとも一方では、ノズルの周囲の雰囲気及び洗浄液を吸引することとしたので、洗浄液がノズルの周囲に残存するのを回避することができる。これにより、ノズルの洗浄及び乾燥を効果的に行うことが可能となる。
本発明によれば、ノズルの周囲の雰囲気及び洗浄液を吸引する際には、少なくともノズルの開口部において雰囲気の吸引を規制することとしたので、吸引によってノズルの開口部から液状体が飛び出してしまうのを回避することができる。
本発明によれば、ノズル先端の洗浄時間を短縮することができ、基板上に液状体をムラ無く塗布することが可能なノズル洗浄装置を備えることとしたので、塗布処理時間を短縮化でき、スループットの高い塗布装置を得ることができる。
本発明によれば、上記のノズル洗浄装置を用いて、又は、上記のノズル洗浄方法によって、ノズルの先端を洗浄することとしたので、塗布処理時間を短縮化でき、スループットの向上を図ることができると共に、基板上に液状体をムラ無く塗布することができる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4とを主要な構成要素としている。この塗布装置1は、基板搬送部2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。管理部4には、本実施形態における特徴的構成要素であるノズル洗浄装置43が設けられている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出孔25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出孔25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
処理ステージ27は、ステージ表面27cが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ25に対して+X方向側に設けられている。処理ステージ27のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ27は、Y方向が長手になっている。処理ステージ27のY方向の寸法は、搬入側ステージ25のY方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ27には、ステージ表面27c上にエアを噴出する複数のエア噴出孔27aと、ステージ表面27c上のエアを吸引する複数のエア吸引孔27bとが設けられている。これらエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bは、処理ステージ27を貫通するように設けられている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
門型フレーム31は、支柱部材31aと、架橋部材31bとを有しており、処理ステージ27をY方向に跨ぐように設けられている。支柱部材31aは処理ステージ27のY方向側に1つずつ設けられており、各支柱部材31aがフレーム部24のY方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材31aは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材31bは、各支柱部材31aの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材31aに対して昇降可能となっている。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2に平面視で重なるように塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
図5(a)及び図5(b)に示すように、ノズル洗浄装置43は、基体43aと、パッド支持部材43bと、第1パッド43cと、第2パッド43dと、吸引孔43eと、吸引規制部材43fと、洗浄液噴出孔43gと、エア噴出孔43hと、レール部材43iと、移動機構43jとを有している。
次に、上記のように構成された塗布装置1の動作を説明する。
図6〜図9は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図6〜図9には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
塗布装置1の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構23を各ステージの−Y方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構23を各ステージの+Y方向側に配置する構成であっても構わない。また、図15に示すように、各ステージの−Y方向側には上記の搬送機構23(搬送機23a、真空パッド23b、レール23c)を配置し、+Y方向側には当該搬送機構23と同一の構成の搬送機構53(搬送機53a、真空パッド53b、レール53c)を配置して、搬送機構23と搬送機構53とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構23には基板S1を搬送させ、搬送機構53には基板S2を搬送させるようにする。この場合、搬送機構23と搬送機構53とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板S、S1、S2の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構23と搬送機構53とで1枚ずつ保持し、搬送機構23と搬送機構53とを+X方向に並進させることによって、2枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
Claims (11)
- 開口部から液状体を吐出するノズル先端を洗浄するノズル洗浄装置であって、
前記ノズル先端の表面のうち前記開口部の周辺領域を一の摺動方向に摺動する第1パッドと、
前記第1パッドに対して前記摺動方向の前方に設けられた洗浄液噴出孔を有し、当該洗浄液噴出孔から前記周辺領域に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
前記第1パッドに対して前記摺動方向の後方に配置され、前記周辺領域を前記摺動方向に摺動する第2パッドと、
前記ノズル先端の周囲の雰囲気及び前記洗浄液を吸引する吸引部と、
前記開口部に対向するように設けられ、前記吸引部による吸引を規制する吸引規制部材と、を備え、
前記第1パッドおよび前記第2パッドは、前記摺動方向の前方から後方に向かって厚さが厚くなっており、前記搬送方向の前記後方における厚さが厚くなっている部分が前記周辺領域を摺動することを特徴とするノズル洗浄装置。 - 前記第1パッドは、前記摺動方向に並ぶように少なくとも2つ設けられており、
前記洗浄液噴出孔は、前記第1パッド毎に設けられており、
2つの第1パッドのうち前記摺動方向の後方に配置される後方側第1パッドに対して設けられる前記洗浄液噴出孔は、前記後方側第1パッドと、当該後方側第1パッドに対して前記摺動方向の前方に隣り合って配置される前方側第1パッドとの間に配置されている
ことを特徴とする請求項1に記載のノズル洗浄装置。 - 前記第1パッドと前記第2パッドとが同数設けられている
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のノズル洗浄装置。 - 前記周辺領域へ向けて気体を噴出する気体噴出部を更に備える
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のノズル洗浄装置。 - 前記ノズルの形状に沿って設けられ、前記第1パッド及び前記第2パッドを支持する支持部材を更に備える
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のノズル洗浄装置。 - 開口部から液状体を吐出するノズル先端を洗浄するノズル洗浄方法であって、
前記ノズル先端の表面のうち前記開口部の周辺領域へ向けて洗浄液を噴出しながら、前記周辺領域を第1パッドによって一の摺動方向に摺動する第1摺動ステップと、
前記第1摺動ステップ後、前記洗浄液を噴出することなく第2パッドによって前記周辺領域を前記摺動方向に摺動する第2摺動ステップとを備え、
前記第1摺動ステップでは、前記第1パッドに対して前記摺動方向の前方に設けられた洗浄液噴出孔から前記洗浄液を噴出し、
前記第1パッドおよび前記第2パッドは、前記摺動方向の前方から後方に向かって厚さが厚くなっており、前記搬送方向の前記後方における厚さが厚くなっている部分が前記周辺領域を摺動することを特徴とするノズル洗浄方法。 - 前記第1摺動ステップ及び前記第2摺動ステップのうち少なくとも一方では、前記周辺領域へ向けて気体を噴出する
ことを特徴とする請求項6に記載のノズル洗浄方法。 - 前記第1摺動ステップ及び前記第2摺動ステップのうち少なくとも一方では、前記ノズルの周囲の雰囲気及び前記洗浄液を吸引する
ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載のノズル洗浄方法。 - 前記ノズルの周囲の雰囲気及び前記洗浄液を吸引する際には、少なくとも前記開口部において前記雰囲気の吸引を規制する
ことを特徴とする請求項8に記載のノズル洗浄方法。 - 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のノズル洗浄装置を備えたことを特徴とする塗布装置。
- 基板に液状体の膜を塗布する塗布方法であって、
ノズルから前記基板へ向けて前記液状体を吐出するステップと、
前記基板に前記液状体を吐出した後、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のノズル洗浄装置を用いて、又は、請求項6から請求項9のいずれか1項に記載のノズル洗浄方法によって、前記ノズルの先端を洗浄するステップと
を備えることを特徴とする塗布方法。
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