JP5711961B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
塗布装置及び塗布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5711961B2 JP5711961B2 JP2010290147A JP2010290147A JP5711961B2 JP 5711961 B2 JP5711961 B2 JP 5711961B2 JP 2010290147 A JP2010290147 A JP 2010290147A JP 2010290147 A JP2010290147 A JP 2010290147A JP 5711961 B2 JP5711961 B2 JP 5711961B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning
- nozzle
- tip
- image acquisition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B11/00—Single-unit hand-held apparatus in which flow of contents is produced by the muscular force of the operator at the moment of use
- B05B11/0005—Components or details
- B05B11/0037—Containers
- B05B11/0039—Containers associated with means for compensating the pressure difference between the ambient pressure and the pressure inside the container, e.g. pressure relief means
- B05B11/0044—Containers associated with means for compensating the pressure difference between the ambient pressure and the pressure inside the container, e.g. pressure relief means compensating underpressure by ingress of atmospheric air into the container, i.e. with venting means
- B05B11/00444—Containers associated with means for compensating the pressure difference between the ambient pressure and the pressure inside the container, e.g. pressure relief means compensating underpressure by ingress of atmospheric air into the container, i.e. with venting means with provision for filtering or cleaning the air flow drawn into the container
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
- B05C11/10—Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C21/00—Accessories or implements for use in connection with applying liquids or other fluent materials to surfaces, not provided for in groups B05C1/00 - B05C19/00
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/002—Pretreatement
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
Description
この場合、先端部に対して液状体が吐出される吐出方向上の位置から当該先端部を撮像することができるため、先端部の状態をより判断しやすい画像を得ることができる。
この場合、ノズルの長手方向に沿った先端部の全体に亘って画像を取得することができる。
この場合、撮像機構と清掃機構とを同期して移動させることができるため、清掃中あるいは清掃後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。撮像を行うことができる。これにより、清掃及び撮像を効率的に行うことができる。
この場合、例えば払拭部によって先端部が払拭された後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。
この場合、例えば洗浄液供給部によって洗浄液が供給された後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。
この場合、撮像機構と清掃機構とが共通のガイド部によって案内されるため、それぞれ個別の案内機構を設けずに済むことになる。これにより、スペースを省略することができる。
この場合、第二駆動機構が駆動機構を兼ねている構成であるため、第二駆動機構の動作によって清掃機構と撮像機構とを同時に移動させることができる。
この場合、撮像機構が清掃機構に対して着脱可能に設けられているため、撮像動作を行わない場合には撮像機構を清掃機構から外しておくことができる。これにより、第二駆動機構における負担を軽減することができる。
この場合、第二駆動機構が清掃機構を保持して移動可能な移動子を有し、撮像機構が移動子に対して着脱可能に設けられているため、撮像機構を直接清掃機構に着脱させずに済むことになる。これにより、清掃機構を保護することができる。
この場合、例えば撮像動作を行わない場合、清掃機構の移動経路から外れた位置に設けられる待機部に撮像機構を待機させておくことができる。これにより、清掃機構による清掃動作を妨げるのを回避することができる。
この場合、画像取得部及び清掃部が管理部に設けられているため、先端部の状態を管理する動作と画像取得動作及び清掃動作とを連動させて行わせることができる。これにより、効率的なメンテナンスが可能となる。
この場合、光源によって先端部に光を照射した状態で画像を取得することができるため、より鮮明な画像を得ることができる。
この場合、光源が先端部に対して液状体が吐出される吐出方向上から外れた位置に設けられているため、光源に液状体が付着するのを抑制することができる。
この場合、先端部に照射する光の波長を、例えば画像取得部の画像取得特性に応じて最適な波長に調整することができるため、画像取得部として用いることができる機種の選択の幅が広がることになる。
この場合、画像取得後の所望のタイミングで表示部を介して作業者が画像を確認することができるため、よりメンテナンス性を高めることができる。
この場合、先端部の状態を確認することでノズルのメンテナンス性を向上させることができるため、浮上する基板に対する液状体の塗布状態を向上させることが可能となる。
この場合、撮像機構を用いて先端部に対して液状体が吐出される吐出方向上の位置から当該先端部を撮像するため、先端部の状態をより判断しやすい画像を得ることができる。
この場合、長尺状に形成されたノズルの長手方向に沿った先端部の全体に亘って画像を取得することができる。
この場合、清掃機構を前記先端部に対向配置させた後に画像取得が行われるため、撮像機構と清掃機構とを同期して移動させることができるため、清掃中あるいは清掃後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。これにより、清掃及び画像取得を効率的に行うことができる。
この場合、例えば払拭部によって先端部が払拭された後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。
この場合、例えば洗浄液供給部によって洗浄液が供給された後の所望のタイミングで撮像を行うことができる。
この場合、撮像機構と清掃機構とが共通のガイド部に案内される、撮像機構と清掃機構とを効率的に案内することができる。
この場合、清掃機構と撮像機構とを一体的に移動させることとしたので、清掃動作と撮像動作とを同時に行わせることができる。
この場合、画像取得ステップを行わない場合には撮像機構を清掃機構から外しておくことができる。これにより、第二駆動機構における負担を軽減することができる。
この場合、撮像機構を直接清掃機構に着脱させずに済むことになる。これにより、清掃機構を保護することができる。
この場合、撮像動作を行わない場合、清掃機構の移動経路から外れた位置に撮像機構を待機させておくことができる。これにより、清掃機構による清掃動作を妨げるのを回避することができる。
この場合、光照射ステップによって先端部に光を照射した状態で画像を取得することができるため、より鮮明な画像を得ることができる。
この場合、先端部に対して液状体が吐出される吐出方向上から外れた位置から光を照射するため、光の経路上に吐出された液状体が配置されるのを抑制することができる。これにより、先端部に高照度の光を照射することができる。
この場合、先端部に照射する光の波長を、例えば画像取得部の画像取得特性に応じて最適な波長に調整することができるため、画像取得部として用いることができる機種の選択の幅が広がることになる。
この場合、表示ステップにおいて表示された画像を確認することができるため、よりメンテナンス性を高めることができる。
この場合、先端部の状態を確認することでノズルのメンテナンス性を向上させることができるため、浮上する基板に対する液状体の塗布状態を向上させることが可能となる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部(基板搬送系)2と、塗布部(塗布系)3と、管理部4と、制御部CONTとを主要な構成要素としている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出口25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出口25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
図6(a)及び図6(b)に示すように、ノズル洗浄装置43は、基体43aと、パッド支持部材43bと、パッド43cと、エアナイフ噴出口43dと、吸引孔43eと、洗浄液噴出孔43gと、エアナイフ噴出口43hと、支持部材43iと、第二駆動機構AC2とを有している。
支持面43sは、ノズル32の先端の形状に沿って形成されている。例えば図中では、パッド支持部材43bのうち基体43aの±X方向の各端辺側からX方向の中心部にかけて基体43a上面からの高さが徐々に低くなっている部分が形成されており、この高さの徐々に低くなっている部分が支持面43sになっている。
次に、上記の処理ステージ27に設けられた検出部MSの構成を説明する。
図10は、処理ステージ27の構成を示す平面図である。
処理ステージ27には、塗布浮上領域(第二浮上部)TCと、浮上量緩和領域(浮上量調整部)RCとが設けられている。塗布浮上領域TCは、処理ステージ27のX方向のほぼ中央に配置されている。塗布浮上領域TCは、ノズル32の開口部32aに対向する吐出領域CAを含む領域である。塗布浮上領域TCは、例えばX方向における処理ステージ27の全寸法のうち40%〜60%の寸法となるように形成されている。
図11〜図13は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図11〜図13には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
例えば、上記実施形態では、第一搬送機構60及び第二搬送機構61が、それぞれ搬送機60a、61aを一個ずつ備えた構成について説明したが、本発明はこれに限定されることはない。
Claims (31)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板との間で相対的に移動可能に設けられ、前記基板に対して先端部から液状体を吐出するノズルを有する塗布部と、
前記ノズルの前記先端部の画像を取得する画像取得部と
を備え、
前記画像取得部は、前記基板と前記ノズルとが相対的に移動する相対移動方向における一方側から前記先端部に対して第一の光を照射する第一光源と、前記相対移動方向の他方側から前記先端部に対して第二の光を照射する第二光源とを有する塗布装置。 - 前記画像取得部は、前記先端部に対して前記液状体が吐出される吐出方向上の位置から前記先端部を撮像する撮像機構を有する
請求項1に記載の塗布装置。 - 前記ノズルは、長尺状に形成されており、
前記画像取得部は、前記撮像機構を前記ノズルの長手方向に駆動する駆動機構を有する
請求項2に記載の塗布装置。 - 前記先端部を清掃する清掃部を更に備え、
前記清掃部は、前記先端部に対向される清掃機構と、前記清掃機構を前記長手方向に駆動する第二駆動機構と、を有し、
前記撮像機構と前記清掃機構とが同期して移動するように、前記駆動機構と前記第二駆動機構とを制御する制御部を更に備える
請求項3に記載の塗布装置。 - 前記清掃機構は、前記先端部を払拭する払拭部を有する
請求項4に記載の塗布装置。 - 前記清掃機構は、前記先端部に洗浄液を供給する洗浄液供給部を有する
請求項4又は請求項5に記載の塗布装置。 - 前記駆動機構及び前記第二駆動機構は、前記撮像機構及び前記清掃機構を案内する共通のガイド部を有する
請求項4から請求項6のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記第二駆動機構は、前記駆動機構を兼ねている
請求項4から請求項7のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記撮像機構は、前記清掃機構に対して着脱可能に設けられている
請求項8に記載の塗布装置。 - 前記第二駆動機構は、前記清掃機構を保持して移動可能な移動子を有し、
前記撮像機構は、前記移動子に対して着脱可能に設けられている
請求項8に記載の塗布装置。 - 前記清掃機構の移動経路から外れた位置に設けられ、前記撮像機構を待機させる待機部
を更に備える請求項4から請求項10のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記ノズルとの間で相対的に移動可能に設けられ、前記先端部の状態を管理する管理部
を更に備え、
前記画像取得部及び前記清掃部は、前記管理部に設けられている
請求項4から請求項11のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記第一光源及び前記第二光源は、前記先端部に対して前記液状体が吐出される吐出方向上から外れた位置に設けられている
請求項1から請求項12のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記第一光源及び前記第二光源は、それぞれ前記第一の光及び前記第二の光の波長を調整する波長調整部を有する
請求項1から請求項13のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記画像取得部によって取得された前記画像を表示する表示部
を更に備える請求項1から請求項14のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記基板保持部は、前記基板を浮上させて搬送する浮上搬送機構を有する
請求項1から請求項15のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 基板を保持する基板保持ステップと、
前記基板と、先端部から液状体を吐出するノズルとを相対的に移動させつつ、前記基板に対して前記先端部から液状体を吐出する塗布ステップと、
前記塗布ステップの後、前記ノズルの前記先端部の画像を取得する画像取得ステップと
を含み、
前記画像取得ステップは、前記基板と前記ノズルとが相対的に移動する相対移動方向における一方側から前記先端部に対して第一の光を照射すると共に、前記相対移動方向の他方側から前記先端部に対して第二の光を照射する光照射ステップを含む塗布方法。 - 前記画像取得ステップは、撮像機構を用いて前記先端部に対して前記液状体が吐出される吐出方向上の位置から前記先端部を撮像することを含む
請求項17に記載の塗布方法。 - 前記ノズルは、長尺状に形成されており、
前記画像取得ステップは、前記撮像機構を前記ノズルの長手方向に駆動することを含む
請求項18に記載の塗布方法。 - 前記先端部を清掃する清掃ステップを更に含み、
前記清掃ステップは、前記撮像機構と、前記先端部に対向される清掃機構とが同期して移動するように、前記撮像機構を前記長手方向に駆動する駆動機構と、前記清掃機構を前記長手方向に駆動する第二駆動機構とを制御することを含む
請求項19に記載の塗布方法。 - 前記清掃ステップは、前記清掃機構に設けられる払拭部により前記先端部を払拭することを含む
請求項20に記載の塗布方法。 - 前記清掃ステップは、前記清掃機構に設けられる洗浄液供給部により前記先端部に洗浄液を供給することを含む
請求項20又は請求項21に記載の塗布方法。 - 前記清掃ステップ及び前記画像取得ステップでは、前記撮像機構及び前記清掃機構が共通のガイド部に案内されるようにすることを含む
請求項20から請求項22のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記画像取得ステップは、前記清掃機構と、前記撮像機構とを、一体的に移動させることを含む
請求項20から請求項23のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記画像取得ステップに先立ち、前記清掃機構に対して前記撮像機構を装着する
請求項24に記載の塗布方法。 - 前記画像取得ステップに先立ち、前記清掃機構を保持して移動可能な移動子に対して前記撮像機構を装着する
請求項24に記載の塗布方法。 - 前記清掃機構の移動経路から外れた位置に前記撮像機構を待機させる待機ステップ
を更に含む請求項20から請求項26のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記光照射ステップは、前記先端部に対して前記液状体が吐出される吐出方向上から外れた位置から前記第一の光及び前記第二の光を照射することを含む
請求項17から請求項27のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記光照射ステップは、前記第一の光及び前記第二の光の波長を調整することを含む
請求項17から請求項28のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記画像取得ステップによって取得された前記画像を表示する表示ステップ
を更に含む請求項17から請求項29のうちいずれか一項に記載の塗布方法。 - 前記基板保持ステップは、前記基板を浮上させて搬送する浮上搬送ステップを有する
請求項17から請求項30のうちいずれか一項に記載の塗布方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010290147A JP5711961B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 塗布装置及び塗布方法 |
KR1020110140757A KR101621572B1 (ko) | 2010-12-27 | 2011-12-23 | 도포장치 및 도포방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010290147A JP5711961B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 塗布装置及び塗布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012135725A JP2012135725A (ja) | 2012-07-19 |
JP5711961B2 true JP5711961B2 (ja) | 2015-05-07 |
Family
ID=46673641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010290147A Active JP5711961B2 (ja) | 2010-12-27 | 2010-12-27 | 塗布装置及び塗布方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5711961B2 (ja) |
KR (1) | KR101621572B1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9036603B2 (en) | 2012-08-03 | 2015-05-19 | Intel Corporation | Network assistance for device-to-device discovery |
JP2014165264A (ja) * | 2013-02-22 | 2014-09-08 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 基板製造装置及び基板製造装置のメンテナンス方法 |
CN103846183A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-06-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种涂布机喷嘴清洁装置 |
JP2015131279A (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
KR102564253B1 (ko) * | 2021-02-26 | 2023-08-08 | 주식회사 네오엠텍 | 코터의 슬릿노즐 자동 세정장치 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3692685B2 (ja) * | 1997-02-19 | 2005-09-07 | 株式会社ニコン | 欠陥検査装置 |
JP2003245595A (ja) * | 2002-02-22 | 2003-09-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JP2004337709A (ja) * | 2003-05-14 | 2004-12-02 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置、カラーフィルター製造装置、カラーフィルター及びその製造方法、液晶装置、電子機器 |
JP4247890B2 (ja) * | 2003-08-12 | 2009-04-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布ノズル及び塗布装置 |
JP5518284B2 (ja) * | 2007-07-12 | 2014-06-11 | 東京応化工業株式会社 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 |
JP2010069378A (ja) * | 2008-09-17 | 2010-04-02 | Toppan Printing Co Ltd | インクジェット塗工装置およびインクジェットヘッドの評価方法 |
JP2010162433A (ja) * | 2009-01-13 | 2010-07-29 | Seiko Epson Corp | 液滴吐出装置および液滴吐出ヘッドの保守方法 |
-
2010
- 2010-12-27 JP JP2010290147A patent/JP5711961B2/ja active Active
-
2011
- 2011-12-23 KR KR1020110140757A patent/KR101621572B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012135725A (ja) | 2012-07-19 |
KR101621572B1 (ko) | 2016-05-16 |
KR20120074225A (ko) | 2012-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5608469B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5711961B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
KR101169839B1 (ko) | 도포막형성 장치 | |
JP5771432B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5933920B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
TWI543825B (zh) | A coating processing apparatus and a coating treatment method | |
JP2009018917A (ja) | 塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法 | |
JP5550882B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5352080B2 (ja) | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 | |
JP5518284B2 (ja) | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法、塗布装置及び塗布方法 | |
JP5303231B2 (ja) | 塗布装置 | |
KR100982154B1 (ko) | 도포 장치 | |
JP5244445B2 (ja) | 塗布装置 | |
KR101570880B1 (ko) | 도포 장치 및 도포 방법 | |
JP2009022822A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
JP5663297B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP5789416B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
KR101202888B1 (ko) | 도포 장치 및 시험 도포 방법 | |
JP2009267023A (ja) | 塗布装置 | |
JP5469992B2 (ja) | 塗布方法、及び塗布装置 | |
JP5778224B2 (ja) | 塗布装置 | |
JP2008114206A (ja) | 液滴吐出装置及び液滴吐出装置の配置方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140729 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140901 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140902 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150309 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5711961 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |