JP2005026138A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1の電極層となる第1の感光性組成物層28を前面基板4上に形成した後、第1の開口部を有するマスク29を用いて第1の感光性組成物層28を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層30を第1の感光性組成物層28の上に形成した後、第1の開口部よりも幅の狭い第2の開口部を有するマスク31を用いて第2の感光性組成物層30を露光し、その後、第1の感光性組成物層28および第2の感光性組成物層30を現像した後、焼成する。また、第2の開口部の幅は、第1の開口部の幅よりも10μm以上狭い。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置として知られているプラズマディスプレイパネル(PDP)の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、PDPは、視認性に優れた表示パネル(薄型表示デバイス)として注目されており、高精細化および大画面化が進められている。
【0003】
このPDPには、大別して、駆動的にはAC型とDC型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の2種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、AC型で面放電型のPDPが主流を占めるようになってきている。
【0004】
図5は従来のAC型のPDPの一部構成を示す斜視図である。このPDPは、前面パネル1と背面パネル2とを対向配置して周囲をシール剤により貼り合わせて構成されており、前面パネル1と背面パネル2との間に形成される放電空間3にネオンおよびキセノンなどからなる放電ガスを封入している。
【0005】
前面パネル1は次のような構成である。すなわち、ガラス製の基板である前面基板4上に、ストライプ状の走査電極5とストライプ状の維持電極6とからなる表示電極7を複数形成し、表示電極7を覆うように誘電体層8を形成し、誘電体層8上に保護層9を形成している。なお、走査電極5および維持電極6はそれぞれ、透明電極10とその上に形成された低抵抗の導電層11とにより構成されている。
【0006】
また、背面パネル2は次のような構成である。すなわち、ガラス製の基板である背面基板12上に、走査電極5および維持電極6と直交するようにストライプ状のアドレス電極13を複数形成し、アドレス電極13を覆うように絶縁体層14を形成している。そして、この絶縁体層14上であってアドレス電極13の間に位置するように、アドレス電極13と平行な隔壁15を設け、隔壁15の間に蛍光体層16を形成している。
【0007】
走査電極5および維持電極6とアドレス電極13とが交差する部分には放電セルが形成される。そして、走査電極5、維持電極6およびアドレス電極13にそれぞれ所定の電圧を印加して各放電セルで放電を発生させ、その放電で発生する紫外線を受けて蛍光体層16が可視光発光することにより、前面パネル1側に画像が表示される。
【0008】
ここで、低抵抗の導電層11は、高抵抗である透明電極10の電気伝導性を補助するために設けられるものであり、銀(Ag)のような電気抵抗値の低い導電性材料を用いて形成されるが、Agのような低抵抗の材料を用いて形成した導電層は略白色であり、この略白色の導電層によって外光反射が起こり、コントラストが悪下する。このため、導電層11を、黒色顔料を含む材料を用いて形成した黒色の第1の導電層と低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第2の導電層とにより構成し、透明電極10と略白色の第2の導電層との間に略黒色の第1の導電層が配置されるようにすることによって外光反射を抑制しコントラストが悪下することを防止している(例えば特許文献1参照)。
【0009】
【特許文献1】
特開平11−273578号公報
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、黒色の第1の導電層および略白色の第2の導電層は次のようにして形成される。すなわち、図6(a)に示すように、黒色顔料を含む感光性導電性ペーストを、透明電極10を覆うように前面基板4上に塗布して乾燥させ、第1のペースト層17を形成する。続いて、図6(b)に示すように、銀を含む感光性導電性ペーストを第1のペースト層17上に塗布して乾燥させることにより第2のペースト層18を形成する。次に、図6(c)に示すように、ストライプ状の開口部を有するマスク19を用いて第1のペースト層17および第2のペースト層18を露光する。次に、現像して未露光部分を除去した後、焼成することにより、第1の導電層および第2の導電層が透明電極10上に形成される。
【0011】
しかしながら、上記のような方法を用いて第1の導電層および第2の導電層を形成した場合、図7に示すように透明電極10上に第1の導電層20および第2の導電層21が形成されるが、第2の導電層21の両端が反り上がった状態になり、いわゆるエッジカール22が形成されていた。すなわち、第1のペースト層17および第2のペースト層18を一括して露光するとき、上層である第2のペースト層18の紫外線遮断により下層である第1のペースト層17の架橋が不十分になることから、現像するときに、上層である第2のペースト層18よりも下層である第1のペースト層17の侵食が進むため、現像後の形状が図8に示す状態になる。そして、このような状態で焼成すると、焼成中に発生する内部応力により、第1のペースト層17と密着の無い第2のペースト層18のエッジ部分が反り上がることにより、図7に示すようなエッジカール22が発生する。
【0012】
このようなエッジカール22が形成された状態でパネルを作製し、画像表示を行うと、エッジカール22の大きい電極ではエッジカール22の先端における電界が強くなり、電極を覆うように形成された誘電体層8の絶縁破壊が発生しやすくなる。また、黒色である第1の導電層20に比べて略白色である第2の導電層21の幅が広くなるので、第2の導電層21の両端部において外光反射するようになりコントラストが低下する。
【0013】
本発明はこのような課題を解決するためになされたものであり、積層して形成された層を有する電極にエッジカールが発生することを抑制し、優れた品質を有するプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、第1の電極層となる第1の感光性組成物層を基板上に形成した後、第1の開口部を有するマスクを用いて前記第1の感光性組成物層を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層を前記第1の感光性組成物層の上に形成した後、前記第1の開口部よりも幅の狭い第2の開口部を有するマスクを用いて前記第2の感光性組成物層を露光し、その後、前記第1の感光性組成物層および前記第2の感光性組成物層を現像した後、焼成することを特徴とする。また、第2の開口部の幅は、第1の開口部の幅よりも10μm以上狭い。
【0015】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項1に記載の発明は、基板上に、第1の電極層およびその上に形成された第2の電極層を有する電極が複数個形成されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、第1の電極層となる第1の感光性組成物層を基板上に形成した後、第1の開口部を有するマスクを用いて前記第1の感光性組成物層を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層を前記第1の感光性組成物層の上に形成した後、前記第1の開口部よりも幅の狭い第2の開口部を有するマスクを用いて前記第2の感光性組成物層を露光し、その後、前記第1の感光性組成物層および前記第2の感光性組成物層を現像した後、焼成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【0016】
本発明の請求項2に記載の発明は、基板上に、第1の電極層およびその上に形成された第2の電極層を有する電極が複数個形成されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、第1の電極層となる第1の感光性組成物層を基板上に形成した後、第1の開口部を有するマスクを用いて前記第1の感光性組成物層を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層を前記第1の感光性組成物層の上に形成した後、前記第1の開口部よりも10μm以上幅の狭い第2の開口部を有するマスクを用いて前記第2の感光性組成物層を露光し、その後、前記第1の感光性組成物層および前記第2の感光性組成物層を現像した後、焼成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【0017】
また、請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明において、第1の電極層が外光反射を抑制する反射抑制層であり、第2の電極層が前記第1の電極層よりも低抵抗の導電層であることを特徴とする。
【0018】
また、請求項4に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明において、第1の感光性組成物層が黒色顔料を含むことを特徴とする。
【0019】
また、請求項5に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の発明において、第2の感光性組成物層が銀を含むことを特徴とする。
【0020】
以下、本発明の一実施の形態について図1〜図4の図面を用いて説明する。なお、図1〜図4において、図5〜図8に示す部分と同一部分については同一番号を付している。
【0021】
図1は、本発明の一実施の形態によるPDPの一部を示す断面図である。このPDPは、前面パネル23と背面パネル2とを対向配置して周囲をシール剤(図示せず)により貼り合わせて構成されており、前面パネル23と背面パネル2との間に形成される放電空間3にネオンおよびキセノンなどからなる放電ガスを封入している。本実施の形態によるPDPにおける背面パネル2の構成は、図5に示した従来のPDPのものと同じであるため、その説明を省略する。
【0022】
本実施の形態のPDPにおいて、前面パネル23は次のような構成である。すなわち、間に放電空間3を形成するように対向配置した一対のガラス基板である前面基板4と背面基板12のうち、表示面側の基板である前面基板4上に、ストライプ状の走査電極24とストライプ状の維持電極25とからなる表示電極を、アドレス電極13と直交する方向に複数形成している。そして、走査電極24および維持電極25を覆うように誘電体層8を形成し、誘電体層8上に保護層9を形成している。保護層9は、放電空間3で発生する放電による衝撃から誘電体層8を保護するためのものであり、例えば酸化マグネシウム(MgO)により形成される。
【0023】
走査電極24および維持電極25はそれぞれ、透明電極10と、透明電極10上に形成された第1の電極層26と、第1の電極層26上に形成された第2の電極層27とにより構成されている。第1の電極層26は黒色顔料を含む導電性材料を用いて形成され、第2の電極層27はAgのような低抵抗の導電性材料を用いて形成されている。このため、第1の電極層26は黒色であり、第2の電極層27は略白色であり、第1の電極層26は第2の電極層27よりも光の反射率が低く、第1の電極層26は外光反射を抑制する反射抑制層である。また、第2の電極層27は第1の電極層26よりも低抵抗の導電層であり、第1の電極層26に比べて幅を狭くしている。
【0024】
図2は図1に示したPDPの電極配列を示しており、行方向にはM行の走査電極SCN1〜SCNMおよび維持電極SUS1〜SUSMが配列され、列方向にはN列のアドレス電極D1〜DNが配列されている。そして、走査電極SCNiおよび維持電極SUSi(i=1〜M)とアドレス電極Dj(j=1〜N)とが立体交差する部分には放電セルが形成され、M行×N列の放電セルがマトリックス状に形成されている。
【0025】
そして、このようなPDPを用いて構成した画像表示装置では、アドレス電極13と走査電極24との間に書き込みパルスを印加することにより、アドレス電極13と走査電極24との間でアドレス放電を行い、放電セルを選択した後、走査電極24と維持電極25との間に、交互に反転する周期的な維持パルスを印加することにより、走査電極24と維持電極25との間で維持放電を行い、この維持放電によって蛍光体層16が発光し、その光が前面パネル23を透過して表示面側に放射されることにより、カラー画像が表示される。
【0026】
次に、走査電極24および維持電極25を形成する方法について図3を用いて説明する。
【0027】
まず、図3(a)に示すように、前面基板4上に、インジウムスズ酸化物(ITO)などからなる透明電極10を所定のパターン形状に形成する。
【0028】
次に、図3(b)に示すように、黒色顔料を含む感光性導電性ペーストを、透明電極10を覆うように前面基板4上に塗布して乾燥させることにより、第1のペースト層(第1の感光性組成物層)28を形成する。この第1のペースト層28は第1の電極層26になる層である。ここで用いる黒色顔料を含む感光性導電性ペーストは、黒色顔料、感光性樹脂成分および無機バインダーを含み、黒色顔料として例えば、酸化ルテニウムやルテニウム複合酸化物のような導電性材料を用いることができる。導電性のない黒色顔料を用いる場合には、さらにAgなどの導電性材料を含ませればよい。また、無機バインダーとして例えばガラスフリットを使用することができる。なお、黒色顔料を含む感光性導電性ペーストのかわりに、感光性シートを用いてもよい。
【0029】
続いて、図3(c)に示すように、幅がa(例えば100μm)であるストライプ状の開口部を有するマスク29を用いて第1のペースト層28を紫外線で露光する。紫外線で露光された部分を符号28aで示している。
【0030】
その後、図3(d)に示すように、感光性導電性ペーストを、第1のペースト層28上に塗布して乾燥させることにより、第2のペースト層(第2の感光性組成物層)30を形成する。この第2のペースト層30は第2の電極層27になる層である。ここで用いる感光性導電性ペーストは、例えば、Agなどの導電性材料、感光性樹脂成分および無機バインダーを含むものである。無機バインダーとして例えばガラスフリットを使用することができる。なお、感光性導電性ペーストのかわりに、感光性シートを用いてもよい。
【0031】
続いて、図3(e)に示すように、幅がb(例えば80μm)であるストライプ状の開口部を有するマスク31を用いて第2のペースト層30を紫外線で露光する。マスク31は、その開口部が第1のペースト層28の露光された部分28a上の範囲内に位置するように配置される。第2のペースト層30の紫外線で露光された部分を符号30aで示している。なお、マスク31の開口部の幅bは、マスク29の開口部の幅aよりも狭くなっている。
【0032】
次に、図3(f)に示すように、現像液を用いて現像することにより未露光部分を除去する。その後、焼成することにより、透明電極10上に第1の電極層26および第2の電極層27が積層して形成される。
【0033】
上記のように、本実施の形態では、第1のペースト層28と第2のペースト層30とを一括して露光するのではなく、別々に露光するとともに、第2のペースト層30を露光するときに使用するマスク31の開口部の幅bを、第1のペースト層28を露光するときに使用するマスク29の開口部の幅aよりも狭くしている。このため、現像によって未露光部を除去したときの第1のペースト層28および第2のペースト層30の形状が、図8に示したのと同様の形状、すなわち、第1のペースト層28が第2のペースト層30に比べて幅が狭い形状となることを防ぐことができるので、第2の電極層27にエッジカールが形成されることを抑制することができる。
【0034】
さらに、マスク31の開口部の幅bは、マスク29の開口部の幅aよりも10μm以上狭いことが好ましい。すなわち、マスク29およびマスク31をそれぞれ所定の位置に位置合わせしているが、この位置合わせを行う際に多少なりとも位置ずれが発生する。例えば、マスク29の開口部の幅aとマスク31の開口部の幅bとの差がごくわずかであって、図3(c)で示す工程において、マスク29が所定の位置よりも右側にずれて位置合わせされた状態で露光され、さらに、図3(e)で示す工程において、マスク31が所定の位置よりも左側にずれて位置合わせされた状態で露光された場合、現像後の形状が図4に示すようになることがある。すなわち、第2のペースト層30の所定部分を露光する際、その所定部分の下に位置する第1のペースト層28も同時に露光されるものの架橋が不十分となり、現像するときに、第2のペースト層30よりも第1のペースト層28の侵食が進むことよるものである。図4のような状態で焼成すると、第2のペースト層30の左側の部分で大きなエッジカールが発生することになる。このようなマスク29、31の位置合わせの精度を考慮すると、マスク31の開口部の幅bを、マスク29の開口部の幅aよりも10μm以上狭く設定することにより、第2の電極層27にエッジカールが発生することを抑制することができる。
【0035】
以上のように本実施の形態では、第1のペースト層28および第2のペースト層30を現像した後の形状は、下層である第1のペースト層28が上層である第2のペースト層30よりも幅広なテーパー形状となり、焼成後にエッジカールが発生することを抑制できる。このため、パネルを作製してそのパネルで画像表示を行うとき、誘電体層8の絶縁破壊が発生しやすくなることがなく、また、表示面側から見たとき略白色の第2の電極層27は黒色の第1の電極層26によって隠れてしまうので、第2の電極層27による外光反射が抑制される。
【0036】
なお、上記実施の形態では、透明電極10上に第1の電極層26および第2の電極層27を形成した場合について説明したが、透明電極10が無く、基板上に第1の電極層26および第2の電極層27を順次形成することにより電極を形成したPDPについても、本発明を適用することにより同様の効果を得ることができる。また、上記実施の形態のような第1の電極層26が反射抑制層である場合に限られることなく、第1の電極層およびその上に形成された第2の電極層を有する電極が基板上に形成されたPDPにおいて、第1の電極層および第2の電極層を形成する際に本発明を適用することにより、エッジカールの発生を抑制することができる。
【0037】
また、上記の説明で用いた「黒色」という用語は、必ずしも濃淡の全くない黒に限定されるものではなく、白色の背景に対して視覚的にコントラストを示すような黒い色または暗色も含むものである。
【0038】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、積層して形成された層を有する電極にエッジカールが発生することを抑制することができ、優れた品質を有するプラズマディスプレイパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの一部を示す断面図
【図2】同プラズマディスプレイパネルの電極配列を示す概略図
【図3】(a)〜(f)は同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図
【図4】マスクの位置がずれたときの現像後の状態を表す断面図
【図5】従来のプラズマディスプレイパネルの一部を示す斜視図
【図6】(a)〜(c)は従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための断面図
【図7】同製造方法によって形成された電極の断面図
【図8】同製造方法において現像した後の状態を表す断面図
【符号の説明】
4 前面基板
10 透明電極
26 第1の電極層
27 第2の電極層
28 第1のペースト層(第1の感光性組成物層)
29 マスク
30 第2のペースト層(第2の感光性組成物層)
31 マスク
Claims (5)
- 基板上に、第1の電極層およびその上に形成された第2の電極層を有する電極が複数個形成されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、第1の電極層となる第1の感光性組成物層を基板上に形成した後、第1の開口部を有するマスクを用いて前記第1の感光性組成物層を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層を前記第1の感光性組成物層の上に形成した後、前記第1の開口部よりも幅の狭い第2の開口部を有するマスクを用いて前記第2の感光性組成物層を露光し、その後、前記第1の感光性組成物層および前記第2の感光性組成物層を現像した後、焼成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 基板上に、第1の電極層およびその上に形成された第2の電極層を有する電極が複数個形成されたプラズマディスプレイパネルの製造方法において、第1の電極層となる第1の感光性組成物層を基板上に形成した後、第1の開口部を有するマスクを用いて前記第1の感光性組成物層を露光し、次に、第2の電極層となる第2の感光性組成物層を前記第1の感光性組成物層の上に形成した後、前記第1の開口部よりも10μm以上幅の狭い第2の開口部を有するマスクを用いて前記第2の感光性組成物層を露光し、その後、前記第1の感光性組成物層および前記第2の感光性組成物層を現像した後、焼成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 第1の電極層が外光反射を抑制する反射抑制層であり、第2の電極層が前記第1の電極層よりも低抵抗の導電層であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 第1の感光性組成物層が黒色顔料を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
- 第2の感光性組成物層が銀を含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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