JP5778224B2 - 塗布装置 - Google Patents
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Description
本発明によれば、搬送機構が基板のうち当該基板の搬送方向に沿った一の側部を保持する場合であっても、基板をより強く保持することができる。これにより、保持領域を広げることなく基板を安定して保持することができる。
本発明によれば、補助機構が基板の搬送開始位置に設けられていることとしたので、基板の搬送開始位置での基板のズレを防ぐことができる。
本発明によれば、補助機構が基板の搬送方向に移動可能に設けられていることとしたので、基板の移動に合わせて補助機構を移動させることができる。このため、例えば基板が移動する間であれば保持部に基板を押圧することができる。これにより、安定して基板を保持することができる。
本発明によれば、補助機構が搬送機構に搭載されていることとしたので、搬送機構と補助機構を一体的に移動させることができる。これにより、搬送機構の移動速度と補助機構の移動速度とを調整することなく両機構の位置ズレを防ぐことができるので、一層容易に基板の安定保持を実現させることができる。
本発明によれば、補助機構が退避機構を有していることとしたので、例えば移動経路上に他の構成部材などが設置されている場合には、当該他の構成部材を回避することができる。これにより、補助機構と当該構成部材との間の衝突や接触を回避することができ、装置の破損、故障などといった不具合を回避することができる。
本発明によれば、補助機構が基板のうち搬送機構が保持する面とは異なる面を押圧することとしたので、搬送機構と補助機構とによって基板の表裏両面が保持されることになる。これにより、基板を一層ずれにくくすることができる。
本発明によれば、補助機構が基板を押圧する押圧部を有し、押圧部が基板の押圧面の状態を保持する材質からなることとしたので、補助機構によって基板を押圧する場合に基板の押圧面の状態が変化するのを抑制することができる。一般的に、押圧面の状態(温度、キズの有無など)の変化によって基板上に塗布される液状体の状態が変化することがある。これに対して、本発明の構成ではこのような押圧面の状態の変化を抑制することができるので、液状体の状態を安定させることができる。
本発明によれば、補助機構が保持部に平面視で重なる位置を押圧することとしたので、補助機構と保持部とによって基板をピンポイントで挟持することができる。これにより、基板を一層ずれにくくすることができる。
本発明によれば、補助機構が基板へ気体を噴出する気体噴出部を有し、気体の噴出によって基板を非接触に押圧することとしたので、基板に対する機械的な接触を少なくすることができる。これにより、基板の変形やキズの発生などを抑制することができる。
本発明によれば、気体噴出部が基板の搬送方向に複数設けられていることとしたので、基板が搬送されて移動する経路上においても基板を非接触で押圧することができる。これにより、基板をより安定して保持することができる。
本発明によれば、補助機構が基板のうち搬送機構が保持する面と同一の面を引き付けることとしたので、その分、基板の保持される面とは反対の面上にスペースを確保することができる。
本発明によれば、補助機構が基板に接触して引き付ける引き付け部を有し、当該引き付け部が基板の引き付け面の状態を保持する材質からなることとしたので、補助機構によって基板を引き付ける場合に基板の引き付け面の状態が変化するのを抑制することができる。これにより、基板上に塗布される液状体の状態を安定させることができる。
本発明によれば、補助機構が基板に吸着する吸着部を有することとしたので、当該吸着部によって基板を安定して保持することができる。
本発明によれば、補助機構が基板との間の気体を吸引する気体吸引部を有し、当該気体の吸引によって基板を非接触に吸引することとしたので、基板に対する機械的な接触を少なくすることができる。これにより、基板の変形やキズの発生などを抑制することができる。
本発明によれば、塗布部の上流側及び下流側のうち少なくとも一方には基板を浮上させる浮上機構を備えたステージが設けられていることとしたので、ステージ上で基板を搬送させる際に基板のズレを確実に防ぐことができる。また、ステージが平面視略正方形の形状を有していることとしたので、基板が長手及び短手を有する場合であっても、当該基板の長手方向及び短手方向のいずれの方向にも搬送させることができる。
本発明によれば、基板を押圧した状態で当該基板を搬送することとしたので、基板の保持位置のズレをより確実に防ぐことができる。
本発明によれば、基板を搬送する前に基板の保持部への押圧を解除することとしたので、基板搬送の制御を容易に行うことができる。
本発明によれば、基板を搬送しているときに当該基板の保持部への押圧を解除することとしたので、その分基板搬送の制御を容易に行うことができる。これにより、基板の保持位置のズレを防ぎつつ、基板搬送の制御を容易にすることができる。
本発明によれば、液状体の塗布の前に基板の保持部への押圧を解除することとしたので、基板のズレを回避しつつ、塗布時の基板搬送の制御を容易に行うことができる。
本発明によれば、基板搬送部が基板を浮上させる浮上機構を備えることとしたので、基板を浮上させて搬送する際に保持部の移動領域上に他の構成部材が設けられている場合であっても、当該構成部材を回避することができる。基板を浮上させて移動させる場合、保持部としてはより精密な構成が求められるため、他の構成部材との衝突や接触を回避することの意義は大きいといえる。
本発明によれば、保持部が基板搬送後、退避した状態で基板搬送部まで戻ってくる退避機構を備えることとしたので、基板搬送部まで戻ってくる際に保持部の移動領域上に他の構成部材が設けられている場合であっても、当該他の構成部材を避けるように移動することができる。
本発明によれば、塗布部の上流側及び下流側のうち少なくとも一方には基板を浮上させる浮上機構を有するステージが設けられており、当該ステージは平面視略正方形の形状を有していることとしたので、基板の長手方向及び短手方向のうちいずれの方向にも基板を搬送することができる。
本発明の第1実施形態を図面に基づき説明する。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4とを主要な構成要素としている。塗布装置1では、基板搬送部2によって基板が浮上した状態で搬送され、塗布部3によって基板上にレジストが塗布され、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、フレーム21と、ステージ22と、搬送機構23と、補助機構24とを有している。基板搬送部2では、本実施形態の特徴的構成要素である搬送機構23及び補助機構24によって基板Sがステージ22上を+X方向に搬送されるようになっている。
図5(a)及び図5(b)に示すように、基板保持部23bは、パッド押圧部材23eと、吸着パッド23fと、軸部材23gとを有している。
補助機構24は、支持部材24aと、パッド保持部材24bと、押圧パッド24cと、軸部材24dと、支持板24eとを有している。
図2から図4に戻って、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。
次に、上記のように構成された塗布装置1の動作を説明する。
図6は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。同図を参照して、基板SにレジストRを塗布する動作を説明する。この動作では、短手方向が搬送方向に平行になるように基板Sを基板搬入領域25Sに搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域27Sでレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域28Sから搬出する。図6では管理部4の図示を省略し、搬入側ステージ25の構成を判別しやすくした。また、門型フレーム31を破線で示し、ノズル32及びセンサ33の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
次に、本発明の第2実施形態を説明する。
第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、補助機構の構成が第1実施形態とは異なっているため、この点を中心に説明する。
図8(a)及び図8(b)に示すように、本実施形態に係る塗布装置101は、補助機構124が基板Sに接触して当該基板Sを押圧する構成ではなく、基板Sに気体を噴出することによって非接触で基板Sを押圧する構成となっている。
次に、本発明の第3実施形態を説明する。
第1実施形態と同様、以下の図では、各部材を認識可能な大きさとするため、縮尺を適宜変更している。また、第1実施形態と同一の構成要素については、同一の符号を付してその説明を省略する。本実施形態では、補助機構の構成が第1実施形態とは異なっているため、この点を中心に説明する。
図9(a)及び図9(b)に示すように、本実施形態に係る塗布装置201は、補助機構124が基板Sに接触して当該基板Sを押圧する構成ではなく、基板Sの裏面側(ステージ22側)の空間を吸引することによって非接触で基板Sを引き付ける構成となっている。基板Sをステージ22側に引き付けることで、基板Sの裏面側を保持する基板保持部23bへ基板Sが押圧されるようになっている。
例えば、上記第1実施形態では、補助機構24が搬送機構23の取付部材23dに搭載された構成としたが、これに限られることは無く、補助機構24を搬送機構23に対して独立して設ける構成であっても構わない。この場合、補助機構24を搬送機構23の移動に伴って移動可能となるように構成することもできる。
また、レジストRの塗布の前に押圧を解除することも可能である。これにより、基板Sの保持位置のズレを回避しつつ、塗布時の基板搬送の制御を容易に行うことができる。
Claims (4)
- 基板を搬送する基板搬送部と、当該基板搬送部によって搬送させつつ前記基板に液状体を塗布する塗布部とを備える塗布装置であって、
前記基板搬送部に設けられ、前記基板を保持する保持部を有し、前記基板を保持した状態で搬送する搬送機構と、
を備え、
前記搬送機構は、前記基板の搬送方向に移動可能に設けられており、
前記保持部は、前記搬送方向の側方の所定位置に移動可能に設けられており、
前記保持部は、前記基板を吸着可能な吸着パッドと、前記吸着パッドを先端部で支持するパッド押圧部材と、前記パッド押圧部材の前記先端部とは反対側の基端部を支持する軸部材とを備え、
前記パッド押圧部材は、前記軸部材の回転によって前記搬送方向に平行な軸の回りに回転可能とされている
ことを特徴とする塗布装置。 - 前記基板搬送部は、前記基板を浮上させる浮上機構を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 前記保持部は、基板搬送後、退避した状態で基板搬送部まで戻ってくる退避機構を備える
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。 - 前記塗布部の上流側及び下流側のうち少なくとも一方には前記基板を浮上させる浮上機構を有するステージが設けられており、
前記ステージは平面視略正方形の形状を有している
ことを特徴とする請求項1から請求項3のうちいずれか1項に記載の塗布装置。
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