JP4738319B2 - パターン形成装置 - Google Patents
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Description
2 ステージ移動機構
8,8a パターン
9 基板
43 光照射部
45,45a マスク移動機構
46,46a〜46c マスク
47 シリンダ機構
47a,47b 回動機構
80 パターン形成材料
81,81a,81b リブ
421 ノズル部
422 吐出口
436 モータ
437 電源
B1 照射領域
Claims (5)
- 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
複数の吐出口から光硬化性を有するパターン形成材料を基板上に吐出するノズル部と、
前記基板上に吐出されたパターン形成材料に照射光を照射する光照射部と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う移動方向に前記ノズル部を先行させつつ前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記移動方向に垂直な方向に関して等ピッチにて配列された線状の複数のパターン要素にて構成されるパターンを前記基板上に形成する移動機構と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記基板および前記パターン形成材料上の前記照射光の照射領域のほぼ全体において、または、前記照射領域中にて前記移動方向に垂直な方向に配列設定された複数の部分領域において、前記パターン形成材料上における前記照射光の照度、照度分布、または、前記移動方向における照射範囲を不規則に変更する照射光変更部と、
を備え、
前記照射光変更部が、前記光照射部と前記基板との間の光路上に配置されるマスクの透過率の分布を、前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に不規則に変更する機構であることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1に記載のパターン形成装置であって、
前記マスクが前記基板に平行に移動することにより、前記光路上における前記マスクの透過率の分布が変更されることを特徴とするパターン形成装置。 - 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
複数の吐出口から光硬化性を有するパターン形成材料を基板上に吐出するノズル部と、
前記基板上に吐出されたパターン形成材料に照射光を照射する光照射部と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う移動方向に前記ノズル部を先行させつつ前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記移動方向に垂直な方向に関して等ピッチにて配列された線状の複数のパターン要素にて構成されるパターンを前記基板上に形成する移動機構と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記基板および前記パターン形成材料上の前記照射光の照射領域のほぼ全体において、または、前記照射領域中にて前記移動方向に垂直な方向に配列設定された複数の部分領域において、前記パターン形成材料上における前記照射光の照度、照度分布、または、前記移動方向における照射範囲を不規則に変更する照射光変更部と、
を備え、
前記光照射部からの前記照射光の前記基板上における照射領域が前記パターン形成材料を横断する線状であり、
前記照射光変更部が、前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に前記照射領域を前記移動方向に前記複数の吐出口に対して不規則に微小移動する、または、前記照射領域を前記基板の法線方向に平行な回動軸を中心として不規則に微小回動する機構であることを特徴とするパターン形成装置。 - 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
複数の吐出口から光硬化性を有するパターン形成材料を基板上に吐出するノズル部と、
前記基板上に吐出されたパターン形成材料に照射光を照射する光照射部と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記ノズル部および前記光照射部を前記基板に沿う移動方向に前記ノズル部を先行させつつ前記基板に対して相対的かつ連続的に移動することにより、前記移動方向に垂直な方向に関して等ピッチにて配列された線状の複数のパターン要素にて構成されるパターンを前記基板上に形成する移動機構と、
前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に、前記基板および前記パターン形成材料上の前記照射光の照射領域のほぼ全体において、または、前記照射領域中にて前記移動方向に垂直な方向に配列設定された複数の部分領域において、前記パターン形成材料上における前記照射光の照度、照度分布、または、前記移動方向における照射範囲を不規則に変更する照射光変更部と、
を備え、
前記照射光変更部が、前記ノズル部からパターン形成材料が吐出される間に前記光照射部を前記基板の法線方向に不規則に移動する機構であることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン形成装置であって、
前記照射光変更部により不規則に変更される前記照射光の前記照度の変動幅が、前記照射領域における空間的かつ時間的な照度の平均値の2%以上10%以下であることを特徴とするパターン形成装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006308598A JP4738319B2 (ja) | 2006-11-15 | 2006-11-15 | パターン形成装置 |
TW096131624A TWI371057B (en) | 2006-11-15 | 2007-08-27 | Pattern forming apparatus and pattern forming method |
KR1020070090761A KR100836415B1 (ko) | 2006-11-15 | 2007-09-07 | 패턴 형성 장치 및 패턴 형성 방법 |
CN2007101863094A CN101183632B (zh) | 2006-11-15 | 2007-11-12 | 图案形成装置和图案形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006308598A JP4738319B2 (ja) | 2006-11-15 | 2006-11-15 | パターン形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008119647A JP2008119647A (ja) | 2008-05-29 |
JP4738319B2 true JP4738319B2 (ja) | 2011-08-03 |
Family
ID=39448836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006308598A Expired - Fee Related JP4738319B2 (ja) | 2006-11-15 | 2006-11-15 | パターン形成装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4738319B2 (ja) |
KR (1) | KR100836415B1 (ja) |
CN (1) | CN101183632B (ja) |
TW (1) | TWI371057B (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5819621B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-11-24 | 株式会社Screenホールディングス | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
JP5790098B2 (ja) * | 2011-04-05 | 2015-10-07 | セイコーエプソン株式会社 | 液体吐出装置、及び、液体吐出方法 |
JP6452318B2 (ja) * | 2014-05-20 | 2019-01-16 | 中外炉工業株式会社 | 基板の塗布装置及び基板の塗布方法 |
CN109870880A (zh) * | 2019-04-09 | 2019-06-11 | 合肥京东方显示技术有限公司 | 涂胶设备及涂胶方法 |
CN110687722B (zh) * | 2019-10-29 | 2021-09-03 | 武汉华星光电技术有限公司 | 配向液涂布方法及掩膜板组件 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0698628B2 (ja) * | 1989-09-01 | 1994-12-07 | 株式会社総合歯科医療研究所 | 可視光重合型レジンの連続硬化方法及び装置 |
JPH05335223A (ja) * | 1992-05-30 | 1993-12-17 | Sony Corp | レジスト・パターンの形成方法 |
JP3113212B2 (ja) * | 1996-05-09 | 2000-11-27 | 富士通株式会社 | プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成装置および蛍光体塗布方法 |
JP3501598B2 (ja) * | 1996-10-16 | 2004-03-02 | キヤノン株式会社 | レーザー加工方法、インクジェット記録ヘッド及びインクジェット記録ヘッド製造装置 |
JP3366630B2 (ja) * | 2000-10-04 | 2003-01-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 平面表示装置用の隔壁形成方法及びその装置 |
JP3425946B2 (ja) * | 2001-09-13 | 2003-07-14 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 平面表示装置用の隔壁形成方法及びその装置 |
JP2003279724A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Seiko Epson Corp | 表示装置製造方法、表示装置製造装置、表示装置、及びデバイス |
JP4082499B2 (ja) * | 2002-09-20 | 2008-04-30 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
JP4408241B2 (ja) * | 2004-06-14 | 2010-02-03 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン形成装置およびパターン形成方法 |
JP4383268B2 (ja) | 2004-06-29 | 2009-12-16 | アルプス電気株式会社 | スプレーコート方法及びスプレーコート装置 |
JP2006138911A (ja) * | 2004-11-10 | 2006-06-01 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン形成方法およびパターン形成装置 |
WO2006085741A1 (en) * | 2005-02-09 | 2006-08-17 | Stichting Dutch Polymer Institute | Process for preparing a polymeric relief structure |
-
2006
- 2006-11-15 JP JP2006308598A patent/JP4738319B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-08-27 TW TW096131624A patent/TWI371057B/zh not_active IP Right Cessation
- 2007-09-07 KR KR1020070090761A patent/KR100836415B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2007-11-12 CN CN2007101863094A patent/CN101183632B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080044152A (ko) | 2008-05-20 |
CN101183632B (zh) | 2010-06-02 |
CN101183632A (zh) | 2008-05-21 |
JP2008119647A (ja) | 2008-05-29 |
TWI371057B (en) | 2012-08-21 |
TW200822172A (en) | 2008-05-16 |
KR100836415B1 (ko) | 2008-06-09 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
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