JP4408241B2 - パターン形成装置およびパターン形成方法 - Google Patents
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Description
2 ステージ移動機構
3 ステージ
9 基板
52 吐出部
53,53a 光出射部
90 上面
91 第1パターン要素
92 第2パターン要素
541 吐出口
921 交差部
922 非交差部
S11〜S16,S21〜S25 ステップ
Claims (7)
- 基板上にパターンを形成するパターン形成装置であって、
主面上に直線状の複数の第1パターン要素が配列形成された基板を保持する基板保持部と、
前記複数の第1パターン要素に平行な方向に配列された複数の吐出口から、光硬化性樹脂を含むパターン形成材料を前記基板の前記主面に向けて吐出する吐出部と、
前記吐出部からのパターン形成材料の吐出と並行して、前記主面に沿って前記複数の第1パターン要素と交差する方向に前記吐出部を前記基板に対して相対的に移動することにより、直線状の複数の第2パターン要素を配列形成する移動機構と、
前記吐出部を移動しつつ前記基板上に吐出されたパターン形成材料のうち前記複数の第1パターン要素の間隙に位置する部位のみに前記基板の前記主面側から光を選択的に照射する光照射部と、
を備えることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1に記載のパターン形成装置であって、
前記複数の吐出口と前記基板の前記主面との間の距離が、前記複数の第1パターン要素の前記主面からの高さの2倍未満とされることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項1または2に記載のパターン形成装置であって、
前記複数の第1パターン要素および前記複数の第2パターン要素が平面表示装置用の隔壁であることを特徴とするパターン形成装置。 - 基板上にパターンを形成するパターン形成方法であって、
直線状の複数の第1パターン要素が配列形成された基板の主面に向けて、前記複数の第1パターン要素に平行な方向に配列された複数の吐出口から光硬化性樹脂を含むパターン形成材料を吐出する吐出工程と、
前記吐出工程と並行して、前記主面に沿って前記複数の第1パターン要素と交差する方向に前記複数の吐出口を前記基板に対して相対的に移動することにより、直線状の複数の第2パターン要素を配列形成する移動工程と、
前記吐出工程と並行して、前記基板上に吐出されたパターン形成材料のうち前記複数の第1パターン要素の間隙に位置する部位のみに光を選択的に照射する光照射工程と、
を備えることを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項4に記載のパターン形成方法であって、
前記複数の第1パターン要素および前記複数の第2パターン要素が平面表示装置用の隔壁であることを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項5に記載のパターン形成方法であって、
前記複数の第2パターン要素のうち前記主面から最も高い部位の高さが前記複数の第1パターン要素の高さよりも高い、または、前記複数の第2パターン要素のうち前記主面から最も低い部位の高さが前記複数の第1パターン要素の高さよりも低いことを特徴とするパターン形成方法。 - 請求項5または6に記載のパターン形成方法であって、
前記複数の第2パターン要素の形成後に、前記複数の第1パターン要素と前記複数の第2パターン要素との交差部において前記複数の第2パターン要素の頂部が研磨により平坦化されることを特徴とするパターン形成方法。
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