CN105080766B - 基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法，其由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是，即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。基板的涂敷装置(1)通过从喷嘴(7)喷出的涂液对基板(2)进行涂敷处理，并通过固化机构(9)对被涂敷在基板上的涂液进行固化处理，所述喷嘴被行走于行走轨道(5)上的喷嘴用支承柱(6)支承为升降自如，所述基板的涂敷装置具备固化机构用支承柱(8)，所述固化机构用支承柱独立于喷嘴用支承柱的行走而单独地行走于行走轨道上，并且以独立于喷嘴的升降动作的方式单独地将固化机构支承为升降自如。

Description

基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法

技术领域

本发明涉及涂敷装置以及涂敷方法，具体涉及一种基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法，其由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。

背景技术

一直以来，已知一种通过从喷嘴喷出的涂液来对载置于工作台(平台)上的基板进行涂敷的基板的涂敷装置、即所谓的工作台涂料机，所述喷嘴被行走于喷嘴用行走轨道上的喷嘴用支承柱支承为升降自如。在这种基板的涂敷装置中，作为具备用于使被涂敷在基板上的涂液固化的固化机构的涂敷装置，已知专利文献1和2中所述的涂敷装置。

专利文献1的“图案形成方法以及图案形成装置”从喷出喷嘴前端的喷出口朝向基板喷出涂敷液，并且从第一照射光源向刚刚被涂敷在基板上的涂敷液照射波长为365nm的UV光。由此，涂敷液的表面固化。然后，从第二照射光源向接受了之前的UV光的照射的涂敷液照射更长波长(例如，385nm或395nm)的UV光。由于长波长的光进一步照射至涂敷液的内部，因此促进了内部的固化。照射光源经由头部的基座和注射器泵而与喷出喷嘴连结。

在专利文献2的“薄膜形成装置以及薄膜形成方法”中，薄膜形成装置具备：吸附工作台，其对涂敷对象物进行吸附保持；多个涂敷头，其在从喷射式喷嘴向被吸附保持在吸附工作台上的涂敷对象物的表面喷出涂敷材料并且实施薄膜形成；起重台架，其使涂敷头在涂敷对象物的上方位置移动，该薄膜形成装置在起重台架上还具备对涂敷对象物的表面进行加热的热源装置。热源装置经由起重台架而与涂敷头连结。

专利文献1：日本特开2012-143691号公报；

专利文献2：日本特开2013-000656号公报。

为了以均匀的涂膜厚度对基板进行涂敷，需要将行走的喷嘴与基板之间的间隙间隔保持固定。根据需要，喷嘴的行走速度也被加速或减速。特别是，在涂敷结束的基板a的涂敷末端，如图8(a)所示，当停止从喷嘴b喷出涂液c时，存在产生涂液c隆起等、涂膜厚度不均的倾向。

为了防止涂膜厚度的不均，即使在涂敷末端也确保均匀的涂膜厚度，如图8(b)所示，实施如下的动作，即，在喷嘴b即将到达涂敷末端之前停止喷出涂液c，调节喷嘴b的行走速度，并且使该喷嘴b缓慢向上方移动(向斜上方移动)。

如图8(c)所示，在具备固化机构d的情况下，为了使被涂敷在基板a上的涂液c在基板a的整个平面上均质地固化(在图中，用黑色部分表示)，需要将固化机构d与基板a之间的间隙间隔e保持固定。在背景技术所公开的将固化机构d与喷嘴b连结在一起的结构中，固化机构d也与喷嘴b一起行走，当使喷嘴b在涂敷末端向上方移动时，如图所示，固化机构d也将追随喷嘴b而上升。

当固化机构d上升时，固化机构d与基板a之间的间隙间隔以增大(在图中，用f表示)的方式发生变化，其结果为，存在无法在涂敷末端使涂液c均质地固化、或固化变得不充分的课题。

另外，虽然可以代替图8(b)、(c)的动作，实施在喷嘴b到达涂敷末端的同时停止喷出涂液c并使喷嘴b向正上方上升的方法，但是在这种情况下，存在在固化机构d未到达涂敷末端的期间内，固化机构d与基板a之间的间隙间隔增大，无法使涂敷末端正常地固化的课题。

另外，对于喷嘴b的行走速度(涂敷处理速度)和固化机构d的行走速度(固化处理速度)各自而言，存在优选的条件。但是，在将固化机构d连结于喷嘴b的结构中，涂敷处理和固化处理的速度将变得相等。因此，对于涂敷处理及固化处理各自而言，无法实施将速度设为参数的控制。

如此，在将喷嘴b和固化机构d连结在一起的结构中，也存在涂敷处理及固化处理的参数被限定为速度以外的、间隙间隔及喷嘴b的涂液喷出量控制、固化机构d的容量控制等从而缺乏处理控制的通用性的课题。

发明内容

【发明要解决的课题】

本发明是鉴于上述现有课题而实施的发明，其目的在于，提供一种基板的涂敷装置以及基板的涂敷方法，其由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是，即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。

【用于解决课题的手段】

本发明所涉及的基板的涂敷装置通过从喷嘴喷出的涂液对基板进行涂敷处理，并通过固化机构对被涂敷在该基板上的涂液进行固化处理，所述喷嘴被行走于行走轨道上的喷嘴用支承柱支承为升降自如，所述基板的涂敷装置的特征在于，具备固化机构用支承柱，所述固化机构用支承柱独立于喷嘴用支承柱的行走而单独地行走于上述行走轨道上，并且以独立于上述喷嘴的升降动作的方式单独地将上述固化机构支承为升降自如。

该基板的涂敷装置的特征在于，所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述喷嘴用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述固化机构用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该固化机构用支承柱以到达所述喷嘴的上方的升降行程量将所述固化机构支承为升降自如。

该基板的涂敷装置的特征在于，所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述固化机构用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述喷嘴用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该喷嘴用支承柱以到达所述固化机构的上方的升降行程量将所述喷嘴支承为升降自如。

该基板的涂敷装置的特征在于，所述固化机构为UV照射体、发热体或干燥机。

本发明所涉及的基板的涂敷方法使用具备固化机构用支承柱的上述基板的涂敷装置对基板进行涂敷，所述固化机构用支承柱独立于喷嘴用支承柱的行走而单独地行走于上述行走轨道上，并且以独立于上述喷嘴的升降动作的方式单独地将上述固化机构支承为升降自如，所述基板的涂敷方法的特征在于，包括：涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走。

本发明所涉及的基板的涂敷方法使用上述基板的涂敷装置，使所述喷嘴及所述固化机构往返行走并对基板进行涂敷，在所述基板的涂敷装置中，所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述喷嘴用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述固化机构用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该固化机构用支承柱以到达所述喷嘴的上方的升降行程量将所述固化机构支承为升降自如，所述基板的涂敷方法的特征在于，包括：涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走；位置交换步骤，至少在结束涂液从上述喷嘴的喷出，并使上述喷嘴用支承柱及上述固化机构用支承柱停止后，执行上述固化机构的向该喷嘴上方的上升、该固化机构用支承柱的向该固化机构跨越该喷嘴的位置的行走、以及该固化机构的下降，从而相对于相反方向的行走方向对该喷嘴和该固化机构进行交换排序，所述基板的涂敷方法反复实施从上述涂敷处理步骤到上述位置交换步骤的过程。

本发明所涉及的基板的涂敷方法使用上述的基板的涂敷装置，使所述喷嘴及所述固化机构反复行走并对基板进行涂敷，在所述基板的涂敷装置中，所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述固化机构用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述喷嘴用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该喷嘴用支承柱以到达所述固化机构的上方的升降行程量将所述喷嘴支承为升降自如，所述基板的涂敷方法的特征在于，包括：涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走；位置交换步骤，至少在结束涂液从上述喷嘴的喷出，并使上述喷嘴用支承柱及上述固化机构用支承柱停止后，执行该喷嘴的向上述固化机构上方的上升、该喷嘴用支承柱的向该喷嘴跨越该固化机构的位置的行走、以及该喷嘴的下降，从而相对于相反方向的行走方向对该喷嘴和该固化机构进行交换排序，所述基板的涂敷方法反复实施从上述涂敷处理步骤到上述位置交换步骤的过程。

【发明效果】

在本发明所涉及的基板的涂敷装置及基板的涂敷方法中，由于使基板的涂膜厚度均匀化，特别是，即使至少在基板的涂敷末端使喷嘴朝向上方移动的情况下，也能够使由追随于喷嘴的固化机构实施的涂液的固化处理均质化，并且能够提高处理控制的通用性。

附图说明

图1是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置的优选的一个实施方式的立体图。

图2是图1所示的基板的涂敷装置的侧视图。

图3是对本发明所涉及的基板的涂敷方法的优选的一个实施方式进行说明的说明图，且为涉及“使喷嘴上升并行走”的一个方式的图，图3(a)是表示涂敷处理步骤的图，图3(b)是表示涂敷末端处理步骤的前半部分的图，图3(c)是表示涂敷末端处理步骤的后半部分的图。

图4是对本发明所涉及的基板的涂敷方法的其他实施方式进行说明的说明图，且为涉及“使喷嘴上升并行走”的其他方式的图，图4(a)是表示涂敷处理步骤的图，图4(b)是表示涂敷末端处理步骤的第一阶段的图，图4(c)是表示涂敷末端处理步骤的第二阶段的图，图4(d)是表示涂敷末端处理步骤的第三阶段的图。

图5表示本发明所涉及的基板的涂敷方法的变形例。图5(a)是表示位置交换步骤的前半部分的图，图5(b)是表示位置交换步骤的后半部分的图，图5(c)是表示位置交换步骤后的涂敷处理步骤的图。

图6是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置的变形例的侧视图。

图7是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置的其他变形例的侧视图。

图8是用于对现有技术的课题进行说明的说明图，图8(a)是表示产生涂膜厚度不均的情况的图，图8(b)是表示使喷嘴向斜上方移动的情况的图，图8(c)是表示固化机构与基板之间的间隙间隔增大的情况的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明所涉及的基板的涂敷装置及基板的涂敷方法的优选实施方式进行详细说明。图1是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置的优选的一个实施方式的立体图，图2是图1所示的基板的涂敷装置的侧视图，图3是对本发明所涉及的基板的涂敷方法的优选的一个实施方式进行说明的说明图。图3(a)表示涂敷处理步骤，图3(b)表示涂敷末端处理步骤的前半部分，图3(c)表示涂敷末端处理步骤的后半部分。

如图1及图2所示，本实施方式所涉及的基板的涂敷装置1被构成为，主要包括：工作台(平台)3，其上载置有作为涂敷对象的基板2；行走轨道5，其在工作台3外侧的基台4上，以从左右宽度方向夹持基板2的配置方式被左右配置有一对；左右一对喷嘴用支承柱6，其沿着行走轨道5行走；喷嘴7，其以架设于这些喷嘴用支承柱6之间的方式而设置；左右一对固化机构用支承柱8，其与喷嘴用支承柱6位置错开，并沿着行走轨道5行走；固化机构9，其以架设于这些固化机构用支承柱8之间的方式而设置。

在本实施方式中，左右一对行走轨道5被构成为，分别具有左右各两个第一行走轨道构件5a及第二行走轨道构件5b。第一行走轨道构件5a以接近基板2的方式而配置。第二行走轨道构件5b以与第一轨道构件5a相比远离基板2的方式而配置。

因此，第一轨道构件5a被配置在第二轨道构件5b与基板2之间。在本实施方式中，喷嘴用支承柱6在第一轨道构件5a上行走，固化机构用支承柱8在第二轨道构件5b上行走。

虽然在本实施方式中，行走轨道5使用了左右各两个的第一及第二轨道构件5a、5b，由四个轨道构件构成，但是也可以使用兼作为第一及第二轨道构件5a、5b的左右各一个的轨道构件来构成行走轨道5。即，可以为在基板2的左右两侧各配置一个轨道构件的结构。在这种情况下，喷嘴用支承柱6及固化机构用支承柱8沿相同的轨道构件行走。

无论是在使用四个轨道构件的情况下，还是在使用两个轨道构件的情况下，喷嘴用支承柱6和固化机构用支承柱8都以在行走方向上错开位置的方式而配置，以使得在支承柱6、8行走时，架设在各支承柱6、8之间的喷嘴7与固化机构9不会发生干涉。因此，例如，在前进方向(涂敷处理方向)上喷嘴7先行，固化机构9追随的情况下，在后进方向(返回方向)上，将变成固化机构9先行，喷嘴7追随。

工作台3具有以高平面度形成的上表面，在该上表面上以能够更换的方式配置有平板状的基板2。

行走于左右一对第一轨道构件5a上的喷嘴用支承柱6通过公知的线性电机或滚珠丝杠机构而被行走驱动。喷嘴用支承柱6在基板2的长度方向上从该基板2的一端(涂敷开始端)侧向另一端(涂敷末端)侧沿着第一轨道构件5a而行走。左右一对喷嘴用支承柱6和被架设在它们之间的喷嘴7，将喷嘴用支承柱6作为左右的柱，将喷嘴7作为横跨基板2的宽度方向的横长的横架构件，以门型形态而构成。

喷嘴7的左右两端分别被这些喷嘴用支承柱6支承为升降自如，从而在工作台3或基板2上升降。喷嘴7通过升降来调节与基板2之间的上下方向上的间隙间隔g1(参照图3)。被设置在各喷嘴用支承柱6上并使喷嘴7升降的机构也由公知的滚珠丝杠机构或线性电机等构成。

为了向喷嘴7供给涂液D，在喷嘴7上连接有未图示的涂液供给机构。通过从涂液供给机构向喷嘴7供给涂液D，从而喷嘴7朝向基板2喷出涂液D。通过从喷嘴7喷出涂液D，从而基板2被实施涂敷处理，所述喷嘴7被行走于第一行走轨道构件5a上的喷嘴用支承柱6支承。

行走于左右一对第二轨道构件5b上的固化机构用支承柱8，通过公知的线性电机或滚珠丝杠机构，追随于行走于第一轨道构件5a上的喷嘴用支承柱6而被行走驱动。

固化机构用支承柱8在基板2的长度方向上从该基板2的一端(涂敷开始端)侧向另一端(涂敷末端)侧沿着第二轨道构件5b行走。左右一对固化机构用支承柱8和被架设在它们之间的固化机构9，将固化机构用支承柱8作为左右的柱，将固化机构9作为横跨基板2的宽度方向的横长的横架构件，以门型形态而构成。

固化机构9的左右两端被这些固化机构用支承柱8分别支承为升降自如，从而在工作台3或基板2上升降。固化机构9通过升降，从而来调节与基板2之间的上下方向间隙间隔g2(参照图3)。被设置在各固化机构用支承柱8上而使固化机构9升降的机构也由滚珠丝杠机构或线性电机等构成。

作为固化机构9，如果涂液D为UV固化类型则使用UV照射体，如果涂液D为热固化类型则使用发热体，如果涂液D为自然干燥类型则使用喷出空气等干燥用气体的干燥机。固化机构9通过经由与该固化机构9连接的未图示的电气配线而供给的电力，向基板2发出UV光L、或发热而向基板2放热、或向基板2喷射干燥用气体。

通过从固化机构9发出UV光L等，从而涂液D被实施固化处理(在图中，用黑色部分表示)，所述固化机构9被行走于第二轨道构件5b上的固化机构用支承柱8支承。作为固化机构9，当然可以根据涂液D的种类，采用各种机构。

特别是，行走于第二轨道构件5b上的固化机构用支承柱8，独立于行走在第一行走轨道构件5a上的喷嘴用支承柱6的行走而单独地行走。即，沿着基板2的长度方向行走的喷嘴7和固化机构9相互未被连结，分别以独自的行走速度行走。具体而言，固化机构用支承柱8及固化机构9的行走速度v2只要在喷嘴用支承柱6及喷嘴7的行走速度v1以下，便可以根据固化处理控制而被多种多样地设定(参照图2等)。

另外，被固化机构用支承柱8支承为升降自如的固化机构9，独立于被喷嘴用支承柱6支承为升降自如的喷嘴7而单独地进行升降动作。即，喷嘴7和固化机构9相互未被连结，分别单独地进行升降动作(x1、x2)(参照图2等)。

具体而言，喷嘴7相对于基板2进行升降动作而设定高度位置以使涂膜厚度均匀化，另一方面，固化机构9相对于基板2进行升降动作而设定高度位置以使被涂敷在基板2上的涂液D的固化处理均质化。

接下来，对本实施方式所涉及的基板的涂敷方法进行说明。如图1及图2所示，在对基板2进行涂敷时，首先，使支承柱6、8行走从而使喷嘴7及固化机构9向基台3的一端移动，而作为待机状态。

在待机状态下，为了以设定的涂膜厚度对基板2进行涂敷，设定对于喷嘴7的涂敷处理条件。作为涂敷处理条件，具体而言，可以列举出通过使喷嘴7升降(x1)而被调节的喷嘴7与基板2之间的间隙间隔g1及喷嘴7的行走速度v1、每单位时间的涂液喷出量等。

并且，为了按照设定而使涂敷在基板2上的涂液D固化，设定对于固化机构9的固化处理条件。作为固化处理条件，具体而言，可以列举出通过使固化机构9升降(x2)而被调节的固化机构9与基板2之间的间隙间隔g2及固化机构9的行走速度v2，而且例如在为UV照射体的情况下可以列举发光强度，在为发热体的情况下可以列举发热量等。

在设定对于喷嘴7及固化机构9的处理条件的同时，将基板2载置于工作台3上，由此涂敷准备步骤结束。

接下来，执行对基板2进行涂敷处理并且对涂敷在基板2上的涂液D进行固化处理的涂敷处理步骤。在涂敷处理步骤中，在基板2的长度方向上，从基板2的涂敷开始端到即将到达涂敷末端区域Z(参照图3)为止，对基板2进行涂敷处理，并且实施涂敷在基板2上的涂液D的固化处理。

涂敷末端区域Z是指，如在上述背景技术所说明的那样，为了防止因停止从喷嘴7喷出涂液D而产生的涂膜厚度的不均，而调节喷嘴7的行走速度v1并且使该喷嘴7向上方缓慢移动时，从增大喷嘴7与基板2之间的间隙间隔起停止喷出涂液D的区域。

图3表示为了增大与基板2之间的间隙间隔，而“使喷嘴7上升并行走”的一个方式、即使喷嘴7向斜上方移动的方式。

在涂敷处理步骤中，如图3(a)所示，使喷嘴用支承柱6从位于行走方向前方的基板2的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过从喷嘴7喷出的涂液D而对基板2进行涂敷处理，并且使固化机构用支承柱8从喷嘴用支承柱6的行走方向后方追随于喷嘴用支承柱6，从基板2的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过固化机构9而对涂敷在基板2上的涂液D进行固化处理。

此时，喷嘴7独立于以固化处理条件设定的固化机构9的行走，而以调节后的间隙间隔g1及行走速度v1等单独地行走。同样，固化机构9也独立于以涂敷处理条件设定的喷嘴7的行走，以调节后的间隙间隔g2及行走速度v2等单独地行走。

之后，当喷嘴7及固化机构9到达基板2的涂敷末端区域Z时，执行涂敷末端处理步骤。在涂敷末端处理步骤中，如图3(b)所示，喷嘴用支承柱6使喷嘴7缓慢上升并行走，另一方面，固化机构用支承柱8将固化机构9的高度位置维持固定并行走，如图3(c)所示，与以上升移动状态从基板2的涂敷末端脱离的喷嘴7无关地，固化机构9相对于基板2水平地进行平行移动，之后，与喷嘴7同样从基板2的涂敷末端向基板2外侧脱离。

以上所说明的本实施方式所涉及的基板的涂敷装置1具备固化机构用支承柱8，所述固化机构用支承柱8独立于喷嘴用支承柱6的行走，而单独地行走于行走轨道5具体而言为第二轨道构件5b上，并且独立于喷嘴7的升降动作，而单独地将固化机构9支承为升降自如，而且，本实施方式所涉及的基板的涂敷方法具备涂敷末端处理步骤，在涂敷末端处理步骤中，在到达基板2的涂敷末端区域Z时，喷嘴用支承柱6使喷嘴7上升并行走，另一方面，固化机构用支承柱8将固化机构9的高度位置维持固定并行走。

由此，即使为了防止涂膜厚度的不均，而从使行走的喷嘴7向上方移动从而增大喷嘴7与基板2之间的间隙间隔起停止喷出涂液D，也能够使用于使固化机构9进行升降动作(x2)的固化机构用支承柱8，与用于使喷嘴7进行升降动作(x1)的喷嘴用支承柱6分离而独立地单独行走，并将固化机构9与基板2之间的间隙间隔g2保持固定，从而能够使涂敷在基板2上的涂液D均质地固化。

其结果为，能够使通过喷嘴7而被涂敷在基板2整个平面上的涂膜厚度均匀化，并且还能够使对于被涂敷在基板2整个平面上的涂液D的由固化机构9实施的固化处理均质化。即，通过上述结构，不仅能够遍及基板2整个平面地确保涂膜厚度的均匀化及固化处理的均质化，就连在基板2的涂敷末端区域Z使喷嘴7向上方移动的情况下，也能够将追随于喷嘴7的固化机构9的高度位置维持固定，从而使涂敷末端区域Z的固化处理均质化。

另外，即使在一系列的从涂敷处理步骤到涂敷末端处理步骤的过程中，实施喷嘴7的行走速度调节的情况下，也能够在不与喷嘴7干涉的范围内，自由地设定固化机构9的行走速度v2，因此即使在涂敷末端区域Z等内变更喷嘴7的行走速度v1的情况下，也能够使固化机构9以设定好的固定的行走速度v2行走，从而能够使固化处理均质化。

并且，由于具备固化机构用支承柱8，所述固化机构用支承柱8独立于喷嘴用支承柱6的行走而单独地行走于行走轨道5、具体而言为第二行走轨道构件5b上，因此与将喷嘴7和固化机构9连结在一起的结构不同，能够将喷嘴7及固化机构9的行走速度v1、v2自由地设定为适于涂敷处理及固化处理的行走速度，执行将速度设为参数的涂敷控制，从而能够提高处理控制的通用性。

虽然在上述说明中，将喷嘴7及固化机构9的行走速度v1、v2不同的情况作为示例，但显然这些行走速度v1、v2也可以相同(v1＝v2)。如果采用这种方式，由于能够以将喷嘴7与固化机构9之间的距离y设为固定的方式而行走，因此能够将从涂敷涂液D到开始进行固化处理为止的时间设为固定，从而能够使涂液D的固化均匀。

在使行走速度v1、v2相同的情况下，在变更从涂敷涂液D到开始进行固化处理为止的时间时，只需变更从开始喷嘴7的行走到开始固化机构9的行走为止的时间间隔即可。

另一方面，在喷嘴到达涂敷末端的同时，停止从喷嘴喷出涂液，并使喷嘴向正上方上升的情况下，如图4所示，也能够执行涂敷处理步骤及涂敷末端处理步骤。

图4是对本发明所涉及的基板的涂敷方法的其他实施方式进行说明的说明图，表示为了增大与基板2之间的间隙间隔，“使喷嘴7上升并行走”以外的方式，即使喷嘴7以如下方式移动的方式，所述方式为，暂时停止喷嘴7的水平行走并上升，在上升结束后，重新进行水平行走。图4(a)表示涂敷处理步骤，图4(b)表示涂敷末端处理步骤的第一阶段，图4(c)表示涂敷末端处理步骤的第二阶段，图4(d)表示涂敷末端处理步骤的第三阶段。

在涂敷处理步骤中，如图4(a)所示，喷嘴7和固化机构9隔开固定的距离y1，以相同的速度(v1＝v2)行走，如图4(b)所示，到喷嘴7在涂敷末端停止(v1＝0)为止，保持相同的距离y1。而且，如图4(c)所示，在喷嘴7向正上方上升的期间内，固化机构9也保持行走速度v2固定继续行走。由此，喷嘴7与固化机构9之间的距离变小(y1→y2)。当喷嘴7的上升结束时，如图4(d)所示，再次以行走速度v1开始喷嘴7的行走，在保持距离y2的状态下，固化机构9行走直至涂敷末端。即使在这种方式下，也能够获得与上述实施方式大致相同的作用效果。

在本实施方式中，虽然由第一行走轨道构件5a及第二行走轨道构件5b构成行走轨道5，使喷嘴用支承柱6沿着第一行走轨道构件5a行走，使固化机构用支承柱8沿着第二行走轨道构件5b行走，但是即使在使这些支承柱6、8在相同的行走轨道构件上行走的情况下，也能够实现相同的作用效果。

另外，即使使喷嘴用支承柱6沿着第二行走轨道构件5b行走，使固化机构用支承柱8沿着第一行走轨道构件5a行走，也能够实现相同的作用效果。

图5中示出了本发明所涉及的基板的涂敷方法的变形例。图5是对本变形例所涉及的涂敷方法进行说明的说明图。图5(a)表示位置交换步骤的前半部分，图5(b)表示位置交换步骤的后半部分，图5(c)表示位置交换步骤后的涂敷处理步骤。

在上述实施方式中，供喷嘴用支承柱6行走的第一行走轨道构件5a被配置在供固化机构用支承柱8行走的第二行走轨道构件5b和基板2之间。在该变形例中，固化机构用支承柱8以到达喷嘴7的上方的升降行程量H(参照图1)将固化机构9支承为升降自如，以使成为门型形态的横架构件的固化机构9越过同样成为门型形态的横架构件的喷嘴7。

由于喷嘴7沿着喷嘴用支承柱6的高度方向被支承为升降自如，因此升降行程量H最大限度地被延伸设定至比喷嘴7的上升极限高的位置处。但是，如果将使喷嘴7下降至下降极限的位置设为基准，则可以将到达喷嘴7的上方的升降行程量H设定得较短。

本变形例所涉及的涂敷方法适用于使喷嘴7及固化机构9往返行走而对基板2进行涂敷的情况。由往返行走实施的涂敷既可以适用于在基板2上重叠涂敷的情况，也可以适用于在往路和回路对更换了的其他基板2进行涂敷的情况。

在该变形例的情况下，如图1～图4所示，往路及回路的由喷嘴7及固化机构9实施的处理为，依次执行涂敷准备步骤、涂敷处理步骤、以及涂敷末端处理步骤。与上述实施方式的不同点为，包含位置交换步骤这一点。位置交换步骤为，为了往返行走，而交换喷嘴7和固化机构9的位置的步骤。

图5表示喷嘴用支承柱6行走于第一行走轨道构件5a上、固化机构用支承柱8行走于第二行走轨道构件5b上的情况。

这种情况下的位置交换步骤至少在结束从喷嘴7喷出涂液D，喷嘴用支承柱6及固化机构用支承柱8在基板2的外侧停止之后的待机状态下，如图5(a)所示，执行固化机构9的向喷嘴7上方的上升(在图中，用箭头标记s1表示)，如图5(a)～图5(b)所示，执行固化机构用支承柱8的向固化机构9跨越喷嘴7的位置的行走(在图中，用箭头标记s2表示)，以及如图5(b)所示，执行固化机构9的下降(在图中，用箭头标记s3表示)，从而相对于成为回路的相反方向的行走方向对喷嘴7和固化机构9进行交换排序。

“至少结束从喷嘴7喷出涂液D”是指，固化机构9可以继续进行工作，即可以发出UV光L、或发热。

在本变形例中，如上所述，具备对喷嘴7和固化机构9进行交换排序的位置交换步骤，由于反复实施从涂敷处理步骤到位置交换步骤的过程，因此能够在往返方向上使喷嘴7及固化机构9行走。

在图1～4所示的实施方式中，只能在一个方向上进行涂敷，从而必定需要使支承柱6、8等返回至初始的位置后才能再次实施涂敷，但是在本变形例中，由于能够往返行走，因此能够通过一次往返对两个基板2进行处理、或进行重复涂敷，从而能够提高生产效率。

另外，由于在将喷嘴7和固化机构9连结在一起的结构中，无法交换它们的位置，因此为了能够进行往返行走，需要在喷嘴7的往返方向两侧设置固化机构9，会导致成本提高，但是在本变形例中，通过分别仅设置一个喷嘴7及一个固化机构9，便能够往返行走并进行涂敷/固化处理。

另外，由于能够自由地交换喷嘴7和固化机构9的顺序，因此在使固化机构9以面向基板2的方式向喷嘴7前方移动后，仅使固化机构用支承柱8行走，从而也能够执行涂敷前的UV活性化处理等实施各种处理。

代替上述变形例，在喷嘴用支承柱6行走于第二行走轨道构件5b上、固化机构用支承柱8行走于第一行走轨道构件5a上的情况下的位置交换步骤中，虽然未图示，但明确可知，至少在结束从喷嘴7喷出涂液D，喷嘴用支承柱6及固化机构用支承柱8在基板2的外侧停止后的待机状态下，执行喷嘴7的向固化机构9上方的上升、喷嘴用支承柱6的向喷嘴7跨越固化机构9的位置的行走、以及喷嘴7的下降，从而相对于成为回路的相反方向的行走方向对喷嘴7和固化机构9进行交换排序。

仅仅是喷嘴7跨越固化机构9、或固化机构9跨越喷嘴7的不同，能够获得相同的作用效果。

图6是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置1的变形例的侧视图。在本变形例中，供固化机构用支承柱8行走的第二行走轨道构件5b被配置在工作台3的上方，固化机构用支承柱8被吊挂在第二行走轨道构件5b上，将固化机构用支承柱8设置为行走自如。也可以采用如下方式，即，代替第二行走轨道构件5b，而将第一行走轨道构件5a配置在工作台3的上方，将喷嘴用支承柱6吊挂在该第一行走轨道构件5a上，将喷嘴用支承柱6设置为行走自如。

在这种情况下，也能够具备使喷嘴7及固化机构9的任一方跨越另一方的结构。当然这种变形例也能够实现上述的作用效果。

图7是表示本发明所涉及的基板的涂敷装置1的其他变形例的侧视图。该变形例为，由一个被吊挂在第二行走轨道构件5b上的固化机构用支承柱8和两个对喷嘴7进行支承的喷嘴用支承柱6A、6B构成的情况。两个喷嘴用支承柱6A、6B行走在相同的第一行走轨道构件5a上。

当以这种方式构成时，能够进行如下的操作，即，在通过右侧的喷嘴用支承柱6A的喷嘴7A进行涂敷处理，并且通过追随于该右侧的喷嘴7A的固化机构9进行固化处理后，在使右侧的喷嘴7A返回至初始的位置时，通过使固化机构9向左侧的喷嘴支承用柱6B的左侧移动，之后，通过左侧的喷嘴7B进行涂敷处理，并且使固化机构9追随于该左侧的喷嘴7B以进行固化处理，从而能够利用一个固化机构9的行走移动，高效地实施对由两个喷嘴7A、7B实施的涂敷处理的固化处理，进而能够提高设备效率及生产效率。另外，如果使右侧的喷嘴7A和左侧的喷嘴7B的涂液D不同，则还能够进行不同种类的涂液的重叠涂敷。

【符号说明】

1 基板的涂敷装置

2 基板

3 工作台

4 基台

5 行走轨道

5a 第一行走轨道构件

5b 第二行走轨道构件

6、6A、6B 喷嘴用支承柱

7、7A、7B 喷嘴

8 固化机构用支承柱

9 固化机构

D 涂液

H 升降行程量

L UV光

Z 涂敷末端区域

g1 喷嘴与基板的上下方向上的间隙间隔

g2 固化机构与基板的上下方向上的间隙间隔

s1 固化机构的向喷嘴上方的上升

s2 固化机构用支承柱的向固化机构跨越喷嘴的位置的行走

s3 固化机构的下降

v1 喷嘴用支承柱(喷嘴)的行走速度

v2 固化机构用支承柱(固化机构)的行走速度

x1 喷嘴的升降动作

x2 固化机构的升降动作

a 基板

b 喷嘴

c 涂液

d 固化机构

e 间隙间隔

f 间隙间隔的增幅

y、y1、y2 喷嘴与固化机构的距离

Claims (7)

1.一种基板的涂敷装置，其通过从喷嘴喷出的涂液对基板进行涂敷处理，并通过固化机构对被涂敷在该基板上的涂液进行固化处理，所述喷嘴以升降自如的方式被行走于行走轨道上的喷嘴用支承柱支承，所述基板的涂敷装置的特征在于，

具备固化机构用支承柱，所述固化机构用支承柱独立于喷嘴用支承柱的行走而单独地行走于上述行走轨道上，并且以独立于上述喷嘴的升降动作的方式单独地支承上述固化机构并使其升降自如。

2.根据权利要求1所述的基板的涂敷装置，其特征在于，

所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述喷嘴用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述固化机构用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该固化机构用支承柱支承所述固化机构并使其以到达所述喷嘴的上方的升降行程量升降自如。

3.根据权利要求1所述的基板的涂敷装置，其特征在于，

所述行走轨道由第一行走轨道构件和第二行走轨道构件构成，所述第一行走轨道构件以接近所述基板的方式配置，所述第二行走轨道构件以与该第一行走轨道构件相比远离该基板的方式配置，所述固化机构用支承柱在上述第一行走轨道构件上行走，所述喷嘴用支承柱在上述第二行走轨道构件上行走，该喷嘴用支承柱支承所述喷嘴并使其以到达所述固化机构的上方的升降行程量升降自如。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板的涂敷装置，其特征在于，

所述固化机构为UV照射体、发热体或干燥机。

5.一种基板的涂敷方法，其使用权利要求1所述的基板的涂敷装置而对基板进行涂敷，其特征在于，

包括：

涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；

涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走。

6.一种基板的涂敷方法，其使用权利要求2所述的基板的涂敷装置，使所述喷嘴及所述固化机构往返行走并对基板进行涂敷，所述基板的涂敷方法的特征在于，

包括：

涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；

涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走；

位置交换步骤，至少在结束涂液从上述喷嘴的喷出，并使上述喷嘴用支承柱及上述固化机构用支承柱停止后，执行上述固化机构的向该喷嘴上方的上升、该固化机构用支承柱的向该固化机构跨越该喷嘴的位置的行走、以及该固化机构的下降，从而相对于相反方向的行走方向对该喷嘴和该固化机构进行交换排序，

所述基板的涂敷方法反复实施从上述涂敷处理步骤到上述位置交换步骤的过程。

7.一种基板的涂敷方法，其使用权利要求3所述的基板的涂敷装置，使所述喷嘴及所述固化机构反复行走并对基板进行涂敷，所述基板的涂敷方法的特征在于，

包括：

涂敷处理步骤，使所述喷嘴用支承柱从位于行走方向前方的所述基板的涂敷开始端向涂敷末端行走并通过从所述喷嘴喷出的涂液对该基板进行涂敷处理，并且使所述固化机构用支承柱从喷嘴用支承柱的行走方向后方追随于该喷嘴用支承柱而从该基板的涂敷开始端向涂敷末端行走，并通过所述固化机构对涂敷在该基板上的涂液进行固化处理；

涂敷末端处理步骤，在到达上述基板的涂敷末端区域时，上述喷嘴用支承柱使上述喷嘴上升并行走，另一方面，上述固化机构用支承柱将上述固化机构的高度位置维持固定并行走；

位置交换步骤，至少在结束涂液从上述喷嘴的喷出，并使上述喷嘴用支承柱及上述固化机构用支承柱停止后，执行该喷嘴的向上述固化机构上方的上升、该喷嘴用支承柱的向该喷嘴跨越该固化机构的位置的行走、以及该喷嘴的下降，从而相对于相反方向的行走方向对该喷嘴和该固化机构进行交换排序，

所述基板的涂敷方法反复实施从上述涂敷处理步骤到上述位置交换步骤的过程。