KR100627282B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 레이저 식각 방법으로 투명전극 패턴을 형성할 때, 투명전극 패턴과 버스전극 형성용 얼라인먼트 마크의 관계를 상호 연관되게 하여, 투명전극 패턴과 버스전극 패턴을 정확히 정렬시키는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법은, 복수 쌍의 방전유지전극을 제1 기판의 내표면에 평행하게 형성하는 방전유지전극 형성단계; 상기 방전유지전극과 교차되는 어드레스전극과 격벽을 복수 쌍으로 제2 기판의 내표면에 상호 평행하게 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계; 상기 제1, 제2 기판의 내표면을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며, 상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버스전극을 형성하는 단계로 이루어지고, 상기 방전유지전극 형성단계는, 상기 제1 기판에 투명전극 물질막을 형성하는 단계; 상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 얼라인먼트 마크를 형성하는 단계; 상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 투명전극 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 투명전극 패턴 상에 버스전극 패턴을 상기 얼라인먼트 마크를 기준으로 정렬시키면서 형성하는 단계를 포함한다.

플라즈마 디스플레이, 투명전극 물질, 마스크, 얼라인먼트 마크

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 {PLASMA DISPLAY PANEL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME}

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부를 개략적으로 도시한 부분 분해 사시도이다.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 패턴을 레이저 식각(laser ablation)으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 단면도이다.

도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에서 제1 기판에 투명전극 패턴을 레이저 식각으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 평면도이다.

도 4는 도 3의 부분 상세도이다.

도 5는 레이저 식각으로 형성된 투명전극 패턴의 상세도이다.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 전면기판에 버스전극을 형성하기 위하여 구비되는 얼라인먼트 마크를 투명전극 패턴과 함께 형성하여 투명전극 패턴에 버스전극을 정확히 정렬시키는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(Plasm Display Panel; 이하 'PDP'라 한다)은 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT(Cathode Ray Tube)를 대체할 수 있는 장치로 각광을 받고 있다. 이 PDP는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이에서 가스 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.

구동방식에 따라 직류형과 구별되는 교류형 PDP는 전면기판의 내표면에는 방전유지전극에 해당하는 X 전극 및 Y 전극을 형성하고, 배면기판의 내표면에는 어드레스전극 및 격벽을 형성한다. 상기 X, Y 전극은 복수의 쌍으로 이루며, 상기 X 전극 및 Y 전극 사이에서는 PDP 작동 시에 유지 방전이 일어난다. 이 X 전극 및 Y 전극과 어드레스전극은 전면기판 및 배면기판의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되며, 전면기판과 배면기판이 상호 조립되었을 때 서로에 대하여 직각으로 교차하게 된다.

이 전면기판의 내표면에는 유전층과 보호막이 차례로 적층된다. 한편, 배면기판에는 유전층의 상부 표면에 격벽이 형성되며, 이 격벽에 의해 방전셀이 형성된다. 이 방전셀 내에는 네온(Ne) 및 제논(Xe) 같은 불활성 가스가 충전된다. 또한 각각의 방전셀을 형성하는 격벽의 내측에는 소정 부위에 형광체가 도포된다. 한편, X 전극 및 Y 전극은 면방전을 일으키는 투명전극과 이 투명전극에 전류를 공급하는 버스전극으로 구성된다.

이 PDP의 작동을 개략적으로 설명하면, 먼저 어드레스전극과 Y 전극에 각각어드레스전압과 스캔전압을 인가하면 그 사이에서 어드레스 방전이 일어나면서 방전셀 내에 벽전하가 형성된다. 다음으로 상기 Y 전극과 X 전극 사이에 방전유지전압을 인가하면 상기 벽전하에 의하여 형성되는 벽전압에 더하여지면서 방전개시전압을 넘어서면 상기 방전셀 내에서는 유지방전이 일어나게 된다. 이러한 유지 방전 상태에서는 방전광 중에서 자외선 영역의 광들이 형광체에 충돌하여 가시광선을 발광하게 되며, 그에 따라서 방전셀 별로 형성되는 각각의 화소는 화상을 구현한다.

이렇게 구현된 화상은 투명전극 및 버스전극이 구비된 전면기판을 통하여 전방으로 표시된다. 이 투명전극은 개구율을 높이기 위하여 전면기판에 투명전극 물질막, 즉 ITO(Indium Tin Oxide)막으로 형성되고, 버스전극은 금속 도전막으로 형성된다.

이 전면기판에 투명전극 패턴을 형성하는 데 포토 리소그래피(photo lithography) 방법 또는 레이저 식각(laser ablation) 방법이 적용된다.

먼저, 포토 리소그래피 방법은 전면기판에 스퍼터링(spattering)으로 투명전극 물질막을 형성한 후 이 투명전극 물질막을 원하는 형상의 투명전극을 가공하고, 이 투명전극 상에 금속 도전막을 형성한 후 이 금속 도전막을 원하는 형상의 버스전극으로 가공한다. 이 포토 리소그래피 방법은 포토 레지스트 도포, 패터닝, 및 에칭 공정을 반복적으로 수행하게 되어 공정수를 증가시키고 이로 인하여 공정시간을 증가시킨다.

레이저 식각 방법은 포토 리소그래피 방법에 비하여 공정수를 감소시키고 공정 시간을 줄이며 투명전극 물질막 제거 단부의 직진성을 향상시키는 이점을 가진다.

상기 포토 리소그래피 방법은 금속 도전막으로 버스전극을 형성하기 위하여 전면기판에 형성한 얼라인먼트 마크에 노광 마스크를 정렬시킨 후 투명전극 패턴을 형성하기 때문에 투명전극 패턴과 얼라인먼트 마크를 일정한 관계로 유지시킬 수 있고, 이로 인하여 투명전극 패턴과 금속 도전막에 의한 버스전극 패턴을 정렬시킬 수 있다.

그러나, 레이저 식각 방법은 금속 도전막으로 버스전극 배열용 얼라인먼트 마크와 관계없이 별도로 구비되는 레이저 헤드를 이동시켜 이 레이저 헤드의 레이저 패턴에 따라 조사되는 레이저를 투명전극 물질막에 작용시켜 투명전극 패턴을 형성하기 때문에, 얼라인먼트 마크와 투명전극 패턴간에 상호 연관 관계없이 형성되고 이러한 투명전극 패턴 형성 후 얼라인먼트 마크에 정렬시켜 버스전극을 형성하더라도 투명전극 패턴과 버스전극 패턴이 최종적으로 정확히 정렬되지 않는 경우를 발생시킬 수 있다.

본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로, 그 목적은 레이저 식각 방법으로 투명전극 패턴을 형성할 때, 투명전극 패턴과 버스전극 형성용 얼라인먼트 마크의 관계를 상호 연관되게 하여, 투명전극 패턴과 버스전극 패턴을 정확히 정렬시키는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하 는 데 있다.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법은,

복수 쌍의 방전유지전극을 제1 기판의 내표면에 평행하게 형성하는 방전유지전극 형성단계;

상기 방전유지전극과 교차되는 어드레스전극과 격벽을 복수 쌍으로 제2 기판의 내표면에 상호 평행하게 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계;

상기 제1, 제2 기판의 내표면을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며,

상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버스전극을 형성하는 단계로 이루어지고,

상기 방전유지전극 형성단계는,

상기 제1 기판에 투명전극 물질막을 형성하는 단계;

상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 얼라인먼트 마크를 형성하는 단계;

상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 투명전극 패턴을 형성하는 단계; 및

상기 투명전극 패턴 상에 버스전극 패턴을 상기 얼라인먼트 마크를 기준으로 정렬시키면서 형성하는 단계를 포함한다.

상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴을 제1 기판 상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하며, 첫 번째 스캔열과 마지막 스캔열에 각각 얼라인먼트 마크를 형성한다.

상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴을 제1 기판 상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하며, 하나의 스캔열 시작지점과 끝지점에서 각각 얼라인먼트 마크를 형성한다.

상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 제1 기판의 상단부 및 하단부 더미존의 투명전극 물질막에 투명전극 패턴의 식각부분과 동일 패턴으로 얼라인먼트 마크를 형성한다.

상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 제1 기판의 상단부 더미존의 양측과 하단부 더미존의 양측에 투명전극 패턴의 식각부분과 동일 패턴의 얼라인먼트 마크를 쌍으로 형성한다.

상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴을 제1 기판 상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하며, 한 열에 상응하는 투명전극 패턴의 1회 스캔(scan) 폭과 동일하게 형성한다.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 상기한 제조방법에 의하여 제조된다.

또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 투명전극 물질막으로 가공되는 투명전극과 이 투명전극 위의 금속 도전막으로 가공되는 버스전극으로 이루어지는 방전유지전극을 내표면에 복수로 형성하는 제1 기판과, 상기 방전유지전극과 교차하는 방향으로 형성되는 어드레스전극과 격벽을 복수 쌍으로 내표면에 구비 한 제2 기판을 합착하여 형성되며,

상기 제1 기판에 투명전극 물질막을 음각(陰刻)하여 형성된 얼라인먼트 마크를 구비한다.

상기 얼라인먼트 마크는 투명전극 물질막에 투명전극 패턴을 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 첫 번째 스캔열과 마지막 스캔열에 각각 형성된다.

상기 얼라인먼트 마크는 투명전극 물질막에 투명전극 패턴을 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 하나의 스캔열의 시작지점과 끝지점에 각각 형성된다.

상기 얼라인먼트 마크는 제1 기판의 상단부 더미존의 양측과 하단부 더미존의 양측에 투명전극 패턴의 식각부분과 동일한 패턴의 쌍으로 형성된다.

상기 버스전극은 상기 얼라인먼트 마크를 기준으로 정렬되어 형성된다.

상기 얼라인먼크 마크는 상기 투명전극 패턴의 식각 부분과 동일한 패턴을 가진다.

상기 얼라인먼트 마크가 형성되는 투명전극 물질막은 상기 투명전극 패턴과 전기적으로 분리된다.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 다양한 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.

도 1은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 일부를 개략적으로 도시한 부분 분해 사시도이다.

도면을 참조하면, PDP는 제1 기판(1, 이하 '전면기판'이라 한다)의 내표면에는 방전유지전극으로 작용하는 X 전극(3) 및 Y 전극(5)을 형성하고, 제2 기판(7, 이하 '배면기판'이라 한다)의 내표면에는 어드레스전극(9) 및 격벽(11)을 형성한다. 상기 X, Y 전극(3, 5)은 복수의 쌍으로 이루어지며, 상기 X 전극(3) 및 Y 전극(5) 사이에서는 PDP 작동 시에 유지 방전이 일어난다. 이 X 전극(3) 및 Y 전극(5)과 어드레스전극(9)은 전면기판(1) 및 배면기판(7)의 내표면에 각각 스트라이프 형상으로 형성되어 전면기판(1)과 배면기판(7)이 상호 조립되었을 때 서로에 대하여 직각으로 교차하게 된다.

이 전면기판(1)의 내표면에는 유전층(12)과 보호막(13)이 차례로 적층된다. 한편, 배면기판(7)에는 유전층(15)의 상부 표면에 격벽(11)이 형성되며, 이 격벽(11)에 의해 방전셀(17)이 형성된다. 이 방전셀(17) 내에는 네온(Ne) 및 제논(Xe) 같은 불활성 가스가 혼합 충전된다. 또한 각각의 방전셀(17)을 형성하는 격벽(11)의 내측에는 소정 부위에 형광체(19)가 도포된다. 한편, X 전극(3) 및 Y 전극(5)은 면방전을 일으키는 투명전극(3a, 5a)과 이 투명전극(3a, 5a)에 전류를 공급하는 버스전극(3b, 5b)으로 구성된다.

상기 PDP는 X, Y 전극(3, 5)의 돌출형 투명전극(3a, 5a)과 스트라이프 형상의 어드레스전극(9)을 예시하고 있으나 이에 한정되지 않는다. 또한 방전셀(17)을 형성하는 격벽(11)도 스트라이프 형상에 한정되지 않고 폐쇄형(미도시)을 포함할 수 있다.

상기 PDP에서 전면기판(1)의 특징적인 구성은 이하의 PDP 제조방법에서 상세 히 설명한다.

도 2는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에 의하여 제1 기판에 투명전극 패턴을 레이저 식각(laser ablation)으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법에서 제1 기판에 투명전극 패턴을 레이저 식각으로 형성하는 공정을 개략적으로 도시한 제1 기판의 평면도이고, 도 4는 도 3의 부분 상세도이며, 도 5는 레이저 식각으로 형성된 투명전극 패턴의 상세도이다.

도면을 참조하면, PDP 제조방법은 전면기판(1)에 방전유지전극을 형성하고, 배면기판(7)에 어드레스전극(9)과 격벽(11)을 형성한 후, 이렇게 형성된 제1, 제2 기판(1, 7)을 서로 합착하여 PDP를 완성하는 단계로 크게 구분된다.

상기 방전유지전극 형성단계는 글라스로 형성되는 전면기판(1)의 내표면에 X, Y 전극(3, 5)을 평행하게 쌍으로 형성하고 이 X, Y 전극(3, 5) 쌍들을 복수로 형성하며, 이렇게 형성된 X, Y 전극(3, 5) 쌍들 위로 유전층(12)과 보호막(13)을 적층하는 단계를 더 거침으로서 전면기판(1)을 완성한다.

이 X, Y 전극(3, 5)을 형성하는 단계는 투명전극(3a, 5a)을 형성하는 단계와 이 투명전극(3a, 5a) 상에 버스전극(3b, 5b)을 형성하는 단계로 이루어진다. 이 투명전극(3a, 5a) 형성단계는 전면기판(1)의 내표면에 투명전극 물질막을 형성하고 이를 레이저 식각으로 투명전극 패턴으로 가공함으로서 투명전극(3a, 5a)을 형성한다. 버스전극(3b, 5b) 형성단계는 상기 투명전극(3a, 5a) 상에 금속 도전막을 도포하고 이를 건조한 다음, 노광, 현상 공정을 거쳐 버스전극(3b, 5b)을 형성한다.

이렇게 가공되는 투명전극 패턴(P), 즉 투명전극(3a, 5a)은 방전유지전압에 의하여 PDP 내의 방전셀(17)에서 면방전을 일으키도록 이 투명전극(3a, 5a)에 전류를 공급하는 버스전극(3b, 5b)과 정렬되는 적층 구조로 형성되어야 한다. 이 버스전극(3b, 5b)은 투명전극(3a, 5a) 위에 형성한 금속 도전막에 버스전극(3b, 5b) 패턴을 갖는 포토레지스트 마스크(미도시)를 정렬시키고, 노광, 현상 공정을 거쳐 버스전극(3b, 5b) 패턴을 식각하여 형성한다. 이 때, 상기 포토레지스트 마스크의 정렬은 전면기판(1)에 구비되는 얼라인먼트 마크(23)를 기준으로 삼는다. 따라서 이 버스전극(3b, 5b) 형성용 얼라인먼트 마크를 투명전극 패턴(P)에 연관되게 하여, 버스전극(3b, 5b) 패턴과 투명전극 패턴(P)을 정렬되게 하는 것이 바람직하다.

이를 위하여 버스전극(3b, 5b)을 가공하기 전에, 전면기판(1)에 투명전극(3a, 5a)을 레이저 식각으로 형성할 때 상기 얼라인먼트 마크(23)를 함께 형성하고, 이 얼라인먼트 마크(23)를 기준으로 후 공정에서 버스전극(3b, 5b)을 형성한다.

본 발명의 PDP 제조방법은 도 2에 도시된 바와 같이, 방전유지전극 형성단계를 포함한다. 이 방전유지전극 형성단계는 전면기판(1)에 투명전극 물질막(25)을 형성하고, 이 투명전극 물질막(25)을 레이저 식각하여 투명전극(3a, 5a) 패턴을 형성하고, 이에 버스전극(3b, 5b) 패턴을 정렬시켜 형성한다. 투명전극 물질막(25)은 다양한 방법으로 성막 가능하므로 이에 대한 구체적인 설명을 생략하고 이하에서는 이 투명전극 물질막(25)을 식각하는 것에 대하여 구체적으로 설명한다.

상기 투명전극 물질막(25)은 투명전극 패턴(P)을 따른 레이저 식각 방법에 의하여(도 3 내지 도 5 참조), 전면기판(1) 상에 돌출형 투명전극(3a, 5a)으로 가공된다(도 2의 b 및 c). 즉, 레이저 식각 방법은 전면기판(1)의 상측에서 1회 스캔 폭만큼 도면의 x축 양(陽)의 방향으로 진행한 후, 도면의 y축 방향으로 한 라인 이동하여 도면의 x축 음(陰)의 방향으로 1회 스캔 폭만큼 진행한 후, 다시 도면의 y축 방향으로 한 라인 이동하여 1회 스캔 폭만큼 도면의 x축 양의 방향으로 진행하는 과정을 반복하여, 1회 스캔 폭에 상응하는 투명전극 패턴(P)을 y축 방향으로 형성한다. 이로 인하여 한 스캔 열(P)이 완성된다. 또한 이 레이저 식각 방법은 1회 스캔 폭에 상응하는 y축 방향의 투명전극 패턴(P)을 형성한 후 1회 스캔 폭만큼 x축 방향으로 더 이동되어 상기와 같은 과정을 반복 실행하여 전면기판(1)의 전 투명전극 물질막(25)에 투명전극 패턴(P) 형성을 완료한다. 이로 인하여 복수의 스캔 열(P, ..., P)이 완성된다.

즉, 투명전극 패턴(P)은 x축 방향으로 스캔 폭을 가지면서, 이 1회 스캔 폭에 의하여 y축 방향으로 스캔 열(P, ..., P)을 형성하고, 이 스캔 열들에 의하여 완성된다. 도 3에는 y축 방향으로 3개의 스캔 열을 도시하고 나머지는 생략하고 있다. 이 스캔 폭은 도 5에 도시된 바와 같이 레이저 마스크(LM)의 연속으로 이루어진다.

이와 같이 투명전극 물질막(25)을 투명전극 패턴(P)으로 식각할 때, 투명전극 패턴(P)이 형성되는 않는 부분에 얼라인먼트 마크(23)를 음각으로 식각한다. 이 얼라인먼트 형성단계는 그 위치에 따라 투명전극 패턴(P) 식각의 전에 또는 후에 진행될 수도 있다. 즉, 이 얼라인먼트 형성단계는 투명전극(3b, 5b)을 형성하는 투 명전극 패턴(P) 식각 단계와 같이 진행되므로 버스전극 형성용 얼라인먼트 마크(23)와 투명전극 패턴(P)이 상호 연관되게 한다.

이 얼라인먼트 마크(23) 형성단계는 다양하게 진행될 수 있다.

즉, 이 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴(P)을 상기와 같이 전면기판(1) 상에서 한 열(P, ...,P)씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 얼라인먼트 마크(23)를 첫 번째 스캔열(Ps)과 마지막 스캔열(Pf)에 각각 형성하는 것이 바람직하다. 레이저 식각으로 투명전극 패턴(P)을 형성하는 경우, 레이저 헤드(LH)의 기구적인 정확도와 직진도에 따라 투명전극 패턴(P)의 정확도와 직진도 등이 영향을 받는다. 그리고 레이저 식각으로 형성되는 얼라인먼트 마크(23)도 마찬가지로 영향을 받는다. 따라서 상기 얼라인먼트 마크(23)를 첫 번째 스캔열(Ps)과 마지막 스캔열(Pf)에 각각 형성하여 버스전극 패턴의 정렬에 효과적으로 활용할 수 있다.

이를 보다 구체적으로 설명하면, 얼라인먼트 마크(23)는 하나의 스캔열 시작지점과 끝지점에서 각각 형성될 수 있으며, 도 3에는 첫 번째 스캔열(Ps)과 마지막 스캔열(Pf)의 시작지점과 끝지점에 각각 형성된 것이 예시되어 있다.

즉, 이 얼라인먼트 마크(23)는 전면기판(1)의 상단부 및 하단부 더미존(dummy zone)의 투명전극 물질막(25)에 형성되며, 더욱이 투명전극 패턴(P)의 식각부분과 동일 패턴으로 형성되어 있다. 또한, 이 얼라인먼트 마크(23)는 전면기판(1)의 상단부 더미존의 양측과 하단부 더미존의 양측에 형성되며, 상기와 같이 투명전극 패턴(P)의 식각부분과 동일 패턴의 쌍으로 형성되어 있다. 쌍으로 이루어지는 얼라인먼트 마크(23)는 하나로 이루어지는 것에 비하여 버스전극 마스크 의 정렬을 보다 정확하게 한다. 또한 얼라인먼트 마크(23)가 형성되는 전면기판(1)의 상, 하단부 더미존의 투명전극 물질막(23)은 상기 투명전극 패턴(P)과 전기적으로 분리되는 것이 바람직하다.

또한, 얼라인먼트 마크(23)는 한 열(P)에 상응하는 투명전극 패턴(P)의 1회 스캔(scan) 폭과 동일하게 형성되어, 투명전극 패턴(P)의 레이저 식각 시와 같이 레이저 헤드(LH)를 x축 방향으로 이동 가능하게 하는 것이 바람직하다.

상기와 같이 얼라인먼트 마크(23)를 형성하면서 같이 형성된 투명전극(3a, 5a) 위에 금속 도전막(27)을 형성한다(도 2의 d 참조). 이러한 금속 도전막(27)은 감광성 전극 페이스트를 소정의 두께로 코팅하거나 감광성 전극 테이프를 부착하여 형성할 수 있다. 이 금속 도전막(27)을 건조한 다음 노광, 식각을 거쳐 버스전극(3b, 5b)을 형성한다. 이때 금속 도전막(27)은 상기한 얼라인먼트 마크(23)를 기준으로 하여 버스전극(3b, 5b) 패턴을 갖는 마스크(미도시)를 정렬시키고 노광, 식각하여 버스전극(3b, 5b)을 형성한다(도 2의 e 참조).

상기와 같이 전면기판(1)에 투명전극(3a, 5b) 및 버스전극(3b, 5b)을 가지는 X, Y 전극(3, 5)을 각각 형성한 후, 이 X, Y 전극(3, 5) 위로 유전층(12)과 보호막(13)을 적층하여 전면기판(1)을 완성한다.

또한, 배면기판(7)에 어드레스전극(9)을 형성한 후 유전층(15)을 형성하고, 이 유전층(15) 위에 격벽(11)을 형성한 후, 형광체층(17)을 형성하여 배면기판(7)을 완성한다.

이와 같이 제작한 전면, 배면 기판(1, 7)을 합착하고, 이 전면, 배면 기판(1, 7) 내부의 방전 공간을 배기시켜 고진공으로 형성한 후 소정의 압력으로 방전가스를 봉입하여 PDP를 완성한다.

이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.

이상 설명한 바와 같이 본 발명은 플라즈마 디스플레 패널의 전면기판에 투명전극 패턴을 레이저 식각 방법으로 형성할 때 버스전극 형성을 위한 얼라인먼트 마크를 함께 형성함으로서, 레이저 식각에 따른 장점을 가지면서, 투명전극 패턴과 얼라인먼트 마크 및 버스전극 패턴을 상호 연관되게 하여, 이 투명전극 패턴 위에 금속 도전막을 형성하고 이 금속 도전막으로 버스전극을 가공하더라도 투명전극 패턴과 버스전극 패턴을 정확히 정렬시키는 효과가 있다.

Claims (14)

1. 복수 쌍의 방전유지전극을 제1 기판의 내표면에 평행하게 형성하는 방전유지전극 형성단계;

   상기 방전유지전극과 교차되는 어드레스전극과 격벽을 복수 쌍으로 제2 기판의 내표면에 상호 평행하게 형성하는 어드레스전극/격벽 형성단계;

   상기 제1, 제2 기판의 내표면을 정렬하여 합착하는 합착단계를 포함하며,

   상기 방전유지전극 형성단계는 투명전극 물질막을 가공하여 투명전극을 형성하는 단계와 이 투명전극 상에 형성되는 금속 도전막을 가공하여 버스전극을 형성하는 단계로 이루어지고,

   상기 방전유지전극 형성단계는,

   상기 제1 기판에 투명전극 물질막을 형성하는 단계;

   상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 제1 기판의 상단부 및 하단부 더미존의 양측의 투명전극 물질막에 투명전극 패턴의 식각부분과 동일 패턴을 쌍으로 형성하고, 상기 투명전극패턴을 상기 제1 기판상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝하는 경우, 한 열에 상응하는 투명전극 패턴의 1회 스캔폭과 동일한 형상을 갖는 얼라인먼트 마크를 형성하는 단계;

   상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 투명전극 패턴을 형성하는 단계; 및

   상기 투명전극 패턴 상에 버스전극 패턴을 상기 얼라인먼트 마크를 기준으로 정렬시키면서 형성하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴을 제1 기판 상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 첫 번째 스캔열과 마지막 스캔열에 각각 얼라인먼트 마크를 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 얼라인먼트 마크 형성단계는 투명전극 패턴을 제1 기판 상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 하나의 스캔열 시작지점과 끝지점에서 각각 얼라인먼트 마크를 형성하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조방법.
4. 삭제
5. 삭제
6. 삭제
7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 따른 제조방법에 의하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널.
8. 투명전극 물질막으로 가공되는 투명전극과 이 투명전극 위의 금속 도전막으로 가공되는 버스전극으로 이루어지는 방전유지전극을 내표면에 복수로 형성하는 제1 기판과, 상기 방전유지전극과 교차하는 방향으로 형성되는 어드레스전극과 격벽을 복수 쌍으로 내표면에 구비한 제2 기판을 합착하여 형성되며,

   상기 제1 기판에 투명전극 물질막을 음각(陰刻)하여 형성되고, 상기 투명전극 물질막을 레이저 식각하여 제1 기판의 상단부 및 하단부 더미존의 양측의 투명전극 물질막에 투명전극 패턴의 식각부분과 동일 패턴을 쌍으로 형성하고, 상기 투명전극패턴을 상기 제1 기판상에서 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝하는 경우, 한 열에 상응하는 투명전극 패턴의 1회 스캔폭과 동일한 형상을 갖는 얼라인먼트 마크를 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널.
9. 제 8 항에 있어서,

   상기 얼라인먼트 마크는 투명전극 물질막에 투명전극 패턴을 한 열씩 반복적으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 첫 번째 스캔열과 마지막 스캔열에 각각 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
10. 제 8 항에 있어서,

    상기 얼라인먼트 마크는 투명전극 물질막에 투명전극 패턴을 한 열씩 반복적 으로 이어 스캔 패터닝 하는 경우, 하나의 스캔열의 시작지점과 끝지점에 각각 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
11. 삭제
12. 제 8 항에 있어서,

    상기 버스전극은 상기 얼라인먼트 마크를 기준으로 정렬되어 형성되는 플라즈마 디스플레이 패널.
13. 삭제
14. 제 8 항에 있어서,

    상기 얼라인먼트 마크가 형성되는 투명전극 물질막은 상기 투명전극 패턴과 전기적으로 분리되는 플라즈마 디스플레이 패널.

Images