JPH10208627A - マスクパターン用ドライフィルムとそれを用いた表示パネルのリブ形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 マスクパターン用ドライフィルムとそれを用
いた表示パネルのリブ形成方法に関し、マスクパターン
用ドライフィルムの膨潤による蛇行、剥離をなくす。 【解決手段】 感光性のドライフィルムを複数の細長の
パターンに形成するとともに、形成した各パターンの長
手方向に交差して複数の微細な凹部またはスリットを設
ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、マスクパターン
用ドライフィルムとそれを用いた表示パネルのリブ（隔
壁）形成方法に関し、さらに詳しくは、高精細表示が可
能な、例えばＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）の
ような表示パネルのリブの形成に用いられるマスクパタ
ーン用ドライフィルム、およびそれを用いた表示パネル
のリブ形成方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体装置をはじめとして、各種
の装置の小型化に伴い、より微細な形状のパターニング
が必要とされてきている。例えば、ＰＤＰでは、より高
精細な表示が求められるようになってきており、これに
伴い、放電空間を仕切るためのリブを微細に形成するこ
とが必要となってきている。

【０００３】このような微細形状のパターニングに関
し、ＰＤＰを例に挙げて説明する。ＰＤＰは、一対の基
板（通常はガラス板）を微小間隙を設けて対向配置し、
周囲を封止することによって内部に放電空間を形成した
自己発光型の表示パネルである。

【０００４】一般に、マトリクス表示方式のＰＤＰに
は、放電空間を仕切るために、１００〜２００μｍ程度
の高さのリブが設けられている。例えば、蛍光体による
カラー表示に適した面放電型ＰＤＰには、平面的にみた
場合に直線状あるいは波形のリブが表示のライン方向に
沿って等間隔に設けられている。このリブは、例えば２
１インチサイズのカラーＰＤＰでは約２００μｍの配列
間隔で形成する必要がある。

【０００５】近年、このようなリブの形成には、パター
ン印刷に代えて、サンドブラスト法や液体ホーニング法
が用いられており、なかでもサンドブラスト法は、ウェ
ットエッチング法に比べてパターニング精度が高く、生
産性の面で大画面化に適しているため、よく用いられて
いる。

【０００６】このサンドブラスト法を用いてリブを形成
するには、まず、基板の上に一様なリブ材料層（ガラス
ペーストなどの平面膜）を形成し、その上に、例えば感
光性のドライフィルムを用いてマスクパターンを形成す
るのであれば、３０〜４０μｍ程度の厚みの感光性のド
ライフィルムを貼り付け、そのドライフィルムにネガマ
スクをかぶせて露光し、現像液をシャワー状に当てなが
ら未露光部分を取り除くいわゆるフォトリソグラフィ法
によって、ドライフィルムを所定のマスクパターンに形
成した後、その上から粒子等の切削剤を吹きつけてリブ
材料層をパターニングする。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】このようなＰＤＰで
は、上述したように、高精細化や、あるいは開口率を上
げて輝度の向上を図るためには、リブの幅を細線化する
必要があり、そのためにはリブ形成用マスクパターンで
あるドライフィルムの細線化が必要である。

【０００８】ところが、細い幅のドライフィルムパター
ンを形成しようとする場合、ドライフィルムの幅が細く
なるにつれてドライフィルムの現像時にドライフィルム
の膨潤によるパターンの蛇行と剥離が生じやすくなる。

【０００９】図８はドライフィルムの膨潤による頂面側
の伸長力を示す説明図である。この図に示すように、リ
ブ材料層であるガラスペーストなどの平面膜６１上にド
ライフィルム６２のパターンが形成されるのであるが、
ドライフィルム６２の露光後の現像処理においては、光
によって硬化したドライフィルム６２の頂面側は、現像
の開始時から終了時までの長い間現像液にさらされるた
め、膨潤により膨張し、ドライフィルム６２の長手方向
（図８中、ａで示す方向）に伸長力がはたらく。

【００１０】すなわち、図９は図８のＡ−Ａ断面を示す
説明図であり、この図に示すように、ドライフィルム６
２の頂面側（図中、ドライフィルム６２の上側）は、長
時間現像液にさらされるため、膨潤により膨張する。

【００１１】それに対し、ドライフィルム６２の底面側
（平面膜６１との密着面側：図中、ドライフィルム６２
の下側）は、現像液にさらされる時間が頂面側に比較し
て短く、さらに平面膜６１と密着しているために、膨潤
による膨張が起こりにくい。結果としてドライフィルム
６２の頂面側の長さが底面側の長さに比べて長くなる。

【００１２】このため、ドライフィルム６２の頂面側の
パターン長手方向への膨張した分は、底面が密着してい
るためにそのまま伸びることができず、蛇行することに
よって距離を保とうとする。

【００１３】図１０はドライフィルムの膨潤による頂面
側の蛇行を示す説明図であり、ドライフィルムの蛇行す
る様子を示したものである。このように蛇行した後、膨
張による伸長力が平面膜６１への密着力を越えたとき
に、ドライフィルム６２が剥離を起こす。

【００１４】従来では、微細形状のパターニングに際
し、このような膨潤により、ドライフィルムパターンが
蛇行、剥離して、ストレートなパターンが形成できない
という問題があった。また、この膨張のため、ドライフ
ィルムの現像時間に余裕を持たせることができなかっ
た。

【００１５】この発明は、このような事情を考慮してな
されたもので、細線化した場合でも、膨潤による蛇行、
剥離をなくし、現像の余裕度範囲を広げることが可能な
マスクパターン用ドライフィルムと、それを用いた表示
パネルのリブ形成方法を提供するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この発明は、感光性のド
ライフィルムを複数の細長のパターンに形成するととも
に、形成した各パターンの長手方向に交差して複数の微
細な凹部またはスリットを設けてなることを特徴とする
マスクパターン用ドライフィルムである。

【００１７】この発明のマスクパターン用ドライフィル
ムにおいては、感光性のドライフィルムを複数の細長の
パターンに形成し、形成した各パターンの長手方向に交
差して複数の微細な凹部またはスリットを設けるので、
この複数の微細な凹部またはスリットによってドライフ
ィルムの膨潤による伸長が吸収され、ドライフィルムの
蛇行や剥離を防止することができる。また、これにより
現像の余裕度範囲を広げることができる。

【００１８】

【発明の実施の形態】この発明において、感光性のドラ
イフィルムとしては、被加工材料層上に貼り付けた後、
露光用マスクで覆って露光した後現像するいわゆるフォ
トリソグラフィーにより、被加工材料層上に各種のレジ
ストパターンを形成することが可能なものであればよ
く、東京応化工業（株）製のオーディルや、旭化成工業
（株）製のサンフォート等を適用することができる。

【００１９】ドライフィルムに設けられる複数の微細な
凹部またはスリットは、ドライフィルムの膨潤による伸
長を吸収することが可能な形状のものであればよく、例
えば、凹部としては、ドライフィルムの頂面側だけに形
成された窪み、切れ目、切り欠き等の形状のものであれ
ばよく、スリットとしては、ドライフィルムの頂面側か
ら底面側まで切断された形状のものであればよい。

【００２０】この発明は、また、基板上に形成されたリ
ブ材料層に感光性のドライフィルムを積層し、露光用マ
スクを用いて露光した後、現像することにより、感光性
のドライフィルムを複数の細長のパターンに形成すると
ともに、形成した各パターンの長手方向に交差して複数
の微細な凹部またはスリットを設け、次いでその感光性
のドライフィルムを介して切削剤を吹き付けてリブ材料
層を部分的に除去することからなる表示パネルのリブ形
成方法である。

【００２１】この発明において、基板としては、一般に
カラーＰＤＰの分野において背面基板と呼ばれる、ガラ
ス基板に下地層、アドレス電極、絶縁層をあらかじめ形
成したものを適用することができる。

【００２２】基板上へのリブ材料層の形成は、スクリー
ン印刷法、ブレードコーティング法、グリーンシート法
等の方法で行うことができる。スクリーン印刷法および
ブレードコーティング法では、リブ材料として、無機物
の粉末と有機物のバインダ（接合剤）とを混合してペー
スト状にしたものを用いることができる。例えば、無機
物の粉末としてガラス粉末を適用したものとして、ガラ
スペーストを挙げることができ、このようなガラスペー
ストを塗布後、乾燥させることによりリブ材料層を形成
することができる。

【００２３】グリーンシート法では、リブ材料として、
無機物の粉末と有機物のバインダとを混合して可塑性の
シート状に形成した材料（グリーンシート）を用いるこ
とができる。グリーンシート法では、この材料を基板に
加圧ロールで貼り付け、切削加工性を上げるために３０
０〜４００℃で仮焼成して有機成分を除去することによ
りリブ材料層を形成することができる。

【００２４】リブ材料層の部分的な除去は、サンドブラ
スト法、あるいは液体ホーニング法等で行うことができ
る。サンドブラスト法を用いる場合には、サンドブラス
ト装置で、数十μｍの大きさの切削剤としての研磨材を
空気流に乗せて吹き付け、これによりリブ材料層のマス
クパターン用ドライフィルムで覆われていない部分を切
削する。

【００２５】本発明においては、露光用マスクのリブの
長手方向に交差して設けられる複数のスリットの幅を適
切に設定することにより、マスクパターン用ドライフィ
ルムを任意の深さまで除去することが可能である。

【００２６】すなわち、露光用マスクのスリットの幅を
リブの間隔と同等に設定しておけば、現像液によってス
リット部分（未露光部分）の溶解される速度は、リブと
リブとの間の未露光部分の溶解される速度とほぼ同じで
あるので、ドライフィルムの頂面側から底面側までスリ
ットの入った完全に独立した鎖線状のマスクパターン用
ドライフィルムを得ることができる。

【００２７】また、露光用マスクのスリットの幅をリブ
の間隔よりも狭く設定しておけば、スリット部分のドラ
イフィルムの溶解される速度は、リブとリブとの間の未
露光部分の溶解される速度よりも遅くなるので、リブと
リブとの間の未露光部分のドライフィルムが全て溶解さ
れた時点で現像を止めれば、ドライフィルムの頂面側だ
けに凹部を設けたマスクパターン用ドライフィルムを得
ることができる。

【００２８】

【実施例】以下、図面に示す実施例に基づいてこの発明
を詳述する。なお、これによってこの発明が限定される
ものではない。以下においては、ＰＤＰを例に挙げ、Ｐ
ＤＰのリブの形成に用いられるマスクパターン用ドライ
フィルム、およびそれを用いたＰＤＰのリブ形成方法に
ついて説明する。この説明に際し、まず、この発明の表
示パネルのリブ形成方法によって作製されるＰＤＰの構
成を説明する。

【００２９】図１はこの発明のマスクパターン用ドライ
フィルムを用いた表示パネルのリブ形成方法を適用した
カラー表示用のＡＣ駆動形式の面放電型ＰＤＰの構成を
示す説明図であり、３ライン分の画素に対応する部分の
基本的な構図を示したものである。図１に示したＰＤＰ
１は、蛍光体の配置形態による分類の上で反射型と称さ
れる３電極構造のＰＤＰである。

【００３０】この３電極面放電型ＰＤＰは、前面側と背
面側の一対のガラス基板１１，２１、横方向に互いに平
行に隣接して延びた一対の表示電極Ｘ，Ｙ、壁電荷によ
って放電を維持するＡＣ駆動のための誘電体層１７、Ｍ
ｇＯからなる保護膜１８、下地層２２、表示電極Ｘ，Ｙ
に直行するアドレス電極Ａ、絶縁層２４、アドレス電極
Ａと平行なストライプ状のリブ２９、フルカラー表示の
ための蛍光体層２８Ｂ，２８Ｒ，２８Ｇなどから構成さ
れている。

【００３１】内部の放電空間３０は、リブ２９によって
表示電極Ｘ，Ｙの延長方向に単位発光領域ＥＵ毎に区画
され、かつその間隙寸法が規定されている。また、この
放電空間３０にはＮｅ＋Ｘｅ等の適当な放電ガスが封入
されている。

【００３２】ＰＤＰ１では、図のように１つの画素（ド
ット）ＥＧに対応づけられた３つの単位発光領域ＥＵの
それぞれにおいて、一方の表示電極Ｙとアドレス電極Ａ
との交差部に表示または非表示を選択するための選択放
電セルが画定され、選択放電セルの近傍における表示電
極Ｘ，Ｙの間に主放電セルが画定される。

【００３３】蛍光体層２８Ｂ，２８Ｒ，２８Ｇは、面放
電によるイオン衝撃を避けるために、表示電極Ｘ，Ｙと
反対側のガラス基板２１上の各リブ２９の間に設けら
れ、主放電セルの面放電で生じる紫外線によって励起さ
れて発光する。蛍光体層２８Ｂ，２８Ｒ，２８Ｇの表面
層（放電空間と接する面）で発光した光は、誘電体層１
７およびガラス基板１１などを透過して外部へ放射され
る。つまり、ＰＤＰ１では、ガラス基板１１の外面が表
示面Ｈとなる。

【００３４】表示電極Ｘ，Ｙは、蛍光体層２８Ｂ，２８
Ｒ，２８Ｇに対して表示面Ｈ側に配置されることから、
面放電を広範囲とし、かつ表示光の遮光を最小限とする
ため、幅の広い透明導電膜４１と、その導電性を補うた
めの幅の狭い金属膜（バス電極）４２とから構成されて
いる。透明導電膜４１は、ＩＴＯ（酸化インジウム＋酸
化スズ）やネサ（酸化スズ）などの酸化金属で形成す
る。また、金属膜４２はクロム−銅−クロムの３層構造
の薄膜などで形成する。

【００３５】上記のようにＰＤＰ１は、表示電極Ｘ，Ｙ
を覆い、放電を維持するための誘電体層１７をもつ前面
側のガラス基板１１と、放電空間を区画するためのリブ
２９をもつ背面側のガラス基板２１との２枚のガラス基
板１１，２１を重ね合わせて形成されている。

【００３６】次に、背面側のガラス基板２１にリブを形
成する方法を説明する。背面側のガラス基板２１にリブ
を形成するには、背面側のガラス基板２１に下地層２
２、アドレス電極Ａ、絶縁層２４を形成し、その上に、
ガラス基板２１のほぼ全面に低融点ガラスペーストを塗
布して乾燥させることにより２００μｍ程度の厚さのリ
ブ材料層（ガラスペーストの平面膜）を形成したものを
用意する。

【００３７】ガラスペーストの平面膜の形成は、スクリ
ーン印刷法、ブレードコーティング法、グリーンシート
法等の方法で行う。その後、ガラスペーストの平面膜上
にマスクパターンを形成し、サンドブラストによってマ
スクパターンの上から切削剤を吹き付けて、ガラスペー
ストの平面膜を切削し、リブを形成する。

【００３８】以下、ガラスペーストの平面膜上にマスク
パターンを形成する方法を説明するが、この説明におい
ては、マスクパターンの形成に感光性のドライフィルム
を用いた例を説明する。

【００３９】図２は感光性のドライフィルムを用いたマ
スクパターンの形成方法を示す説明図である。この図に
示すように、マスクパターンの形成は、以下の工程にて
行う。

【００４０】レジスト膜形成工程 ガラスペーストの平面膜５１上に感光性のドライフィル
ム５２をラミネート装置などにより貼り付けてレジスト
膜とする。（図２（ａ）参照）

【００４１】露光工程 所望のパターンを有する露光用のネガマスク５３を通し
て紫外線ランプの光Ｋをドライフィルム５２に照射し、
ドライフィルム５２のネガマスク５３で覆われていない
部分を感光させる（図２（ｂ）参照）。

【００４２】現像工程 露光したドライフィルム５２に炭酸ナトリウム水溶液等
の現像液５４をシャワーなどにより所定の時間当てて、
ドライフィルム５２の未感光部分を除去し、ドライフィ
ルムの感光した硬化部分５２ａだけのドライフィルムパ
ターンを形成する（図２の（ｃ）〜（ｅ）参照：図２
（ｃ）は現像開始時点、図２（ｄ）は現像途中、図２
（ｅ）は現像終了時点をそれぞれ示す）。

【００４３】図３は露光工程で用いるネガマスク５３の
平面図である。この図に示すように、ネガマスク５３
は、リブの形状に対応した直線状の開口部の任意の場所
に幅Ｔのスリット５５を設けて、鎖線状の開口としたも
のを用いる。

【００４４】図４は露光後のドライフィルム５２の平面
図である。この図に示すように、ドライフィルム５２
は、ネガマスク５３の開口部分のみが感光して硬化す
る。したがって、ネガマスク５３のスリット５５に対応
する未露光部分５６はドライフィルム５２が感光され
ず、現像時に溶解して徐々に膜厚が減少してゆく。

【００４５】図５は現像後のドライフィルムとサンドブ
ラスト後のリブ形状を示す説明図であり、図５（ａ）は
図４のＢ−Ｂ断面を示す正面図、図５（ｂ）は図５
（ａ）の平面図、図５（ｃ）は図４のＢ−Ｂ断面におけ
るサンドブラスト後のリブ断面図である。

【００４６】図５（ａ）および図５（ｂ）に示すよう
に、現像後は、マスクパターン用ドライフィルムは、硬
化部分５２ａにスリット５７を設けた鎖線状のパターン
となる。そして、硬化部分５２ａの底面側（平面膜５１
との密着面側：図中、硬化部分５２ａの下側）のスリッ
ト５７の幅は、ネガマスク５３のスリット５５の幅Ｔと
同じであるが、硬化部分５２ａの頂面側（図中、硬化部
分５２ａの上側）は、長時間現像液にさらされるため、
膨潤により膨張して、図中矢印Ｕで示すように、特にド
ライフィルムのパターンの長手方向に伸長し、スリット
５７の幅がＳとなる。

【００４７】図３のネガマスク５３を作製する場合、ネ
ガマスク５３のスリット５５の幅Ｔを、平行に隣接する
鎖線状の開口の間隔Ｖと同等にしておけば、ドライフィ
ルムのスリット５５における未露光部分と間隔Ｖの部分
における未露光部分との溶解速度は、ほぼ同じであるの
で、現像により、ドライフィルムの底部までスリット５
７の入った完全に独立した鎖線状のドライフィムパター
ンが得られる。このスリット５７の部分でドライフィル
ムパターンの頂面側の膨潤による膨張を緩和し、ドライ
フィルムの現像時の膨潤に起因するドライフィルムパタ
ーンの蛇行、剥離を防止し、現像の余裕度範囲を広げる
ことができ、幅の細いドライフィルムの解像が可能とな
る。

【００４８】ただし、この場合は、図５（ｃ）に示すよ
うに、ガラスペースト平面膜５１のスリット５７に対応
する部分がサンドブラストによって切削され、窪みＷが
形成されてしまう。

【００４９】したがって、図１に示した構造のＡＣ駆動
方式の３電極面放電型ＰＤＰでは、隣接するセルの放電
が結合しないように、放電の逆スリットの位置にリブの
窪みＷを配置するようにする。

【００５０】あるいは、ＤＣ型ＰＤＰでは、プライミン
グセルと主放電セルとの間の高さの低いリブと、主放電
を区切るための通常の高さのリブとを作製する必要があ
るので、このような場合に、このリブの窪みＷを利用し
て、高さの低いリブと通常の高さのリブとをサンドブラ
ストの一工程で形成するようにする。

【００５１】図６はＡＣ駆動方式の３電極面放電型ＰＤ
Ｐにおいて放電の逆スリットの位置にリブの窪みを配置
した例を示す説明図である。この図に示すように、ＡＣ
駆動方式の３電極面放電型ＰＤＰにおいては、コントラ
ストを向上させるために、前面側のガラス基板１１に帯
状のブラックマトリクス４３を配置する場合があるが、
そのような場合には、ブラックマトリクス４３の位置に
リブの窪みＷがくるように、ネガマスク５３のスリット
部分の位置を適切に設定しておく。

【００５２】すなわち、窪みＷの間隔を画素ピッチと
し、対向する前面側のガラス基板１１に、窪みＷに応じ
た凸部を持つブラックマトリクス４３を、放電の逆スリ
ットの位置に表示電極Ｘ，Ｙと平行に作製する。これに
より、前面側のガラス基板１１と背面側のガラス基板２
１とを重ね合わせる際に、この窪みＷによる凹部とブラ
ックマトリクス４３による凸部とを合わせることで、両
基板を位置合わせなしに重ね合わせることができる。

【００５３】図７はドライフィルムパターンの頂面側に
凹部を設けるようにした場合の現像後のドライフィルム
とサンドブラスト後のリブ形状を示す説明図であり、図
７（ａ）は図５（ａ）対応図、図７（ｂ）は図５（ｂ）
対応図、図７（ｃ）は図５（ｃ）対応図である。

【００５４】マスクパターン用ドライフィルムの頂面側
に凹部５８を設けるには、図３のネガマスク５３を作製
する場合、ネガマスク５３のスリット５５の幅Ｔを、平
行に隣接する鎖線状の開口の間隔Ｖよりも狭くしてお
く。これにより、ドライフィルムのスリット５５におけ
る未露光部分の溶解速度は、間隔Ｖの部分における未露
光部分の溶解速度より遅くなるので、ドライフィルムの
間隔Ｖの部分の残渣がなくなるまでで現象を止めれば、
ドライフィルムのスリット５５の部分は頂面側のみ溶解
し、底面側はつながったままとなり、ドライフィルムパ
ターンは、頂面側にだけ凹部５８を設けたストレートの
鎖線状パターンとなる。そして、凹部５８の底面側の幅
は、ネガマスク５３のスリット５５の幅Ｔと同じである
が、頂面側は、長時間現像液にさらされるため、膨潤に
より膨張して、ドライフィルムのパターンの長手方向に
伸長し、凹部５８の幅がＳとなる。

【００５５】膨潤は、図中矢印Ｕで示すように、ドライ
フィルムパターンの頂面側で顕著に起こり、頂面側が伸
長するため、頂面側にスリット５５の幅Ｔに相当する幅
の凹部５８を設けることで、ドライフィルムパターン頂
面側の長手方向の膨張を緩和することができ、ドライフ
ィルム現象時の膨潤に起因するドライフィルムパターン
の蛇行、剥離を防止し、現像の余裕度を広げることがで
き、幅の細いドライフィルムの解像が可能となる。この
場合、図７（ｃ）に示すように、リブには窪みが形成さ
れない。

【００５６】なお、ガラスペーストの平面膜５１上に感
光性のドライフィルムによるマスクパターンを形成する
に際しては、リブの長手方向に交差する方向にあらかじ
め複数の凹部５８を形成したドライフィルムをガラスペ
ーストの平面膜５１上に貼り付け、その後リブの形状に
対応したストレート開口を有する露光用のネガマスクで
覆って、ドライフィルムを露光し現像してマスクパター
ン用ドライフィルムを形成するようにしてもよい。

【００５７】このようにして、マスクパターン用ドライ
フィルムに、長手方向に交差して複数の微細な凹部また
はスリットを設けることにより、ドライフィルムの現像
時に、頂部の膨潤による長手方向への伸長力を緩和し
て、ドライフィルムの蛇行および剥離を防止することが
できる。また、ドライフィルムの現像の余裕度範囲を広
げることができる。

【００５８】このことによって、従来よりも細い幅のマ
スクパターンの解像ができ、結果としてリブの幅を細く
することができるので、ＰＤＰのセルの放電空間を広げ
ることができ、また開口率が上がるため、パネルの輝度
を上げることができる。

【００５９】また、マスクパターン用ドライフィルムに
スリットを形成した場合には、そのスリットの部分はサ
ンドブラストにより切削され、リブに窪みが形成される
ため、一度のサンドブラスト工程で高さの異なるリブを
同時に作製することができる。

【００６０】

【発明の効果】この発明によれば、現像時の膨潤に起因
する伸長によってマスクパターン用ドライフィルムが蛇
行や剥離することを防止することができる。これによ
り、現像の余裕度を広げることができ、幅の細いドライ
フィルムの解像が可能となる。そして、このマスクパタ
ーン用ドライフィルムを用いて表示パネルのリブを形成
した場合には、細いパターンのリブを形成することがで
きるので、表示パネルの放電空間および開口率を上げる
ことができ、輝度を上昇させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明のマスクパターン用ドライフィルムを
用いた表示パネルのリブ形成方法を適用したＡＣ駆動形
式の面放電型ＰＤＰの構成を示す説明図である。

【図２】本発明による感光性のドライフィルムを用いた
マスクパターンの形成方法を示す説明図である。

【図３】本発明の露光工程で用いるネガマスクの平面図
である。

【図４】本発明の露光後のドライフィルムの平面図であ
る。

【図５】本発明の現像後のドライフィルムとサンドブラ
スト後のリブ形状を示す説明図である。

【図６】ＡＣ駆動方式の３電極面放電型ＰＤＰにおいて
放電の逆スリットの位置にリブの窪みを配置した例を示
す説明図である。

【図７】本発明のドライフィルムパターンの頂面側に凹
部を設けるようにした場合の現像後のドライフィルムと
サンドブラスト後のリブ形状を示す説明図である。

【図８】従来のドライフィルムの膨潤による頂面側の伸
長力を示す説明図である。

【図９】図８のＡ−Ａ断面を示す説明図である。

【図１０】従来のドライフィルムの膨潤による頂面側の
蛇行を示す説明図である。

【符号の説明】

１ ＰＤＰ １１ 前面側のガラス基板 １７ 誘電体層 １８ 保護膜 ２１ 背面側のガラス基板 ２２ 下地層 ２４ 絶縁層 ２８Ｂ，２８Ｒ，２８Ｇ 蛍光体層 ２９ リブ ３０ 放電空間 ４１ 透明導電膜 ４２ 金属膜 ４３ ブラックマトリクス ５１ ガラスペーストの平面膜 ５２ 感光性のドライフィルム ５２ａ 硬化部分 ５３ ネガマスク ５４ 現像液 ５５ スリット ５６ 未露光部分 ５７ スリット ５８ 凹部 Ａ アドレス電極 ＥＧ 画素 ＥＵ 単位発光領域 Ｈ 表示面 Ｔ 幅 Ｖ 鎖線状の開口の間隔 Ｗ 窪み Ｘ，Ｙ 表示電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 浩信 鹿児島県薩摩郡入来町副田5950番地 株式 会社九州富士通エレクトロニクス内 (72)発明者 別井 圭一 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光性のドライフィルムを複数の細長の
   パターンに形成するとともに、形成した各パターンの長
   手方向に交差して複数の微細な凹部またはスリットを設
   けてなることを特徴とするマスクパターン用ドライフィ
   ルム。
2. 【請求項２】 基板上に形成されたリブ材料層に感光性
   のドライフィルムを積層し、露光用マスクを用いて露光
   した後、現像することにより、感光性のドライフィルム
   を複数の細長のパターンに形成するとともに、形成した
   各パターンの長手方向に交差して複数の微細な凹部また
   はスリットを設け、次いでその感光性のドライフィルム
   を介して切削剤を吹き付けてリブ材料層を部分的に除去
   することからなる表示パネルのリブ形成方法。