JP2009301866A - プラズマディスプレイパネルの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】積層して形成された層を有する電極にエッジカールが発生することを抑制し、さらに電極の欠け・剥れを抑制した優れた品質を有するプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、第1電極層を形成する工程と、第2電極層を形成する工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、第1電極層および第2電極層はフォトリソグラフィ法で形成され、第1電極層を露光する工程は、パターン形成後の幅方向に対して中央部以外を露光する工程と、少なくとも中央部を含めて露光する工程とを有し、第1電極層と第2電極層とを一括で現像することを特徴とする。
【選択図】図6

Description

本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
近年、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPとする)は、高精細化、大画面化が進み、65インチクラスのテレビなどが製品化されている。このPDPには、大別して、駆動的にはAC型とDC型があり、放電形式では面放電型と対向放電型の2種類があるが、高精細化、大画面化および製造の簡便性から、現状では、AC型で面放電型のPDPが主流を占めるようになった。
図1は従来のAC型PDPの一部構成を示す斜視図である。このPDPは、前面パネル1と背面パネル2とを対向配置して周囲をシール剤により貼り合わせて構成されており、前面パネル1と背面パネル2との間に形成される放電空間3にネオンおよびキセノンなどからなる放電ガスを封入している。
前面パネル1は次のような構成である。すなわち、ガラス製の基板である前面基板4上に、ストライプ状の走査電極5とストライプ状の維持電極6とからなる表示電極7を複数形成し、表示電極7を覆うように誘電体層8を形成し、誘電体層8上に保護層9を形成している。なお、走査電極5および維持電極6はそれぞれ、透明電極10とその上に形成された低抵抗の電極層11とにより構成されている。
また、背面パネル2は次のような構成である。すなわち、ガラス製の基板である背面基板12上に、走査電極5および維持電極6と直交するようにストライプ状のアドレス電極13を複数形成し、アドレス電極13を覆うように絶縁体層14を形成している。そして、この絶縁体層14上であってアドレス電極13の間に位置するように、アドレス電極13と平行な隔壁15を設け、隔壁15の間に蛍光体層16を形成している。
走査電極5および維持電極6とアドレス電極13とが交差する部分には放電セルが形成される。そして、走査電極5、維持電極6およびアドレス電極13にそれぞれ所定の電圧を印加して各放電セルで放電を発生させ、その放電で発生する紫外線を受けて蛍光体層16が可視光を発光することにより、前面パネル1側に画像が表示される。
ここで、低抵抗の電極層11は、高抵抗である透明電極10の電気伝導性を補助するために設けられるものであり、銀(Ag)のような電気抵抗値の低い導電性材料を用いて形成されるが、Agのような低抵抗の材料を用いて形成した電極層は略白色であり、この略白色の電極層によって外光反射が起こり、コントラストが悪化する。このため、電極層11を、黒色顔料を含む材料を用いて形成した黒色の第1電極層と低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第2電極層とにより構成し、これによって外光反射を抑制しコントラストが悪化することを防止している(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−273578号公報
また黒白の第1電極層及び略白色の第2電極層は、主に図2に示すように形成される。黒色顔料を含む第1層の感光性導電性ペーストを、透明電極を覆うように前面基板に塗布した後乾燥し、第1ペースト層17を形成する(図2(a))。続いて低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第2の感光性電極層ペーストを第1ペースト層17上に塗布し乾燥し、第2ペースト層18を形成する(図2(b))。その後、ストライブ状の開口部を有するマスクを用いて第1ペースト層17および第2ペースト層18を露光し(図2(c))、現像して未露光部分を除去した後、焼成することにより第1電極層20および第2電極層21を形成する。
このように一括で露光し現像・焼成する技術では、従来のような技術(黒色の第1電極層ペーストを前面基板上に塗布し乾燥した後、第1の開口部を有するマスクを用いて第1のペースト層を露光し、続いて低抵抗の材料を用いて形成した略白色の第2電極層ペーストを第1のペースト層17上に塗布し乾燥した後、第2の開口部を有するマスクを用いて第2のペースト層を露光し、現像して未露光部分を除去した後、焼成する技術)に比べて、工程数を削減できるだけでなく、露光工程が単数になるため露光時の位置ずれによる弊害も除去することができる。
またさらに、この従来の技術では、第1ペースト層17が露光されているために第2の感光性電極層ペースト中の感光性有機成分が直下にある第1ペースト層17中へ浸透しやすくなる。このため白色の第2層感光性電極層ペーストの露光・現像でのパターン形成性能の低下、第1ペースト層17との密着性能の低下を引き起こし、第2ペースト層18が現像時や焼成時に欠け・剥がれを引き起こし、導電性が得られず電極としての性能を発揮しなくなるという課題が発生する場合がある。
一方で、第1ペースト層17と第2ペースト層18を一括して露光する場合、上層である第2ペースト層18の紫外線遮断により上層である第2ペースト層18よりも下層である第1ペースト層17の侵食が進む為、現像後の形状が図3に示すような状態となる。さらにこのような形状で焼成するため、焼成中に発生する内部応力により第2のペースト層のエッジ部分が盛り上がり、エッジカールが発生する。この状態を図4で示す。
このようなエッジカールが形成された状態でPDPを作成し、画像表示を行うとエッジカールの大きい電極ではエッジカールの先端22における電界が強くなり、電極を覆うように形成された誘電体層8の絶縁破壊が発生しやすくなるという課題がある。さらに黒色である第1電極層に比べて略白色である第2電極層の幅が広くなるので、第2電極層の両端部において外光反射するようになりコントラストが低下するという課題も生じる。
本発明はこのような課題に鑑みてなされたものであり、上記課題を解決して導電性を確保した電極形成を可能にし、信頼性の高いPDPを提供することを目的としている。
上記目的を達成するために本発明のPDPの製造方法は、第1電極層を形成する工程と、第2電極層を形成する工程とを有するPDPの製造方法であって、第1電極層および第2電極層はフォトリソグラフィ法で形成され、第1電極層を露光する工程は、パターン形成後の幅方向に対して中央部以外を露光する工程と、少なくとも中央部を含めて露光する工程とを有し、第1電極層と第2電極層とを一括で現像することを特徴とする。
ここで中央部を含めて露光する工程において、第2電極層を露光してもよく、中央部の幅は、第2電極層を露光する幅の0.5以上であってもよい。そして、第1電極層は第2電極層よりも画像表示側に形成され、第1電極層が外光反射を抑制する反射抑制層であり、第2電極層が導電層であってもよく、第2電極層には少なくとも銀を含んでいてもよい。
本発明のPDPの製造方法を実施することによって、欠け・剥がれのない導電性を確保した電極形成を可能にし、信頼性の高いPDPを提供することができる。
以下、本発明の一実施の形態について図1〜図7の図面を用いて説明する。なお、図5〜図7において、図1〜図4に示す部分と同一部分については同一番号を付している。
図5は、本実施の形態によるPDPの一部を示す断面図である。このPDPは、前面パネル23と背面パネル2とを対向配置して周囲をシール剤(図示せず)により貼り合わせて構成されており、前面パネル23と背面パネル2との間に形成される放電空間3にネオンおよびキセノンなどからなる放電ガスを封入している。本実施の形態によるPDPにおける背面パネル2の構成は、図1に示した従来のPDPのものと同じであるため、その説明を省略する。
本実施の形態のPDPにおいて、前面パネル23は次のような構成である。すなわち、間に放電空間3を形成するように対向配置した一対のガラス基板である前面基板4と背面基板12のうち、表示面側の基板である前面基板4上に、ストライプ状の走査電極24とストライプ状の維持電極25とからなる表示電極を、アドレス電極13と直交する方向に複数形成している。そして、走査電極24および維持電極25を覆うように誘電体層8を形成し、誘電体層8上に保護層9を形成している。保護層9は、放電空間3で発生する放電による衝撃から誘電体層8を保護するためのものであり、例えば酸化マグネシウム(MgO)により形成される。
走査電極24および維持電極25はそれぞれ、透明電極10と、透明電極10上に形成された第1電極層26と、第1電極層26上に形成された第2電極層27とにより構成されている。第1電極層26は黒色顔料を含む導電性材料を用いて形成され、第2電極層27はAgのような低抵抗の導電性材料を用いて形成されている。このため、第1電極層26は黒色であり、第2電極層27は略白色であり、第1電極層26は第2電極層27よりも光の反射率が低く、第1電極層26は外光反射を抑制する反射抑制層である。また、第2電極層27は第1電極層26よりも低抵抗の電極層であり、第1電極層26に比べて幅を狭くしている。
そして、このようなPDPを用いて構成した画像表示装置では、アドレス電極13と走査電極24との間に書き込みパルスを印加することにより、アドレス電極13と走査電極24との間でアドレス放電を行い、放電セルを選択した後、走査電極24と維持電極25との間に、交互に反転する周期的な維持パルスを印加することにより、走査電極24と維持電極25との間で維持放電を行い、この維持放電によって蛍光体層16が発光し、その光が前面パネル23を透過して表示面側に放射されることにより、カラー画像が表示される。
次に、PDPの前面パネル23の製造方法について説明する。まず、前面基板4上に、走査電極24および維持電極25とを形成する。これらの透明電極10、第1電極層26および第2電極層27とは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極10は薄膜プロセスなどを用いて形成され、第1電極層26および第2電極層27は銀(Ag)材料もしくは黒色顔料を含むペーストを所望の温度で焼成して固化している。なお、第1電極層26および第2電極層27の具体的な形成手順は後に詳細に説明する。
次に、走査電極24および維持電極25を覆うように前面基板4上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト層(誘電体ガラス層)を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペーストの表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極24および維持電極25を覆う誘電体層8が形成される。ここで誘電体ペーストは粉末の誘電体ガラス、バインダおよび溶剤を含む塗料である。
次に、誘電体層8上に酸化マグネシウム(MgO)からなる保護層9を真空蒸着法により形成する。以上の工程により、前面基板4上に所定の構成部材が形成されて前面パネル23が完成する。
一方、背面パネル2は次のようにして形成される。まず、背面基板12上に、銀(Ag)材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりアドレス電極13用の構成物となる材料層を形成し、それを所望の温度で焼成することによりアドレス電極13を形成する。次に、アドレス電極13が形成された背面基板12上にダイコート法などによりアドレス電極13を覆うように誘電体ペーストを塗布して下地誘電体ペースト層を形成する。その後、下地誘電体ペースト層を焼成することにより絶縁体層14を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダおよび溶剤を含んだ塗料である。
次に、絶縁体層14上に隔壁材料を含む隔壁材料用ペーストを塗布して隔壁ペースト層を形成し、所定の形状にパターニングした後、焼成することにより隔壁15を形成する。ここで、絶縁体層14上に塗布した隔壁ペースト層をパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。次に、隣接する隔壁15間の絶縁体層14上および隔壁15の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層16が形成される。以上の工程により、背面基板12上に所定の構成部材を有する背面パネル2が完成する。
このようにして所定の構成部材を備えた前面パネル23と背面パネル2とを走査電極24とアドレス電極13とが直交するように対向配置し、その周囲をガラスフリットで封着して放電空間3にネオン(Ne)、キセノン(Xe)などを含む放電ガスを封入することによりPDPが完成する。
ここから、本実施の形態における走査電極24および維持電極25を形成する方法について図6を用いて詳細に説明する。図6は当該電極の形成工程を模式的に示した断面図である。なお、同図では走査電極24もしくは維持電極25の一方のみを示すが、放電ギャップの中心線に対して対称に他方も同様の形態となる。
本実施の形態では、第1電極層26および第2電極層27の複数層を形成する工程を有しており、かつ第1電極層26および第2電極層27はフォトリソグラフィ法で形成され、第1電極層26を露光する工程は、パターン形成後の幅方向に対して中央部以外を露光する工程と、少なくとも中央部を含めて露光する工程とを有し、第1電極層26と第2電極層27とを一括で現像することを特徴としている。またさらに、中央部を含めて露光する工程において、第2電極層27を露光することを特徴とする。具体的には以下に示す工程となる。
まず、図6(a)に示すように、前面基板4上に、インジウムスズ酸化物(ITO)などからなる透明電極10を所定のパターン形状に形成する。
次に、図6(b)に示すように、黒色顔料を含む感光性導電性ペーストを、透明電極10を覆うように前面基板4上に塗布して乾燥させることにより、第1ペースト層(第1の感光性組成物層)28を形成する。
この第1ペースト層28は第1電極層26になる層である。ここで用いる黒色顔料を含む感光性導電性ペーストは、黒色顔料、感光性樹脂成分および無機バインダーを含み、黒色顔料として例えば、酸化ルテニウムやルテニウム複合酸化物のような導電性材料を用いることができる。導電性のない黒色顔料を用いる場合には、さらにAgやAg合金などの導電性材料を含ませればよい。
また、無機バインダとして例えばガラスフリットを使用することができる。なお、黒色顔料を含む感光性導電性ペーストのかわりに、感光性シートを用いてもよい。
続いて、図6(c)に示すように、マスク29を用いて第1ペースト層28を紫外線で露光する。ここでマスク29は、走査電極24もしくは維持電極25の1本に対して、幅cのストライプ状の開口部を2本形成してある。そして同図において紫外線で露光された部分を露光部28cとして示している。
また同図に示したように、幅cとなる2本の開口部は、外側の距離幅aで形成されている。そして本実施の形態では幅aが100μmであって、幅cは25μmであったが、これに限らず後述する条件を満たしていれば本発明の効果は奏することができる。このように本実施の形態では、まず第1電極層26の中央部以外の部分を露光することになる。
その後、図6(d)に示すように、感光性導電性ペーストを、第1のペースト層28上に塗布して乾燥させることにより、第2ペースト層(第2の感光性組成物層)30を形成する。この第2ペースト層30は第2電極層27になる層である。ここで用いる感光性導電性ペーストは、例えば、Agなどの導電性材料、感光性樹脂成分および無機バインダーを含むものである。無機バインダとして例えばガラスフリットを使用することができる。なお、感光性導電性ペーストのかわりに、感光性シートを用いてもよい。
続いて、図6(e)に示すように、マスク31を用いて第1ペースト層28および第2ペースト層30を紫外線で露光する。ここでマスク31は幅bのストライプ状の開口部を形成してある。そしてマスク31は、その幅bの開口部が2本の露光部28c上の領域と重複するように配置される。第2ペースト層30の紫外線で露光された部分を露光部30bで示している。
なお、マスク31の開口部の幅bは、マスク29の幅aよりも狭く、本実施の形態では幅bは80μmであったが、これに限らず後述する条件を満たしていれば本発明の効果は奏することができる。このように2回目の露光工程においては、第1電極層26の中央部を含めて露光し、かつ第2電極層27を同時に露光している。
次に、図6(f)に示すように、現像液を用いて現像することにより未露光部分を除去する。その後、焼成することにより、透明電極10上に第1電極層26および第2電極層27が積層して形成される。
上記のように、本実施の形態では、第1ペースト層28と第2ペースト層30とをすべて一括して露光するのではなく、分割して露光する工程を有している。つまり上記2回の露光工程において、第1ペースト層28は異なる領域を露光し、さらに一部の領域は重複している。
具体的には第2ペースト層30を露光するときに使用するマスク31の開口部の幅bを、第1ペースト層28を露光するときに使用するマスク29の幅aよりも狭くし、露光部28cに相当する領域が第2ペースト層30を露光するときに使用するマスク31の開口部の幅bと一部を重複させている。
このため、現像工程にて未露光部を除去した後の第1電極層26および第2電極層27の形状が、図3で示したような従来技術で生じる形状となることを防止することができる。さらには、焼成工程の後にエッジカールが形成されることを抑制することができる。
また一方で、第1電極層26と第2電極層27の一部を一括で露光しているため、従来技術で生じていた第2ペースト層30中の感光性有機成分の第1ペースト層28中への浸透を防止することができ、結果的に現像・焼成時の第2電極層27の欠け・剥がれの発生を抑制することもできる。
ここで、本実施の形態においてさらに望ましい形態について述べる。図6(c)記載の幅dは第1電極層26の中央部の幅である。つまり上記で説明した同図の露光工程において、第1電極層26となる第1ペースト層28には、幅cの開口部に挟まれた幅dの中央部は露光されていない。ここで必然的にd=a−2cとなる。
この幅dは、マスク31の幅bに対して、0.5以上となることが望ましい。幅dが幅bの0.5より小さくなる場合、第1ペースト層28および第2ペースト層30とが一括で露光される領域が狭くなることになり、第2ペースト層30中の感光性有機成分が直下にある第1ペースト層28へ浸透する領域が広くなり、第2電極層27の欠けや剥がれが発生する程度が悪化し、断線し易くなる。
図7は、第2電極層27の欠けや剥がれ等の欠陥数の変化を示した図である。ここで横軸は幅bに対する幅dの割合を示している。また欠陥数は42インチサイズのPDP1枚あたりの欠陥数である。このように、幅dの割合が増加するに伴い、第2電極層27の欠陥数も増加している。そして製造後のPDPにて良品歩留まり数から鑑み、幅dは幅bに対して0.5以上であることが望ましいことがわかった。
以上説明したように本実施の形態では、第1のペースト層28および第2のペースト層30を現像した後の形状は、下層である第1のペースト層28が上層である第2のペースト層30よりも幅広なテーパー形状となり、焼成後にエッジカールが発生することを抑制できる。このため、パネルを作製してそのパネルで画像表示を行うとき、誘電体層8の絶縁破壊が発生しやすくなることがなく、また、表示面側から見たとき略白色の第2電極層27は黒色の第1電極層26によって隠れてしまうので、第2電極層27による外光反射が抑制される。
なお、上記実施の形態では、透明電極10上に第1電極層26および第2電極層27を形成した場合について説明したが、透明電極10が無く、基板上に第1電極層26および第2電極層27を順次形成することにより電極を形成したPDPについても、本発明を適用することにより同様の効果を得ることができる。また、上記実施の形態のような第1電極層26が反射抑制層である場合に限られることなく、第1電極層およびその上に形成された第2電極層を有する電極が基板上に形成されたPDPにおいて、第1電極層および第2電極層を形成する際に本発明を適用することにより、エッジカールの発生を抑制することができる。
また、上記の説明で用いた「黒色」という用語は、必ずしも濃淡の全くない黒に限定されるものではなく、白色の背景に対して視覚的にコントラストを示すような黒い色または暗色も含むものである。
以上述べてきたように本発明のPDPは、特性向上に有効であると共に、電極起因による不良を抑制し、大画面ハイディフィニションテレビの製造歩留まり向上に有用である。
従来のプラズマディスプレイパネルの構造を示す斜視図 従来のプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する為の断面図 同製造方法において現像した後の走査電極または維持電極の断面図 同製造方法において焼成した後の走査電極または維持電極の断面図 本発明の実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの一部を示す斜視図 同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する為の断面図 マスク開口幅に対する欠陥数の変化を示す説明図
符号の説明
4 前面板
10 透明電極
26 第1電極層
27 第2電極層
28 第1ペースト層(第1の感光性組成物層)
29 マスク
30 第2ペースト層(第2の感光性組成物層)
31 マスク

Claims (5)

  1. 第1電極層を形成する工程と、第2電極層を形成する工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
    前記第1電極層および前記第2電極層はフォトリソグラフィ法で形成され、
    前記第1電極層を露光する工程は、パターン形成後の幅方向に対して中央部以外を露光する工程と、少なくとも前記中央部を含めて露光する工程とを有し、
    第1電極層と第2電極層とを一括で現像することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  2. 前記中央部を含めて露光する工程において、前記第2電極層を露光することを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  3. 前記中央部の幅は、前記第2電極層を露光する幅の0.5以上であることを特徴とする請求項1−2記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  4. 第1電極層は第2電極層よりも画像表示側に形成され、
    前記第1電極層が外光反射を抑制する反射抑制層であり、第2電極層が導電層であることを特徴とする請求項1−3記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  5. 前記第2電極層には少なくとも銀を含むことを特徴とする請求項1−4記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
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