KR20030093549A - 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 Download PDF

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KR20030093549A
KR20030093549A KR1020020031134A KR20020031134A KR20030093549A KR 20030093549 A KR20030093549 A KR 20030093549A KR 1020020031134 A KR1020020031134 A KR 1020020031134A KR 20020031134 A KR20020031134 A KR 20020031134A KR 20030093549 A KR20030093549 A KR 20030093549A
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Abstract

본 발명은 휘도와 컨트라스트를 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은 기판 상에 격벽재를 형성하고 이를 패터닝하여 격벽을 형성하는 제 1 단계와, 상기 격벽에서 백색층의 폭보다 작은 크기로 백색층 상에 감광성 흑색층을 형성하는 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이러한 구성에 의하여, 패널의 휘도와 컨트라스트가 향상된다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법{METHOD OF FABRICATING THE BARRIER RIB ON PLASMA DISPLAY PANEL}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것으로, 특히 패널의 휘도와 컨트라스트를 향상시키도록 한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel : 이하, "PDP"라 함)은 He+Xe, Ne+Xe, He+Ne+Xe 등의 가스의 방전시 발생하는 147nm의 자외선에 의해 형광체를 발광시킴으로써 문자 또는 그래픽을 포함한 화상을 표시하게 된다. 이러한 PDP는 박막화와 대형화가 용이할 뿐만 아니라 최근의 기술 개발에 힘입어 크게 향상된 화질을 제공한다.
도 1을 참조하면, 어드레스전극(2)이 실장되어진 하부기판(14)과 서스테인전극쌍(4)이 실장되어진 상부기판(16)을 구비하는 교류 구동방식의 PDP가 도시되어 있다. 어드레스전극(2)이 실장된 하부기판(14) 상에는 유전체(18)와 방전셀들을 분할하는 격벽(8)이 형성된다. 유전체(18)와 격벽(8)의 표면에는 형광체(6)가 도포된다. 형광체(6)는 플라즈마 방전시 발생되는 자외선에 의해 발광함으로써 가시광선을 방출한다. 유지전극쌍(4)이 실장된 상부기판(16)에는 유전층(12)과 보호막(10)이 순차적으로 형성된다. 유전층(12)은 플라즈마 방전시 벽전하를 축적하게 되고, 보호막(10)은 플라즈마 방전시 가스 이온의 스퍼터링으로부터 유지전극쌍(4)과 유전층(12)을 보호함과 아울러 이차전자의 방출효율을 높이는 역할을 한다. 이러한 PDP의 방전셀들에는 He+Xe 나 Ne+Xe 또는 He+Ne+Xe의 혼합가스가 주입된다.
격벽(8)은 방전셀간의 전기적 ·광학적 크로스토크(Crosstalk)를 방지하는 역할을 한다. 따라서, 격벽(8)은 표시품질과 발광효율을 위한 가장 중요한 요소이다. 특히, 패널이 대형화 ·고정세화됨에 따라 격벽에 대한 다양한 연구가 이루어지고 있다. 격벽 제조방법으로는 스크린 프린팅(Screen printing)법, 첨가(Additive)법, 감광성 페이스트법, LTCCM(Low Temperature Cofired Ceramic on Metal) 방법, 샌드 블라스팅(Sand blasting)법 등이 적용되고 있다.
그 중에서 스크린 프린팅법은 공정이 간단하고 제조단가가 낮은 장점이 있으나, 매 인쇄시 스크린과 하부기판(14)의 정렬, 글라스 페이스트의 인쇄 및 건조를 수 회 되풀이 해야 하는 문제점이 있다. 또한, 인쇄 과정 중에 스크린과 유리기판의 위치가 어긋나게 되면 격벽이 변형되어 격벽(8)의 양면이 평탄하지 않고, 격벽의 형상 정밀도가 떨어지는 단점이 있다.
첨가법은 대면적의 기판 상에 격벽들(8)을 형성하기에 적합한 장점이 있으나, 포토레지스트와 글라스 페이스트를 분리하기가 어려운 점이 있다. 이 경우에, 잔류물이 남게 되거나 격벽 성형시 격벽이 허물어지는 문제점이 있다.
감광성 페이스트법은 감광성 페이스트의 하부까지 감광성 페이스트를 노광하기 어려울 뿐 아니라 감광성 페이스트 가격이 고가인 단점이 있다.
LTCCM 방법은 비교적 제조 공정이 단순하고 고정세, 고종횡비 격벽제조에 유리한 장점이 있는 반면, 격벽 성형에 필요한 금형 압력을 낮추기 위한 격벽 재료의 조성을 선택하기가 어려운 단점이 있다. 또한, 가해지는 금형 압력이 편압되면 격벽의 높이가 불균일하게 되어 불균일한 격벽의 높이를 보정하기 위한 별도의 연마공정 등이 필요하게 된다.
샌드 블라스팅법을 이용한 격벽 제조방법은 도 2a 내지 도 2g를 결부하여 단계적으로 설명하기로 한다.
먼저, 도 2a를 참조하면, 어드레스전극(도시하지 않음)이 실장된 하부기판(14) 상에 유전체(18)가 형성되며, 유전체(18) 상에 소정의 높이를 가지는 격벽용 페이스트(20)가 형성된다. 여기서, 격벽용 페이스트(20)는 인쇄법이나 코팅방법으로 형성된다.
격벽용 페이스트(20) 상에는 드라이 필름 레진(Dry Film Resin ; 이하, "DFR", 22)이 형성된다. DFR(22)은 라미네이팅 공정을 통해 격벽용 페이스트(20)와 접합된다. 라미네이팅 공정은 소정 온도의 열과 균일한 압력을 가하여 DFR을 접합시키는 공정이다.
DFR(22) 상에는 마스크(24)가 정렬되고, 광이 조사된다. 마스크(24)는 일정한 간격으로 교차되게 배열되는 광차단부(24b)와 광투과부(24a)를 구비한다. 광차단부(24b)는 격벽이 형성될 영역에 조사되는 광을 차단한다. 광투과부(24a)는 격벽이 형성되지 않을 방전 공간 영역의 DFR(36)에 광을 투과시킨다.
도 2b를 참조하면, DFR(22)이 노광되는 공정에 이어서 DFR(22)의 현상공정이 실시된다. 현상공정에 의해, 광에 노출되지 않은 영역(이하 "미노광 영역"이라 함)의 DFR(22)은 격벽용 페이스트(20) 상에 잔류하는 반면에, 광에 노출된 영역(이하 "노광 영역"이라 함)의 DFR(22)은 식각되어 제거된다.
도 2c를 참조하면, 샌드 블라스팅 장치(28)가 구동되어 샌드 입자를 격벽용 페이스트에 분사한다. 이 때, 샌드 입자의 스퍼터링으로 인하여 격벽용 페이스트(20)가 깎여지게 되는 반면, 격벽에 해당하는 페이스트(20)는 DFR(22) 패턴에 의해 보호된다.
도 2d를 참조하면, DFR(22)에 의해 보호되어 형성된 격벽(20)이 샌드 블라스팅 공정 후에 나타나게 되면, 형성된 격벽에 박리공정을 실시하여 DFR(22)이 박리된다. 이어서, 격벽용 페이스트(20)는 소성된다. 그 결과, 격벽이 완성되고, 격벽들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다.
이와 같은 종래의 공정을 통해 형성되는 격벽의 단면이 도 3a에 도시되어 있다.
도 3a에 도시된 단면을 가지는 종래 격벽(8)은. 백색층만으로 이루어진 격벽(이하 "백색단층 격벽" 이라 함)으로서 격벽 내부의 형광체에서 발광된 가시광선(5a)을 흡수하지 않고 반사(5b)하여 휘도가 높은 특성을 갖는다. 반면에, 백색단층 격벽은 외부광(3a)을 반사(3b)시키므로 외부광의 밝기가 밝을 경우 격벽에서의 반사광(3b)이 더욱 밝아져 화면이 흐리게 보이는 문제점이 있다. 즉, 컨트라스트(Contrast; 명암대비)가 떨어진다.
이러한 종래의 백색단층 격벽이 가지는 단점을 보완하는 다른 형태의 종래 격벽의 단면이 도 3b에 도시되어 있다.
도 3b를 참조하면, 백색층(8a) 상부에 흑색층(8b)을 적층하여 이층으로 이루어진 격벽(이하 "흑백복층 격벽" 이라 함)으로서 이러한 격벽은 백색층 상부에 위치하는 흑색층(8b)이 외부광(3a)을 흡수한다. 이에 의해, 흑백복층 격벽은 외부광(3a)의 영향이 백색단층 격벽보다 적어 컨트라스트가 향상된 구조를 갖는다. 반면에, 흑백복층 격벽은 격벽 내부의 형광체에서 발광된 가시광선(5a)을 흑색층(8b)이 흡수하므로 백색단층 격벽보다 휘도가 떨어지는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 휘도와 컨트라스트를 향상시키도록 한 PDP의 격벽 제조방법을 제공하는 데 있다.
도 1은 교류 구동방식의 면방전형 플라즈마 디스플레이 패널을 나타내는 도면이다.
도 2a 내지 2d는 종래 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다.
도 3a는 단층으로 이루어진 종래 격벽을 나타내는 단면도이다.
도 3b는 복층으로 이루어진 종래 격벽을 나타내는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 예에 따른 격벽을 나타내는 단면도이다.
도 5a 내지 5e는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다.
도 6a 내지 6d는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다.
도 7a 내지 7d는 본 발명의 제3 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법을 단계적으로 나타내는 단면도이다.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >
2 : 어드레스전극4 : 유지전극쌍
6, 33 : 형광체8, 34 : 격벽
10 : 보호막12, 18, 32 : 유전층
14, 30 : 하부기판16 : 상부기판
20 : 격벽용 페이스트 22, 36 : DFR
28, 40 : 샌드 블라스팅 장치 34b : 감광성 흑색층
34a : 백색층24, 38, 48 : 마스크
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시 예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법은 기판 상에 격벽재를 형성하고 이를 패터닝하여 격벽을 형성하는 제 1 단계와, 격벽에서 백색층의 폭보다 작은 크기로 백색층 상에 흑색층을 형성하는 제 2 단계를 포함한다.
본 발명에 있어서, 흑색층은 감광성 비이클을 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있서서, 제 2 단계에 의해 형성되는 흑색층의 폭은 백색층의 폭보다 5 ~ 20㎛ 감소된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 제 1 단계는 기판 상에 백색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 백색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 백색층 격벽용 페이스트를 패터닝하고 패터닝된 백색층 격벽용 페이스트를 소성하게 되며, 제 2 단계는 소성된 백색층 격벽 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 백색층 격벽의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 제 1 단계는 기판 상에 백색층 격벽용 페이스트를 형성하고 백색층 격벽용 페이스트 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 흑색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝하게 되며, 제 2 단계는패터닝된 백색층 격벽용 페이스트의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 있어서, 제 1 단계는 기판 상에 백색층의 격벽용 페이스트를 형성한 후에 백색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 백색층 격벽용 페이스트를 패터닝하게 되며, 제 2 단계는 패터닝된 백색층 격벽용 페이스트 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 백색층 격벽의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 한다.
상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면을 참조한 실시 예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.
이하, 도 4 내지 도 7을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
우선, 도 4를 참조하면, 본 발명의 실시 예에 따른 격벽의 단면구조를 알 수 있다. 본 발명의 실시 예들에 따른 격벽은 백색층(34a) 상부에 백색층의 폭보다 작은 폭을 가지는 흑색층(34b)이 위치하는 요철형 구조로 형성된다. 또한 백색층(34a)의 내벽면을 따라 형광체(33)가 형성되어 있어, 형광체(33)가 발광하여 방출된 가시광선(5a)이 감광성 흑색층(34b)에 흡수되지 않고, 백색층(34a) 내에서반사(5b)된다. 따라서 패널의 휘도가 그만큼 증가한다. 또한 외부광(3a)이 유입되면 백색층 상부에 위치하는 감광성 흑색층(34b)이 외부광을 흡수하여 패널의 컨트라스트가 그만큼 증가한다.
이하, 도 4에 도시된 단면구조를 갖는 격벽을 제조하는 방법으로서 본 발명의 실시 예들을 도 5 내지 도 7을 참조하여 설명하기로 한다.
우선, 도 5a 내지 도 5d를 참조하여 본 발명의 제1 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 5a를 참조하면, 기판(30) 상에는 어드레스전극(도시되지 않음)이 실장되며, 어드레스전극(도시되지 않음)을 포함한 기판(30) 전면에 유전체물질을 도포하여 유전체(32)를 형성한다. 유전체(32)는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하를 축적하게 된다. 유전체(32)가 형성된 후, 유전체(32) 상에는 소정의 높이를 가지는 백색층 격벽용 페이스트(34a)가 인쇄법이나 코팅법을 통해 형성된다. 인쇄법 등으로 형성된 백색층 격벽용 페이스트(34a) 상에는 DFR(36)이 형성된다. DFR(36)은 소정 온도의 열과 일정한 압력을 가하는 라미네이팅 공정을 통해 백색층 격벽용 페이스트(34a)와 접합된다. 라미네이팅 공정을 통해 형성된 DFR(36) 상에는 마스크(38)가 정렬되고, 광이 조사되는 노광공정이 실시된다. 마스크(38)는 일정한 간격으로 교차되게 배열되는 광차단부(38b)와 광투과부(38a)를 구비한다. 광차단부(38b)는 격벽이 형성될 영역에 해당하여 조사되는 광을 차단한다. 광투과부(38a)는 격벽이 형성되지 않는 방전공간에 해당하는 영역의 DFR(36) 에 광을 투과시킨다.
도 5b를 참조하면, DFR(36)이 광에 노출되는 노광공정에 이어서 DFR(36)의현상공정이 실시된다. 현상공정에 의해, 미노광 영역의 DFR(36)은 백색층 격벽용 페이스트(34a) 상에 잔류하는 반면에, 노광영역의 DFR(36)은 식각되어 제거된다.
도 5c를 참조하면, 샌드 블라스팅 장치(40)가 구동되어 샌드 입자를 백색층 격벽용 페이스트(34a)에 분사한다. 이 때, 샌드 입자의 스퍼터링으로 인하여 백색층 격벽용 페이스트(34a)가 깎여지게 되는 반면 격벽에 해당하는 백색층 격벽용 페이스트(34a)는 DFR(36)패턴에 의해 보호된다. 그 결과, DFR(36)이 형성된 영역의 백색층 격벽용 페이스트(34a)만 스트라이프 형상으로 남게 된다.
도 5d를 참조하면, 샌드 블라스팅 공정 후 형성된 격벽(34a)에는 박리공정을 실시하게 된다. 이 박리공정에 의해 DFR(36)은 박리된다. 이어서, 백색층 격벽용 페이스트(34a)는 소성된다. 그 결과, 백색층 격벽용 페이스트(34a)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다.
도 5e를 참조하면, 백색층 페이스트(34a) 상에 감광성 흑색층 페이스트(34b)가 도포된다. 감광성 흑색층 페이스트(34b)는 광에 반응하는 물질로서 DFR과 유사하게 사진식각방법에 의해 패터닝되는 특성을 가지는 물질이다. 백색층 페이스트(34a) 상에 감광성 흑색층(34b)이 도포되면 감광성 흑색층(34a) 상에는 종래보다 폭이 좁은 광차단영역(48b)을 가진 마스크(48)가 정렬되고 광이 조사된다. 그 결과, 백색층(34a)보다 좁은 폭의 영역에 해당하는 흑색층(34b)이 노광되게 된다. 즉, 마스크(48)의 광차단영역(48b)의 폭이 5~20㎛ 정도 좁아서 미노광되는 감광성 흑색층(34b)의 영역은 백색층(34a)보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 된다. 노광공정에 이어서 감광성 흑색층(34b)의 현상공정이 실시되면 도 4에 도시된 바와같이 백색층(34a) 상부에 백색층(34a)보다 폭이 좁은 감광성 흑색층(34b)이 형성된다. 이때, 감광성 흑색층은 백색층보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 되므로 격벽에 주입될 형광체가 흑색층에 형성되지 않고, 백색층의 내벽면에만 형성된다. 이후, 현상된 감광성 흑색층(34b)을 소성하기 위한 소성공정이 한 번 더 실시된다.
그 다음, 도 6a 내지 도 6d를 참조하여 본 발명의 제2 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 6a를 참조하면, 기판(30) 상에는 어드레스전극(도시되지 않음)이 실장되며, 어드레스전극(도시되지 않음)을 포함한 기판(30) 전면에 유전체물질을 도포하여 유전체(32)를 형성한다. 유전체(32)는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하를 축적하게 된다. 유전체(32)가 형성된 후, 유전체(32) 상에는 백색층 격벽용 페이스트가 소정의 높이를 가지게끔 인쇄법이나 코팅법으로 형성된다. 인쇄법 등으로 형성된 백색층 격벽용 페이스트(34a) 상에는 감광성 흑색층 페이스트(34b)가 인쇄법이나 코팅법을 통해 적층된다. 감광성 흑색층 페이스트(34b)는 광에 반응하는 물질로서 사진식각법에 의해 패터닝되는 특성을 가지는 물질이다. 이렇게 형성된 감광성 흑색층 페이스트(34b) 상에는 DFR(36)이 형성된다. DFR(36)은 소정 온도의 열과 압력을 가하는 라미네이팅 공정을 통해 흑색층 격벽용 페이스트(34b)와 접합된다. 라미네이팅 공정을 통해 형성된 DFR(36) 상에는 마스크(38)가 정렬되고, 광이 조사되는 노광공정이 실시된다. 마스크(38)는 일정한 간격으로 교차되게 배열되는 광차단부(38b)와 광투과부(38a)를 구비한다. 광차단부(38b)는 격벽이 형성될 영역에 해당하여 조사되는 광을 차단한다. 광투과부(38a)는 격벽이 형성되지 않는 방전 공간에 해당하는 영역의 DFR(36)에 광을 투과시킨다.
도 6b를 참조하면, DFR(36)이 광에 노출되는 노광공정에 이어서, DFR(36)의 현상공정이 실시된다. 현상공정에 의해, 미노광 영역의 DFR(36)은 격벽용 페이스트(34) 상에 잔류하는 반면에, 노광 영역의 DFR(36)은 식각되어 제거된다.
도 6c를 참조하면, 샌드 블라스팅 장치(40)가 구동되어 샌드 입자를 격벽용 페이스트에 분사한다. 이때, 샌드 입자의 스퍼터링으로 인하여 백색층 및 감광성 흑색층 격벽용 페이스트(34a, 34b)가 깎여지게 되는 반면, 격벽에 해당하는 페이스트(34a, 34b)는 DFR(36) 패턴에 의해 보호된다. 그 결과, DFR(36)이 형성된 영역의 격벽용 페이스트(34)만 스트라이프 형상으로 남게 된다.
도 6d를 참조하면, 샌드 블라스팅 공정 후 형성된 격벽(34)에는 박리공정을 실시하게 된다. 이 박리공정에 의해 DFR(36)은 박리된다. 그 결과, 격벽(34)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다. DFR(36)이 박리된 후, 감광성 흑색층(34b) 상에는 종래보다 폭이 좁은 광차단영역(48a)을 가진 마스크(48)가 정렬되고 광이 조사된다. 그 결과, 백색층(34a)보다 좁은 폭의 영역에 해당하는 흑색층(34b)이 노광되게 된다. 즉 마스크(48)의 광차단영역(48b)의 폭이 5~20㎛ 정도 좁아서 미노광되는 감광성 흑색층(34b)도 백색층(34a)보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 된다. 노광공정에 이어서 감광성 흑색층(34b)의 현상공정이 실시되면 도 4에 도시된 바와 같이 백색층(34a) 상부에 백색층(34a)보다 폭이 좁은 감광성 흑색층(34b)이 형성된다. 이때, 감광성 흑색층(34b)은 백색층보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 되므로 격벽에 주입될 형광체가 흑색층에 형성되지 않고, 백색층의 내벽면에만 형성된다. 이어서 형성된 격벽(34)은 소성된다. 그 결과, 격벽(34)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다.
다음으로, 도 7a 내지 도 7j를 참조하여 본 발명의 제3 실시 예에 대하여 설명하기로 한다.
도 7a를 참조하면, 기판(30) 상에는 어드레스전극(도시되지 않음)이 실장된다. 어드레스전극(도시되지 않음)을 포함한 기판(30) 전면에 유전체물질을 도포하여 유전체(32)를 형성한다. 유전체(32)는 플라즈마 방전시 발생된 벽전하를 축적하게 된다. 유전체(32)가 형성된 후, 유전체(32)상에는 소정의 높이를 가지는 백색층의 격벽용 페이스트(34a)가 인쇄법이나 코팅법으로 형성된다. 인쇄법 등으로 형성된 백색층 격벽용 페이스트(34a) 상에는 DFR(36)이 형성된다. DFR(36)은 소정 온도의 열과 일정한 압력을 가하는 라미네이팅 공정을 통해 백색층의 격벽용 페이스트(34a)와 접합된다. 라미네이팅 공정을 통해 형성된 DFR(36) 상에는 마스크(38)가 정렬되고, 광이 조사되는 노광공정이 실시된다. 마스크(38)는 일정한 간격으로 교차되게 배열되는 광차단부(38b)와 광투과부(38a)를 구비한다. 광차단부(38b)는 격벽이 형성될 영역에 해당하여 조사되는 광을 차단한다. 광투과부(38a)는 격벽이 형성되지 않는 방전 공간 영역에 해당하는 영역의 DFR(36)에 광을 투과시킨다.
도 7b를 참조하면, DFR(36)이 광에 노출되는 노광공정에 이어서 DFR(36)의 현상공정이 실시된다. 현상공정에 의해, 미노광 영역의 DFR(36)은 백색층 격벽용 페이스트(34a) 상에 잔류하는 반면에, 노광 영역의 DFR(36)은 식각되어 제거된다.
도 7c를 참조하면, 샌드 블라스팅 장치(40)가 구동되어 샌드 입자를 백색층의 격벽용 페이스트(34a)에 분사한다. 이때, 샌드 입자의 스퍼터링으로 인하여 백색층 격벽용 페이스트(34a)가 깍여지게 되는 반면, 격벽에 해당하는 백색층 격벽용 페이스트(34a)는 DFR(36) 패턴에 의해 보호된다. 그 결과, DFR(36)이 형성된 영역의 백색층 격벽용 페이스트(34a)만 스트라이프 형상으로 남게 된다.
도 7d를 참조하면, 샌드 블라스팅 공정 후 형성된 격벽(34a)에는 박리공정을 실시하게 된다. 이 박리공정에 의해 DFR(36)은 박리된다. 그 결과, 백색층 격벽용 페이스트(34a)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다. 박리공정이 실시된 후 형성된 백색층 격벽(34a) 상에 감광성 흑색층 페이스트(34b)가 도포된다. 감광성 흑색층 페이스트(34b)는 광에 반응하는 물질로서 DFR과 유사하게 사진식각방법에 의해 패터닝되는 특성을 가지는 물질이다. 백색층 페이스트(34a) 상에 감광성 흑색층(34b)이 도포되면 감광성 흑색층(34b) 상에는 종래보다 폭이 좁은 광차단영역(48b)을 가진 마스크(48)가 정렬되고 광이 조사된다. 그 결과, 백색층(34a)보다 좁은 폭의 영역에 해당하는 흑색층(34b)이 노광되게 된다. 즉, 마스크(38)의 광차단영역(48b)의 폭이 5~20㎛ 정도 좁아서, 미노광되는 감광성 흑색층(34b)의 영역은 백색층(34a)보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 된다. 노광공정에 이어서 감광성 흑색층(34b)의 현상공정이 실시되면 도 4에 도시된 바와 같이 백색층(34a) 상부에 백색층(34a)보다 폭이 좁은 감광성 흑색층(34b)이 형성된다. 이때, 감광성 흑색층(34b)은 백색층(34a)보다 5~20㎛ 정도 좁은 폭을 가지게 되므로 격벽에 주입될 형광체가 흑색층에 형성되지 않고, 백색층의 내벽면에만 형성된다. 이어서 격벽(34)이 소성된다. 그 결과, 격벽(34)이 완성되고, 격벽(34)들 사이에 오목하게 방전공간이 형성된다.
본 발명의 제3 실시 예에 따른 격벽제조방법은 소성공정을 한 번만 거치게 되므로 제1 실시 예에 따른 격벽제조방법보다 처리시간이 짧은 장점을 가진다. 반면에, 제1 실시 예에 따른 격벽제조방법은 DFR(36)을 박리한 후, 바로 소성공정을 거치게 되므로 흑색층(34b)의 도포·노광·현상공정 등의 후공정 중에 백색층(34a)이 손상을 입을 가능성이 감소하는 장점이 있다.
이상 설명한 예에서는 감광성 흑색층을 사용하여 패널의 휘도와 콘트라스트를 향상시킨 것이 특징이며, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 본원 발명에 따른 효과를 충분히 예측할 수 있는 형상의 것이면 충분히 본 발명에 적용가능하다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 PDP의 격벽 제조방법은 백색층의 격벽 상부에 백색층보다 폭이 좁은 감광성 흑색층을 형성함으로써 패널의 휘도와 컨트라스트를 향상시킨다.
종래의 백색단층으로 이루어진 격벽의 상부에서 외부광을 반사하여 패널의 선명도를 떨어뜨리던 반사광을 본 발명에 따른 격벽의 감광성 흑색층이 흡수하므로, 패널의 컨트라스트가 좋아진다. 또한, 본 발명에 따른 격벽은 형광체가 백색층 내벽면에만 인쇄되어 종래 흑색복층으로 이루어진 격벽에서 격벽 상부의 흑색층이 형광체에서 발광된 가시광선을 흡수하던 것을 방지하게 되므로 패널의 휘도가 좋아진다.
이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.

Claims (6)

  1. 기판 상에 격벽재를 형성하고 이를 패터닝하여 격벽을 형성하는 제 1 단계와,
    상기 격벽에서 백색층의 폭보다 작은 크기로 백색층 상에 흑색층을 형성하는 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 흑색층은 감광성 비이클을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 단계에 의해 형성되는 흑색층의 폭은 백색층의 폭보다 5 ~ 20㎛ 감소된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 단계는,
    상기 기판 상에 백색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 상기 백색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 상기 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 상기 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 상기 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 상기 백색층 격벽용 페이스트를 패터닝하고 패터닝된 상기 백색층 격벽용 페이스트를 소성하게 되며,
    상기 제 2 단계는,
    상기 소성된 백색층 격벽 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 상기 백색층 격벽의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 상기 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 상기 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 단계는,
    상기 기판 상에 백색층 격벽용 페이스트를 형성하고 상기 백색층 격벽용 페이스트 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 상기 흑색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 상기 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 상기 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 상기 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 상기 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝하게 되며,
    상기 제 2 단계는,
    상기 패터닝된 백색층 격벽용 페이스트의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 상기 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의격벽 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 단계는,
    상기 기판 상에 백색층의 격벽용 페이스트를 형성한 후에 상기 백색층 격벽용 페이스트 상에 드라이 필름 레진을 형성하고 상기 드라이 필름 레진을 패터닝한 후에 상기 드라이 필름 레진의 패턴을 통하여 연마입자를 상기 백색층 격벽용 페이스트 쪽으로 분사함으로써 상기 백색층 격벽용 페이스트를 패터닝하게 되며,
    상기 제 2 단계는,
    상기 패터닝된 백색층 격벽용 페이스트 상에 흑색층 격벽용 페이스트를 형성한 후에 상기 백색층 격벽의 상단폭보다 작은 폭을 가지게 하는 마스크를 이용하여 상기 흑색층 격벽용 페이스트를 패터닝한 후에 상기 백색층 및 흑색층 격벽용 페이스트를 소성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법.
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