JP5771432B2 - 塗布装置 - Google Patents
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Description
この場合、清掃部材が、ノズルの先端部の状態を管理する管理部に設けられているので、ノズルの先端部の状態を管理する際に、スリット開口を清掃することができる。これにより、先端部の状態の管理を効率的に行うことができる。
この場合、管理部が、ノズルの先端部を洗浄するノズル洗浄部を有し、清掃部材が当該ノズル洗浄部に設けられているため、ノズルの先端部の洗浄動作を行う際に、スリット開口を清掃することができる。これにより、ノズルの先端部の洗浄動作を効率的に行うことができる。
この場合、管理部がノズル洗浄部を駆動するノズル洗浄部駆動機構を有し、ノズル洗浄部駆動機構が清掃部材駆動部を兼ねているので、ノズル洗浄部と清掃部材とを一体的に移動させることができる。これにより、ノズルの先端部の洗浄とスリット開口の清掃とを同じタイミングで行うことができるので、作業の効率化を図ることができる。
この場合、清掃部材を収容可能な収容部と、当該清掃部材を収容部に対して出し入れする出し入れ機構とを更に備えるので、清掃部材に塵埃などの異物が付着するのを防ぐことができる。これにより、清掃部材を清浄な状態に維持することができる。
この場合、清掃部材が収容部と一体的に移動可能に設けられているので、清掃部材の出し入れを短時間で効率的に行うことができる。
この場合、清掃部材がフィルム状に形成されているので、スリット開口に確実に挿入させることができる。
この場合、清掃部材が先端に至るに連れて薄くなるように形成されているので、スリット開口に対してスムーズに挿入することができる。
この場合、清掃部材をノズルに対して昇降させる昇降機構を更に備えるので、清掃部材をノズルに近づけることができる。これにより、ノズルを動かさなくてもスリット開口の清掃を行うことができるため、効率的な作業が可能となる。
この場合、スリット開口に対する清掃部材の位置を調整する位置調整機構を更に備えるので、清掃部材とスリット開口との位置決めを高精度に行うことができる。
この場合、清掃部材を洗浄する洗浄機構を更に備えるので、清掃部材を清浄な状態に維持することができる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4と、制御部CONTとを主要な構成要素としている。
(基板搬送部)
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出口25aと、昇降ピン出没孔25bとがそれぞれ複数設けられている。これらエア噴出口25a及び昇降ピン出没孔25bは、搬入側ステージ25を貫通するように設けられている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2のうち塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
図6(a)及び図6(b)に示すように、ノズル洗浄装置43は、基体43aと、パッド支持部材43bと、パッド43cと、エアナイフ噴出口43dと、吸引孔43eと、洗浄液噴出孔43gと、エアナイフ噴出口43hと、支持部材43iと、ノズル洗浄部駆動機構ACとを有している。
支持面43sは、ノズル32の先端の形状に沿って形成されている。例えば図中では、パッド支持部材43bのうち基体43aの±X方向の各端辺側からX方向の中心部にかけて基体43a上面からの高さが徐々に低くなっている部分が形成されており、この高さの徐々に低くなっている部分が支持面43sになっている。
図7に示すように、管理部4には、第一待機部48及び第二待機部49が設けられている。第一待機部48は、収容部44の−Y側端部に位置する部分である。第二待機部49は、収容部44の+Y側端部に位置する部分である。第一待機部48及び第二待機部49は、それぞれノズル洗浄装置43の移動経路の外側に設けられている。第一待機部48は、洗浄動作の前にノズル洗浄装置43の基体43aが待機する位置である。第二待機部49は、洗浄動作の後に基体43aが待機する位置である。第一待機部48には、清掃装置50が設けられている。清掃装置50は、ノズル32の開口部32aを清掃する。清掃装置50は、ノズル洗浄装置43の基体43aよりも−Y側の位置に配置されている。
図8〜図10に示すように、清掃装置50は、清掃部材51と、容器52と、清掃部材駆動部53とを有する。
図11〜図13は、塗布装置1の動作過程を示す平面図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図11〜図13には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
例えば、上記実施形態では、第一搬送機構60及び第二搬送機構61が、それぞれ搬送機60a、61aを一個ずつ備えた構成について説明したが、本発明はこれに限定されることはない。
Claims (10)
- 基板に対して液状体を吐出するスリット開口が先端部に形成されたノズルを有する塗布部と、
前記基板と前記ノズルとが相対的に移動するように前記基板及び前記ノズルのうち少なくとも一方を駆動する駆動部と、
前記スリット開口に挿入可能に形成された清掃部材と、
前記清掃部材を前記スリット開口の長手方向に移動させる清掃部材駆動部と、
前記清掃部材を収容可能な収容部と、
前記清掃部材を前記収容部に対して出し入れする出し入れ機構と
を備える塗布装置。 - 前記ノズルの前記先端部の状態を管理する管理部
を更に備え、
前記清掃部材は、前記管理部に設けられている
請求項1に記載の塗布装置。 - 前記管理部は、前記ノズルの前記先端部を洗浄するノズル洗浄部を有し、
前記清掃部材は、前記ノズル洗浄部に設けられている
請求項2に記載の塗布装置。 - 前記管理部は、前記ノズル洗浄部を駆動するノズル洗浄部駆動機構を有し、
前記ノズル洗浄部駆動機構は、前記清掃部材駆動部を兼ねている
請求項3に記載の塗布装置。 - 前記清掃部材は、前記収容部と一体的に移動可能に設けられている
請求項1から請求項4のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記清掃部材は、フィルム状に形成されている
請求項1から請求項5のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記清掃部材は、先端に至るに連れて薄くなるように形成されている
請求項6に記載の塗布装置。 - 前記清掃部材を前記ノズルに対して昇降させる昇降機構
を更に備える請求項1から請求項7のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記スリット開口に対する前記清掃部材の位置を調整する位置調整機構
を更に備える請求項1から請求項8のうちいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記清掃部材を洗浄する洗浄機構を更に備える
請求項1から請求項9のうちいずれか一項に記載の塗布装置。
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