JP2000357453A - プラズマディスプレイパネルとその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数対の表示電極等の作製工程にかかる時間
や工程数を短く合理化し、歩留まりよく作製することが
可能なＰＤＰの製造方法と、当該製造方法より作製した
ＰＤＰを提供する。 【解決手段】 レーザ加工機１００の第一レーザヘッド
１０３０と第二レーザヘッド１０４０の各レーザ光を並
行して透明導電膜５０上に照射し、一対の透明電極２２
１、２３１の間隙３６（および対向する凸部の間隙３
５）と、隣接する二対の透明電極２２１、２３１の間隙
３７を並行して形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、表示デバイスなど
に用いるプラズマディスプレイパネルと、その製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハイビジョンなどに代表される高
品位で大画面の表示デバイスに対する期待が高まってお
り、ＣＲＴ、液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤと記載す
る）、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display P
anel、以下ＰＤＰと記載する）といった各表示デバイス
についての研究開発がなされている。このような表示デ
バイスにはそれぞれ次のような特徴がある。

【０００３】ＣＲＴは、解像度・画質の点で優れてお
り、従来からテレビなどに広く使用されている。しか
し、大画面化すると奥行きのサイズや重量が増大すると
いった課題があり、この問題をどう解決するかがポイン
トとされている。このことから、ＣＲＴで４０インチを
超す大画面のものは作りにくいと考えられている。一
方、ＬＣＤはＣＲＴに比べて消費電力が少なく、サイズ
が小さくて重量も軽いという優れた性能を有しており、
現在ではコンピュータのモニタとして普及が進んでい
る。しかし、ＬＣＤで代表的なＴＦＴ（Thin Film Tran
sistor）方式等を採用するものは非常に微細な構造を有
するため、これを製造するためには複雑かつ複数の工程
を経る必要がある。これにより画面のサイズの増大に比
例して製造にかかる歩留まりが低下するといった性質が
ある。このため現在では、２０インチを超えるサイズの
ＬＣＤは作りにくいとされている。

【０００４】これに対しＰＤＰは、上記のようなＣＲＴ
やＬＣＤとは違って、比較的軽量で大画面を実現するこ
とが有利であり、しかも自ら発光して画面表示する駆動
方式を採っている。したがって次世代の表示デバイスが
求められる現在では、ＰＤＰを大画面化するための研究
開発が特に積極的に進められており、既に５０インチを
超える製品も開発されるに到っている。

【０００５】ＰＤＰは、複数対の表示電極と複数の隔壁
をストライプ状に並設したガラス板と、他方のガラス板
とを対向させ、隔壁間にＲＧＢ各色毎に蛍光体を塗布し
て気密接着し、隔壁と２枚のガラス板の間の放電空間に
封入した放電ガスの発生する紫外線（ＵＶ）により放電
し、蛍光発光させる構成のものである。このようなＰＤ
Ｐは駆動方式の違いからＤＣ（直流）型とＡＣ（交流）
型に分けられる。このうちＡＣ型が大画面化に適してい
ると考えられており、これが一般的なＰＤＰとして普及
しつつある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におけ
るフルスペックのハイビジョンテレビの画素レベルは、
画素数が１９２０（横）×１０８０（縦）であり、ドッ
トピッチは４２インチクラスで０.１６ｍｍ×０.４８ｍ
ｍであって、１セル当たりの面積は０.０７７ｍｍ²の細
かさになる。これは、同じ４２インチクラスのＮＴＳＣ
規格のテレビに対し、７〜８倍の細かさであり、走査線
数は３倍近くも多い。以上の理由から、ハイビジョンテ
レビ用のＰＤＰを作製するに当たっては、ＮＴＳＣ規格
のテレビを作製するよりも高精度の加工技術が要求され
る。

【０００７】このような背景によって、例えば複数対の
表示電極の間隙はＮＴＳＣ規格のテレビなどよりさらに
小さい値に設定する必要がある。しかしながら、ここに
おいて以下に示すＰＤＰの製造上の問題が存在する。す
なわち複数対の表示電極は、一般的には特開平９─３５
６２８号公報に開示されているような方法で作製され
る。これは具体的には、前面板となるガラス板上にスパ
ッタリング法などによりＩＴＯまたはＳｎＯ₂等からな
る透明導電膜、およびＣｒ─Ｃｕ─Ｃｒからなる金属導
電膜を順次成膜し、その後フォトリソグラフィー法によ
り、前記各導電膜を所望の電極形状に加工する方法であ
る。このフォトリソグラフィー法は、フォトレジストの
塗布、パターニング、エッチングといった工程を繰り返
すので工程数が多く、作業時間が掛かりやすい向きがあ
る。また、工程を繰り返すうちに、エッチング液による
望ましくない浸食作用や、パターニングの際のマスキン
グのずれなどが発生しやすく、全ての工程にわたって一
定上の精度を確保することが難しい。このような問題は
特に、前述したハイビジョンテレビの細かい表示電極を
作製する上で障害となる向きがある。

【０００８】プラズマディスプレパネルの製造方法にお
いて、従来に比べて迅速に且つ精度良く表示電極を作製
する技術問題は、このように現在でも改善の余地が多い
とされている。本発明は上記問題に鑑みてなされたもの
であって、その目的は、複数対の表示電極等の作製工程
などにレーザー加工プロセスを導入することによって、
当該作製工程にかかる時間を短く合理化し、歩留まりよ
くＰＤＰを作製することが可能なＰＤＰの製造方法と、
当該製造方法によって作製したＰＤＰを提供することに
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的は、第一プレー
トの主面に、長手方向を平行にして並設した複数対の表
示電極を形成する表示電極形成ステップと、複数対の表
示電極を形成した第一プレートの主面を、第二プレート
の主面に合わせて接着するプレート接着ステップとを備
えるプラズマディスプレパネルの製造方法として、表示
電極形成ステップにおいて、第一プレートの主面に表示
電極材料を被覆し、当該表示電極材料を部分的にレーザ
加工し、前記複数対の表示電極を形成することで実現で
きる。

【００１０】具体的には、前記表示電極形成ステップに
おいて、第一プレートの主面に透明電極部材料を被覆
し、当該被覆した透明電極部材料をレーザ加工して透明
電極部とした後、当該透明電極部に電気的に接触するよ
うに、金属電極部材料を第一プレートの主面に被覆する
ことにより金属電極部を形成し、前記複数対の表示電極
を形成することによって実現できる。

【００１１】また、前記表示電極形成ステップにおい
て、第一プレートの主面に透明電極部材料を被覆し、当
該透明電極材料をレーザ加工して透明電極部とアライメ
ントマークを形成した後、当該アライメントマークを用
いて透明電極部に合わせて金属電極部材料を第一プレー
トの主面の所定の位置に被覆することにより、金属電極
部を形成し、前記複数対の表示電極を形成してもよい。

【００１２】このようにレーザ光を用いて複数対の表示
電極を作製すれば、レーザ加工プロセスはレーザカット
工程および洗浄・乾燥工程等のみで行えるため、従来採
用していたフォトリソグラフィー法などの方法に比べ、
数分の一の工程数で迅速に複数対の表示電極が形成でき
るようになる。これにより、環境に有害とされる廃液な
どの発生も少なく、レーザ加工プロセスを採用すること
で環境問題が改善されるといった効果が期待できる。な
お、このようなレーザ加工プロセスは、複数対の表示電
極の作製の他に、アライメントマークの作製などにも適
用できる。

【００１３】また、第一プレートの主面に、長手方向を
平行にして複数対並設した表示電極を形成する表示電極
形成ステップと、複数対の表示電極を形成した第一プレ
ートの主面を、複数のアドレス電極を平行に並設した第
二プレートの主面に合わせ、複数対の表示電極と複数の
アドレス電極が交叉するように、第一プレートの主面と
第二プレートの主面を接着するプレート接着ステップと
を備えるプラズマディスプレパネルの製造方法として、
表示電極形成ステップにおいて、表示電極材料を第一プ
レートの主面に被覆し、第一のスポット形状のレーザ光
と、当該第一のスポット形状とは異なる第二のスポット
形状のレーザ光を表示電極材料に照射することにより、
部分的に表示電極材料を蒸発加工し、複数対の表示電極
を形成してもよい。

【００１４】さらに前記表示電極形成ステップにおい
て、第一の強度のレーザ光と、第一の強度とは異なる第
二の強度のレーザ光を照射することにより、第一プレー
トの主面に被覆した表示電極材料を部分的に蒸発加工
し、複数対の表示電極を形成してもよい。このように、
第一の強度（または第一のスポット形状）のレーザ光と
第二の強度（または第二のスポット形状）のレーザ光を
使用して複数対の表示電極を形成することで、部分的に
間隙の異なる複数対の表示電極を形成したり、複数対の
表示電極の抵抗値の補正や細部形状の補修（リペアリン
グ）が可能となり、上記効果に加えてさらにレーザ加工
プロセスを合理的に行うことができる。

【００１５】さらに本発明は、一対の表示電極を、長手
方向を平行にして複数対並設した第一プレートの主面
を、第二プレートの主面に合わせて接着した構成のプラ
ズマディスプレイパネルとして、第一プレートの主面と
第二プレートの主面の少なくともいずれかに、レーザ加
工により形成したパネル位置合わせ用のアライメントマ
ークを備えるものとした。

【００１６】さらに、透明電極部と金属電極部を電気的
に接触させてなる一対の表示電極を、長手方向を平行に
して複数対並設した第一プレートの主面を、第二プレー
トの主面に合わせて接着した構成のプラズマディスプレ
イパネルとして、第一プレートの主面に、レーザ加工に
より形成した透明電極部と金属電極部の位置合わせ用の
アライメントマークを備えるものとした。

【００１７】このように、第一プレートの主面にパネル
位置合わせ用、または透明電極部と金属電極部の位置合
わせ用のアライメントマークを設けることにより、第一
プレート主面と第二プレート主面、または透明電極部と
金属電極部が精度良く組み合わされ、設計上の本来の性
能を十分に発揮することが可能なプラズマディスプレイ
パネルとすることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】＜実施の形態１＞図１は、実施の
形態１の交流面放電型ＰＤＰの部分的な断面斜視図であ
る。図中、ｚ方向がＰＤＰの厚み方向、ｘｙ平面がＰＤ
Ｐ面に平行な平面に相当する。当図のように、本ＰＤＰ
の構成はフロントパネル２０とバックパネル２６の２つ
のユニットに大別される。なお当図をはじめ、これ以降
に説明する全ての図面（図１〜図１０）において、ｘｙ
ｚ各方向は一致するものとする。

【００１９】フロントパネル２０の基板となるフロント
パネルガラス２１はソーダライムガラス材料からなる。
そして、フロントパネルガラス２１のバックパネル２６
と対向する面には、複数対の表示電極２２、２３（一対
の表示電極はＸ電極２２とＹ電極２３で構成される）が
ｘ方向に延伸され、ｙ方向に一定の間隔で交互に配設さ
れる。ここでは各実施の形態に共通して、Ｘ電極２２が
アドレス放電時に走査電極として作動するものとする。
複数対の表示電極２２、２３の全体図については後に示
す。

【００２０】このような複数対の表示電極２２、２３を
配設したフロントパネルガラス２１の面上には、酸化鉛
系ガラスからなる誘電体層２４がコートされる。これに
よって、複数対の表示電極２２、２３は誘電体層２４中
に埋設される状態になっている。誘電体層２４の表面上
には、さらに酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護
層２５がコートされている。

【００２１】バックパネル２６の基板となるバックパネ
ルガラス２７もフロントパネルガラス２１と同様に作製
されたものであって、フロントパネル２０と対向する側
の面には、複数のアドレス電極２８がｙ方向に延伸され
て並設され、ｚ方向に一定間隔を挟んで、前記フロント
パネル２０の複数対の表示電極２２、２３と格子状の配
設パターンを形成している。アドレス電極２８を配設し
たバックパネルガラス２７の面上には、誘電体層２４と
同様の材料からなる誘電体膜２９がアドレス電極２８を
包むように形成され、さらに誘電体膜２９の面上に、隣
接する２つのアドレス電極２８の間隔に合わせて、一定
の高さと厚みを持つ複数の隔壁３０がｙ方向に沿って形
成されている。隔壁３０の側面と誘電体膜２９の表面に
は、ＲＧＢの各色に合わせた蛍光体層３１、３２、３３
の何れかが塗布される。

【００２２】フロントパネル２０とバックパネル２６は
封着ガラスで互いに貼り合わされる。そして、複数の隔
壁３０で仕切られた各空間に希ガスを含む放電ガスが封
入され、それぞれの空間がｙ方向に長い帯状の放電空間
３８となる。この放電空間３８において、一対の表示電
極２２、２３と一本のアドレス電極２８との交叉箇所を
一箇所ずつ含む領域が、画面表示のためのセル（後述す
る）となる。当該各セルはｘ方向を行方向、ｙ方向を列
方向とするマトリックス状に配列するように形成される
ので、本ＰＤＰでは各セルを適時点滅することによっ
て、マトリックス表示ができるようになっている。

【００２３】図２は、本ＰＤＰの表示電極パターンをｚ
方向から見下ろした場合の平面図である。ここでは図の
複雑化を避けるために隔壁３０の図示を省略してある。
当図において、破線で区切った領域のそれぞれがセル１
１、１２、１３、１４に相当する。当図のように、本Ｐ
ＤＰの複数対の表示電極２２、２３のそれぞれは、透明
電極部２２１、２３１と、当該透明電極部２２１、２３
１に電気的に接触するように、一対の表示電極２２、２
３で最も遠い透明電極部２２１、２３１の部分上に配さ
れた金属電極部２２２、２３２とから構成される。透明
電極部２２１、２３１は、一対の表示電極２２、２３の
間隙３６においてセルピッチ（隣接する複数のアドレス
電極２８のピッチ）毎に凸部２２０、２３０が対向する
ように１つずつ配置された形状を有している。

【００２４】この複数対の表示電極２２、２３における
各部のサイズは以下の通りである。すなわち、対向する
凸部２２０、２３０の間隙３５は８０μｍ、一対の表示
電極２２、２３の最大間隙３６は５２０μｍ、凸部２２
０、２３０はｘ方向長さ１５０μｍ×ｙ方向長さ２２０
μｍの長方形状である。また、凸部２２０、２３０を除
く透明電極部２２１、２３１の幅は１５０μｍであり、
隣接する二対の表示電極２２、２３の間隙３７は２６０
μｍである。ここで本実施の形態１の特徴として、上記
透明電極部２２１、２３１は後述のレーザ加工プロセス
により作製したものである。

【００２５】また、金属電極部２２２、２３２は幅が５
０μｍである。さらに、前記セルピッチは、３６０μｍ
となっている。なお図では、凸部２２０、２３０を有す
る各表示電極２２、２３の形状の特徴を把握しやすくす
るため、実際より凸部２２０、２３０を大きくし、一対
の表示電極２２、２３の最大間隙３６を狭く図示してい
る。

【００２６】透明電極部２２１、２３１をこのようなパ
ターン形状に設定するのは、以下に説明するように、面
放電開始時の電圧を抑制しつつ、良好な放電規模の面放
電を行うためである。すなわち、以上の構成を有する本
ＰＤＰによれば、駆動時には各電極２２、２３、２８に
適宜給電することで２種類の放電がなされる。

【００２７】一つは、セル１１、……の点灯のＯＮ/Ｏ
ＦＦを制御するアドレス放電であって、走査電極である
Ｘ電極２２と、アドレス電極２８とに給電することによ
って行われる。もう一つはＰＤＰの画面表示に直接寄与
する維持放電（面放電）であって、一対の表示電極２
２、２３にパルス電圧を印加することによって行われ
る。

【００２８】面放電は、具体的には複数対の表示電極２
２、２３に給電がなされ、パルスが印加されると開始す
る。このとき凸部２２０、２３０の間隙３５で面放電が
開始されるが、この凸部２２０、２３０の間隙３５が約
８０μｍと一対の表示電極２２、２３の最大間隙３６
（約５２０μｍ）に比べて狭く取られているため、開始
放電にかかる電圧が低く抑えられる。

【００２９】したがって、面放電が開始されると、放電
の規模が次第に広がって輝度が向上し、かつ放電電圧が
抑えられるので、ＰＤＰとして良好な発光効率が得られ
ることとなる。具体的には、面放電時に複数対の表示電
極２２、２３に印加される電圧を１８５Ｖとした場合、
実際の複数対の表示電極２２、２３に印加される電圧の
ばらつきが従来型のＰＤＰで±５Ｖ程度であったのに対
し、本実施の形態１により作製したＰＤＰでは透明電極
部２２１、２３１がレーザ加工プロセスにより従来に比
べて精密に作製されているため、前記電圧のばらつきが
±２Ｖ程度まで抑えられる。このように、本ＰＤＰは従
来のＰＤＰよりちらつきの低減した優れた表示性能を呈
することが可能である。

【００３０】ここで、本発明の主な特徴はＰＤＰの製造
方法にある。以下に本実施の形態１のＰＤＰの製造方法
を説明する。 （ＰＤＰの作製方法） i.フロントパネル２０の作製 厚さ約２.６ｍｍのソーダライムガラスからなるフロン
トパネルガラス２１の表面上に、表示電極２２、２３を
形成する。ここにおいて、複数対の表示電極２２、２３
をレーザ加工プロセスを利用して形成するのが本発明の
主な特徴である。この複数対の表示電極２２、２３の形
成過程を、図３の（ａ）〜（ｅ）に示すフロントパネル
ガラス２１部分断面図、図４の（ａ）〜（ｃ）に示すレ
ーザ加工機１００の構成図、および図５の（ａ）、
（ｂ）に示すレーザ加工プロセス図、図６の（ａ）、
（ｂ）に示す透明電極部２２１、２３１の完成図と、レ
ーザ加工プロセスにかかるレーザワークの動作を表す図
等を参照しながら説明する。

【００３１】実施の形態１の複数対の表示電極２２、２
３は、前述の通り透明電極部２２１、２３１と金属電極
部２２２、２３２とで構成される。このため、まず透明
電極部２２１、２３１の材料であるＳｎＯ₂─Ｓｂ₂Ｏ₃
系透明導電膜材料（酸化スズＳｎＯ₂と酸化アンチモン
Ｓｂ₂Ｏ₃を、ＳｎとＳｂが９８：２の原子比になるよう
にした混合材料）を、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposit
ion）法にてフロントパネルガラス２１の全面に被覆
し、厚さ約０.２μｍの透明導電膜５０を形成する。Ｃ
ＶＤ法は、ここでは前記透明導電膜材料をガス状にし、
これを約５５０℃に加熱した高温のフロントパネルガラ
ス２１の表面上に流して透明導電膜５０を作るように行
う。図３（ａ）は当該透明導電膜５０を形成した様子を
示す図である。

【００３２】次に、形成した透明導電膜５０のうち、フ
ロントパネルガラス２１の長手方向（ｘ方向）両端部に
相当する部分に引き出し電極部（不図示、各表示電極２
２、２３と駆動回路（不図示）を接続するために金属電
極部２２２、２３２を延長してなる直線状の電極部）形
成領域２１０を確保し（図３（ｂ）および図６参照）、
続いて透明電極膜をパターニングして透明電極部２２
１、２３１等を形成する（図３（ｃ）参照）。なお、引
き出し電極部形成領域２１０は図６に図示している。

【００３３】これらの工程の実施には図４（ａ）の斜視
図に示すようなレーザ加工機１００を用いる。当該レー
ザ加工機１００はガントリー式と公称される形式のもの
であり、１軸テーブル１０３（ｘ方向に往復移動自
在）、１軸レーザトーチ１０２（ｙ方向に往復移動自
在）を備える公知のレーザ加工機１００である。レーザ
トーチ１０２はテーブル１０３をｙ方向に跨ぐように配
設された形状のレーザトーチガイド１０１と連結されて
おり、当該レーザトーチガイド１０１にガイドされてｙ
方向へ往復移動することが可能である。レーザトーチ１
０２およびテーブル１０３は、図示しないステッピング
モータにより精密に駆動され、テーブル１０３に載置し
た被加工物に対してレーザトーチ１０２とテーブル１０
３が相対的にｘｙ方向に移動することにより、マイクロ
オーダーでの精密な２次元レーザ加工が可能となってい
る。

【００３４】レーザトーチ１０２は具体的には図４
（ｂ）に示すように、レーザトーチ本体１０２０に、締
め付け固定ジグ１０２１および締め付けボルト１０２２
で第一レーザヘッド１０３０、第二レーザヘッド１０４
０が固定された構成である。第一レーザヘッド１０３０
（第二レーザヘッド１０４０）は波長１.０６μｍのＹ
ＡＧレーザ光を発光するものであり、レーザ発振器（不
図示）より延長された石英ガラス製の光ファイバケーブ
ル１０３２（１０４２）の末端に連結され、レーザ光を
集光する光学系ユニットを内蔵している。そして第一お
よび第二レーザヘッド１０３０（１０４０）の先端に
は、図４（ｃ）に示すアパーチャ１０３１（１０４１）
と対物レンズユニット１０５０（１０６０）が装着され
ており、第一および第二レーザヘッド１０３０（１０４
０）が複数のレーザスポットを重ね合わせて連結するよ
うにパルスレーザを断続的に発光させることで、一定の
形状のレーザ加工が可能となっている。

【００３５】ここで、アパーチャ１０３１（対物レンズ
ユニット１０５０（１０６０）との組合せにより、テー
ブル１０３に載置されたフロントパネルガラス２１の表
面上に、ｙ方向５２０μｍ×ｘ方向２１０μｍの長方形
にｙ方向８０μｍ×ｘ方向１５０μｍの長方形を組み合
わせた形状のレーザスポットを形成する）は対向する凸
部２２０、２３０の間隙３５と一対の表示電極２２、２
３の最大間隙３６の和のサイズ、アパーチャ１０４１
（対物レンズユニット１０５０（１０６０）との組合せ
により、テーブル１０３に載置されたフロントパネルガ
ラス２１の表面上に、ｙ方向２６０μｍ×ｘ方向３６０
μｍの長方形状のレーザスポットを形成するスリットを
有する）は隣接する二対の表示電極の間隙３７のサイズ
に合わせて作られている。このうちアパーチャ１０３１
の凸部１０３１ａは透明電極部２２１、２３１の凸部２
２０、２３０を形成するために設けられている。第一レ
ーザヘッド１０３０（第二レーザヘッド１０４０）から
第一レーザ光（第二レーザ光）を出力すると、これらの
アパーチャ１０３１（１０４１）と対物レンズユニット
１０５０（１０６０）を介し、テーブル１０３に載置し
たフロントパネルガラス２１上に各形状のレーザスポッ
トが照射される。なお、テーブル１０３に載置されたフ
ロントパネルガラス２１の表面上における各レーザスポ
ットのサイズは、レーザトーチ１０２に対する第一レー
ザヘッド１０３０（第二レーザヘッド１０４０）の位置
合わせによっても適宜調節できる。

【００３６】このような構成を有するガントリー式レー
ザ加工機１００のテーブル１０３上に、フロントパネル
ガラス２１を方向に注意しながら（フロントパネルガラ
ス２１のｘｙ方向がレーザ加工機１００のｘｙ方向と一
致するように）載置し、公知の真空チャック法などによ
りテーブル１０３上にフロントパネルガラス２１を水平
に固定する。

【００３７】次に、レーザ光の出力設定を行う。レーザ
光は第一レーザヘッド１０３０および第二レーザヘッド
１０４０ともに１００ｎｓｅｃ/ｐｕｌｓｅのパルスレ
ーザ出力を有するものとし、１.５ｍＪ/ｐｕｌｓｅの強
度に設定する。レーザ光の出力設定に続き、レーザ加工
機１００の所定の設定入力メニューから、図６（ａ）に
示す形状パターン仕様に従ってレーザ加工プロセスを設
定する。ここではフロントパネルガラス２１の全面に被
膜した透明導電膜５０をレーザ加工して、透明電極部２
２１、２３１、透明導電膜５０残留部、および十字型ア
ライメントマークを形成することが一連のレーザ加工プ
ロセスの内容となる。レーザ加工プロセスの設定後、ワ
ーク開始指示を入力すると、自動的にレーザ加工プロセ
スが開始される。

【００３８】レーザ加工プロセスは、例えば図３（ｂ）
に示すように、まずフロントパネルガラス２１の左右
（ｘ方向両端部）に引き出し電極部形成領域２１０を確
保することから始める。これには第二レーザヘッド１０
４０からの第二レーザ光を単独で使用して行う。すなわ
ち、テーブル１０３とレーザトーチ１０２の相対的な位
置を調節し、第二レーザトーチ１０４０の真下にフロン
トパネルガラス２１の四隅の一角（図６（ａ）ではフロ
ントパネルガラス２１の左下の角）を位置させる。そし
てテーブル１０３を固定したまま、レーザトーチ１０２
をｙ方向へ移動させながら、第二レーザ光を出力させ、
フロントパネルガラス２１の透明導電膜５０を部分的に
レーザ加工する。これにより、フロントパネルガラス２
１上にはｙ方向に沿って透明導電膜５０が蒸発気化した
幅３６０μｍの溝が形成される。

【００３９】このレーザ加工が１ストローク分（フロン
トパネルガラス２１のｙ方向への１ストローク分）につ
いて完了したら、テーブル１０３を第二レーザ光のレー
ザスポットのｙ方向幅である３６０μｍだけｘ方向へ微
少移動し、そこからｙ方向に沿ってレーザトーチ１０２
を移動させることにより、前述と同様にレーザ加工を再
開する。このような往復運動のレーザ加工プロセスを約
５６ストローク×２回分（フロントパネルガラス２１の
ｘ方向両端部分）について行い、幅が約２０ｍｍの引き
出し電極部形成領域２１０をフロントパネルガラス２１
の長手方向（ｘ方向）両端部に設ける。以上が図３
（ｂ）に相当するレーザ加工プロセスである。

【００４０】次に、フロントパネルガラス２１の表面上
にレーザ加工によって透明導電膜残留部２１１、アライ
メントマーク２１２等を形成する。図６（ｂ）は、この
ときのレーザ加工プロセスを模式的に表す図である。当
図のように、テーブル１０３とレーザトーチ１０２の相
対的な位置を調節し、第二レーザヘッド１０４０の真下
にフロントパネルガラス２１の四隅の一角（図６（ｂ）
ではフロントパネルガラス２１の左下の角）を位置させ
る。そしてテーブル１０３をｘｙ方向に微少移動させな
がら、透明導電膜５０の一定の位置を十字型にレーザ加
工し、反転マーク状のアライメントマーク２１２（例え
ばアパーチャ１０４１のレーザスポットを組み合わせた
ｙ方向長９８０μｍ（レーザスポット４個分のｙ方向長
さ）×ｘ方向長１０８０μｍ（レーザスポット３個分の
ｘ方向長さ）の形状マーク）を形成する。アライメント
マーク２１２は、透明電極部２２１、２３１に金属電極
部２２２、２３２を位置合わせして形成する場合と、フ
ロントパネルガラス２１とバックパネルガラス２７を位
置合わせして貼り合わせるときに用いる。なお、アライ
メントマーク２１２を形成する「一定の位置」とは、例
えば図６（ａ）に示すように、フロントパネルガラス２
１のｙ方向両端部から５ｍｍの距離で、フロントパネル
ガラス２１の長手方向に沿う直線上で等間隔な３箇所の
位置である。

【００４１】各アライメントマーク２１２を形成した
後、第二レーザヘッド１０４０の真下にフロントパネル
ガラス２１のｘ方向端部（図６（ｂ）ではｘ方向右側端
部）が位置するようにテーブル１０３を移動させる。そ
してレーザトーチ１０２をｙ方向へ５ｍｍ移動させ、第
二レーザ光を透明導電膜５０に照射しながらｘ方向へ折
り返す。このレーザ加工の１ストローク（フロントパネ
ルガラス２１のｘ方向への１ストローク、図６（ｂ）参
照）で幅約２６０μｍの帯状に透明導電膜５０が蒸発気
化し、ｘ方向幅が約１０ｍｍの透明導電膜残留部２１１
が形成される。

【００４２】透明導電膜残留部２１１を形成した後、フ
ロントパネルガラス２１をｘ方向端部（図６（ｂ）では
ｘ方向左側端部）まで移動させる。そしてテーブル１０
３に対してレーザトーチ１０２をｙ方向へ１０８０μｍ
（一対の表示電極２２、２３の最大間隙５２０μｍ＋隣
接する二対の表示電極２２、２３の間隙２６０μｍ＋凸
部２２０、２３０を除いた各表示電極２２、２３の２本
分の幅１５０μｍ×２＝１０８０μｍ、詳細は図２を参
照のこと）だけ移動させ、第一レーザヘッド１０３０
（第二レーザヘッド１０４０）を稼働準備状態にする。
そして透明導電膜５０に第一レーザ光と第二レーザ光を
ｙ方向に並行して照射させつつ、テーブル１０３をｘ方
向へ移動させ、一対の表示電極２２、２３の間隙３６
と、隣接する二対の表示電極２２、２３の間隙３７をフ
ロントパネルガラス２１上に並行して形成する。このレ
ーザ加工で一対の表示電極２２、２３の透明電極部２２
１、２３１が形成される。

【００４３】ここで、図５（ａ）はレーザ加工によって
形成されつつある一対の表示電極２２、２３の様子を示
すフロントパネルガラス２１の部分斜視図である。この
ようなレーザ加工は、例えば図５（ｂ）の第一レーザ光
による加工プロセスに示すように、断続的なパルスレー
ザ光として発光される。このパルスレーザ光によるレー
ザスポットを連結させながら透明電極部２２１、２３１
が形成されることとなる。

【００４４】なお、ここで隣接するレーザスポットをｘ
方向に若干重ねるようにレーザ走査すると、確実に各電
極間隙３５〜３７が形成できる。ただしこの場合、前記
レーザスポットの重なり部分を考慮に入れてアパーチャ
１０３１、１０４１の形状をｘ方向に長めに設定するな
どの工夫が必要である。また、ｙ方向にレーザトーチ１
０２を移動させる際には、必ずしもフロントパネルガラ
ス２１のｘ方向端部を第一レーザヘッド１０３０（第二
レーザヘッド１０４０）の真下に位置させる必要はな
く、形成した各透明電極部２２１、２３１のｘ方向端部
真上付近でレーザトーチ１０２を移動させるようにして
もよい。

【００４５】さらに、レーザトーチは１個に限るもので
はなく、例えば複数のレーザヘッドを用い、各レーザヘ
ッドを個々のレーザトーチに設けるようにしてもよい。
このような透明電極部２２１、２３１を形成するレーザ
加工プロセスでは、図６（ｂ）のレーザ加工プロセスの
流れに従い、ｘ方向への１ストロークのレーザ加工によ
り一対の表示電極２２、２３の透明電極部２２１、２３
１を形成し、レーザトーチ１０２をｙ方向へ約１０８０
μｍだけ微少移動させるといったプロセスを繰り返す。
このｘ方向へのレーザ加工とｙ方向へのレーザトーチ１
０２の移動の組合せからなる一連のジグザグ移動のレー
ザ加工プロセスによって、一対の表示電極２２、２３の
透明電極部２２１、２３１は、フロントパネルガラス２
１上に複数対（例えば４２インチＸＧＡパネルで合計７
６８対）形成される。

【００４６】全ての対の表示電極２２、２３の透明電極
部２２１、２３１が形成されたら（図３（ｃ））、第一
レーザヘッド１０３０の駆動を一旦停止させる。そして
前述の動作と同様に第二レーザヘッド１０４０のみを駆
動させ、透明導電膜残留部２１１を形成する。透明導電
膜残留部２１１を形成したら、次に前述の動作と同様に
して複数のアライメントマーク２１２を形成する。これ
で、フロントパネルガラス２１の一枚当たりのレーザ加
工プロセスがすべて終了する。

【００４７】このように、従来より複数対の表示電極２
２、２３の作製方法として行われているウエットプロセ
スのフォトリソグラフィー法の工程が約１１工程あるの
に対し、本実施の形態１のレーザ加工プロセスはレーザ
加工と被レーザ加工物の洗浄・乾燥の約３工程で済み、
しかもわずか約１０分程度の工程時間で行うことが可能
である。これによりＰＤＰの製造工程における歩留まり
も改善され、コスト対策にも有効となる。

【００４８】またレーザ加工プロセスを用いると、他の
製造方法に比べて精度良く透明電極部２２１、２３１を
作製することができる。これは例えば透明電極部２２
１、２３１の形状をｘ方向に延伸した幅約５０μｍの帯
状とした場合、フォトリソグラフィー法では±５.０μ
ｍ程度のサイズの誤差が生じていたのに対し、本実施の
形態１では±３.０μｍ程度のサイズの誤差にまで抑え
られる。

【００４９】以上のレーザ加工プロセスを行った後、フ
ロントパネルガラス２１をテーブル１０３から下ろし、
続いて透明電極部２２１、２３１等を形成したフロント
パネルガラス２１の全面に、Ｃｒ─Ｃｕ─Ｃｒの積層膜
からなる厚さ約０.１μｍの金属導電膜６０をスパッタ
リング法にて形成する（図３（ｄ））。次に、形成した
金属導電膜６０にウエットプロセスによるフォトリソグ
ラフィー法を用い、金属電極部２２２、２３２および引
き出し電極部（不図示）を形成する（図３ｅ）。ウエッ
トプロセスは、一般的には以下の（ａ）〜（ｋ）工程を
経て行う。金属導電膜６０の洗浄（ａ）→金属導電膜６
０にフォトレジスト塗布（ｂ）→乾燥（ｃ）→金属電極
部２２２、２３２の形状にマスキングして露光（ｄ）→
現像（ｅ）→リンス（ｆ）→洗浄および乾燥（ｇ）→金
属電極膜上に残ったレジストを硬化（ｈ）→エッチング
（ｉ）→フォトレジスト剥離（ｊ）→洗浄・乾燥（ｋ）
なお、（ｄ）工程において、マスキングする際にアライ
メントマーク２１２を利用してマスクを金属導電膜６０
上に合わせる。これにより、正確な露光を行うことが出
来る。

【００５０】また金属電極部２２２、２３２は、ここで
は一対の表示電極２２、２３を構成する透明電極部２２
１、２３１の外側端部上において、幅約５０μｍの帯状
に設ける。次に、複数対の表示電極２２、２３の上か
ら、鉛系ガラスのペーストを厚さ約２０〜３０μｍでフ
ロントパネルガラス２１の全面にわたって被膜し、焼成
して誘電体層２４を形成する。

【００５１】次に、誘電体層２４の表面に、厚さ約１μ
ｍの酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層２５を
蒸着法あるいはＣＶＤ（化学蒸着法）などにより形成す
る。これで、フロントパネル２０が完成される。 ii.バックパネル２６の作製 厚さ約２ｍｍのソーダライムガラスからなるバックパネ
ルガラス２７の表面上に、印刷法により、銀を主成分と
する導電体材料を一定間隔でストライプ状に塗布し、厚
さ約５μｍの複数のアドレス電極２８を形成する。ここ
で、隣接する２つのアドレス電極２８の間隔を３６０μ
ｍに設定する。

【００５２】続いてアドレス電極２８を形成したバック
パネルガラス２７の面全体にわたって、鉛系ガラスのペ
ーストを厚さ約２０〜３０μｍで塗布して焼成し、誘電
体膜２９を形成する。次に、誘電体膜２９と同じ鉛系ガ
ラス材料を用いて、誘電体膜２９の上に、隣接する２つ
のアドレス電極２８の間ごとに、高さ約１００μｍの隔
壁３０を形成する。この隔壁３０は、例えば上記ガラス
材料を含むペーストを繰り返しスクリーン印刷し、その
後焼成して形成できる。

【００５３】隔壁３０が形成できたら、隔壁３０の壁面
と、隔壁間で露出している誘電体膜２９の表面に、赤色
（Ｒ）蛍光体、緑色（Ｇ）蛍光体、青色（Ｂ）蛍光体の
何れかを含む蛍光インクを塗布し、これを乾燥・焼成し
てそれぞれ蛍光体層３１、３２、３３を形成する。ここ
で、一般的にＰＤＰに使用されている蛍光体材料の例を
以下に列挙する。

【００５４】 赤色蛍光体；（Ｙ_xＧｄ_1-x）ＢＯ₃：Ｅｕ³⁺ 緑色蛍光体； Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ 青色蛍光体； ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ³⁺（或いはＢ
ａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ³⁺） 以上で、バックパネル２６が完成される。

【００５５】なお、フロントパネルガラス２１およびバ
ックパネルガラス２７をソーダライムガラスからなるも
のとしたが、これは材料の一例として挙げたものであっ
て、これ以外の材料（例えば高歪点ガラス）でもよい。
さらに誘電体層２４および保護層２５も上記材料に限定
せず、適宜材料を変更してもよい。複数対の表示電極２
２、２３も同様に、例えば良好な透明性を有する透明電
極部２２１、２３１とするために材料を選択することが
可能である。このような各材料の選択は、可能な範囲に
おいて各実施の形態でも同様に行ってよい。

【００５６】iii.ＰＤＰの完成 作製したフロントパネル２０とバックパネル２６を、ア
ライメントマーク２１２を用いてアライメントし、封着
用ガラスで貼り合わせる。その後、放電空間３８の内部
を高真空（８×１０^-7Ｔｏｒｒ）に脱気し、これに所定
の圧力（ここでは２０００Ｔｏｒｒ）でＮｅ-Ｘｅ（５
％）の組成からなる放電ガスを封入することによって、
ＰＤＰの完成とする。放電ガスについては、この他にも
Ｈｅ-Ｘｅ系やＨｅ-Ｎｅ-Ｘｅ系などが使用可能であ
る。

【００５７】このように本実施の形態１のＰＤＰの製造
方法では、透明電極部２２１、２３１を作製する際に、
２つの異なるレーザスポットのレーザ光を並行して発光
しながらレーザ加工するので、迅速に透明電極部２２
１、２３１を作製できるという効果が特徴である。した
がって、実施の形態１によれば、非常に効率よくＰＤＰ
を製造することができるといった効果が望める。

【００５８】また、本実施の形態１ではフォトリソグラ
フィー法を採用する工程が従来に比べて少ないため、排
ガスや廃液などの発生に伴う問題も低減され、環境問題
への対策としても大いに有効である。なお、本実施の形
態１ではレーザ加工プロセスにより、透明電極部２２
１、２３１以外にも部分的に透明導電膜５０を蒸発気化
しない例（すなわち透明導電膜残留部２１１を設ける）
を示した。このように、作製する複数対の表示電極２
２、２３など（本実施の形態中では透明導電膜５０）で
積極的に蒸発気化する必要のない透明導電膜５０の領域
をそのまま残留させることにより、過剰なレーザ加工プ
ロセスを省略することができ、一連のレーザ加工プロセ
スが簡単化および高速化されるとともに歩留まりも改善
されるといった効果がある。

【００５９】さらに、上記「iii.ＰＤＰの完成」の工程
において、バックパネル２６側にもアライメントマーク
を形成しておき、アライメントマーク２１２と相対的に
アライメントすると、一層精密なアライメントの実施が
期待できる。なお、本発明のＰＤＰの作製方法は、各実
施の形態ごとに形成する複数対の表示電極２２、２３の
作製方法に主な特徴があり、それ以外のところは大体共
通している。したがってこれ以降の各実施の形態におけ
るＰＤＰの作製方法については、複数対の表示電極２
２、２３の製造方法について主に説明し、また前記実施
の形態と重複する説明を割愛する。

【００６０】＜実施の形態２＞本実施の形態２では複数
対の表示電極２２、２３の金属電極部２２２、２３２に
銀材料を用いる場合について、金属電極部２２２、２３
２の形成および金属電極部２２２、２３２のアニーリン
グ処理にレーザ加工プロセスを適用する例を示す。

【００６１】金属電極部２２２、２３２の材料には、Ｃ
ｒ─Ｃｕ─Ｃｒ材料の他に銀材料（具体的には銀とガラ
ス粉末の混合材料）が広く用いられているが、銀材料の
有する性質上の理由から、銀材料を透明導電膜５０（透
明電極部２２１、２３１）の上に被膜すると、凹凸を有
する歪んだ形状になってしまう。これは後に、フロント
パネルガラス２１の全面に誘電体層２４を形成する時点
において、金属電極部２２２、２３２と誘電体層２４と
の間に気泡が混入し、絶縁破壊を起こしてＰＤＰが正常
に駆動しない原因となる。

【００６２】このため、上記銀材料から金属電極部２２
２、２３２を作製するには、透明導電膜５０（または透
明電極部２２１、２３１）上に一旦被膜した金属導電膜
６０（または金属電極部２２２、２３２）を加熱し、金
属導電膜６０（または金属電極部２２２、２３２）中に
含まれるガラス成分を溶融して、金属導電膜６０（また
は金属電極部２２２、２３２）の形状を滑らかに整える
（すなわちアニーリング処理する）ことが望ましい。

【００６３】本実施の形態２はこの問題に対し、第一レ
ーザヘッド１０３０の第一レーザ光で金属電極部２２
２、２３２を形成した後に、第二レーザヘッド１０４０
の第二レーザ光で金属電極部２２２、２３２をアニーリ
ング処理する。その具体的な工程は以下の通りである。
図７（ａ）〜（ｃ）は、本実施の形態２における複数対
の表示電極２２、２３の製造工程を示すフロントパネル
ガラス２１の部分断面図である。なお形成する複数対の
表示電極２２、２３の形状は、実施の形態１と同様とす
る。

【００６４】まず、フロントパネルガラス２１の表面
に、印刷法などにより一定の形状の透明電極部２２１、
２３１を形成する。ここで、透明電極部２２１、２３１
を形成する材料には、銀材料よりも高温で蒸発気化する
もの、すなわち上記銀材料からなる金属導電膜６０をレ
ーザ加工する際に透明電極部２２１、２３１が蒸発気化
しないものを選択することが必要である。このような透
明電極部２２１、２３１の材料としては、具体的にはＳ
ｎＯ₂などが挙げられる。

【００６５】次に、透明電極部２２１、２３１を形成し
たフロントパネルガラス２１に、印刷法などにより銀材
料を塗布し、これを焼成して金属導電膜６０（厚さ約
０.１μｍ）を形成する。図７（ａ）はこのときフロン
トパネルガラス２１の全面に金属導電膜６０を形成する
例を示しているが、これより領域を限定して（例えば透
明電極部２２１、２３１上にのみ銀材料を被膜して）金
属導電膜６０を形成してもよい。

【００６６】続いてレーザ加工機１００を使用し、レー
ザ加工プロセスを設定する。ここでは第一レーザヘッド
１０３０からの第一レーザ光を金属電極部２２２、２３
２の形成に用いる。第一レーザヘッド１０３０に装着す
るアパーチャ（不図示）は対物レンズユニット１０５０
との組合せにより、例えばｙ方向幅が一対の表示電極２
２、２３の間隙３６とほぼ同様の５２０μｍ、ｘ方向幅
が３６０μｍ程度のレーザスポットをテーブル１０３に
載置したフロントパネルガラス２１上に形成するように
設定しておくとよい。さらに第一レーザ光の強度を調節
し、金属導電膜６０の下にある透明電極部２２１、２３
１に悪影響のない程度（すなわち透明電極部２２１、２
３１を蒸発気化しない程度）の強度、かつ金属導電膜６
０のレーザ加工が十分可能な強度に設定する。

【００６７】次に第二レーザ光の強度の設定を行う。こ
こで、第二レーザ光は金属電極部２２２、２３２のアニ
ーリング処理に用いるため、金属電極部２２２、２３２
中に含まれるガラス成分を溶融でき、かつ透明電極部２
２１、２３１に吸収されない強度（具体的には紫外線寄
りの可視光波長）の強度に設定する。さらに、レーザト
ーチ１０２の第一レーザヘッド１０３０（第二レーザヘ
ッド１０４０）の固定位置を調節し、フロントパネルガ
ラス２１上の金属導電膜６０に対するレーザスポットの
位置およびサイズを設定する。

【００６８】なお、ここでは第一レーザヘッド１０３０
（第二レーザヘッド１０４０）を並行して駆動するよう
にレーザ加工機１００を設定するが、このレーザ加工プ
ロセスに限定せず、例えば第一レーザヘッド１０３０に
よるレーザ加工プロセスを全て終えた後に、第二レーザ
ヘッド１０４０によるレーザ加工プロセスを逐次開始す
るようにしてもよい。

【００６９】第一レーザヘッド１０３０（第二レーザヘ
ッド１０４０）の位置合わせと各レーザ光の強度の設定
を終えたら、金属電極部２２２、２３２と図示しない引
き出し電極部以外の金属導電膜６０を蒸発気化するよう
にレーザ加工プロセスを開始する。これにより、図７
（ｂ）に示すように幅が約５０μｍの金属電極部２２
２、２３２が形成される。

【００７０】しかしながらここにおいて、この時点で
は、金属電極部２２２、２３２の形状は図８（ａ）のフ
ロントパネルガラス２１断面図に示すように、凹凸の多
い歪な形状になっている。これは銀材料の性質によるも
のであるが、このままでは前述のように誘電体層２４を
形成する際に気泡が多く入り込み、ＰＤＰの性能を低下
させる原因となる。

【００７１】そこで本実施の形態２の特徴として、第一
レーザ光で一旦形成した図８（ａ）の状態の金属電極部
２２２、２３２に第二レーザヘッド１０４０からの第二
レーザ光を用い、アニーリング処理する（図７
（ｃ））。これにより、金属電極部２２２、２３２中の
ガラス成分が溶融し、図８（ａ）に示すように金属電極
部２２２、２３２の表面が滑らかに改善される。

【００７２】このような本実施の形態によれば、レーザ
加工プロセスにより迅速に金属電極部２２２、２３２を
作製することが可能となる。またさらに金属電極部２２
２、２３２の形成とアニーリング処理を並行して行うこ
とにより、金属導電膜６０に銀材料のような凹凸が生じ
やすい材料を用いる場合でも、優れた品質のＰＤＰを歩
留まり良く製造することができるといった効果がある。

【００７３】具体的には、４２インチのＸＧＡパネルの
ＰＤＰで従来は２４個程度、誘電体層２４中に確認出来
た直径１０μｍ程度の気泡が、本実施の形態のＰＤＰで
は１個程度にまで低減される。これにより、ＰＤＰの絶
縁破壊に対する耐圧も従来の８００Ｖ程度から２ｋＶ程
度にまで向上されることとなる。なお、第一レーザヘッ
ド１０３０による第一レーザ光の照射で金属導電膜６０
だけを蒸発気化するためのアイデアとして、例えばレー
ザ強度を可視光線の波長に合わせてもよい。

【００７４】また、本実施の形態２のバリエーションと
して、金属電極部２２２、２３２をレーザ加工プロセス
により形成する前に、予め透明電極部２２１、２３１を
上記金属電極部２２２、２３２に関するレーザ加工プロ
セスとは別のレーザ加工プロセスにより形成してもよ
い。この場合、実施の形態１と同様に透明導電膜５０を
加工してなるアライメントマーク２１２を形成してお
き、このアライメントマーク２１２を利用すると金属電
極部２２２、２３２を正確な位置に形成し、アニーリン
グ処理することができる。このとき金属導電膜６０は、
前記アライメントマーク２１２上に被膜しないように適
宜マスクすることが必要である。

【００７５】また本実施の形態２では、金属電極部２２
２、２３２をレーザ加工プロセスで形成する際にアニー
リング処理を並行して行う例を示したが、透明電極部２
２１、２３１を形成する際に当該透明電極部２２１、２
３１のアニーリング処理を並行して行ってもよい。すな
わち、第一レーザ光で透明電極部２２１、２３１をパタ
ーニングしながら、第二レーザ光を透明電極部２２１、
２３１（または透明導電膜５０）のアニーリング処理時
に用いてもよい。この場合、例えば透明電極部２２１、
２３１（または透明導電膜５０）中のＳｎＯ₂の結晶粒
径が約４倍程に成長するため、金属電極部２２２、２３
２（または金属導電膜６０）との附着性が向上するとい
った効果が得られる。

【００７６】具体的には、例えばこのアニーリング処理
により透明電極部２２１、２３１の作製における耐圧不
良に関する歩留まりが従来の約８０％から約９６％程度
にまで向上する。なお、このとき第二レーザ光の強度
は、透明電極部２２１、２３１の有する透明性等の理由
から、金属電極部２２２、２３２のアニーリング処理よ
り約３０％ほど高めの強度とするのが望ましい。

【００７７】＜その他の実施の形態のバリエーション＞
次に、前述した２つの実施の形態以外の本発明の適用例
をいくつか説明する。 （バリエーション１）図９は、本バリエーションのＰＤ
Ｐの製造方法に基づき、作製されつつある透明電極部２
２１、２３１等の様子を示すフロントパネルガラス２１
の正面図である。当図のように本バリエーション１で
は、レーザ加工プロセスで透明電極部２２１、２３１を
形成した後にそのライン抵抗値を調べ、当該ライン抵抗
値に基づいて任意の透明電極部２２１、２３１に改質処
理を施し、そのライン抵抗値を補正することを特徴とす
る。

【００７８】具体的には、フロントパネルガラス２１の
表面に被膜した透明導電膜５０を第一レーザ光で加工し
て透明電極部２２１、２３１を形成する（なお図９では
形成する透明電極部２２１、２３１の形状を分かり易い
ように直線状としている）。ここでは一対の表示電極２
２、２３の間隙３６と、隣接する二対の表示電極２２、
２３の間隙３７を第一レーザ光のみで形成するが、隣接
する二対の表示電極２２、２３の間隙３７形成する際は
第一レーザ光をｘ方向へ数ストローク分連続して走査す
ることにより形成する。

【００７９】そして、形成された透明電極部２２１、２
３１のｘ方向両端部にプローブ３０１ａ、３０１ｂを接
触させ、当該プローブ３０１ａ、３０１ｂに接続された
公知のライン抵抗測定器（不図示）により透明電極部２
２１、２３１のライン抵抗値を測定する。プローブ３０
１ａ、３０１ｂはレーザトーチガイド１０１側に固定し
ておき、ライン抵抗測定器は予めレーザ加工機１００の
制御部（例えばＰＣ（パーソナルコンピュータ）型入力
端末機）と接続しておく。また入力端末機（不図示）の
記憶部にも比較のための標準値を予め格納しておき、こ
の入力端末機において、ライン抵抗測定器より得られる
透明電極部２２１、２３１のライン抵抗値を前記標準値
と逐次比較する。そして当該比較により算出された、任
意の透明電極部２２１、２３１のライン抵抗値のずれを
補修するため、入力端末機に前記ずれの度合いから適切
な第二レーザ光の強度を設定させ、対象とする透明電極
部２２１、２３１に第二レーザ光を照射させる。これに
よりレーザ照射された透明電極部２２１、２３１は改質
処理されてライン抵抗値が補正され、駆動時に均一な表
示性能を呈するＰＤＰを製造することが可能となる。

【００８０】すなわち本バリエーション１では、第一レ
ーザ光による各透明電極部２２１、２３１の形成と、当
該形成した各透明電極部２２１、２３１についてのライ
ン抵抗の測定と、当該抵抗測定により得られた測定値に
基づく第二レーザ光による各透明電極部２２１、２３１
抵抗値の補正が並行して行われることとなる。このバリ
エーション１によれば、具体的には、例えば従来におい
て形成直後の各透明電極部２２１、２３１のライン抵抗
値の平均値が約１.０ｋΩで、そのばらつき度σが約１
７％であったのが、当該ライン抵抗値の補正によりライ
ン抵抗値の平均値が約０.５ｋΩで、そのばらつき度σ
が約７％にまで改善される。

【００８１】（バリエーション２）図１０は、本バリエ
ーション２のＰＤＰの製造方法に基づき、作製されつつ
ある透明電極部２２１、２３１等の様子を示すフロント
パネルガラス２１の正面図である。前述のバリエーショ
ン１では透明電極部２２１、２３１を形成しつつ、形成
した透明電極部２２１、２３１のライン抵抗値を調整す
る例を示したが、本バリエーション２では形成した透明
電極部２２１、２３１の細部の形状をＣＣＤカメラで調
べ、問題のある箇所を補修（リペアリング）することを
特徴とするものである。

【００８２】具体的には図１０のフロントパネルガラス
２１の正面図に示すように、透明電極部２２１、２３１
を形成した後にその形状をレーザトーチガイド１０１側
に固定したＣＣＤカメラ７０で撮像し、得られた透明電
極部２２１、２３１の画像をレーザ加工機１００の制御
部に接続したＰＣ型入力端末機に取り込んで公知のＰＭ
（パターンマッチング）処理を行う。そして、ＰＭ処理
により検出された透明電極部２２１、２３１の形状に問
題のある箇所（例えば好ましくない微細な凹凸部分な
ど）を第二レーザヘッド光の照射によりリペアする。

【００８３】このようなバリエーション２によれば、Ｐ
ＤＰの製造工程にかかる時間および工程数を削減するこ
とができ、しかも形状にばらつきを抑えた均一な品質の
透明電極部２２１、２３１を有するＰＤＰを作製するこ
とが可能となる。 （バリエーション３）図１１は、本バリエーション３の
ＰＤＰの製造方法に基づき、作製されつつある透明電極
部２２１、２３１等の様子を示すフロントパネルガラス
２１の正面図である。本バリエーション３は基本的には
バリエーション１と同様に、レーザ加工プロセスで透明
電極部２２１、２３１を形成した後にそのライン抵抗値
を調べ、当該ライン抵抗値に基づいて任意の透明電極部
２２１、２３１に改質処理を施してライン抵抗値を補正
するものであるが、この一連の工程において、フロント
パネルガラス２１の表面に部分的にマスク３００が被覆
されていることを特徴とする。

【００８４】すなわち、本バリエーション３は、スパッ
タリング法などにより透明導電膜６０をフロントパネル
ガラス２１上に被膜する場合、当該透明導電膜６０をフ
ロントパネルガラス２１上に被膜しても後に除去するこ
とが分かっているフロントパネルガラス２１上の領域に
は、前記スパッタリング法の実施前に予めマスク３００
を設けておくことで、透明導電膜５０の被膜面積を合理
的に減らすものである。これにより、レーザ加工プロセ
スが簡単化され、前記加工にかかる時間も短縮されて歩
留まりも改善されるといった効果が期待できる。

【００８５】なお透明導電膜残留部２５０は、アライメ
ントマーク２１２を形成するために透明導電膜５０を形
成する部分であり、当該アライメントマーク２１２を形
成する必要のない場合には、透明導電膜残留部２５０の
部分もマスク３００を施してもよい。このようなマスク
３００の仕様は、実施の形態１および２、バリエーショ
ン１および２などにも適用してもよい。

【００８６】また、この他のバリエーションとして、第
一レーザ光を照射することにより透明電極部２２１、２
３１または金属電極部２２２、２３２を形成し、第二レ
ーザ光を前記形成した透明電極部２２１、２３１または
金属電極部２２２、２３２に照射し、反射した第二レー
ザ光を公知のレーザ顕微鏡で捉えて透明電極部２２１、
２３１または金属電極部２２２、２３２の形状を検査す
るようにしてもよい。

【００８７】＜レーザ加工プロセスで形成する透明電極
部の断面形状について＞図１２（ａ）は、一例として前
記バリエーション１のＰＤＰの製造方法に基づき作製し
た各透明電極部２２１、２３１の形状を示すフロントパ
ネルガラス２１のパネル断面方向（ｚ方向）断面図であ
る。すなわち図１２（ａ）では、透明電極部２２１、２
３１はその幅方向の端部８０ａ、８０ｂにおいて、中央
部分よりも丸く盛り上がった形状をなしている。より詳
細には、前記端部８０ａ、８０ｂは鋭い角度の角部が加
工され、なめらかな形状となっている。このような形状
は透明電極材料にＩＴＯを用いると形成できることが分
かっている。

【００８８】なお、ここで「丸い形状」とは、真球形状
だけを指すものではなく、鋭角（９０°以下の角度）と
異なり鈍角（９０°を超える角度）を有する形状を含ん
だ概念を指すものとする。次に、図１２（ｂ）に示す形
状は、端部８１ａ、８１ｂにおいて、図中ｚ方向上部
（ＰＤＰとしてはバックパネル２６側）で丸く盛り上が
った、鋭い角度の角部がないなめらかな形状となってい
る。このような形状は、透明電極材料にＳｎＯ₂を用い
ると形成できることが分かっている。

【００８９】更に、図１２（ｃ）に示す形状は、端部８
２ａ、８２ｂがフロントパネルガラス２１のｘｙ平面よ
り図中ｚ方向上部（ＰＤＰとしてはバックパネル２６
側）に向かって垂直に立ち上がり、その上部で丸く盛り
上がった、鋭い角度の角部がないなめらかな形状でとな
っている。このような図１２（ｃ）の端部８２ａ、８２
ｂの形状は、上記図１２（ａ）（ｂ）の形状をさらに加
工して得られるものである。これらの形状への加工の仕
方については後で述べる。

【００９０】このように、透明電極部２２１、２３１に
図１２の（ａ）〜（ｃ）のいずれかの端部８０ａ〜８２
ａ、８０ｂ〜８２ｂを形成することによって、次によう
な効果が得られる。すなわち一般に、面放電のための電
界は放電空間３８に臨んだ複数対の表示電極２２、２３
の形状において角状の部分に集中しやすいため、面放電
時にはその複数対の表示電極２２、２３の角状の部分付
近で電界が局所的に大きくなり、異常放電が発生しやす
くなる。

【００９１】これに対し、上記のように透明電極部２２
１、２３１に端部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２ｂ等を
設け、放電空間３８に臨む各表示電極２２、２３の形状
から角状の部分をなくすことにより、放電空間３８で発
生する電界が角状の部分前記角状の部分を中心に局所的
に過剰となるのが抑制される。従って、異常な放電の発
生や、誘電体層２４中で絶縁破壊が発生するのが防止さ
れることとなる。

【００９２】また、端部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２
ｂは透明電極部２２１、２３１の幅方向中央部分と比べ
て高く盛り上がっている（すなわち、端部８０ａ〜８２
ａ、８０ｂ〜８２ｂを覆う誘電体層２４の厚みが薄くな
っている）ため、面放電における放電開始時または維持
放電時の電圧を低減させることが可能となる。具体的に
端部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２ｂによる効果は、端
部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２ｂの前記丸み部分の半
径が、透明電極部２２１、２３１の平均的な厚みが０.
１〜０.１３μｍ程度の場合に、０.０５〜０.１μｍ程
度とすると顕著なものとなることが分かっている。

【００９３】上述のように、端部８０ａ、８１ａ、８０
ｂ、８１ｂなどを有する透明電極部２２１、２３１は、
例えばフロントパネルガラス２１上に被膜した透明導電
膜５０をレーザ加工プロセスすることにより形成でき
る。つまりレーザ光が照射される領域の透明導電膜５０
は、高温に熱されて蒸発気化するが、蒸発気化する周辺
の透明導電膜５０は上記高温によって溶融し、表面張力
の作用により丸く盛り上がることとなる。したがってレ
ーザ光の強度を適宜調節する（具体的には、透明導電膜
５０を蒸発気化するよりも若干強めの強度に設定する）
ことでこのレーザ加工プロセスの実施が可能となる。

【００９４】ここで図１２（ｃ）の端部８２ａ、８２ｂ
は、図１３に示す方法によって形成することが可能であ
る。図１３では、一例として図１２（ａ）で形成した端
部８０ａ、８０ｂを元に端部８２ａ、８２ｂを形成する
方法である。具体的には、端部８０ａ、８０ｂを有する
透明電極部２２１、２３１をレーザ加工プロセスにより
形成したフロントパネルガラス２１上に、フォトレジス
ト７０を被膜する（図１３（ａ））。

【００９５】続いて一定のパターン（ここでは一対の表
示電極の間隙と隣接する二対の表示電極の間隙以外をマ
スクするパターン）のマスク８０を前記フロントパネル
ガラス２１上に載置し、露光した後、アルカリ溶液でマ
スクされなかった部分のフォトレジスト７０を処理する
（図１３（ｂ））。次に、アルカリ溶液で処理されたフ
ォトレジスト７０以外を洗い出し、全てのフォトレジス
ト７０をフロントパネルガラス２１上から除去する（図
１３（ｃ））。

【００９６】これにより、図１２（ｃ）に示す端部８２
ａ、８２ｂを有する透明電極部２２１、２３１を形成す
ることができる。図１２（ｃ）の端部８２ａ、８２ｂは
そのエッジ部分がシャープに仕上がるため、特に精密な
形状に透明電極部２２１、２３１を形成する場合（セル
サイズが小さい場合）などに有効である。なお、強度の
異なる第一レーザ光と第二レーザ光（例えば第一レーザ
光に対して第二レーザ光が若干弱い強度にしておく）を
組み合わせたレーザ加工プロセスより、上記各端部８０
ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２ｂ以外の端部を作製してもよ
い。これには例えば各透明電極部２２１、２３１を第一
レーザ光で基本的に作製しておき、後に第二レーザ光を
各透明電極部２２１、２３１に部分的に照射して形成す
るようにしてもよい。

【００９７】また、端部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８２
ｂ等は全ての透明電極部２２１、２３１の両端に設ける
必要はなく、少なくとも一対の表示電極２２、２３の間
隙においてのみ端部８０ａ〜８２ａを設けるようにすれ
ばよい。＜その他の事項＞実施の形態ではＹＡＧレーザ
（波長１.０６μｍ）を使用する例を示したが、これ以
外にもエキシマレーザ、ガスレーザなど各種レーザを用
いてもよい。またレーザの波長も１.０６μｍに限定せ
ず、０.５３μｍ、０.２５μｍなど適宜、他の波長に設
定してもよい。

【００９８】また、実施の形態１において、レーザ加工
プロセスにより透明電極部２２１、２３１を形成する説
明のところで、透明導電膜５０の作製方法としてＣＶＤ
法等を用いる例を示したが、この他にもスパッタリング
法や印刷法などを適宜使用してもよい。これらのことは
金属電極部２２２、２３２を形成する場合にも同様であ
る。

【００９９】さらに、透明導電膜５０の材料としてＳｎ
Ｏ₂─ＳｂＯ₃系透明導電材料の他に、ＳｎＯ₂─Ｆ系、
ＩｎＧａＺｎＯ₄系、Ｃｄ₂ＳｎＯ₄系、Ｉｎ₂Ｏ₃─Ｓｎ
Ｏ₃系、ＧａＩｎＯ₃系、ＺｎＯ─ＧｅＯ系、その他一般
に知られている透明導電材料のいずれを用いてもよい。
また、金属導電膜６０の材料としても銀材料やＣｒ─Ｃ
ｕ─Ｃｒ材料などを用いる例を示したが、これ以外の金
属導電材料を用いてもよい。但し実施の形態２は主に、
銀材料を金属電極部２２２、２３２に使用する場合に効
果が高いと思われる。

【０１００】また、各実施の形態およびバリエーション
では、一対の表示電極２２、２３が透明電極部２２１、
２３１と金属電極部２２２、２３２からなるものとした
が、フロントパネルガラス２１の全面に直接金属導電膜
６０をスパッタリング法などで被膜し、これをレーザ加
工プロセスにかけて金属電極部２２２、２３２を形成
し、当該金属電極部２２２、２３２だけで一対の表示電
極（すなわち透明電極部２２１、２３１を持たない一対
の表示電極）を構成してもよい。

【０１０１】また実施の形態１で、フロントパネルガラ
ス２１に透明導電膜５０を被膜した後、透明電極部２２
１、２３１を形成し、続いて金属電極部２２２、２３２
を形成する例を示したが、透明導電膜５０と金属導電膜
６０を順次フロントパネルガラス２１上に被膜し、フォ
トリソグラフィー法などにより金属電極部２２２、２３
２を形成した後にレーザ加工プロセスにより透明電極部
２２１、２３１を形成してもよい。

【０１０２】さらに、各実施の形態で凸部を有する複数
対の表示電極２２、２３を形成する例を示し、実施の形
態のバリエーションで直線状の複数対の表示電極２２、
２３を形成する例を示したが、上記凸部は、例えば複数
の楕円状のレーザスポットを、その長軸方向のスポット
部分が若干重なるようにしながらパルスレーザ走査する
ことにより、透明電極部２２１、２３１をレーザ加工し
ても形成することができる。また、表示電極の形状は凸
部を備える形状に限定するものではなく、適宜セルサイ
ズ等に合わせた形状に変えてもよい。このように複数対
の表示電極２２、２３の形状を変える場合には、具体的
にはレーザヘッドのアパーチャの形状を変えるとよい。

【０１０３】ここで、実施の形態で使用したアパーチャ
１０３１、１０４１の形状を変更することにより、レー
ザスポットの形状を変える場合、アパーチャを長方形状
のレーザスポットが得られるように設定すると、複数の
レーザスポットをｘｙ方向に連結することで比較的幅広
いレーザ加工が行えるようになると考えられる。また、
透明導電膜５０のレーザ加工プロセスでフロントパネル
ガラス２１の長手方向上下に十字型の反転型アライメン
トマーク２１２を形成する例を示したが、当然ながらア
ライメントマークの形状と形成位置は実施の形態で説明
した内容に限定するものではなく、適宜変更してもよ
い。さらにアライメントマークはフロントパネルガラス
２１とバックパネルガラスのアライメント、透明電極部
２２１、２３１と金属電極部２２２、２３２のアライメ
ントのいずれに使用してもよい。

【０１０４】また、透明導電膜５０をフロントパネルガ
ラス２１の全面に被膜し、これにレーザ加工プロセスを
利用して複数対の透明電極部２２１、２３１等を形成す
る例を示したが、例えば引き出し電極部形成領域など、
透明導電膜５０を被膜する必要のない領域に予めマスキ
ングを施しておき、しかる後にＣＶＤ法またはスパッタ
リング法などの各種方法に基づいて透明導電膜５０を形
成するようにしてもよい。

【０１０５】また、透明電極部２２１、２３１をレーザ
加工プロセスにより形成し、金属電極部２２２、２３２
をフォトリソグラフィー法で形成する例と、透明電極部
２２１、２３１を印刷法により形成し、金属電極部２２
２、２３２をレーザ加工プロセスにより形成する例を主
に説明したが、本発明はこれらの製造方法に限定せず、
透明電極部２２１、２３１と金属電極部２２２、２３２
の少なくとも一方をレーザ加工プロセスにより形成すれ
ばよい。但し、金属材料のみで複数対の表示電極２２、
２３を形成する場合にはレーザ加工プロセスを行う必要
がある。

【０１０６】さらに実施の形態では、レーザトーチ１０
２に第一レーザヘッド１０３０、第二レーザヘッド１０
４０を備え、各レーザヘッド１０３０、１０４０により
同時または逐次レーザ加工プロセスを実行する例を示し
たが、可能な範囲でレーザ加工プロセスの順序（一対の
表示電極の間隙の作製と、隣接する二対の表示電極の間
隙の作製など）は適宜変えてもよい。

【０１０７】さらに実施の形態において、レーザ加工プ
ロセスにかかる各種数値（レーザスポットのサイズやｘ
ｙ方向への移動距離）などの具体例を示したが、当然な
がら本発明はこれに限定するものではなく、製造するＰ
ＤＰのサイズ等に合わせて適宜変更してもよい。さら
に、レーザ加工プロセスにおいて、隣接するレーザスポ
ットが多少重なるようにしてもよい。これにより、１ス
トロークのレーザ加工が途切れることなく行えるように
なる。ただしこの場合、レーザスポットの重なり部分の
サイズを考慮して、アパーチャまたはレーザスポットの
形状を設定する必要がある。

【０１０８】また、各実施の形態で２つのレーザヘッド
１０３０、１０４０からの２つのレーザ光を並行してレ
ーザ加工プロセスを行う例を示したが、各レーザ光を発
光するレーザヘッドは１個でも３個以上でもよい。レー
ザヘッドを１個だけ使用する場合は、複数のアパーチャ
を適時切り替えて使えるようにするとよい。さらに複数
のレーザヘッドを使用する場合は、実施の形態に示した
ように、レーザスポットの形状、レーザスポットのサイ
ズ、レーザの強度などの各条件のいずれかの性質の異な
る複数のレーザ光を発光するように設定すると、複数対
の表示電極２２、２３の形成と、ライン抵抗値の補正や
細部形状の補修などの様々な複数対の表示電極２２、２
３のリペアリングがより迅速に行えるので望ましい。

【０１０９】

【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
はフロントパネルガラスの面に、長手方向を平行にして
並設した複数対の表示電極を形成する表示電極形成ステ
ップと、複数対の表示電極を形成したフロントパネルガ
ラスの面を、バックパネルガラスの面に合わせて接着す
るプレート接着ステップとを備えるＰＤＰの製造方法と
して、表示電極形成ステップにおいて、フロントパネル
ガラスの面に表示電極材料を被覆し、当該表示電極材料
を部分的にレーザ加工し、前記複数対の表示電極を形成
するので、レーザ加工プロセスを複数対の表示電極２
２、２３の作製方法に取り入れることにより、従来に比
べて格段に製造工程にかかる時間と手間を省くことが可
能となる。

【０１１０】また、レーザ加工プロセスに複数のレーザ
ヘッドを備えるレーザ加工機１００を使用すれば、複数
対の表示電極２２、２３を形成しつつ、表示電極のアニ
ーリング処理、抵抗値調整処理、形状補修処理などを同
時または逐次的に行うことが可能となり、より迅速で合
理的なＰＤＰの製造方法を行うことができる。また本発
明は、透明電極部と金属電極部を電気的に接触させてな
る一対の表示電極を、長手方向を平行にして複数対並設
したフロントパネルガラスの面を、バックパネルガラス
の面に合わせて接着した構成のＰＤＰにおいて、フロン
トパネルガラスの面に、レーザ加工により形成した透明
電極部と金属電極部の位置合わせ用、または透明電極部
と金属電極部の位置合わせ用のアライメントマークを設
けたＰＤＰとした。

【０１１１】これによりフロントパネルガラス側とバッ
クパネルガラス側、または透明電極部と金属電極部が精
度良く組み合わされ、設計上の本来の性能を十分に発揮
することが可能なＰＤＰとすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１における交流面放電型ＰＤＰの部
分的な断面斜視図である。

【図２】実施の形態１における複数対の表示電極の形状
パターンを示す平面図である。

【図３】実施の形態１における一対の表示電極の製造工
程を示すフロントパネルガラス２１の部分断面図であ
る。（ａ）は、透明導電膜５０をフロントパネルガラス
２１上に被膜した様子を示す図である。（ｂ）は、引き
出し電極部形成領域２１０を設けるためにフロントパネ
ルガラス２１のｘ方向両端部の透明導電膜５０を除去し
た様子を示す図である。（ｃ）は、レーザ加工プロセス
により透明電極部２２１、２３１を形成した様子を示す
図である。（ｄ）は、金属導電膜６０を被膜した様子を
示す図である。（ｅ）は、エッチング（ウエットプロセ
スのフォトリソグラフィー法）にて金属電極部２２２、
２３２を形成した様子を示す図である。

【図４】ガントリー式レーザ加工機１００の各部を示す
外観図である。（ａ）は、ガントリー式レーザ加工機１
００の全体外観斜視図である。（ｂ）は、レーザトーチ
１０２の拡大正面図である。（ｃ）は、各アパーチャ１
０３１、１０４１の形状を示す正面図である。

【図５】実施の形態１の透明電極部２２１、２３１等の
作製にかかるレーザ加工プロセスを示す図である。
（ａ）は、第一レーザ光と第二レーザ光による透明電極
部２２１、２３１の形成過程を示すフロントパネルガラ
ス２１の部分斜視図である。（ｂ）は、一対の透明電極
部２２１、２３１の間隙の形成過程を示すフロントパネ
ルガラス２１の部分正面図である。

【図６】実施の形態１のレーザ加工機１００のレーザ加
工プロセスにかかるレーザワークの設定内容を示す図で
ある。（ａ）は、レーザ加工プロセスによって完成する
透明電極部２２１、２３１等の完成図である。（ｂ）
は、レーザ加工プロセスにかかる一連のレーザワークの
動作を示した図である。

【図７】実施の形態２にかかる複数対の表示電極の製造
工程を示すフロントパネルガラス２１の部分断面図であ
る。（ａ）は、金属導電膜６０をフロントパネルガラス
２１上に被膜した様子を示す図である。（ｂ）は、レー
ザ加工プロセスにより不要な金属導電膜６０を除去した
様子を示す図である。（ｃ）は、レーザ加工プロセスに
より金属電極部２２２、２３２をアニーリング処理した
様子を示す図である。

【図８】実施の形態２にかかる金属電極部２３２のレー
ザ加工プロセスの様子を示す図である。（ａ）は、アニ
ーリング処理前の金属電極部２３２の様子を示すフロン
トパネルガラス２１の部分断面図である。（ｂ）は、ア
ニーリング処理後の金属電極部２３２の様子を示すフロ
ントパネルガラス２１の部分断面図である。

【図９】実施の形態のバリエーション１におけるレーザ
加工プロセス（透明電極部２２１、２３１の作製とその
抵抗値の調整処理）の様子を示すフロントパネルガラス
２１の正面図である。

【図１０】実施の形態のバリエーション２におけるレー
ザ加工プロセス（透明電極部２２１、２３１の作製とそ
の細部の補修処理）の様子を示すフロントパネルガラス
２１の正面図である。

【図１１】実施の形態のバリエーション３におけるレー
ザ加工プロセス（フロントパネルガラス２１にマスク３
００を着けた状態での透明電極部２２１、２３１の作製
とその抵抗値調整処理）の様子を示すフロントパネルガ
ラス２１の正面図である。

【図１２】実施の形態バリエーション１における透明電
極部２２１、２３１の端部８０ａ〜８２ａ、８０ｂ〜８
２ｂの形状を示すフロントパネルガラス２１の断面図で
ある。（ａ）は、端部８０ａ、８０ｂの断面形状を示す
フロントパネルガラス２１の部分断面図である。（ｂ）
は、端部８１ａ、８１ｂの断面形状を示すフロントパネ
ルガラス２１の部分断面図である。（ｃ）は、端部８２
ａ、８２ｂの断面形状を示すフロントパネルガラス２１
の部分断面図である。

【図１３】端部８２ａ、８２ｂの製造工程を示すフロン
トパネルガラス２１の部分断面図である。（ａ）は、フ
ォトレジスト７０を被膜した様子を示すフロントパネル
ガラス２１の部分断面図である。（ｂ）は、フォトレジ
スト７０を露光し、アルカリ溶液処理した様子を示すフ
ロントパネルガラス２１の部分断面図である。（ｃ）
は、形成された端部８２ａ、８２ｂの断面形状を示すフ
ロントパネルガラス２１の部分断面図である。

【符号の説明】

１１〜１４ セル ２０ フロントパネル ２１ フロントパネルガラス ２２、２３ 表示電極（Ｘ電極２２、Ｙ電極２３） ２４ 誘電体層 ２８ アドレス電極 ３５ 対向する凸部の間隙 ３６ 一対の表示電極の最大間隙 ３７ 隣接する二対の表示電極の間隙 ３８ 放電空間 ５０ 透明導電膜 ６０ 金属導電膜 １００ レーザ加工機 １０２ レーザトーチ １０３ テーブル ２１０ 引き出し電極部形成領域 ２１１、２５０ 透明導電膜残留部 ２１２ アライメントマーク ２２０、２３０ 凸部 ２２１、２３１ 透明電極部 ２２２、２３２ 金属電極部 ３００ マスク １０３０ 第一レーザヘッド １０３１、１０４１ アパーチャ １０４０ 第二レーザヘッド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 特願平10−118332 (32)優先日 平成10年４月28日(1998．4．28) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平10−118342 (32)優先日 平成10年４月28日(1998．4．28) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平10−280813 (32)優先日 平成10年10月２日(1998．10．2) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (31)優先権主張番号 特願平11−108420 (32)優先日 平成11年４月15日(1999．4．15) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） (72)発明者 日比野 純一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 高田 祐助 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 長尾 宣明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 勇 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤原 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 船見 浩司 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 岡田 敏幸 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C027 AA01 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC19 JA11 MA26

Claims (32)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】第一プレートの主面に、長手方向を平行に
   して並設した複数対の表示電極を形成する表示電極形成
   ステップと、複数対の表示電極を形成した第一プレート
   の主面を、第二プレートの主面に合わせて接着するプレ
   ート接着ステップとを備えるプラズマディスプレイパネ
   ルの製造方法であって、 表示電極形成ステップにおいて、第一プレートの主面に
   表示電極材料を被覆し、当該表示電極材料を部分的にレ
   ーザ加工し、前記複数対の表示電極を形成することを特
   徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
2. 【請求項２】前記表示電極形成ステップにおいて、第一
   プレートの主面に透明電極部材料を被覆し、当該透明電
   極部材料をレーザ加工して透明電極部とした後、当該透
   明電極部に電気的に接触するように、金属電極部材料を
   第一プレートの主面に被覆することにより金属電極部を
   形成し、前記複数対の表示電極を形成することを特徴と
   する請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製
   造方法。
3. 【請求項３】前記表示電極形成ステップにおいて、第一
   プレートの主面に透明電極部材料を被覆し、当該透明電
   極部材料をレーザ加工して透明電極部とアライメントマ
   ークを形成した後、当該アライメントマークを用いて透
   明電極部に合わせて金属電極部材料を第一プレートの主
   面に被覆することにより、金属電極部を形成し、前記複
   数対の表示電極を形成することを特徴とする請求項２に
   記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
4. 【請求項４】前記表示電極形成ステップにおいて、第一
   プレートの主面に透明電極部材料を被覆し、当該被覆し
   た透明電極部材料上に金属電極部材料を被覆することに
   より金属電極部を形成した後、透明電極部材料をレーザ
   加工して透明電極部を形成することにより前記複数対の
   表示電極を形成することを特徴とする請求項１に記載の
   プラズマディスプレイパネルの製造方法。
5. 【請求項５】前記表示電極形成ステップにおいて、第一
   プレートの主面に透明電極部材料と金属電極部材料を順
   次被覆し、被覆した金属電極部材料と透明電極部材料を
   順次レーザ加工して前記複数対の表示電極を形成するこ
   とを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイ
   パネルの製造方法。
6. 【請求項６】前記表示電極形成ステップにおいて、表示
   電極材料に金属材料を用い、第一プレートの主面に当該
   金属材料を被覆し、被覆した金属材料を部分的にレーザ
   加工することにより、前記複数対の表示電極を形成する
   ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレ
   イパネルの製造方法。
7. 【請求項７】前記表示電極形成ステップにおいて、前記
   表示電極材料に対するレーザ加工により第一プレートの
   主面に前記複数対の表示電極とともにアライメントマー
   クを形成し、 前記プレート接着ステップにおいて、前記アライメント
   マークを利用して第一のプレートの主面と第二のプレー
   トの主面とをアライメントして接着することを特徴とす
   る請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
   方法。
8. 【請求項８】前記表示電極形成ステップにおいて形成す
   るアライメントマークが、第一プレートの主面に被覆し
   た表示電極材料をレーザ加工して形成した反転マークで
   あることを特徴とする請求項７に記載のプラズマディス
   プレイパネルの製造方法。
9. 【請求項９】前記表示電極形成ステップにおいて形成す
   るアライメントマークが、十字型の反転マークであるこ
   とを特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレイ
   パネルの製造方法。
10. 【請求項１０】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一プレートの主面に表示電極材料を被覆し、当該表示電
    極材料をレーザ加工し、前記複数対の表示電極と、アラ
    イメントマークと、第一プレートの主面上の表示電極の
    長手方向両端部付近に複数の引き出し電極部形成領域と
    を形成し、 前記プレート接着ステップにおいて、前記アライメント
    マークを利用して第一のプレートの主面と第二のプレー
    トの主面とをアライメントして接着することを特徴とす
    る請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
    方法。
11. 【請求項１１】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一プレートの主面に透明電極材料を被覆し、複数対の透
    明電極部の形成部分を除く前記主面の外周部に被覆した
    透明電極材料をレーザ加工せずに残すことを特徴とする
    請求項２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
    法。
12. 【請求項１２】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一プレートの主面の面積よりも狭く、かつ表示電極の長
    手方向以上の長さを有する第一プレートの主面の領域に
    のみ表示電極材料を被覆し、当該被覆した表示電極材料
    を部分的にレーザ加工し、前記複数対の表示電極を形成
    することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディス
    プレイパネルの製造方法。
13. 【請求項１３】前記表示電極形成ステップにおいて、複
    数対の表示電極を形成する領域以外の第一プレートの主
    面をマスクし、表示電極材料を複数対の表示電極を形成
    する第一プレートの主面の領域のみに制限して被覆し、
    当該表示電極材料を部分的にレーザ加工し、前記複数対
    の表示電極を形成することを特徴とする請求項１２に記
    載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
14. 【請求項１４】前記表示電極形成ステップにおいて、複
    数対の表示電極とアライメントマークを形成する領域以
    外の第一プレートの主面をマスクし、表示電極材料を複
    数対の表示電極とアライメントマークを形成する第一プ
    レートの主面の領域のみに被覆し、当該表示電極材料を
    部分的にレーザ加工し、前記複数対の表示電極と前記ア
    ライメントマークを形成することを特徴とする請求項１
    ３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
15. 【請求項１５】第一プレートの主面に、長手方向を平行
    にして複数対並設した表示電極を形成する表示電極形成
    ステップと、複数対の表示電極を形成した第一プレート
    の主面を、複数のアドレス電極を平行に並設した第二プ
    レートの主面に合わせ、複数対の表示電極と複数のアド
    レス電極が交叉するように、第一プレートの主面と第二
    プレートの主面を接着するプレート接着ステップとを備
    えるプラズマディスプレパネルの製造方法であって、 表示電極形成ステップにおいて、表示電極材料を第一プ
    レートの主面に被覆し、第一のレーザ光と、第二のレー
    ザ光を表示電極材料に並行して照射することにより、部
    分的に表示電極材料を加工し、複数対の表示電極を形成
    することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製
    造方法。
16. 【請求項１６】前記表示電極形成ステップにおいて、表
    示電極材料を第一プレートの主面に被覆し、第一のスポ
    ット形状のレーザ光と、当該第一のスポット形状とは異
    なる第二のスポット形状のレーザ光を表示電極材料に照
    射することにより、複数対の表示電極を形成することを
    特徴とする請求項１５に記載のプラズマディスプレイパ
    ネルの製造方法。
17. 【請求項１７】前記表示電極形成ステップにおいて、表
    示電極材料を第一プレートの主面に被覆し、一対の表示
    電極と一本のアドレス電極が交叉する領域の個々に、一
    対の表示電極の形状パターン単位の領域サイズが一致す
    るように、複数対の表示電極を形成することを特徴とす
    る請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製
    造方法。
18. 【請求項１８】前記表示電極形成ステップにおいて、表
    示電極材料に照射する第一のスポット形状のレーザ光お
    よび第二のスポット形状のレーザ光は、互いにサイズの
    異なる長方形であることを特徴とする請求項１６に記載
    のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
19. 【請求項１９】前記表示電極形成ステップにおいて、表
    示電極材料に照射する第一のスポット形状のレーザ光で
    一対の表示電極の間隙を形成し、表示電極材料に照射す
    る第二のスポット形状のレーザ光で隣接する二対の表示
    電極の間隙を形成することを特徴とする請求項１５に記
    載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
20. 【請求項２０】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一の強度のレーザ光と、第一の強度とは異なる第二の強
    度のレーザ光を照射することにより、第一プレートの主
    面に被覆した表示電極材料を部分的に加工し、複数対の
    表示電極を形成することを特徴とする請求項１５に記載
    のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
21. 【請求項２１】第一プレートの主面に、一対の表示電極
    を、長手方向を平行にして複数対並設する表示電極形成
    ステップと、表示電極を形成した第一プレートの主面
    を、複数のアドレス電極と複数の隔壁を互いに平行に並
    設した第二プレートの主面に合わせて接着するプレート
    接着ステップとを備えるプラズマディスプレパネルの製
    造方法であって、 前記表示電極形成ステップにおいて、表示電極材料を第
    一プレートの主面に被覆し、当該被覆した表示電極材料
    に第一のレーザ光と、第二のレーザ光を並行して照射
    し、第一のレーザ光で表示電極材料を部分的に加工して
    複数対の表示電極を形成しつつ、形成した複数対の表示
    電極を第二のレーザ光で補修することを特徴とするプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法。
22. 【請求項２２】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一の強度のレーザ光で複数対の表示電極を形成し、第二
    の強度のレーザ光が前記複数対の表示電極を含む第一プ
    レートの主面の領域より反射したレーザ光をレーザ顕微
    鏡で捕捉して、各表示電極の形状を検査することを特徴
    とする請求項２１に記載のプラズマディスプレイパネル
    の製造方法。
23. 【請求項２３】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一のレーザ光で複数対の表示電極を形成し、第二のレー
    ザ光で前記形成した複数対の表示電極の形状を補修する
    ことを特徴とする請求項２１に記載のプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
24. 【請求項２４】前記表示電極形成ステップにおいて、第
    一プレートの主面に透明電極部を形成し、当該形成した
    透明電極部を含む第一のプレートの全面にわたって金属
    電極部材料を被覆したのち、当該金属電極部材料に第一
    のレーザ光を照射して金属電極部を形成し、前記第二の
    レーザ光を照射して金属電極部の抵抗値を調整すること
    を特徴とする請求項２１に記載のプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
25. 【請求項２５】一対の表示電極を、長手方向を平行にし
    て複数対並設した第一プレートの主面を、第二プレート
    の主面に合わせて接着した構成のプラズマディスプレイ
    パネルであって、 第一プレートの主面と第二プレートの主面の少なくとも
    いずれかに、レーザ加工により形成したパネル位置合わ
    せ用のアライメントマークを備えることを特徴とするプ
    ラズマディスプレイパネル。
26. 【請求項２６】透明電極部と金属電極部を電気的に接触
    させてなる一対の表示電極を、長手方向を平行にして複
    数対並設した第一プレートの主面を、第二プレートの主
    面に合わせて接着した構成のプラズマディスプレイパネ
    ルであって、 第一プレートの主面に、レーザ加工により形成した透明
    電極部と金属電極部の位置合わせ用のアライメントマー
    クを備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネ
    ル。
27. 【請求項２７】 透明電極部を備える表示電極が、長手
    方向に平行にして複数対並設された第一のプレートの主
    面を、第二のプレートの主面に合わせてなるプラズマデ
    ィスプレイパネルにおいて、一対の表示電極の間隙で対
    向する各透明電極部の幅方向端部の第二のプレートに向
    かう断面形状が、丸い形状であることを特徴とするプラ
    ズマディスプレイパネル。
28. 【請求項２８】 前記各透明電極部の幅方向端部の第二
    のプレートに向かう断面形状が、当該各透明電極部の幅
    方向中央部付近よりも、透明電極部の厚み方向に沿って
    盛り上がり、かつ丸い形状であることを特徴とする請求
    項２７に記載のプラズマディスプレイパネル。
29. 【請求項２９】 前記各透明電極部の幅方向端部の第二
    のプレートに向かう断面形状が、レーザ加工により丸い
    形状に形成されていることを特徴とする請求項２７に記
    載のプラズマディスプレイパネル。
30. 【請求項３０】 透明電極部を備える表示電極が、長手
    方向に平行にして複数対並設された第一のプレートの主
    面を、第二のプレートの主面に合わせてなるプラズマデ
    ィスプレイパネルにおいて、各透明電極部の幅方向両端
    部の第二のプレートに向かう断面形状が、丸い形状であ
    ることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
31. 【請求項３１】 前記各透明電極部の幅方向端部の第二
    のプレートに向かう断面形状が、当該各透明電極部の幅
    方向中央部付近よりも、透明電極部の厚み方向に沿って
    盛り上がり、かつ丸い形状であることを特徴とする請求
    項３０に記載のプラズマディスプレイパネル。
32. 【請求項３２】 各透明電極部の幅方向両端部の第二の
    プレートに向かう断面形状が、レーザ加工により丸い形
    状に形成されていることを特徴とする請求項３０に記載
    のプラズマディスプレイパネル。