JP5343030B2 - パターン形成装置 - Google Patents
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Description
このようにすると、ノズルから離れた位置に光源を設置することができ、光源の構成と、ノズルの構成とを個別に最適化することができる。また、この発明は、光出射面から出射されてノズルの吐出口に向かって進む光を遮光する遮光部材を備えている。ノズルの吐出口に光が当たると塗布液が硬化してノズルの目詰まりを起こすことがある。これを防止するために、導光部からの光を遮光部材によって遮光することが望ましい。
3 ステージ(基板保持手段)
5 塗布ヘッド部
6 制御部
52 吐出ノズル部(ノズル)
55 光照射部(光照射手段)
521 吐出口
531 光ファイバ
532 光源ユニット(光源)
551,552 ライトガイド(導光部)
W 基板
Claims (5)
- 基板を略水平状態に保持する基板保持手段と、
前記基板の上方を前記基板に対して相対移動しながら、下面に設けられた吐出口から塗布液を連続的に吐出して前記基板表面に前記塗布液を塗布するノズルと、
前記基板に塗布された前記塗布液に対し光を照射する光照射手段と
を備え、
前記光照射手段は、前記基板に対し前記ノズルと一体的に相対移動するとともに下面が前記塗布液に向けて光を出射する光出射面となった導光部を有しており、
前記基板に対する移動により前記吐出口が描く軌跡を含む鉛直平面内とは異なる位置において、前記光出射面の法線ベクトルが、前記吐出口の中心から前記基板に下ろした垂線の足に向かう成分を有し、
光を発生する光源と、該光を前記導光部に案内する光ファイバと、前記光出射面から出射されて前記ノズルの吐出口に向かって進む光を遮光する遮光部材とをさらに備え、
前記基板に塗布された前記塗布液に対する露光量が、前記吐出口の中心が描く軌跡を含む鉛直平面を挟んだ一方側とこれと反対の他方側との間で互いに異なっている
ことを特徴とするパターン形成装置。 - 前記基板に対する前記ノズルの移動方向における前記光出射面の中心が、前記基板に対する前記ノズルの移動方向における前記吐出口の中心よりも前記基板に対する前記ノズルの移動方向と反対方向の位置にある請求項1に記載のパターン形成装置。
- 前記導光部の前記光出射面は、前記基板に対する移動により前記吐出口の中心が描く軌跡を含む鉛直平面に対して対称な形状を有する請求項1または2に記載のパターン形成装置。
- 前記光出射面から出射される光が、前記鉛直平面と前記基板上面との交線に収束する請求項1ないし3のいずれかに記載のパターン形成装置。
- 前記ノズルが、前記基板に対する移動方向に直交する方向に複数設けられるとともに、前記複数のノズルの各々に対応する前記導光部が一体に形成されている請求項1ないし4のいずれかに記載のパターン形成装置。
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