JP6452318B2 - 基板の塗布装置及び基板の塗布方法 - Google Patents
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Description
2 基板
3 テーブル
4 基台
5 走行レール
5a 第1走行レール部材
5b 第2走行レール部材
6,6A,6B ノズル用支持ポスト
7,7A,7B ノズル
8 硬化手段用支持ポスト
9 硬化手段
D 塗液
H 昇降ストローク量
L UV光
Z 塗布終端領域
g1 ノズルと基板の上下方向隙間間隔
g2 硬化手段と基板の上下方向隙間間隔
s1 硬化手段のノズル上方への上昇
s2 硬化手段がノズルを跨ぎ越す位置への硬化手段用支持ポストの走行
s3 硬化手段の下降
v1 ノズル用支持ポスト(ノズル)の走行速度
v2 硬化手段用支持ポスト(硬化手段)の走行速度
x1 ノズルの昇降動作
x2 硬化手段の昇降動作
a 基板
b ノズル
c 塗液
d 硬化手段
e 隙間間隔
f 隙間間隔の広がり
y,y1,y2 ノズルと硬化手段の距離
Claims (5)
- 走行レールを走行するノズル用支持ポストに昇降自在に支持されたノズルから吐出される塗液で基板を塗布処理し、該基板に塗布された塗液を硬化手段で硬化処理するようにした基板の塗布装置であって、
上記走行レールを、ノズル用支持ポストの走行とは独立して、単独で走行すると共に、上記硬化手段を、上記ノズルの昇降動作とは独立して、単独で昇降自在に支持する硬化手段用支持ポストを備え、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行し、
前記走行レールは、前記基板に近接して配置される第1走行レール部材と、該第1走行レール部材よりも該基板から離して配置される第2走行レール部材とから構成され、上記第1走行レール部材には、前記ノズル用支持ポストが走行され、上記第2走行レール部材には、前記硬化手段用支持ポストが走行され、該硬化手段用支持ポストは、前記ノズルの上方へ達する昇降ストローク量で前記硬化手段を昇降自在に支持し、
走行方向前方に位置する前記基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記ノズル用支持ポストを走行して該ノズルから吐出される塗液で該基板を塗布処理しながら、該ノズル用支持ポストにその走行方向後方から追随させて該基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記硬化手段用支持ポストを走行させて該基板に塗布した塗液を前記硬化手段で硬化処理する塗布処理ステップを行い、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行する塗布終端処理ステップを行い、
少なくとも上記ノズルからの塗液の吐出を終了し、上記ノズル用支持ポスト及び上記硬化手段用支持ポストを停止した後、上記硬化手段の該ノズル上方への上昇、該硬化手段が該ノズルを跨ぎ越す位置への該硬化手段用支持ポストの走行、並びに該硬化手段の下降を実行して、一つずつの該ノズル及び該硬化手段で往復走行して塗布・硬化処理するために、反対向きの走行方向に対し該ノズルと該硬化手段とを並べ替える位置入れ替えステップを行い、
上記塗布処理ステップから上記位置入れ替えステップを反復して繰り返すように構成したことを特徴とする基板の塗布装置。 - 走行レールを走行するノズル用支持ポストに昇降自在に支持されたノズルから吐出される塗液で基板を塗布処理し、該基板に塗布された塗液を硬化手段で硬化処理するようにした基板の塗布装置であって、
上記走行レールを、ノズル用支持ポストの走行とは独立して、単独で走行すると共に、上記硬化手段を、上記ノズルの昇降動作とは独立して、単独で昇降自在に支持する硬化手段用支持ポストを備え、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行し、
前記走行レールは、前記基板に近接して配置される第1走行レール部材と、該第1走行レール部材よりも該基板から離して配置される第2走行レール部材とから構成され、上記第1走行レール部材には、前記硬化手段用支持ポストが走行され、上記第2走行レール部材には、前記ノズル用支持ポストが走行され、該ノズル用支持ポストは、前記硬化手段の上方へ達する昇降ストローク量で前記ノズルを昇降自在に支持し、
走行方向前方に位置する前記基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記ノズル用支持ポストを走行して該ノズルから吐出される塗液で該基板を塗布処理しながら、該ノズル用支持ポストにその走行方向後方から追随させて該基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記硬化手段用支持ポストを走行させて該基板に塗布した塗液を前記硬化手段で硬化処理する塗布処理ステップを行い、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行する塗布終端処理ステップを行い、
少なくとも上記ノズルからの塗液の吐出を終了し、上記ノズル用支持ポスト及び上記硬化手段用支持ポストを停止した後、該ノズルの上記硬化手段上方への上昇、該ノズルが該硬化手段を跨ぎ越す位置への該ノズル用支持ポストの走行、並びに該ノズルの下降を実行して、一つずつの該ノズル及び該硬化手段で往復走行して塗布・硬化処理するために、反対向きの走行方向に対し該ノズルと該硬化手段とを並べ替える位置入れ替えステップを行い、
上記塗布処理ステップから上記位置入れ替えステップを反復して繰り返すように構成したことを特徴とする基板の塗布装置。 - 前記硬化手段は、UV照射体、発熱体もしくはドライヤーであることを特徴とする請求項1または2に記載の基板の塗布装置。
- 請求項1に記載の基板の塗布装置を用い、前記ノズル及び前記硬化手段を往復走行して基板を塗布する方法であって、
走行方向前方に位置する前記基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記ノズル用支持ポストを走行して該ノズルから吐出される塗液で該基板を塗布処理しながら、該ノズル用支持ポストにその走行方向後方から追随させて該基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記硬化手段用支持ポストを走行させて該基板に塗布した塗液を前記硬化手段で硬化処理する塗布処理ステップと、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行する塗布終端処理ステップと、
少なくとも上記ノズルからの塗液の吐出を終了し、上記ノズル用支持ポスト及び上記硬化手段用支持ポストを停止した後、上記硬化手段の該ノズル上方への上昇、該硬化手段が該ノズルを跨ぎ越す位置への該硬化手段用支持ポストの走行、並びに該硬化手段の下降を実行して、一つずつの該ノズル及び該硬化手段で往復走行して塗布・硬化処理するために、反対向きの走行方向に対し該ノズルと該硬化手段とを並べ替える位置入れ替えステップとを含み、
上記塗布処理ステップから上記位置入れ替えステップを反復して繰り返すことを特徴とする基板の塗布方法。 - 請求項2に記載の基板の塗布装置を用い、前記ノズル及び前記硬化手段を往復走行して基板を塗布する方法であって、
走行方向前方に位置する前記基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記ノズル用支持ポストを走行して該ノズルから吐出される塗液で該基板を塗布処理しながら、該ノズル用支持ポストにその走行方向後方から追随させて該基板の塗布始端から塗布終端に向かって前記硬化手段用支持ポストを走行させて該基板に塗布した塗液を前記硬化手段で硬化処理する塗布処理ステップと、
上記基板の塗布終端領域に達したとき、均一な塗膜厚を確保するために、上記ノズルは塗液の吐出を停止し、上記ノズル用支持ポストは、該ノズルの走行速度を調整しながら該ノズルを徐々に上昇させつつ走行して、該ノズルと該基板との隙間間隔が広げられる一方で、上記硬化手段用支持ポストは、塗液を均質に硬化させるために、上記硬化手段の高さ位置を一定に維持しつつ走行する塗布終端処理ステップと、
少なくとも上記ノズルからの塗液の吐出を終了し、上記ノズル用支持ポスト及び上記硬化手段用支持ポストを停止した後、該ノズルの上記硬化手段上方への上昇、該ノズルが該硬化手段を跨ぎ越す位置への該ノズル用支持ポストの走行、並びに該ノズルの下降を実行して、一つずつの該ノズル及び該硬化手段で往復走行して塗布・硬化処理するために、反対向きの走行方向に対し該ノズルと該硬化手段とを並べ替える位置入れ替えステップとを含み、
上記塗布処理ステップから上記位置入れ替えステップを反復して繰り返すことを特徴とする基板の塗布方法。
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Family Cites Families (26)
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JP3836119B2 (ja) * | 2004-11-29 | 2006-10-18 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
JP4634265B2 (ja) * | 2005-09-27 | 2011-02-16 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布方法及び塗布装置 |
JP2008012389A (ja) * | 2006-07-03 | 2008-01-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | リブ形成装置 |
JP4738319B2 (ja) * | 2006-11-15 | 2011-08-03 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン形成装置 |
JP4884991B2 (ja) * | 2007-01-19 | 2012-02-29 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布処理装置 |
JP5244445B2 (ja) * | 2008-04-24 | 2013-07-24 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
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WO2010116654A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 薄膜形成装置及び薄膜形成方法 |
KR101182226B1 (ko) * | 2009-10-28 | 2012-09-12 | 삼성디스플레이 주식회사 | 도포 장치, 이의 도포 방법 및 이를 이용한 유기막 형성 방법 |
JP5343030B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2013-11-13 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン形成装置 |
WO2012029967A1 (en) * | 2010-08-31 | 2012-03-08 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Coating apparatus for applying a uv curable resin to a threaded end of a steel pipe |
JP5558993B2 (ja) * | 2010-09-29 | 2014-07-23 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 接着剤供給装置及び接着剤供給方法 |
JP2012143691A (ja) * | 2011-01-11 | 2012-08-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
JP5138058B2 (ja) * | 2011-03-07 | 2013-02-06 | 東レ株式会社 | 清掃部材と塗布器の清掃方法及び清掃装置並びにディスプレイ用部材の製造方法 |
JP5741078B2 (ja) * | 2011-03-09 | 2015-07-01 | セイコーエプソン株式会社 | 印刷装置 |
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JP2012217884A (ja) * | 2011-04-05 | 2012-11-12 | Olympus Corp | 接着剤塗布装置および接着剤塗布方法 |
JP5771432B2 (ja) * | 2011-04-13 | 2015-08-26 | 東京応化工業株式会社 | 塗布装置 |
JP5864141B2 (ja) * | 2011-06-16 | 2016-02-17 | 株式会社日立製作所 | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
JP5890255B2 (ja) * | 2012-04-02 | 2016-03-22 | 株式会社Screenセミコンダクターソリューションズ | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 |
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