CN101344725B - 涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种具备使基板浮起进行搬运的基板搬运部和在由所述基板搬运部搬运时向所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部的涂敷装置、在与保持并搬运所述基板的外部搬运机构之间进行基板的交接的基板的交接方法及涂敷方法。在基板搬运部的搬入侧载物台以及搬出侧载物台分别设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分，在收容外部搬运机构一部分时进行基板的交接。

Description

涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法

技术领域

本发明涉及一种涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法。本申请主张基于2007年7月12日在日本国申请的特愿2007-183388号的优先权，将其内容援引到此。

背景技术

在构成液晶显示器等显示面板的玻璃基板上形成布线图形和电极图形等的微细图形。这样的图形通常通过例如光刻法等手法形成。在光刻法中，分别进行在基板上形成抗蚀剂膜的工序、对该抗蚀剂膜进行图形曝光的工序、之后显影该抗蚀剂膜的工序。

作为在基板的表面上涂敷抗蚀剂膜的装置，已知有固定狭缝喷嘴，将抗蚀剂涂敷到在该狭缝喷嘴的下面移动的玻璃基板上的涂敷装置。其中，已知有通过将气体喷出到载物台上而使基板浮起移动的涂敷装置(专利文献1)。在这种涂敷装置中，已知有下述结构：在基板搬入区域以及基板搬出区域设置有升降销，当和装置的外部之间进行基板交接之际，通过设置用该升降销举起基板后能够使外部搬运机构在基板的下侧移动的空间来进行交接。【专利文献】日本特开2005-270841号公报。

但是，当使用升降销时，必须将该升降销的升降机构等大规模的机构搭载到涂敷装置上，另外，使该升降机构动作时的消耗电力等成本会增加。而且，需要用于交接基板的空间。

发明内容

鉴于以上状况，本发明的目的在于提供一种可降低使用时的成本的涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法。

本发明的第1方案(aspect)提供一种涂敷装置，其特征在于，具有：使基板浮起进行搬运的基板搬运部；和在由所述基板搬运部搬运时，向所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部，所述涂敷装置的特征在于，在所述基板搬运部设置有将所述基板搬入的基板搬入区域和将所述基板搬出的基板搬出区域，在所述基板搬入区域以及所述基板搬出区域中的至少一方设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接所述基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分。

根据本发明的第1方案，由于在基板搬运部设有将基板搬入的基板搬入区域和将基板搬出的基板搬出区域，在基板搬入区域以及基板搬出区域中的至少一方设置有当在与外部搬运机构之间交接基板之际收容该外部搬运机构的一部分的收容部，因此可在收容外部搬运机构的一部分之际进行基板的交接。由此，即使不设置升降销也可以进行基板的交接，所以可降低对应程度的成本。另外，由于可以不设置升降销进行基板的交接，所以可缩短处理周期。并且，由于可在基板搬入区域或基板搬出区域直接进行基板的交接，所以可有效利用基板搬运部上的空间。由此，可使涂敷装置小型化。

在上述涂敷装置中，优选的是在所述基板搬入区域以及所述基板搬出区域内设置有所述收容部的区域中，在除所述收容部以外的区域设置有喷出用于使所述基板浮起的气体的气体喷出口。

在本发明的第1方案中，当在基板搬入区域以及基板搬出区域内设置有收容部的区域中，在除收容部以外的区域设置喷出用于使基板浮起的气体的气体喷出口时，不需要在基板搬入区域以及基板搬出区域的整个面上喷出气体。由此，与在整个面上喷出气体的情况相比，可降低气体喷出所需的成本。

在上述涂敷装置中，所述收容部可以以规定的间隔设置多个。

在本发明的第1方案中，当收容部以规定的间隔设置多个时，即使是不同结构的外部搬运机构，也能够广泛地收容该外部搬运机构的一部分。

在上述涂敷装置中，所述收容部可以设置在沿搬运方向的方向上。

在本发明的第1方案中，当收容部设置在沿搬运方向的方向上时，在基板交接后，可顺畅地进行该基板的搬运。

在上述涂敷装置中，优选的是所述收容部至少设置于所述基板搬入区域，在所述基板搬入区域内设置有所述收容部的区域的周围设置有第1校准机构，其对应于所述涂敷部的涂敷位置调节所述基板的位置。

在本发明的第1方案中，当收容部至少设置于基板搬入区域，在基板搬入区域内设置有收容部的区域的周围设置有第1校准机构，其对应于涂敷部的涂敷位置调节基板的位置时，在基板搬入后，可顺畅地接上该基板的搬运。另外，其后能向基板上的确切位置涂敷液状体，因此可接上适当的涂敷动作。

在上述涂敷装置中，优选的是所述收容部至少设置于所述基板搬出区域，在所述基板搬出区域内设置有所述收容部的区域的周围设置有第2校准机构，其对应于用于所述基板搬出的外部搬运机构的位置调节所述基板的位置。

在本发明的第1方案中，当收容部至少设置于基板搬出区域，在基板搬出区域内设置有收容部的区域的周围设置有第2校准机构，其对应于用于基板搬出的外部搬运机构的位置调节基板的位置时，在基板搬出之际，可顺畅地将基板交给外部搬运机构。

本发明的第2方案(aspect)提供一种基板的交接方法，其在涂敷装置和外部搬运机构之间进行基板的交接，所述涂敷装置具有：使基板浮起进行搬运的基板搬运部；和由所述基板搬运部搬运时，在所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部，所述外部搬运机构保持所述基板进行搬运，所述基板交接方法的特征在于，在所述基板搬运部设置有将所述基板搬入的基板搬入区域和将所述基板搬出的基板搬出区域，在所述基板搬入区域以及所述基板搬出区域中的至少一方设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接所述基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分，通过将所述外部搬运机构的一部分收容于所述收容部，并将所述基板載置于所述基板搬运部而进行所述基板的交接。

根据本发明的第2方案，在基板搬运部设置有将基板搬入的基板搬入区域和将基板搬出的基板搬出区域，在基板搬入区域以及基板搬出区域中的至少一方设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接基板之际，收容部收容该外部搬运机构的一部分，通过将外部搬运机构的一部分收容于收容部，并将基板載置于基板搬运部而进行基板的交接，因此，即使不设置升降销也可以进行基板的交接。由此可降低对应程度的成本。另外，由于即使不设置升降销也可以进行基板的交接，所以可缩短处理周期。

在所述基板的交接方法中，可以在所述基板搬入区域，以所述基板的位置对应于所述涂敷部的涂敷位置的方式进行校准。

在上述发明的交接方法中，当在基板搬入区域以基板的位置对应于涂敷部的涂敷位置的方式进行校准时，在基板搬入后，可顺畅地接上该基板的搬运。另外，其后能向基板上的确切位置涂敷液状体，因此可接上适当的涂敷动作。

在上述基板的交接方法中，可以在所述基板搬出区域，以所述基板的位置对应于用于该基板搬出的外部搬运机构的位置的方式进行校准。

在本发明的第2方案中，当在基板搬出区域以基板的位置对应于用于该基板搬出的外部搬运机构的位置的方式进行校准时，在基板搬出之际，可顺畅地将基板交给外部搬运机构。

在上述基板的交接方法中，在所述基板交接之际，可以用所述基板搬运部限制所述基板的移动。

在本发明的第2方案中，当在基板交接之际用基板搬运部限制基板的移动时，可防止在基板搬运前该基板错位。

在本发明的涂敷方法中，可利用上述的基板交接方法进行所述基板的交接。

在本发明的第2方案中，当不设置升降销进行基板的交接时，能够降低使用该涂敷装置时的整体的成本。另外，由于即使不设置升降销也可以进行基板的交接，所以可缩短处理周期。

根据本发明，可得到能够降低使用时的成本的涂敷装置、基板的交接方法及涂敷方法。

附图说明

图1是表示本发明的一个实施方式的涂敷装置的结构的立体图。

图2是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的结构的主视图。

图3是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的结构的俯视图。

图4是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的结构的侧视图。

图5A是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图5B是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图5C是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图6是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图7是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图8是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图9是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图10A是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图10B是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图10C是表示本发明的所述实施方式的涂敷装置的动作的图。

图11是表示本发明的所述实施方式的喷嘴清洗装置的动作的图。

图12是表示本发明的所述实施方式的喷嘴清洗装置的动作的图。

图13是表示本发明的另一实施方式的涂敷装置的结构的俯视图。

图中：1-涂敷装置，2-基板搬运部，3-涂敷部，4-管理部，25-搬入侧载物台，25b-收容部，25d-校准机构，28-搬出侧载物台，28b-收容部，S-基板，R-抗蚀剂膜。

具体实施方式

以下，基于附图对本发明的实施方式(embodiment)进行说明。

图1是本实施方式的涂敷装置1的立体图。参照该图，对本发明的涂敷装置1的主要构造进行说明。

如图1所示，本实施方式的涂敷装置1是将抗蚀剂涂敷到用于例如液晶面板等的玻璃基板上的涂敷装置，以基板搬运部2、涂敷部3以及管理部4作为主要的结构要素。该涂敷装置1通过基板搬运部2使基板浮起搬运，同时通过涂敷部3在该基板上涂敷抗蚀剂，并通过管理部4管理涂敷部3的状态。在基板搬运部2中，设置有作为本实施方式的特征的结构要素的收容部25b、28b(参照图3)。

图2是涂敷装置1的主视图，图3是涂敷装置1的俯视图，图4是涂敷装置1的侧视图。参照这些图，对涂敷装置1的详细结构进行说明。

(基板搬运部)

首先，对基板搬运部2的结构进行说明。

基板搬运部2具有：基板搬入区域20、涂敷处理区域21、基板搬出区域22、搬运机构23、以及支承上述结构的框架部24。在该基板搬运部2中，通过搬运机构23将基板S向基板搬入区域20、涂敷处理区域21以及基板搬出区域22依次搬运。基板搬入区域20、涂敷处理区域21以及基板搬出区域22从基板搬运方向的上游侧向下游侧依次排列。搬运机构23以跨基板搬入区域20、涂敷处理区域21以及基板搬出区域22各部分的方式设置于该各部分的一侧。

以下，对涂敷装置1的结构进行说明，为便于表示，使用XYZ坐标系说明图中的方向。将基板搬运部2的长度方向即基板的搬运方向表示为X方向。将俯视下与X方向(基板搬运方向)正交的方向表示为Y方向。将垂直于含有X方向轴以及Y方向轴的平面的方向表示为Z方向。X方向、Y方向以及Z方向分别以图中的箭头方向作为+(正)方向，以和箭头方向相反的方向作为-(负)方向。

基板搬入区域20是搬入从装置外部搬运来的基板S的部位，其具于搬入侧载物台25。

搬入侧载物台25设置于框架部24的上部，例如为由SUS等构成的在俯视下呈矩形的板状构件。该搬入侧载物台25中X方向较长。在搬入侧支架25中分别设有多个气体喷出孔25a和收容部25b。

气体喷出孔25a是向搬入侧载物台25的载物台表面25c上喷出气体的孔，例如在搬入侧载物台25中基板S的通过区域上以在俯视下为矩阵状的方式配置。该气体喷出孔25a以贯通搬入侧载物台25的方式设置。气体喷出孔25a与未图示的气体供给源连接。在该搬入侧载物台25，通过从气体喷出孔25a喷出的气体能够使基板S向+Z方向浮起。

收容部25b是在从外部搬运机构接收基板S之际收容该外部搬运机构的一部分的部分。该收容部25b设置于搬入侧载物台25的基板S的搬入区域中从-X方向的端部向+X方向的大致整个面上。收容部25b沿Y方向设置多个。

在该搬入侧载物台25中的Y方向的两端部上各设置一个校准装置25d。校准装置25d是对搬入到搬入侧载物台25的基板S的位置进行对准的装置。各校准装置25d具有长孔和设置于该长孔内的对位构件(未图示)，可从两侧机械夹持搬入到搬入侧载物台25的基板。

涂敷处理区域21是进行抗蚀剂的涂敷的部位，其设置有支承基板S浮起的处理载物台27。

处理载物台27为例如由以硬质氧化铝为主要成分的光吸收材料覆盖载物台表面27c的俯视下为矩形的板状构件，相对于搬入侧载物台25设置于+X方向侧。处理载物台27中用光吸收材料覆盖的部分可抑制激光等光的反射。该处理载物台27中Y方向较长。处理载物台27的Y方向的尺寸和搬入侧载物台25的Y方向尺寸大致相同。处理载物台27中设置有向载物台表面27c上喷出气体的多个气体喷出孔27a和吸引载物台表面27c上的气体的多个气体吸引孔27b。这些气体喷出孔27a和气体吸引孔27b以贯通处理载物台27的方式设置。

在处理载物台27中，气体喷出孔27a的间距比设置于搬入侧载物台25的气体喷出孔25a的间距窄，与搬入侧载物台25相比气体喷出孔27a被密集设置。因此，与其他的载物台相比，能够在该处理载物台27高精度地调节基板的浮起量，基板的浮起量例如可以控制在100μm以下，优选在50μm以下。

基板搬出区域22是将涂敷了抗蚀剂的基板S向装置外部搬出的部位，其具有搬出侧载物台28。该搬出侧载物台28相对于处理载物台27设置于+X方向侧，由与设置于基板搬入区域20的搬入侧载物台25大致相同的材质、尺寸构成。与搬入侧载物台25同样地，在搬出侧载物台28设置有气体喷出孔28a以及收容部28b。

收容部28b是向外部搬运机构交送基板S时收容该外部搬运机构的一部分的部分。该收容部28b从+X方向的端部向-X方向以一定的宽度设置于搬出侧载物台28中的基板S的搬出区域。收容部28b沿Y方向被设置多个。

搬运机构23具有搬运机23a、真空垫片23b、导轨23c。搬运机23a为在内部设置有例如直线电动机的结构，通过该直线电动机的驱动，能使搬运机23a在导轨23c上移动。

该搬运机23a以规定的部分23d在俯视下重叠于基板S的-Y方向端部的方式配置。重叠于该基板S的部分23d设置于比基板S浮起时的基板背面的高度位置低的位置。

在搬运机23a中重叠于上述基板S的部分23d排列有多个真空垫片23b。该真空垫片23b具有真空吸附基板S的吸附面，并以该吸附面朝向上方的方式配置。真空垫片23b通过用吸附面吸附基板S的背面端部而能够保持该基板S。可调节各真空垫片23b距离搬运机23a的上表面的高度位置，例如能够对应于基板S的浮起量使真空垫片23b的高度位置上下调节。导轨23c在搬入侧载物台25、处理载物台27以及搬出侧载物台28的侧面跨各载物台延伸，通过在该导轨23c上滑动，搬运机23a能够沿该各载物台移动。

(涂敷部)

下面，对涂敷部3的结构进行说明。

涂敷部3是在基板S上涂敷抗蚀剂的部分，其具有门型框架31和喷嘴32。

门型框架31具有支柱构件31a和架桥构件31b，以在Y方向上跨处理载物台27的方式进行设置。支柱构件31a在处理载物台27的Y方向侧各设置一个，各支柱构件31a分别支承于框架部24的Y方向侧的两侧面。各支柱构件31a以使上端部的高度位置平齐地方式设置。架桥构件31b在各支柱构件31a的上端部之间架桥，且相对于该支柱构件31a可升降。

该门型框架31与移动机构31c连接，且可在X方向上移动。通过该移动机构31c，门型框架31可在和管理部4之间移动。即，设置在门型框架31上的喷嘴32可在和管理部4之间移动。另外，该门型框架31也可通过未图示的移动机构在Z方向上移动。

喷嘴32构成为一方向较长的长尺状，其设置于门型框架31的架桥构件31b的-Z方向侧的面上。在该喷嘴32的-Z方向的前端设置有沿自身的长度方向呈狭缝状的开口部32a，从该开口部32a喷出抗蚀剂。喷嘴32被如下配置：开口部32a的长度方向与Y方向平行，并且该开口部32a与处理载物台27对置。开口部32a的长度方向的尺寸比所搬运的基板S的Y方向的尺寸小，不会在基板S的周边区域涂敷抗蚀剂。在喷嘴32的内部设置有使抗蚀剂流通到开口部32a的未图示的流通路，该流通路与未图示的抗蚀剂供给源连接。该抗蚀剂供给源具有例如未图示的泵，通过该泵将抗蚀剂向开口部32a挤压出，由此从开口部32a喷出抗蚀剂。喷嘴32中设置有移动机构，在支柱构件31a中设置有未图示的移动机构，通过该移动机构，能够使保持于架桥构件31b的喷嘴32在Z方向上移动。

在架桥构件31b上安装有传感器33，该传感器33测定喷嘴32的开口部32a即喷嘴32的前端和与该喷嘴32的前端对置的对置面之间的Z方向上的距离。

(管理部)

对管理部4的结构进行说明。

管理部4是为使喷出到基板S的抗蚀剂(液状体)的喷出量一定而对喷嘴32进行管理的部位，以在俯视下重叠于基板搬运部2的方式相对于涂敷部3设置于-X方向侧(基板搬运方向的上游侧)。该管理部4具有：预备喷出机构41、浸渍槽42、喷嘴清洗装置43、收容这些结构的收容部44、以及支承该收容部的保持构件45。保持构件45连接于移动机构45a。根据该移动机构45a，收容部44可在X方向上移动。

预备喷出机构41、浸渍槽42以及喷嘴清洗装置43以依次向-X方向侧排列。这些预备喷出机构41、浸渍槽42以及喷嘴清洗装置43的Y方向的各尺寸比上述门型框架31的支柱构件31a之间的距离小，上述门型框架31能够跨各部位进行访问(アクセス)。

预备喷出机构41是预备喷出抗蚀剂的部分。该预备喷出机构41被设置地最靠近喷嘴32。浸渍槽42是在内部储存有稀释剂等溶剂的液体槽。喷嘴清洗装置43清洗喷嘴32的装置。

由于设置移动机构，因此喷嘴清洗装置43与预备喷出机构41以及浸渍槽42相比在X方向上的尺寸大。当将该喷嘴清洗装置43设置于靠近喷嘴32的位置(+X方向侧)时，则将其他的部位配置于远离喷嘴32的位置(-X方向侧)。此时，当喷嘴32访问收容部44内的其他部位时需要越过移动机构，相应地喷嘴32的移动距离变长。

本实施方式的喷嘴清洗装置43设置于比预备喷出机构41以及浸渍槽42更靠向-X方向侧的位置，并且该喷嘴清洗装置43的移动机构设置于比该喷嘴清洗装置43的清洗机构更靠向-X方向侧的位置，因此，喷嘴32不越过移动机构，使喷嘴32的移动距离尽量短。当然，预备喷出机构41、浸渍槽42、喷嘴清洗装置43的配置并不限于本实施方式，也可以是其他的配置。

(涂敷装置的动作)

下面，对如上述构成的涂敷装置1的动作进行说明。

图5A～图10是表示涂敷装置1的动作过程的图。参照各图，对将抗蚀剂涂敷到基板S上的动作进行说明。在该动作中，通过外部搬运机构将基板S搬入基板搬入区域20，使该基板S浮起进行搬运并在涂敷处理区域21涂敷抗蚀剂，将涂敷了该抗蚀剂的基板S从基板搬出区域22搬出。在图6～9中只有门型框架31(★由于管理部4为实线所以删除了。★)的轮廓用点划线表示，这样容易判别喷嘴32以及处理载物台27的结构。以下，对各部分的详细动作进行说明。

在将基板搬入到基板搬入区域20之前，使涂敷装置1待机。具体而言，将搬运机23a配置于搬入侧载物台25的基板搬入位置的-Y方向侧，使真空垫片23b的高度位置对准基板的浮起高度位置，并且分别从搬入侧载物台25的气体喷出孔25a、处理载物台27的气体喷出孔27a、气体吸引孔27b以及搬出侧载物台28的气体喷出孔28a喷出或吸引气体，从而处于以基板在各载物台表面浮起的程度供给气体的状态。

在该状态下，如图5A所示，例如通过搬运臂60等外部搬运机构从外部搬运基板S到基板搬入位置。当将该基板S搬入到搬入载物台25上时，如图5B所示，使该搬运臂60向-Z方向移动，并使该搬运臂60的一部分收容到设置于搬入侧载物台25的收容部25b内。搬运臂60在通过搬入侧载物台25的载物台表面25c之际，通过供给于载物台表面25c上的气体来保持基板S，使其远离搬运臂60。然后，如图5C所示，使收容部25b内的搬运臂60向-X方向侧移动，并使搬运臂60向收容部25外移动。

在气体的作用下而以相对于载物台表面25c浮起的状态被保持的基板S通过校准装置25d的对位构件进行基板S的校准。在该校准中，特别是要对准到使Y方向的位置成为对应于涂敷部3的喷嘴32的位置。然后，将配置于基板搬入位置的-Y方向侧的搬运机23a的真空垫片23b真空吸附于基板S的-Y方向侧端部。基板S的-Y方向侧端部被吸附的状态如图6所示。在基板S的-Y方向侧端部被真空垫片23b吸附后，使搬运机23a沿导轨23c移动。由于基板S处于浮起状态，因此即使搬运机23a的驱动力比较小，基板S也可沿导轨23c顺畅地移动。

如果基板S的搬运方向前端到达喷嘴32的开口部32a的位置，则如图7所示，从喷嘴32的开口部32a向基板S喷出抗蚀剂。抗蚀剂的喷出是在固定喷嘴32的位置并通过搬运机23a搬运基板S的同时进行的。

伴随基板S的移动，如图8所示，在基板S上涂敷抗蚀剂膜R。通过使基板S通过喷出抗蚀剂的开口部32a的下面，在基板S的规定的区域形成抗蚀剂膜R。

形成有抗蚀剂膜R的基板S通过搬运机23a搬运到搬出侧载物台28。在搬出侧载物台28中，以相对于载物台表面28c浮起的状态将基板S搬运到图9所示的基板搬出位置。

如果基板S到达基板搬出位置，则首先解除真空垫片23b的吸附。之后，如图10A～图10C所示，例如使搬运臂61等外部搬运机构的一部分向收容部28b内移动，然后使该搬运臂61向+Z方向移动，在搬运臂61上接收基板S。接收基板S后，使搬运臂61向+X方向移动。这样将基板S交给搬运臂61。在将基板S交给搬运臂61后，将搬运机23a再次返回到搬入侧载物台25的基板搬入位置，在下一个基板S搬运来之前待机。

在下一个基板S搬运来之前的期间，在涂敷部3进行用于保持喷嘴32的喷出状态的预备喷出。如图11所示，通过移动机构31c使门型框架31向-X方向移动直到管理部4的位置。

在将门型框架31移动到管理部4的位置后，调整门型框架31的位置，使喷嘴32访问喷嘴清洗装置43，通过该喷嘴清洗装置43清洗喷嘴32。

在喷嘴32清洗后，使该喷嘴32访问预备喷出机构41。在预备喷出机构41中，一边测定开口部32a和预备喷出面之间的距离一边使喷嘴32的开口部32a移动到Z方向上的规定位置，并一边使喷嘴32向-X方向移动一边从开口部32a预备喷出抗蚀剂。

在进行预备喷出动作后，将门型框架31返回原位置。如果下一个基板S被搬运来，则如图12所示，将喷嘴32移动到Z方向上的规定位置。这样，通过反复进行向基板S涂敷抗蚀剂膜R的涂敷动作和预备喷出动作，可在基板S上形成优质的抗蚀剂膜R。

并且，根据需要，例如在管理部4每作规定次数的访问，可以将该喷嘴32访问到浸渍槽42内。在浸渍槽42中，通过将喷嘴32的开口部32a置于储存在浸渍槽42的溶剂(稀释剂)的蒸气氛围中来防止喷嘴32的干燥。

这样，根据本实施方式，由于在基板搬运部2的搬入侧载物台25以及搬出侧载物台28分别设置有在与外部搬出机构之间交接基板S之际收容该外部搬运机构的一部分的收容部25b、28b，因此可在收容外部搬运机构的一部分之际进行基板S的交接。由此，即使不设置升降销也可进行基板S的交接，因此可降低其相应的成本。另外，由于可在基板搬入区域或基板搬出区域直接进行基板S的交接，因此可有效利用在基板搬运部2上的空间。由此可使涂敷装置1小型化。并且，由于不设置升降销也能进行基板的交接，因此可缩短处理周期。

本发明的技术范围(technical scope)不限于上述实施方式，能够在不脱离本发明宗旨的范围内进行各种变更。

对于涂敷装置1的整体结构，在上述实施方式中，采用将搬运机构23配置于各载物台的-Y方向侧的结构，但是并不限定于此。例如，也可以是将搬运机构23配置于各载物台的+Y方向侧的结构。另外，如图13所示，也可以在各载物台的-Y方向侧配置上述搬运机构23(搬运机23a、真空垫片23b、导轨23c)，在+Y方向侧配置和该搬运机构23相同结构的搬运机构53(搬运机53a、真空垫片53b、导轨53c)，从而能够用搬运机构23和搬运机构53搬运不同的基板。例如，如同一图所示，在搬运机构23中搬运基板S1，在搬运机构53中搬运基板S2。此时，可通过搬运机构23和搬运机构53交替搬运基板，因此可提高生产能力。另外，当搬运具有上述基板S、S1、S2的一半左右的面积的基板时，例如通过由搬运机构23和搬运机构53各保持一个，使搬运机构23和搬运机构53向+X方向并行前进，则可将2个基板同时搬运。根据该结构，能使生产能力提高。

另外，在上述实施方式中，采用只在基板搬运部2内的搬入载物台25侧设置校准机构25d的结构，但是并不限定于此。当然也可以采用例如在搬出侧载物台28也设置校准机构的结构。此时，搬出侧载物台28的校准机构优选以对应上述搬运臂61的方式校准基板S的位置。

另外，在上述实施方式中，采用将基板S向搬入侧载物台25搬入之际通过校准机构25d进行校准的结构，但是并不限定于此，例如也可以在校准机构25之外设置限制基板S的移动的移动限制机构。例如，在载物台表面25c上以包围搬入侧载物台25的基板搬入区域的方式配置可出没的移动限制构件，可例举在基板S的搬入时使该移动限制构件在载物台表面25c上突出的结构等。也可以对搬出侧载物台28的基板搬出区域设置相同的结构。

Claims (9)

1.一种涂敷装置，具有：

使基板浮起进行搬运的基板搬运部；

在由所述基板搬运部搬运时，向所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部；以及

以在俯视下重叠于所述基板搬运部的方式相对于所述涂敷部设置于基板搬运方向的上游侧的管理部，

所述涂敷装置的特征在于，

所述管理部为使喷出到所述基板的抗蚀剂的喷出量一定而对所述涂敷部进行管理，

在所述基板搬运部设置有将所述基板搬入的基板搬入区域和将所述基板搬出的基板搬出区域，

在所述基板搬入区域、或所述基板搬入区域和所述基板搬出区域双方设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接所述基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分，

在交接所述基板之际，以基板在所述搬入区域浮起的程度供给气体，

在所述基板搬入区域内设置有所述收容部的区域的周围设置有第1校准机构，该第1校准机构对应于所述涂敷部的涂敷位置调节所述基板的位置，

所述第1校准机构具有长孔和设置于所述长孔内的对位构件，由此从两侧机械夹持所述基板。

2.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

在所述基板搬入区域以及所述基板搬出区域内设置有所述收容部的区域中，在除所述收容部以外的区域设置有喷出用于使所述基板浮起的气体的气体喷出口。

3.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

所述收容部以规定的间隔设置多个。

4.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

所述收容部设置在沿搬运方向的方向上。

5.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于，

所述收容部设置于所述基板搬出区域，

在所述基板搬出区域内设置有所述收容部的区域的周围设置有第2校准机构，其对应于用于所述基板搬出的外部搬运机构的位置调节所述基板的位置，

所述第2校准机构具有长孔和设置于所述长孔内的对位构件，由此从两侧机械夹持所述基板。

6.一种基板的交接方法，其在涂敷装置和外部搬运机构之间进行基板的交接，

所述涂敷装置具有：使基板浮起进行搬运的基板搬运部；由所述基板搬运部搬运时，在所述基板的表面涂敷液状体的涂敷部；以及以在俯视下重叠于所述基板搬运部的方式相对于所述涂敷部设置于基板搬运方向的上游侧的管理部，所述外部搬运机构保持所述基板进行搬运，

所述基板的交接方法的特征在于，

所述管理部为使喷出到所述基板的抗蚀剂的喷出量一定而对所述涂敷部进行管理，

在所述基板搬运部设置有将所述基板搬入的基板搬入区域和将所述基板搬出的基板搬出区域，

在所述基板搬入区域、或所述基板搬入区域和所述基板搬出区域双方设置有收容部，当在与外部搬运机构之间交接所述基板之际，所述收容部收容该外部搬运机构的一部分，

通过将所述外部搬运机构的一部分收容于所述收容部，并将所述基板载置于所述基板搬运部而进行所述基板的交接，

在交接所述基板之际，以基板在所述搬入区域浮起的程度供给气体，

在所述基板搬入区域，以所述基板的位置对应于所述涂敷部的涂敷位置的方式进行校准，

在所述校准中，通过长孔和设置于所述长孔内的对位构件而从两侧机械夹持所述基板。

7.如权利要求6所述的基板的交接方法，其特征在于，

在所述基板搬出区域，以所述基板的位置对应于用于该基板搬出的外部搬运机构的位置的方式进行校准，

在所述校准中，通过长孔和设置于所述长孔内的对位构件而从两侧机械夹持所述基板。

8.如权利要求6所述的基板的交接方法，其特征在于，

在所述基板交接之际，用所述基板搬运部限制所述基板的移动。

9.一种涂敷方法，其特征在于，

利用权利要求6所述的基板的交接方法进行所述基板的交接。

Images