JPH10172441A - プラズマデイスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示のコントラストを高め、表示の視認性を
向上させたプラズマデイスプレイパネル及びそれを効率
良く製造することができる製造方法を提供すること。 【解決手段】 表示面側の基板上に、行電極対と、行電
極対を被覆する誘電体層とを有し、放電空間を介して表
示面側の基板に対向して配置された背面側の基板上に、
行電極と交差して延びる列電極と、放電により発光する
蛍光体層を有したプラズマデイスプレイパネルであっ
て、表示面側の基板及び行電極対と誘電体層との間に、
誘電体層に比して十分薄い無機顔料層からなるカラーフ
ィルタを設けたことにより表示のコントラストを高め、
且つカラーフィルタの形成を効率良く行われるようにし
たプラズマデイスプレイパネル及びプラズマデイスプレ
イパネルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、放電により発光す
る蛍光体層を設けることにより、カラー表示を可能とし
たプラズマデイスプレイパネル（ＰＤＰ）に関し、特に
カラーフィルタを用いて画面表示のコントラストを高
め、鮮明なカラー表示を可能とするＰＤＰ及びその製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、図３に示すように放電により
発光する蛍光体を設けて多色表示を可能とした３電極構
造のＡＣ（交流）駆動型のＰＤＰが知られている。この
ような面放電型のＡＣ型ＰＤＰは、放電空間３０を介し
て対向する一対の表示面側の基板１１及び背面側の基板
２１と、表示面側の基板１１の内面に水平方向に互いに
平行に延びる複数の行電極対Ｘ、Ｙと、行電極対を被覆
する誘電体層１６と、誘電体層１６を放電空間３０に対
して被覆するＭｇＯからなる保護層１７と、背面側の基
板２１の内面に垂直方向に帯（ストライプ）状に放電空
間３０を区画する隔壁（リブ）２３と、隔壁２３間に垂
直方向に延びる複数の列電極１８と、更に隔壁２３の側
面及び列電極１８を覆う蛍光体層２４を有し、一対の基
板を封止した構造となっており、行電極対Ｘ、Ｙと列電
極１８の各交差部に画定される各画素（放電セル）を選
択的に発光させるように構成されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、非発光時の
蛍光体層は、白色や淡い灰色などの白っぽい色であるの
で、発光している放電セルと発光していない放電セルと
のコントラストが不明瞭であり、また外光の反射による
表示コントラストが低下し、画面表示の視認性が悪いと
いう問題があった。このような問題を解決するために、
表示面側の基板の外表面に緑色光吸収フィルタを設ける
と共に表示面側の基板の内面に蛍光体の発光色に対応し
たカラーフィルタを設けることが考えられる。

【０００４】このようなカラーフィルタに対して、次の
ような形成方法が提案されている。 （１）低融点ガラスペースト及び無機顔料を適当なバイ
ンダ樹脂及び溶剤と練り合わせたペーストを基板にスク
リーン印刷等の方法でパターンニングし、焼成すること
によりバインダ樹脂及び溶剤を除去し、低融点ガラスペ
ースト中に無機顔料が分散したカラーフィルタを得る。 （２）基板上に無機顔料をスクリーン印刷等の方法で所
定の形状にパターンニングし、その上に透明なオーバー
コート層を形成し、基板上に無機顔料を固着してカラー
フィルタを得る。ＰＤＰでは、カラーフィルタ上に行電
極、誘電体層が形成される場合、その断線やピンホール
を防ぐことが肝要であり、そのためにはカラーフィルタ
層による基板上の凹凸が小さくできるだけ平坦であるこ
とが望ましい。

【０００５】しかしながら、（１）の形成方法では、カ
ラーフィルタの必要な光学濃度を確保するために比較的
厚いカラーフィルタ層を形成する必要があり、基板上に
その分凹凸が形成される。一方、（２）の形成方法で
は、必要な光学濃度を持つカラーフィルタ層を比較的薄
い膜厚（数ミクロン程度）で形成することが可能である
が、無機顔料層自体では基板に付着しているに過ぎない
ので無機顔料層上に行電極をフォトリソグラフィ法でパ
ターンニングして形成する工程で剥離してしまう。そこ
で、無機顔料層を透明なオーバーコート層で覆って基板
に固着している。

【０００６】このオーバーコート層に対しては、上述の
フォトリソグラフィ法の工程で使用されるエッチング液
等に対する耐性、表面の平滑性、良好な光学特性（透過
率が高く、吸収、散乱が少ないこと）及び誘電体層より
高い軟化点を持つことが要求されるので、オーバーコー
ト層として誘電体層より高い軟化点を持つガラス材料を
用い、軟化点より高い温度で焼成することにより、上記
の要求を満足させることが可能となるが、基板の変形、
焼成工程への負担増加（装置の巨大化、焼成時間の増
加）等の問題が生じる。本発明は、上述の問題に鑑み、
表示のコントラストを高め、表示の視認性を向上させた
プラズマデイスプレイパネル及びそれを効率良く製造す
ることができる製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
表示面側の基板上に、行電極対と、行電極対を被覆する
誘電体層とを有し、放電空間を介して表示面側の基板に
対向して配置された背面側の基板上に、行電極と交差し
て延びる列電極と、放電により発光する蛍光体層を有し
たプラズマデイスプレイパネルであって、表示面側の基
板及び行電極対と誘電体層との間に、誘電体層に比して
十分薄い無機顔料層からなるカラーフィルタを設けたこ
とを特徴とする。

【０００８】請求項２記載の発明は、表示面側の基板上
に、行電極対と、行電極対を被覆する誘電体層とを有
し、放電空間を介して表示面側の基板に対向して配置さ
れた背面側の基板上に、行電極と交差して延びる列電極
と、放電により発光する蛍光体層を有したプラズマデイ
スプレイパネルであって、誘電体層内に、誘電体層に比
して十分薄い無機顔料層からなるカラーフィルタを設け
たことを特徴とする。

【０００９】請求項３記載の発明は、請求項１記載のプ
ラズマデイスプレイパネルの製造方法であって、表示面
側の基板上に、透明導電膜及びそれに積層された金属膜
からなる行電極対を所定形状にパターンニングして形成
した後、表示面側の基板及び行電極対上に無機顔料層を
所定形状にパターンニングすることによってカラーフィ
ルタを形成し、無機顔料層上にガラス層を設けることに
よって誘電体層を形成することを特徴とする。

【００１０】請求項４記載の発明は、請求項３記載のプ
ラズマデイスプレイパネルの製造方法であって、無機顔
料層とガラス層を同時に焼成することを特徴とする。

【００１１】請求項５記載の発明は、請求項３又は請求
項４記載のプラズマデイスプレイパネルの製造方法であ
って、ガラス層のガラス材料として、５００℃以下の軟
化点を有するガラス材料を用いることを特徴とする。

【００１２】請求項６記載の発明は、請求項２記載のプ
ラズマデイスプレイパネルの製造方法であって、表示面
側の基板上に、透明導電膜及びそれに積層された金属膜
からなる行電極対を所定形状にパターンニングして形成
した後、表示面側の基板及び行電極対上に第１のガラス
層を設けることによって第１の誘電体層を形成し、第１
の誘電体層上に無機顔料層を所定形状にパターンニング
することによってカラーフィルタを形成し、無機顔料層
上に第２のガラス層を設けることによって第２の誘電体
層を形成することを特徴とする。

【００１３】請求項７記載の発明は、請求項６記載のプ
ラズマデイスプレイパネルの製造方法であって、無機顔
料層と第１及び第２のガラス層を同時に焼成することを
特徴とする。

【００１４】請求項８記載の発明は、請求項６又は請求
項７記載のプラズマデイスプレイパネルの製造方法であ
って、ガラス層のガラス材料として、５００℃以下の軟
化点を有するガラス材料を用いることを特徴とする。

【００１５】

【作用】本発明によれば、表示面側の基板上に、行電極
対と、行電極対を被覆する誘電体層とを有し、放電空間
を介して表示面側の基板に対向して配置された背面側の
基板上に、行電極と交差して延びる列電極と、放電によ
り発光する蛍光体層を有したプラズマデイスプレイパネ
ルであって、表示面側の基板及び行電極対と誘電体層と
の間に、誘電体層に比して十分薄い無機顔料層からなる
カラーフィルタを設けたことにより表示のコントラスト
を高め、且つカラーフィルタの形成が効率良く行われ
る。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は本発明の第１実施の形態に
よるＰＤＰの要部の構成を示す断面図である。ＰＤＰ
は、マトリクス表示の画素（放電セル）に一対の行電極
Ｘ、Ｙと列電極１８とが対応する３電極構造を有し、蛍
光体の配置関係による分類上で反射型と呼称される面放
電型のＡＣ型ＰＤＰである。

【００１７】図１に示すように本発明の第１実施の形態
によるＰＤＰにおいて、ガラス部材を用いた表示面側の
基板１１の内側には、対をなす複数の行電極対Ｘ、Ｙが
形成されている。この行電極対Ｘ、Ｙは、酸化インジウ
ムと酸化錫（ＳｎＯ2 ）の混合物からなるＩＴＯの蒸着
と、およそ数千オングストロームの膜厚で互いに水平方
向に伸張する透明導電膜からなる透明電極１３と、この
透明電極１３の導電率を向上させるために、積層形成さ
れたアルミニウム又はアルミニウム合金の金属膜からな
る一対のバス電極１２とで構成されている。また、行電
極対Ｘ、Ｙの表面上には、後述する誘電体層１６に比し
て十分薄い無機顔料層からなるカラーフィルタ１４が焼
成により被覆されている。このカラーフィルタ１４上に
は、誘電体層１６が２０〜５０μｍの膜厚で形成され、
更にこの誘電体層１６をＭｇＯからなる保護膜１７が被
覆している。

【００１８】一方、ガラス部材を用いた背面側の基板２
１には、列電極１８が形成され、この列電極１８を被覆
して蛍光体層２４が形成されている。表示面側の基板１
１の行電極対Ｘ、Ｙと背面側の基板２１の列電極１８と
は、対向して互いに直交するように表示面側の基板１１
及び背面側の基板２１が離間配置されて放電空間３０が
形成され、放電空間３０内に希ガスを注入し、封入され
る。このように、表示面側の基板１１の行電極対Ｘ、Ｙ
と背面側の基板２１の列電極１８の交点を中心として画
素セル（放電セルを含む）が形成されるので、プラズマ
ディスプレイパネルは複数の画素セルを有し、画像の表
示が可能となる。

【００１９】図１に示した本発明の第１実施の形態によ
るＰＤＰと、図３に示した従来例のＰＤＰとの構造上の
相違点は、表示面側の基板１１及び行電極対Ｘ、Ｙと、
誘電体層１６の間に誘電体層１６に比して十分薄い無機
顔料層からなるカラーフィルタ１４を設けている点であ
る。ここで用いる無機顔料層からなるカラーフィルタ１
４は、例えば赤色顔料としてＦｅ₂ Ｏ₃ 、緑色顔料とし
てＴｉＯ₂ −ＣｏＯ−ＮＩＯ−ＺｎＯ、青色顔料として
ＣｏＯ−Ａｌ₂ Ｏ₃ 等を使用している。このカラーフィ
ルタ１４に用いられる無機顔料層のパターンニング方法
は、無機顔料を適当なバインダ樹脂及び溶剤と練り合わ
せたペーストを基板上にスクリーン印刷等の方法でパタ
ーンニングした後、焼成することによりバインダ樹脂及
び溶剤を除去してカラーフィルタを得る方法がある。

【００２０】或いは、無機顔料を適当な感光性樹脂及び
溶剤と練り合わせたペーストを基板上に塗布し、これを
所定のフォトマスクを用い露光、現像してパターンニン
グした後、焼成することにより樹脂及び溶剤を除去して
カラーフィルタを得る方法がある。または、無機顔料を
基板上に塗布し、更にこの無機顔料層上に感光性樹脂を
塗布し、これを所定のフォトマスクを用い露光、現像、
エッチングしてパターンニングした後、焼成することに
よりカラーフィルタを得る方法がある。

【００２１】では、本発明の第１実施の形態によるＰＤ
Ｐの製造方法について説明する。先ず、表示面側の基板
１１上に酸化錫、ＩＴＯ等からなる透明導電膜を蒸着又
はスパッタリングにより形成し、フォトリソグラフィ法
により透明電極膜のパターンニングを行う。即ち、透明
導電膜上にフォトレジスト層（ポジ型）を形成し、マス
クを介して露光し、露光部分が形成される。これを現像
してフォトレジスト層をマスクとしてエッチング処理を
行った後、フォトレジスト層を除去することにより透明
導電膜からなる透明電極１３が形成される。

【００２２】次に、表示面側の基板１１と透明電極１３
を含む面上にアルミニウム又はアルミニウム合金の金属
膜を蒸着又はスパッタリングにより形成し、その上にポ
ジ型のフォトレジスト層を塗布し、電極パターン用マス
クを介して露光・現像し、露光・現像されたフォトレジ
ストをマスクとして金属膜をエッチングすることにより
行電極対Ｘ、Ｙが形成される。

【００２３】次に、表示面側の基板１１及び行電極対
Ｘ、Ｙを含む面上に、蛍光体層２４に対応させて蛍光体
の発光色に応じた色のカラーフィルタ１４を上述の方法
を用いてパターンニングして形成する。更に、このカラ
ーフィルタ１４の面上には、一様に低融点ガラスペース
トが塗布され、これを焼成することでガラス層による誘
電体層１６が被覆される。また、誘電体層１６上にＭｇ
Ｏからなる保護膜を蒸着することにより保護層１７を設
けて表示面側の基板１１の製造が終了する。

【００２４】一方、背面側の基板２１面上にアルミニウ
ム又はアルミニウム合金からなる金属膜を蒸着又はスパ
ッタリングにより形成する。そして、その上にポジ型の
フォトレジスト層を塗布して形成し、電極パターン用マ
スクを重ねてフォトレジスト層を露光・現像し、この露
光・現像されたフォトレジスト層をマスクとして金属膜
をエッチングして列電極１８が形成される。次いで、列
電極１８間に設けられた隔壁２３は、ドライガラスペー
ストを積層し、隔壁２３用マスクを重ねてフォトレジス
ト層を露光・現像し、この露光・現像されたフォトレジ
スト層をマスクとして金属膜をエッチングして隔壁２３
が形成される。その後、列電極１８面上にＲＧＢ毎の蛍
光体を含むペーストが塗布され、これを焼成することに
より蛍光体層２４が形成される。

【００２５】上述した表示面側の基板１１の行電極対
Ｘ、Ｙと背面側の基板２１の列電極１８は、互いに直交
するように対向させ表示面側の基板１１及び背面側の基
板２１が離間配置されて放電空間３０が形成されるの
で、放電空間３０内に希ガスを注入し、封入される。こ
のように、表示面側の基板１１の行電極対Ｘ、Ｙと背面
側の基板２１の列電極１８の交点を中心として画素セル
が形成されるので、プラズマディスプレイパネルは複数
の画素セルを有し、画像の表示が可能となる。

【００２６】上述の製造方法では、行電極対Ｘ、Ｙをフ
ォトリソグラフィ法でパターンニングして形成する工程
終了後、カラーフィルタ１４を形成するので、顔料を基
板に固着するための特殊なオーバーコート層を必要とせ
ず、ガラス層としての誘電体層１６がオーバーコート層
を兼ねているために工程が簡略化される。また、カラー
フィルタの焼成温度は、樹脂の分解温度程度でよいので
基板の熱履歴を抑えることができる。

【００２７】尚、誘電体層１６を形成するガラス材料と
しては、軟化点が５００℃以下の低融点ガラスペースト
を使用することもできるため顔料の固定もより確実にで
き、基板の変形も防ぐことができる。また、カラーフィ
ルタ１４と誘電体層１６の焼成を同時に行うことによ
り、工程を簡略化することができる。

【００２８】図２は本発明の第２実施の形態によるＰＤ
Ｐの要部の構成を示す断面図である。図２に示すように
本発明の第２実施の形態のＰＤＰにおいて、ガラス部材
を用いた表示面側の基板１１の内側には、対をなす複数
の行電極対Ｘ、Ｙが形成されている。この行電極対Ｘ、
Ｙは、酸化インジウムと酸化錫の混合物からなるＩＴＯ
の蒸着と、およそ数千オングストロームの膜厚で互いに
水平方向に伸張する透明導電膜からなる透明電極１３
と、この透明電極１３の導電率を向上させるために、積
層形成されたアルミニウム又はアルミニウム合金の金属
膜からなる一対のバス電極１２とで構成されている。

【００２９】また、行電極対Ｘ、Ｙの表面上には、第１
のガラス層としての第１誘電体層１６ａが数十μｍの膜
厚で被覆され、この第１誘電体層１６ａを被覆するよう
に無機顔料層からなるカラーフィルタ１４が焼成により
形成される。次いで、カラーフィルタ１４面上に第２の
ガラス層としての第２誘電体層１６ｂを形成した後、Ｍ
ｇＯからなる保護膜１７が形成される。一方、ガラス部
材を用いた背面側の基板２１には、列電極１８が形成さ
れ、この列電極１８を被覆して蛍光体層２４が形成され
ている。表示面側の基板１１の行電極対Ｘ、Ｙと背面側
の基板２１の列電極１８とは、対向して互いに直交する
ように表示面側の基板１１及び背面側の基板２１が離間
配置されて放電空間３０が形成され、放電空間３０内に
希ガスを注入し、封入される。

【００３０】上述したように、図２に示す本発明の第２
実施の形態のＰＤＰと、図３に示した従来例のＰＤＰと
の構造上の相違点は、表示面側の基板１１及び行電極
Ｘ、Ｙ面上に、誘電体層１６を略２分割し、第１誘電体
層１６ａと第２誘電体層１６ｂとの間に誘電体層１６に
比して十分薄い無機顔料層からなるカラーフィルタ１４
を設けている点である。

【００３１】ここで、本発明の第２実施の形態によるＰ
ＤＰの製造方法を説明する。図２に示すように、表示面
側の基板１１上に酸化錫、ＩＴＯ等からなる透明導電膜
を蒸着又はスパッタリングにより形成し、フォトリソグ
ラフィ法により透明電極膜のパターンニングを行う。即
ち、透明導電膜上にフォトレジスト層（ポジ型）を形成
し、マスクを介して露光し、露光部分が形成される。こ
れを現像してフォトレジスト層をマスクとしてエッチン
グ処理を行った後、フォトレジスト層を除去することに
より透明導電膜からなる透明電極１３が形成される。次
に、表示面側の基板１１及び透明電極１３上にアルミニ
ウム又はアルミニウム合金の金属膜を蒸着又はスパッタ
リングにより形成し、その上にポジ型のフォトレジスト
層を塗布し、電極パターン用マスクを介して露光・現像
し、露光・現像されたフォトレジスト層をマスクとして
金属膜をエッチングすることにより行電極対Ｘ、Ｙが形
成される。

【００３２】次に、表示面側の基板１１及び行電極対
Ｘ、Ｙは、一様に低融点ガラスペーストが塗布され、こ
れを焼成することで第１誘電体層１６ａが形成される。
この第１誘電体層１６ａ面上に、背面側の基板２１に設
けられた蛍光体層２４に対応させて蛍光体の発光色に応
じた色のカラーフィルタ１４を上述の方法を用いてパタ
ーンニングして形成する。そして、カラーフィルタ１４
面上には、第１誘電体層１６ａと同様の工程を経て第２
誘電体層１６ｂが形成され、更に第２誘電体層１６ｂ上
にＭｇＯからなる保護膜を蒸着し、焼成して保護層１７
を設けて表示面側の基板１１の製造が終了する。一方、
背面側の基板２１の製造方法は、第１実施の形態と同一
であるため説明を省略する。

【００３３】上述の製造方法では、行電極対Ｘ、Ｙをフ
ォトリソグラフィ法でパターンニングし、次いで第１誘
電体層１６ａを形成した後、カラーフィルタ１４を形成
するので、顔料を基板に固着するための特殊なオーバー
コート層を必要とせず、更に第２誘電体層１６ｂがオー
バーコート層を兼ねるため工程が簡略化される。また、
カラーフィルタの焼成温度は、樹脂の分解温度程度でよ
いので基板の熱履歴を抑えることができる。

【００３４】

【発明の効果】本発明によれば、放電により発光する蛍
光体を設けて多色表示を可能とした３電極構造のＡＣ型
のＰＤＰにおいて、表示面側に設けられた行電極対と誘
電体層との間に、誘電体層に比して十分薄い無機顔料層
からなるカラーフィルタを設けたことにより、表示のコ
ントラストを高め、信頼性を向上させることができる。
また、行電極対と誘電体層間及び第１と第２で構成され
る誘電体層の間にカラーフィルタを設けたことにより、
無機顔料層を基板に固着するための特殊なオーバーコー
ト層を必要とせず、カラーフィルタに低軟化点ガラス
（軟化点温度が５００℃以下）を使用できることからカ
ラーフィルタと誘電体層とを同時に焼成することが可能
となり、しかも誘電体層がオーバーコート層を兼ねる構
造とすることができるため工程が簡略化される。また、
カラーフィルタの焼成温度は、樹脂の分解温度程度でよ
いので基板の熱履歴を抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施の形態によるＰＤＰの要部の
構成を示す断面図。

【図２】本発明の第２実施の形態によるＰＤＰの要部の
構成を示す断面図。

【図３】従来の面放電型ＰＤＰの構造を示す斜視図。

【符号の説明】

１１・・表示面側の基板 １２・・バス電極 １３・・透明電極 １４・・カラーフィルタ １６・・誘電体層 １６ａ・・第１誘電体層 １６ｂ・・第２誘電体層 １７・・保護層 １８・・列電極 ２１・・背面側の基板 ２３・・隔壁 ３０・・放電空間

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表示面側の基板上に、行電極対と、前記
   行電極対を被覆する誘電体層とを有し、放電空間を介し
   て前記表示面側の基板に対向して配置された背面側の基
   板上に、前記行電極と交差して延びる列電極と、放電に
   より発光する蛍光体層を有したプラズマデイスプレイパ
   ネルであって、 前記表示面側の基板及び行電極対と前記誘電体層との間
   に、前記誘電体層に比して十分薄い無機顔料層からなる
   カラーフィルタを設けたことを特徴とするプラズマデイ
   スプレイパネル。
2. 【請求項２】 表示面側の基板上に、行電極対と、前記
   行電極対を被覆する誘電体層とを有し、放電空間を介し
   て前記表示面側の基板に対向して配置された背面側の基
   板上に、前記行電極と交差して延びる列電極と、放電に
   より発光する蛍光体層を有したプラズマデイスプレイパ
   ネルであって、 前記誘電体層内に、前記誘電体層に比して十分薄い無機
   顔料層からなるカラーフィルタを設けたことを特徴とす
   るプラズマデイスプレイパネル。
3. 【請求項３】 請求項１記載のプラズマデイスプレイパ
   ネルの製造方法であって、 前記表示面側の基板上に、透明導電膜及びそれに積層さ
   れた金属膜からなる前記行電極対を所定形状にパターン
   ニングして形成した後、前記表示面側の基板及び前記行
   電極対上に前記無機顔料層を所定形状にパターンニング
   することによって前記カラーフィルタを形成し、前記無
   機顔料層上にガラス層を設けることによって前記誘電体
   層を形成することを特徴とするプラズマデイスプレイパ
   ネルの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項３記載のプラズマデイスプレイパ
   ネルの製造方法であって、 前記無機顔料層と前記ガラス層を同時に焼成することを
   特徴とするプラズマデイスプレイパネルの製造方法。
5. 【請求項５】 請求項３又は請求項４記載のプラズマデ
   イスプレイパネルの製造方法であって、 前記ガラス層のガラス材料として、５００℃以下の軟化
   点を有するガラス材料を用いることを特徴とするプラズ
   マデイスプレイパネルの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項２記載のプラズマデイスプレイパ
   ネルの製造方法であって、 前記表示面側の基板上に、透明導電膜及びそれに積層さ
   れた金属膜からなる前記行電極対を所定形状にパターン
   ニングして形成した後、前記表示面側の基板及び前記行
   電極対上に第１のガラス層を設けることによって第１の
   誘電体層を形成し、前記第１の誘電体層上に無機顔料を
   所定形状にパターンニングすることによって前記カラー
   フィルタを形成し、前記無機顔料層上に第２のガラス層
   を設けることによって第２の誘電体層を形成することを
   特徴とするプラズマデイスプレイパネルの製造方法。
7. 【請求項７】 請求項６記載のプラズマデイスプレイパ
   ネルの製造方法であって、 前記無機顔料層と前記第１及び第２のガラス層を同時に
   焼成することを特徴とするプラズマデイスプレイパネル
   の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項６又は請求項７記載のプラズマデ
   イスプレイパネルの製造方法であって、 前記ガラス層のガラス材料として、５００℃以下の軟化
   点を有するガラス材料を用いることを特徴とするプラズ
   マデイスプレイパネルの製造方法。