KR101631414B1 - 도포 장치 - Google Patents

Abstract

기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 이 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치로서, 상기 도포부는, 상기 액상체를 토출하는 노즐을 갖고, 상기 노즐에 대해 작업자가 액세스할 수 있는 영역까지 상기 도포부를 상기 기판의 반송 방향 또는 기판의 반송 방향과는 반대 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비한다. 상기 도포 장치는, 상기 도포부에 상기 이동 기구를 구비하는 대신에 상기 기판 반송부에 변경 기구를 구비하고 있어도 된다. 이 변경 기구는, 상기 노즐에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 상기 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있다.

Description

도포 장치{COATING APPARATUS}

본 발명은 도포 장치에 관한 것이다.

본원은 2008년 4월 24일에 일본에 출원된 특허출원 2008-113849호와 특허출원 2008-113850호에 기초하여 우선권을 주장하고, 그 내용을 여기에 원용한다.

액정 디스플레이 등의 표시 패널을 구성하는 유리 기판 상에는 배선이나 전극, 컬러 필터 등의 미세한 패턴이 형성되어 있다. 일반적으로, 이러한 패턴은 예를 들어 포토리소그래피 등의 수법에 의해 형성된다. 포토리소그래피법에서는 유리 기판 상에 레지스트막을 형성하는 공정, 이 레지스트막을 패턴 노광하는 공정, 그 후에 이 레지스트막을 현상하는 공정이 각각 행해진다.

기판의 표면 상에 레지스트막을 도포하는 장치로서, 슬릿 노즐을 고정시키고, 이 슬릿 노즐의 아래를 이동하는 유리 기판에 레지스트를 도포하는 도포 장치가 알려져 있다 (예를 들어, 특허 문헌 1 참조). 예를 들어, 레지스트가 슬릿 노즐의 선단에 고화되어 부착되면, 도포 불균일이 발생하거나 하여 도포 성능이 악화되기 때문에, 메인터넌스시에 슬릿 노즐의 선단을 청소할 필요가 있다.

슬릿 노즐의 선단의 청소는, 통상적으로 이 슬릿 노즐의 선단에 부착된 이물질을 작업자가 수작업으로 닦아냄으로써 이루어진다. 슬릿 노즐은 기판을 반송하는 스테이지 상에 형성되어 있기 때문에, 종래에는 작업자가 스테이지 상에 올라가서 슬릿 노즐에 액세스하였다.

[특허 문헌 1] 일본 공개특허공보 2005-236092호

그러나, 스테이지는 기판을 반송하기 위해 설계된 것으로, 본래 작업자의 출입은 상정되어 있지 않다. 이 때문에, 작업자가 스테이지 상에서 안전하게 작업을 하려고 하면, 메인터넌스의 공정이 번잡해진다. 또, 작업자가 스테이지 상에 올라가기 때문에 스테이지 상에 티끌이나 먼지 등이 부착될 가능성도 있다.

이상과 같은 사정을 감안하여, 본 발명의 목적은, 메인터넌스의 효율성을 향상시킴과 함께 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있는 도포 장치를 제공하는 것에 있다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관련된 제 1 양태 (aspect) 의 도포 장치는, 기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 이 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치로서, 상기 도포부는, 상기 액상체를 토출하는 노즐을 갖고, 상기 노즐에 대해 작업자가 액세스할 수 있는 영역까지 상기 도포부를 상기 기판의 반송 방향 또는 기판의 반송 방향과는 반대 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 1 양태의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 이 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치의 이 도포부가 액상체를 토출하는 노즐을 갖고, 노즐에 대해 작업자가 액세스할 수 있는 영역까지 도포부를 기판의 반송 방향 또는 기판의 반송 방향과는 반대 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하는 것으로 했기 때문에, 작업자가 기판 반송부 상에 직접 올라가지 않고 노즐의 청소 등의 메인터넌스가 가능해진다. 이로써, 메인터넌스의 효율성을 향상시킴과 함께 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 이동 기구는, 상기 기판 반송부 상으로서 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방의 단부 (端部) 를 상기 영역으로 하여 상기 도포부를 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 이동 기구가 기판 반송부 상으로서 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방의 단부를 상기 작업자가 액세스할 수 있는 영역으로 하여 도포부를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 작업자가 노즐에 액세스하는 것을 한층 더 용이하게 할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 이동 기구는, 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방의 상기 기판 반송부의 단부를 초과하는 부분을 상기 영역으로 하여 상기 도포부를 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 이동 기구가 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방의 기판 반송부의 단부를 초과하는 부분을 상기 작업자가 액세스할 수 있는 영역으로 하여 도포부를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 작업자나 기판 반송부 상에서 벗어난 위치에서 노즐에 액세스할 수 있다. 이로써, 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 도포부를 상기 기판 반송부 상의 소정의 위치에 유지하는 유지 기구를 추가로 구비하고 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 도포부를 기판 반송부 상의 소정의 위치에 유지하는 유지 기구를 추가로 구비하는 것으로 했기 때문에, 도포부의 위치를 보다 안정시킬 수 있다. 이로써, 작업자나 한층 더 노즐에 액세스하기 쉬워진다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부 상에 형성되어 상기 노즐의 상태를 관리하는 관리부를 추가로 구비하고 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부 상에 형성되어 노즐의 상태를 관리하는 관리부를 추가로 구비하는 것으로 했기 때문에, 관리부에 의해 노즐의 상태를 관리하는 것에 추가하여, 작업자에 의해 효율적으로 노즐이 청소되게 되기 때문에, 메인터넌스성이 높은 도포 장치를 얻을 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반입측 및 상기 기판 반출측 중 적어도 일방에 상기 관리부를 이동시키는 관리부 이동 기구를 추가로 구비하고 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방에 관리부를 이동시키는 관리부 이동 기구를 추가로 구비하는 것으로 했기 때문에, 노즐의 이동 위치에 맞추어 관리부의 위치를 이동시킬 수 있다. 이로써, 작업자에 의한 노즐의 메인터넌스를 한층 더 효율적으로 실시할 수 있다. 또한, 관리부 이동 기구에 의해 관리부를 이동시킴으로써, 관리부도 노즐과 마찬가지로 메인터넌스할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 관리부는 상기 영역 상에 배치되고, 상기 이동 기구는, 상기 관리부 상에 상기 도포부를 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 관리부가 상기 작업자가 액세스할 수 있는 영역 상에 배치되고, 이동 기구가 관리부 상에 도포부를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 노즐의 메인터넌스시에 노즐의 하방으로 관리부를 이동시킬 수 있다. 노즐과 기판 반송부 사이에 관리부가 배치됨으로써, 예를 들어 노즐 청소 등의 메인터넌스 중에 노즐에서 기판 반송부 상으로 고화된 액상체 등이 낙하되는 것을 방지할 수 있어, 기판 반송부 상을 청정하게 유지할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 이동 기구는, 상기 관리부를 초과하여 상기 도포부를 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 이동 기구가 관리부를 초과하여 도포부를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 관리부의 위치에 관계없이 도포부의 이동 위치를 설정할 수 있다. 이로써, 작업자가 노즐의 메인터넌스를 한층 더 용이하게 실시할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 관리부 이동 기구는, 상기 도포부의 이동에 연동하여 상기 관리부를 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 관리부 이동 기구가 도포부의 이동에 연동하여 관리부를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 도포부의 이동 및 관리부의 이동을 별개로 실시하는 경우에 비해 이동 시간의 단축화를 도모할 수 있음과 함께, 이동의 제어를 한층 더 용이하게 실시할 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 도포부는 복수 형성된 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 도포부가 복수 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 예를 들어 복수의 도포부 중 1 개의 도포부에 의해 액상체를 도포하고 있는 동안에 나머지 도포부에 대하여 노즐의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 처리 택트를 단축시킬 수 있으며, 도포 성능이 높고, 메인터넌스성이 양호한 도포 장치를 얻을 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 이동 기구는, 일부의 상기 도포부를 상기 반송 방향의 기판 반입측으로 이동시키고, 나머지 상기 도포부를 상기 기판 반출측으로 이동시키는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 도포부가 복수 형성되어 있는 경우에 있어서, 일부의 도포부를 반송 방향의 기판 반입측으로 이동시키고, 나머지 도포부를 기판 반출측으로 이동시키는 것으로 했기 때문에, 복수의 도포부에 대하여 기판 반입측 및 기판 반출측 양측에서 동시에 노즐의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 메인터넌스에 필요로 하는 시간을 단축시킬 수 있다. 또, 복수의 도포부에 대하여 분담하여 메인터넌스를 실시할 수 있기 때문에, 작업자의 부담을 경감시킬 수 있다.

상기의 제 1 양태의 도포 장치에서는, 상기 노즐은, 상기 영역측으로 기울어지게 회전할 수 있도록 형성되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 노즐이 영역측으로 기울어지게 회전할 수 있도록 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 작업자가 노즐에 액세스할 때에 노즐을 작업자쪽으로 향하게 할 수 있다. 이로써, 작업자는 노즐의 메인터넌스를 용이하게 실시할 수 있다.

상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 관련된 제 2 양태 (aspect) 의 도포 장치는, 기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 이 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치로서, 상기 도포부는 상기 액상체를 토출하는 노즐을 갖고, 상기 기판 반송부는, 상기 노즐에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 상기 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구를 갖는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 제 2 양태의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부가, 액상체를 토출하는 노즐에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구를 갖는 것으로 했기 때문에, 노즐의 메인터넌스시에는 기판 반송부를 공간 형성 상태로 하여, 작업자 출입 공간 내에서 작업자가 메인터넌스를 할 수 있다. 이로써, 작업자가 기판 반송부 상에 직접 들어가는 것을 회피할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 효율성을 향상시킬 수 있음과 함께 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 변경 기구는, 적어도 상기 기판 반송부의 일부분을 이동시킬 수 있게 형성되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 변경 기구가 적어도 기판 반송부의 일부분을 이동시킬 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 이 일부분을 이동시킴으로써 기판 반송부에 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 변경 기구는, 상기 기판 반송부의 일부분과 상기 기판 반송부의 나머지 부분을 상기 기판의 반송 방향으로 상대적으로 이동시킬 수 있게 설치되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 변경 기구가 기판 반송부의 일부분과 기판 반송부의 나머지 부분을 기판의 반송 방향으로 상대적으로 이동시킬 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 상기 일부분과 나머지 부분을 상대적으로 이동시킴으로써 기판 반송부에 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부 중 상기 기판을 반입하는 기판 반입측에는 복수의 홈을 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 스테이지가 상기 일부분으로서 형성되고, 상기 스테이지에 형성되는 빗살 부분의 상기 반송 방향의 치수는, 상기 기판 반송부 중 상기 기판 반입측의 상기 반송 방향의 치수보다 작은 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부 중 기판을 반입하는 기판 반입측에 복수의 홈을 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 스테이지가 일부분으로서 형성되는 것으로 했기 때문에, 기판 반송부 상에 기판을 반입하기 쉽게 할 수 있다. 또, 스테이지에 형성되는 빗살 부분의 반송 방향의 치수가 기판 반송부 중 기판 반입측의 반송 방향의 치수보다 작은 것으로 했기 때문에, 스테이지를 이동시킨 경우에 또는 스테이지와 나머지 부분을 상대적으로 이동시킨 경우에, 스테이지가 나머지 부분에 대하여 돌출되는 것을 회피할 수 있다. 이로써, 작업자 출입 공간을 형성하는 경우라 하더라도 안정적으로 스테이지를 유지할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부가, 상기 일부분을 지지하는 지지 기구를 갖는 것이어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부가 일부분을 지지하는 지지 기구를 갖는 것으로 했기 때문에, 일부분이 이동했을 때에 상기 일부분을 안정적으로 지지할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치는, 상기 변경 기구는, 상기 기판 반송부의 적어도 일부분을 변형할 수 있게 설치되어 있는 것이어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 변경 기구가 기판 반송부의 적어도 일부분을 변형할 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 이 기판 반송부의 적어도 일부분을 변형시킴으로써 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 변경 기구는, 상기 기판 반송부의 일부분을 상기 기판 반송부의 나머지 부분에 대해 절곡할 수 있게 설치되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 변경 기구가 기판 반송부의 일부분을 기판 반송부의 나머지 부분에 대해 절곡할 수 있게 설치되어 있는 것으로 했기 때문에, 상기 일부분을 절곡함으로써 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부는 복수의 홈을 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 스테이지를 갖고, 상기 스테이지 중 평면에서 보았을 때 빗살 부분은, 상기 일부분으로서 소정의 지점에 모을 수 있게 형성되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부가 복수의 홈을 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 스테이지를 갖고, 이 스테이지 중 평면에서 보았을 때 빗살 부분이 일부분으로서 소정의 지점에 모을 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 스테이지의 빗살 부분을 소정의 지점에 모아 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 일부분과 상기 나머지 부분 사이의 위치를 맞추는 위치 맞춤 기구를 추가로 구비하는 구성이어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 일부분과 나머지 부분 사이의 위치를 맞추는 위치 맞춤 기구를 추가로 구비하는 것으로 했기 때문에, 공간 형성 상태에서 기판 반송 상태로 전환할 때에 기판 반송부의 형상이 원래의 형상에 대해 어긋나는 것을 방지할 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부는, 상기 기판에 상기 액상체를 도포시키는 도포 영역을 갖고, 상기 일부분은, 상기 기판 반송부 중 상기 도포 영역에 대해 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 상기 기판 반출측 중 적어도 일방측에 형성되는 부분이어도 된다.

기판에 액상체를 도포하는 도포 영역의 형상 등의 상태가 변화되면, 기판 상에 도포되는 액상체의 상태가 크게 변화되어, 도포 상태가 불안정해진다. 상기와 같은 구성의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부가 기판에 액상체를 도포시키는 도포 영역을 갖고, 일부분이 기판 반송부 중 도포 영역에 대해 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방측에 형성되는 부분인 것으로 했기 때문에, 작업자 출입 공간을 도포 영역에 직접 형성하는 것을 회피할 수 있다. 이로써, 도포 상태를 안정시킬 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 도포부는, 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 구성으로 되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 도포부가 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 것으로 했기 때문에, 작업자 출입 공간의 형성 위치에 맞추어 도포부를 원하는 위치로 이동시킬 수 있다. 이로써, 메인터넌스의 효율을 한층 더 높일 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 도포부는 복수 형성되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 도포부가 복수 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 예를 들어 복수의 도포부 중 1 개의 도포부에 의해 액상체를 도포하고 있는 동안에 나머지 도포부에 대하여 노즐의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 처리 택트를 단축시킬 수 있으며, 도포 성능이 높고, 메인터넌스성이 양호한한 도포 장치를 얻을 수 있다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 복수의 상기 도포부 중 일부는 상기 기판 반입측으로 이동할 수 있게 형성되고, 나머지는 상기 기판 반출측으로 이동할 수 있게 형성되어 있어도 된다.

이러한 구성의 도포 장치에 의하면, 복수의 도포부 중 일부는 기판 반입측으로 이동할 수 있게 형성되고, 나머지는 기판 반출측으로 이동할 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 복수의 도포부에 대하여 기판 반입측 및 기판 반출측의 양측에서 동시에 노즐의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 메인터넌스에 필요로 하는 시간을 단축시킬 수 있다. 또, 복수의 도포부에 대하여 분담하여 메인터넌스를 실시할 수 있기 때문에, 작업자의 부담을 경감시킬 수 있다. 이 경우, 작업자 출입 공간을 기판 반입측 및 기판 반출측 각각에 형성하는 것이 바람직하다.

상기의 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부 상에 상기 노즐의 상태를 관리하는 관리부를 추가로 구비하고, 상기 관리부는, 상기 일부분 및 상기 기판 반송부의 나머지 부분에 걸쳐 상기 기판의 반송 방향을 따라 기판의 반입측 및 기판의 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 구성으로 되어 있어도 된다.

노즐로부터 토출되는 액상체는 고화된 상태에서 이 노즐에 부착되는 경우가 있고, 작업자에 의한 노즐의 메인터넌스시에는, 이 고화된 액상체가 기판 반송부 상에 부착될 우려가 있다. 상기 구성의 본 발명의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부 상에 노즐의 상태를 관리하는 관리부를 추가로 구비하고, 관리부가 일부분 및 기판 반송부의 나머지 부분에 걸쳐 기판의 반송 방향을 따라 기판의 반입측 및 기판의 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 것으로 했기 때문에, 노즐의 위치에 맞추어 관리부를 상기 노즐의 바로 아래로 이동시킬 수 있어, 고화된 액상체 등의 이물질이 기판 반송부 상에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 작업자 출입 공간이 있기 때문에, 관리부도 노즐과 마찬가지로 메인터넌스할 수 있다.

상기의 제 1 또는 제 2 양태의 도포 장치에서는, 상기 기판 반송부는, 상기 기판을 부상시키는 부상 기구를 추가로 구비하고 있어도 된다.

작업자가 기판 반송부 상에 직접 올라가서 작업을 실시하면, 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되기 쉬워진다. 기판 반송부가 기판을 부상시키는 부상 기구를 구비하는 경우, 상기의 티끌이나 먼지가 기판에 부착되어 기판의 품질을 저하시킬 우려가 있다. 상기 구성의 도포 장치에 의하면, 작업자가 직접 기판 반송부 상에 올라가서 작업을 실시할 필요가 없기 때문에, 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지가 부착되는 것을 억제할 수 있다. 이로써, 기판의 품질의 저하를 회피할 수 있다.

본 발명의 제 1 양태의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 상기 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치의 상기 도포부가 액상체를 토출하는 노즐을 갖고, 노즐에 대해 작업자가 액세스할 수 있는 영역까지 도포부를 기판의 반송 방향 또는 기판의 반송 방향과는 반대 방향으로 이동시키는 이동 기구를 구비하는 것으로 했기 때문에, 작업자가 기판 반송부 상에 직접 올라가지 않고 노즐의 청소 등의 메인터넌스가 가능해진다. 이로써, 메인터넌스의 효율성을 향상시킴과 함께 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명의 제 2 양태의 도포 장치에 의하면, 기판 반송부가, 액상체를 토출하는 노즐에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구를 갖는 것으로 했기 때문에, 노즐의 메인터넌스시에는 기판 반송부를 공간 형성 상태로 하여, 작업자 출입 공간 내에서 작업자가 메인터넌스를 할 수 있다. 이로써, 작업자가 기판 반송부 상에 직접 들어가는 것을 회피할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 효율성을 향상시킬 수 있음과 함께 기판 반송부 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

도 1 은 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 정면도이다.
도 3 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 4 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 측면도이다.
도 5 는 본 발명의 제 1 실시형태와 제 5 실시형태에 관련된 도포 장치의 동작을 나타내는 평면도이다.
도 6 은 도 5 에 계속되는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 7 은 도 6 에 계속되는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 8 은 도 7 에 계속되는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 9 는 도 8 에 계속되는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 10 은 도 9 에 계속되는 동작 과정을 나타내는 평면도이다.
도 11 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 12 는 도 11 에 계속되는 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 13 은 도 12 에 계속되는 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 14 는 도 13 에 계속되는 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 15 는 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 16 은 본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 17 은 본 발명의 제 4 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 18 은 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 19 는 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 20 은 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 21 은 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 22 는 본 발명의 제 5 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 23 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 정면도이다.
도 24 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 25 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 측면도이다.
도 26 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치의 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 27 은 도 26 에 계속되는 메인터넌스 공정을 나타내는 도면이다.
도 28a ∼ 도 28b 는 본 발명의 제 6 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 29a ∼ 도 29b 는 본 발명의 제 7 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 30 은 본 발명의 제 8 실시형태에 관련된 도포 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 31 은 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 32 는 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 33 은 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
도 34 는 본 발명에 관련된 도포 장치의 다른 구성을 나타내는 도면이다.
*부호의 설명*
1, 1a … 도포 장치, 2 … 기판 반송부, 3 … 도포부, 4 … 관리부, 24 … 프레임부, 24a, 24b … 측부, 25 … 반입측 스테이지, 28 … 반출측 스테이지, 31 … 문형 프레임, 34 … 이동 기구, 45 … 유지 부재, 46 … 관리부 이동 기구, 60, 61 … 작업대, 62 … 클램프 기구, P … 작업자, Q, Q1, Q2 … 영역, T1, T2 … 단부, 5 … 변경 기구, 6 … 작업자 출입 공간, 70 … 지지대

[제 1 실시형태]

본 발명의 제 1 실시형태를 도면에 기초하여 설명한다.

도 1 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 의 사시도이다.

도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 는, 예를 들어 액정 패널 등에 사용되는 유리 기판 상에 레지스트를 도포하는 도포 장치로서, 기판 반송부 (2) 와, 도포부 (3) 와, 관리부 (4) 를 주요 구성 요소로 하고 있다. 이 도포 장치 (1) 는, 기판 반송부 (2) 에 의해 기판을 부상시켜 반송하면서 도포부 (3) 에 의해 이 기판 상에 레지스트가 도포되도록 되어 있고, 관리부 (4) 에 의해 도포부 (3) 의 상태가 관리되도록 되어 있다.

도 2 는 도포 장치 (1) 의 정면도, 도 3 은 도포 장치 (1) 의 평면도, 도 4 는 도포 장치 (1) 의 측면도이다. 이들 도면을 참조하여, 도포 장치 (1) 의 상세한 구성을 설명한다.

이하, 실시형태의 도포 장치의 구성을 설명함에 있어서, 표기를 간단히 하기 위해, 도면 중의 방향을 XYZ 좌표계를 사용하여 설명한다. 기판 반송부 (2) 의 길이 방향으로서 기판의 반송 방향을 X 방향이라고 표기한다. 평면에서 보았을 때 X 방향 (기판 반송 방향) 에 직교하는 방향을 Y 방향이라고 표기한다. X 방향축 및 Y 방향축을 포함하는 평면에 수직인 방향을 Z 방향이라고 표기한다. 또한, X 방향, Y 방향 및 Z 방향의 각각은, 도면 중의 화살표 방향이 + 방향, 화살표 방향과는 반대 방향이 - 방향인 것으로 한다.

(기판 반송부)

먼저, 기판 반송부 (2) 의 구성을 설명한다.

기판 반송부 (2) 는 기판 반입 영역 (20) 과, 도포 처리 영역 (21) 과, 기판 반출 영역 (22) 과, 반송 기구 (23) 와, 이들을 지지하는 프레임부 (24) 를 갖고 있다. 이 기판 반송부 (2) 에서는, 반송 기구 (23) 에 의해 기판 (S) 이 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 으로 순서대로 반송되도록 되어 있다. 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 은, 기판 반송 방향의 상류측에서부터 하류측으로 이 순서로 배열되어 있다. 반송 기구 (23) 는 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 의 각 부에 걸치도록 상기 각 부의 일 측방에 설치되어 있다.

기판 반입 영역 (20) 은, 장치 외부로부터 반송되어 온 기판 (S) 을 반입하는 영역으로서, 반입측 스테이지 (25) 와, 리프트 기구 (26) 를 갖고 있다.

반입측 스테이지 (25) 는 프레임부 (24) 상의 Y 방향 중앙부에 형성되어 있고, 예를 들어 SUS 등으로 이루어지는 평면에서 보았을 때 직사각형의 판상 부재이다. 이 반입측 스테이지 (25) 는, X 방향이 길게 되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 에는 에어 분출 구멍 (25a) 과, 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 이 각각 복수 형성되어 있다. 이들 에어 분출 구멍 (25a) 및 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 를 관통하도록 형성되어 있다.

에어 분출 구멍 (25a) 은 반입측 스테이지 (25) 의 스테이지 표면 (25c) 상으로 에어를 분출하는 구멍으로서, 예를 들어 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 통과하는 영역에 평면에서 보았을 때 매트릭스상으로 배치되어 있다. 이 에어 분출 구멍 (25a) 에는 도시하지 않은 에어 공급원이 접속되어 있다. 이 반입측 스테이지 (25) 에서는, 에어 분출 구멍 (25a) 으로부터 분출되는 에어에 의해 기판 (S) 을 +Z 방향으로 부상시킬 수 있게 되어 있다.

승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 반입되는 영역에 형성되어 있다. 이 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 스테이지 표면 (25c) 에 공급된 에어가 새어 나오지 않는 구성으로 되어 있다.

이 반입측 스테이지 (25) 중 Y 방향의 양 단부에는 얼라이먼트 장치 (25d) 가 1 개씩 설치되어 있다. 얼라이먼트 장치 (25d) 는 반입측 스테이지 (25) 에 반입된 기판 (S) 의 위치를 맞추는 장치이다. 각 얼라이먼트 장치 (25d) 는 기다란 구멍과 이 기다란 구멍 내에 형성된 위치 맞춤 부재를 갖고 있어, 반입측 스테이지 (25) 에 반입되는 기판을 양측으로부터 기계적으로 사이에 끼우도록 되어 있다.

리프트 기구 (26) 는 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치의 이면측에 설치되어 있다. 이 리프트 기구 (26) 는 승강 부재 (26a) 와, 복수의 승강 핀 (26b) 을 갖고 있다. 승강 부재 (26a) 는, 도시하지 않은 구동 기구에 접속되어 있어, 이 구동 기구의 구동에 의해 승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동하도록 되어 있다. 복수의 승강 핀 (26b) 은, 승강 부재 (26a) 의 상면으로부터 반입측 스테이지 (25) 를 향하여 세워서 형성되어 있다. 각 승강 핀 (26b) 은, 각각 상기의 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 에 평면에서 보았을 때 겹치는 위치에 배치되어 있다. 승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동함으로써, 각 승강 핀 (26b) 이 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 상으로 출몰되도록 되어 있다. 각 승강 핀 (26b) 의 +Z 방향의 단부는 각각 Z 방향 상의 위치가 일치되도록 형성되어 있고, 장치 외부로부터 반송되어 온 기판 (S) 을 수평한 상태로 유지할 수 있게 되어 있다.

도포 처리 영역 (21) 은 레지스트의 도포가 이루어지는 부위로서, 기판 (S) 을 부상 지지하는 처리 스테이지 (27) 가 형성되어 있다.

처리 스테이지 (27) 는, 스테이지 표면 (27c) 이 예를 들어 경질 알루마이트를 주성분으로 하는 광 흡수 재료로 덮인 평면에서 보았을 때 직사각형의 판상 부재이며, 반입측 스테이지 (25) 에 대하여 +X 방향측에 형성되어 있다. 처리 스테이지 (27) 중 광 흡수 재료로 덮인 부분에서는, 레이저광 등의 광의 반사가 억제되도록 되어 있다. 이 처리 스테이지 (27) 는, Y 방향이 길게 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향의 치수는, 반입측 스테이지 (25) 의 Y 방향의 치수와 거의 동일하게 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 에는 스테이지 표면 (27c) 상으로 에어를 분출하는 복수의 에어 분출 구멍 (27a) 과, 스테이지 표면 (27c) 상의 에어를 흡인하는 복수의 에어 흡인 구멍 (27b) 이 형성되어 있다. 이들 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 은, 처리 스테이지 (27) 를 관통하도록 형성되어 있다. 또, 처리 스테이지 (27) 의 내부에는, 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 을 통과하는 기체의 압력에 저항을 부여하기 위한 도시하지 않은 홈이 복수 형성되어 있다. 이 복수의 홈은, 스테이지 내부에서 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 에 접속되어 있다.

처리 스테이지 (27) 에서는, 에어 분출 구멍 (27a) 의 피치가 반입측 스테이지 (25) 에 형성되는 에어 분출 구멍 (25a) 의 피치보다 좁아, 반입측 스테이지 (25) 에 비해 에어 분출 구멍 (27a) 이 조밀하게 형성되어 있다. 이 때문에, 이 처리 스테이지 (27) 에서는 다른 스테이지에 비해 기판의 부상량을 고정밀도로 조절할 수 있게 되어 있어, 기판의 부상량이 예를 들어 0㎛ 이상 100㎛ 이하, 바람직하게는 0㎛ 이상 50㎛ 이하로 되도록 제어할 수 있게 되어 있다.

기판 반출 영역 (22) 은, 레지스트가 도포된 기판 (S) 을 장치 외부로 반출하는 부위로서, 반출측 스테이지 (28) 와, 리프트 기구 (29) 를 갖고 있다. 이 반출측 스테이지 (28) 는 처리 스테이지 (27) 에 대하여 +X 방향측에 형성되어 있고, 기판 반입 영역 (20) 에 형성된 반입측 스테이지 (25) 와 거의 동일한 재질, 치수로 구성되어 있다. 반출측 스테이지 (28) 에는, 반입측 스테이지 (25) 와 마찬가지로, 에어 분출 구멍 (28a) 및 승강 핀 출몰 구멍 (28b) 이 형성되어 있다. 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 의 기판 반출 위치의 이면측에 설치되어 있고, 예를 들어 프레임부 (24) 에 지지되어 있다. 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 및 승강 핀 (29b) 은, 기판 반입 영역 (20) 에 설치된 리프트 기구 (26) 의 각 부위와 동일한 구성으로 되어 있다. 이 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 상의 기판 (S) 을 외부 장치로 반출할 때에, 기판 (S) 을 주고 받기 위해 승강 핀 (29b) 에 의해 기판 (S) 을 들어 올릴 수 있게 되어 있다.

반송 기구 (23) 는 반송기 (23a) 와, 진공 패드 (23b) 와, 레일 (23c) 을 갖고 있다. 반송기 (23a) 는 내부에 예를 들어 리니어 모터가 설치된 구성으로 되어 있어, 이 리니어 모터가 구동됨으로써 반송기 (23a) 가 레일 (23c) 상을 이동할 수 있게 되어 있다.

이 반송기 (23a) 는, 소정 부분 (23d) 이 평면에서 보았을 때 기판 (S) 의 -Y 방향의 단부에 겹치도록 배치되어 있다. 이 기판 (S) 과 겹치는 부분 (23d) 은, 기판 (S) 을 부상시켰을 때의 기판 이면의 높이 위치보다 낮은 위치에 형성되어 있다.

진공 패드 (23b) 는, 반송기 (23a) 중 상기 기판 (S) 과 겹치는 부분 (23d) 에 복수 배열되어 있다. 이 진공 패드 (23b) 는, 기판 (S) 을 진공 흡착시키는 흡착면을 갖고 있고, 이 흡착면이 상방을 향하도록 배치되어 있다. 진공 패드 (23b) 는, 흡착면이 기판 (S) 의 이면 단부를 흡착함으로써 이 기판 (S) 을 유지할 수 있게 되어 있다. 각 진공 패드 (23b) 는 반송기 (23a) 의 상면으로부터의 높이 위치를 조절할 수 있게 되어 있고, 예를 들어 기판 (S) 의 부상량에 따라 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 올리고 내릴 수 있게 되어 있다.

레일 (23c) 은 프레임부 (24) 의 -Y 방향측의 측부 (24a) 상에 형성되어 있고, 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 의 측방에 각 스테이지에 걸쳐 연장되어 있다. 상기 레일 (23c) 을 슬라이딩함으로써 반송기 (23a) 가 상기 각 스테이지를 따라 이동할 수 있게 되어 있다.

(도포부)

다음으로, 도포부 (3) 의 구성을 설명한다.

도포부 (3) 는 기판 (S) 상에 레지스트를 도포하는 부분으로서, 문형 (門型) 프레임 (31) 과, 노즐 (32) 을 갖고 있다.

문형 프레임 (31) 은 지주 부재 (31a) 와, 가교 부재 (31b) 를 갖고 있고, 처리 스테이지 (27) 를 Y 방향으로 걸쳐지도록 형성되어 있다. 지주 부재 (31a) 는 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향측에 1 개씩 형성되어 있고, 각 지주 부재 (31a) 가 프레임부 (24) 의 Y 방향측의 양 측면에 각각 지지되어 있다. 각 지주 부재 (31a) 는, 상단부의 높이 위치가 일치되도록 형성되어 있다. 가교 부 재 (31b) 는 각 지주 부재 (31a) 의 상단부 사이에 가교되어 있고, 이 지주 부재 (31a) 에 대하여 승강할 수 있게 되어 있다.

이 문형 프레임 (31) 은 이동 기구 (34) 에 접속되어 있다. 이동 기구 (34) 는 레일 부재 (35) 및 구동 기구 (36) 를 갖고 있다. 레일 부재 (35) 는 프레임부 (24) 중 -Y 방향측의 측부 (24a) 및 +Y 방향측의 측부 (24b) 상에 1 개씩 형성되어 있고, 각각 X 방향으로 연장되어 있다. 2 개의 레일 부재 (35) 의 -X 방향의 단부는, 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향의 단부까지 형성되어 있다. 구동 기구 (36) 는, 문형 프레임 (31) 에 접속되고 도포부 (3) 를 레일 부재 (35) 를 따라 이동시키는 액추에이터이다.

레일 부재 (35) 가 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향의 단부까지 형성되어 있음으로써, 도포부 (3) 는 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향의 단부까지 이동할 수 있게 되어 있다. 도포부 (3) 의 이동에 수반하여, 이 도포부 (3) 에 형성된 노즐 (32) 에 대해서도 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향의 단부까지 이동할 수 있게 되어 있다. 또, 이 문형 프레임 (31) 은, 도시하지 않은 이동 기구에 의해 Z 방향으로도 이동할 수 있게 되어 있다.

노즐 (32) 은, 일 방향이 긴 장척상으로 구성되어 있고, 문형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 -Z 방향측의 면에 형성되어 있다. 이 노즐 (32) 중 -Z 방향의 선단에는, 자신의 길이 방향을 따라 슬릿상의 개구부 (32a) 가 형성되어 있고, 이 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 노즐 (32) 은, 개구부 (32a) 의 길이 방향이 Y 방향에 평행하게 됨과 함께, 이 개구부 (32a) 가 처리 스테이지 (27) 에 대향하도록 배치되어 있다. 개구부 (32a) 의 길이 방향의 치수는 반송되는 기판 (S) 의 Y 방향의 치수보다 작게 되어 있어, 기판 (S) 의 주변 영역에 레지스트가 도포되지 않도록 되어 있다. 노즐 (32) 의 내부에는 레지스트를 개구부 (32a) 에 유통시키는 도시하지 않은 유통로가 형성되어 있고, 이 유통로에는 도시하지 않은 레지스트 공급원이 접속되어 있다. 이 레지스트 공급원은 예를 들어 도시하지 않은 펌프를 갖고 있어, 이 펌프로 레지스트를 개구부 (32a) 로 밀어냄으로써 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 지주 부재 (31a) 에는 도시가 생략된 이동 기구가 설치되어 있고, 이 이동 기구에 의해 가교 부재 (31b) 에 유지된 노즐 (32) 이 Z 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 노즐 (32) 에는 도시가 생략된 이동 기구가 설치되어 있고, 이 이동 기구에 의해 노즐 (32) 이 가교 부재 (31b) 에 대하여 Z 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 문형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 하면에는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a), 즉, 노즐 (32) 의 선단 (32c) 과 이 노즐의 선단 (32c) 에 대향하는 대향면 사이의 Z 방향 상의 거리를 측정하는 센서 (33) 가 장착되어 있다. 이 센서 (33) 는 Y 방향을 따라 예를 들어 3 개 설치되어 있다.

(관리부)

관리부 (4) 의 구성을 설명한다.

관리부 (4) 는 기판 (S) 에 토출되는 레지스트 (액상체) 의 토출량이 일정해지도록 노즐 (32) 을 관리하는 부위로서, 기판 반송부 (2) 중 도포부 (3) 에 대하여 -X 방향측에 형성되어 있다. 이 관리부 (4) 는 예비 토출 기구 (41) 와, 딥조 (42) 와, 노즐 세정 장치 (43) 와, 이들을 수용하는 수용부 (44) 와, 이 수용부를 유지하는 유지 부재 (45) 를 갖고 있다.

예비 토출 기구 (41), 딥조 (42) 및 노즐 세정 장치 (43) 는 -X 방향측으로 이 순서로 배열되어 있다. 예비 토출 기구 (41) 는 레지스트를 예비적으로 토출하는 부분이다. 이 예비 토출 기구 (41) 는 도포부 (3) 가 도포 처리 영역 (21) 상에 배치되어 있는 상태에서 노즐 (32) 에 가장 가까워지는 위치에 설치되어 있다. 딥조 (42) 는 내부에 시너 등의 용제가 저류된 액체조이다. 노즐 세정 장치 (43) 는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 근방을 린스 세정하는 장치로서, Y 방향으로 이동하는 도시하지 않은 세정 기구와, 이 세정 기구를 이동시키는 도시하지 않은 이동 기구를 갖고 있다. 이 이동 기구는 세정 기구보다 -X 방향측에 설치되어 있다. 노즐 세정 장치 (43) 는, 이동 기구가 설치되는 만큼, 예비 토출 기구 (41) 및 딥조 (42) 에 비해 X 방향의 치수가 크게 되어 있다. 또한, 예비 토출 기구 (41), 딥조 (42), 노즐 세정 장치 (43) 의 배치에 대해서는, 본 실시형태의 배치에 한정되지 않고, 다른 배치이어도 상관없다.

수용부 (44) 의 Y 방향의 치수는 상기 문형 프레임 (31) 의 지주 부재 (31a) 간의 거리보다 작게 되어 있어, 상기 문형 프레임 (31) 이 수용부 (44) 를 넘어서 X 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 또, 문형 프레임 (31) 은, 수용부 (44) 내에 설치되는 예비 토출 기구 (41), 딥조 (42) 및 노즐 세정 장치 (43) 에 대하여, 이들 각 부를 걸치도록 액세스할 수 있게 되어 있다.

유지 부재 (45) 는, 관리부 이동 기구 (46) 에 접속되어 있다. 관리부 이동 기구 (46) 는, 레일 부재 (47) 및 구동 기구 (48) 를 갖고 있다. 레일 부재 (47) 는, 프레임부 (24) 중 -Y 방향측의 측부 (24a) 및 +Y 방향측의 측부 (24b) 상에 1 개씩 형성되어 있고, 각각 X 방향으로 연장되어 있다. 각 레일 부재 (47) 는, 도포부 (3) 의 문형 프레임 (31) 에 접속되는 2 개의 레일 부재 (35) 사이에 배치되어 있다. 2 개의 레일 부재 (47) 의 -X 방향의 단부는, 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향의 단부까지 형성되어 있다. 구동 기구 (48) 는 유지 부재 (45) 에 접속되고, 관리부 (4) 를 레일 부재 (47) 상을 따라 이동시키는 액추에이터이다.

이 레일 부재 (47) 가 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향의 단부까지 형성되어 있음으로써, 관리부 (4) 가 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향의 단부까지 이동할 수 있게 되어 있다. 또, 각 레일 부재 (47) 가 레일 부재 (35) 사이에 배치되어 있기 때문에, 관리부 (4) 는 도포부 (3) 의 문형 프레임 (31) 을 통과하여 빠져 나가듯이 이동하게 된다.

(도포 동작)

다음으로, 상기와 같이 구성된 도포 장치 (1) 의 동작을 설명한다.

도 5 ∼ 도 8 은 도포 장치 (1) 의 동작 과정을 나타내는 평면도이다. 각 도면을 참조하여, 기판 (S) 에 레지스트를 도포하는 동작을 설명한다. 이 동작에서는, 기판 (S) 을 기판 반입 영역 (20) 에 반입하고, 상기 기판 (S) 을 부상시켜 반송하면서 도포 처리 영역 (21) 에서 레지스트를 도포하고, 이 레지스트를 도포한 기판 (S) 을 기판 반출 영역 (22) 으로부터 반출한다. 도 5 ∼ 도 8 에는 문형 프레임 (31) 및 관리부 (4) 의 윤곽만을 파선으로 나타내어, 노즐 (32) 및 처리 스테이지 (27) 의 구성을 판별하기 쉽게 하였다. 이하, 각 부분에 있어서의 상세한 동작을 설명한다.

기판 반입 영역 (20) 에 기판을 반입하기 전에, 도포 장치 (1) 를 스탠바이시켜 둔다. 구체적으로는, 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 반송기 (23a) 를 배치시키고, 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 기판의 부상 높이 위치에 맞추어 둠과 함께, 반입측 스테이지 (25) 의 에어 분출 구멍 (25a), 처리 스테이지 (27) 의 에어 분출 구멍 (27a), 에어 흡인 구멍 (27b) 및 반출측 스테이지 (28) 의 에어 분출 구멍 (28a) 으로부터 각각 에어를 분출 또는 흡인하여, 각 스테이지 표면에 기판이 부상할 정도로 에어가 공급된 상태로 해 둔다.

이 상태에서, 예를 들어 도시하지 않은 반송 아암 등에 의해 외부로부터 도 5 에 나타내는 기판 반입 위치에 기판 (S) 이 반송되어 오면, 승강 부재 (26a) 를 +Z 방향으로 이동시켜, 승강 핀 (26b) 을 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 으로 돌출시킨다. 이 승강 부재 (26a) 의 동작에 의해, 기판 (S) 이 승강 핀 (26b) 에 들어 올려져, 이 기판 (S) 의 수취가 이루어진다.

또, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 기다란 구멍으로부터 위치 맞춤 부재를 스테이지 표면 (25c) 으로 돌출시켜 둔다.

기판 (S) 을 수취한 후, 승강 부재 (26a) 를 하강시켜 승강 핀 (26b) 을 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 내에 수용한다. 이 때, 스테이지 표면 (25c) 에는 에어층이 형성되어 있기 때문에, 기판 (S) 은 상기 에어에 의해 스테이지 표면 (25c) 에 대하여 부상된 상태로 유지된다. 기판 (S) 이 에어층의 표면에 도달했을 때, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 위치 맞춤 부재에 의해 기판 (S) 의 위치 맞춤이 이루어지고, 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 배치된 반송기 (23a) 의 진공 패드 (23b) 를 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부에 진공 흡착시킨다. 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부가 흡착된 상태를 도 5 에 나타낸다. 진공 패드 (23b) 에 의해 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부가 흡착된 후, 반송기 (23a) 를 레일 (23c) 을 따라 이동시킨다. 기판 (S) 이 부상된 상태로 되었기 때문에, 반송기 (23a) 의 구동력을 비교적 작게 해도 기판 (S) 은 레일 (23c) 을 따라 순조롭게 이동한다.

기판 (S) 의 반송 방향 선단이 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 의 위치에 도달하면, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 로부터 기판 (S) 을 향하여 레지스트를 토출한다. 레지스트의 토출은, 노즐 (32) 의 위치를 고정시키고 반송기 (23a) 에 의해 기판 (S) 을 반송시키면서 실시한다.

기판 (S) 의 이동에 수반하여, 도 7 에 나타내는 바와 같이 기판 (S) 상에 레지스트막 (R) 이 도포되어 간다. 기판 (S) 이 레지스트를 토출하는 개구부 (32a) 아래를 통과함으로써, 기판 (S) 의 소정 영역에 레지스트막 (R) 이 형성된다.

레지스트막 (R) 이 형성된 기판 (S) 은, 반송기 (23a) 에 의해 반출측 스테이지 (28) 로 반송된다. 반출측 스테이지 (28) 에서는, 스테이지 표면 (28c) 에 대하여 부상된 상태에서, 도 8 에 나타내는 기판 반출 위치까지 기판 (S) 이 반송된다.

기판 (S) 이 기판 반출 위치에 도달하면, 진공 패드 (23b) 의 흡착을 해제하고, 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 를 +Z 방향으로 이동시킨다. 승강 부재 (29a) 의 이동에 의해, 승강 핀 (29b) 이 승강 핀 출몰 구멍 (28b) 으로부터 기판 (S) 의 이면으로 돌출되고, 기판 (S) 이 승강 핀 (29b) 에 의해 들어 올려진다. 이 상태에서, 예를 들어 반출측 스테이지 (28) 의 +X 방향측에 형성된 외부의 반송 아암이 반출측 스테이지 (28) 에 액세스하여, 기판 (S) 을 수취한다. 기판 (S) 을 반송 아암에 건네준 후, 반송기 (23a) 를 다시 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치까지 되돌려 놓고, 다음 기판 (S) 이 반송될 때까지 대기시킨다.

다음 기판 (S) 이 반송되어 올 때까지의 동안에, 도포부 (3) 에서는, 노즐 (32) 의 토출 상태를 유지하기 위한 예비 토출이 이루어진다. 도 9 에 나타내는 바와 같이, 레일 부재 (35) 에 의해 문형 프레임 (31) 을 관리부 (4) 의 위치까지 -X 방향으로 이동시킨다.

관리부 (4) 의 위치까지 문형 프레임 (31) 을 이동시킨 후, 문형 프레임 (31) 의 위치를 조정하여 노즐 (32) 의 선단을 노즐 세정 장치 (43) 에 액세스시키고, 이 노즐 세정 장치 (43) 에 의해 노즐의 선단 (32c) 을 세정한다.

노즐의 선단 (32c) 의 세정 후, 상기 노즐 (32) 을 예비 토출 기구 (41) 에 액세스시킨다. 예비 토출 기구 (41) 에서는, 개구부 (32a) 와 예비 토출면 사이의 거리를 측정하면서 노즐 (32) 선단의 개구부 (32a) 를 Z 방향 상의 소정 위치에 이동시키고, 노즐 (32) 을 -X 방향으로 이동시키면서 개구부 (32a) 로부터 레지스트를 예비 토출한다.

예비 토출 동작을 실시한 후, 문형 프레임 (31) 을 원래의 위치로 되돌려 놓는다. 다음 기판 (S) 이 반송되어 오면, 도 10 에 나타내는 바와 같이 노즐 (32) 을 Z 방향 상의 소정 위치로 이동시킨다. 이와 같이, 기판 (S) 에 레지스트막 (R) 을 도포하는 도포 동작과 예비 토출 동작을 반복하여 실시함으로써, 기판 (S) 에는 양질의 레지스트막 (R) 이 형성되게 된다.

또한, 필요에 따라, 예를 들어 관리부 (4) 에 소정 횟수 액세스할 때마다, 상기 노즐 (32) 을 딥조 (42) 내에 액세스시켜도 된다. 딥조 (42) 에서는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 를 딥조 (42) 에 저류된 용제 (시너) 의 증기 분위기에 노출시킴으로써 노즐 (32) 의 건조를 방지한다.

(메인터넌스)

다음으로, 노즐 (32) 의 메인터넌스에 대하여 설명한다. 본 실시형태에서는, 노즐 (32) 의 메인터넌스 중 노즐 (32) 의 청소에 대하여 설명한다. 노즐 (32) 의 청소는, 작업자가 노즐 (32) 을 수작업으로 닦아냄으로써 이루어진다.

먼저, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 도포부 (3) 의 문형 프레임 (31) 에 접속된 구동 기구 (36) 를 구동시켜, 기판 반송부 (2) 의 도포 처리 영역 (21) 상에 배치되어 있던 도포부 (3) 를, 기판 반송부 (2) 의 기판 반입 영역 (20) 의 -X 방향의 단부까지 이동시킨다. 이 때, 도포부 (3) 는 관리부 (4) 를 넘어서 이동하게 된다.

다음으로, 도 12 에 나타내는 바와 같이, 관리부 (4) 의 유지 부재 (45) 에 접속된 구동 기구 (48) 를 구동시켜, 관리부 (4) 를 기판 반송부 (2) 의 기판 반입 영역 (20) 의 -X 방향의 단부까지 이동시킨다. 관리부 (4) 의 이 동작에 의해, 문형 프레임 (31) 의 바로 아래, 즉, 노즐 (32) 의 바로 아래에 관리부 (4) 가 배치되게 된다. 도포부 (3) 의 이동 및 관리부 (4) 의 이동에 대해서는, 각각 따로따로 이동시켜도 되고, 도포부 (3) 와 관리부 (4) 가 연동하도록 구동 기구 (36) 및 구동 기구 (48) 를 동시에 구동시켜도 된다.

다음으로, 도 13 에 나타내는 바와 같이, 프레임부 (24) 의 -X 방향측에 작업대 (60) 를 설치한다. 이 작업대 (60) 는, Y 방향의 치수가 적어도 노즐 (32) 의 Y 방향의 치수보다 크게 되도록 형성되어 있고, 노즐 (32) 을 Y 방향으로 커버하는 범위에 설치한다. 또한, 작업대 (60) 에 대해서는, 프레임부 (24) 내에 미리 배치해 두고 필요에 따라 출몰시키도록 해도 되고, 외부로부터 운반해 와서 설치하도록 해도 된다.

작업대 (60) 의 설치 후, 도 14 에 나타내는 바와 같이, 작업자 (P) 가 작업대 (60) 상에 올라간다. 작업자 (P) 가 작업대 (60) 상에 올라간 상태에 있어서, 작업자 (P) 가 액세스할 수 있는 범위 (Q) 는, 작업자 (P) 의 손이 미치는 공간, 즉, 기판 반송부 (2) 상의 공간 중 -X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (60) 상의 공간이 된다. 문형 프레임 (31) 은 기판 반송부 (2) 의 -X 방향의 단부로 이동되어 오기 때문에, 작업자 (P) 가 액세스할 수 있는 범위 (Q) 에 포함되게 된다. 작업자 (P) 는, 액세스할 수 있는 범위 (Q) 내에 위치하는 노즐 (32) 에 액세스하여, 노즐의 선단을 닦아내는 작업을 실시한다. 닦아낸 후, 문형 프레임 (31) 및 관리부 (4) 의 위치를 원래의 위치로 되돌려 놓고, 도포 동작을 실시하게 한다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 노즐 (32) 에 대해 작업자 (P) 가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 까지 도포부 (3) 를 기판 (S) 의 반송 방향 또는 기판 (S) 의 반송 방향과는 반대 방향으로 이동시키는 이동 기구 (34) 를 구비하는 것으로 했기 때문에, 작업자 (P) 가 기판 반송부 (2) 상에 직접 올라가지 않고 노즐 (32) 을 닦아내는 등의 메인터넌스가 가능해진다. 이로써, 메인터넌스의 효율성을 향상시킴과 함께 기판 반송부 (2) 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방에 관리부 (4) 를 이동시키는 관리부 이동 기구 (46) 를 추가로 구비하는 것으로 했기 때문에, 노즐 (32) 의 이동 위치에 맞추어 관리부 (4) 의 위치를 이동시킬 수 있다. 이로써, 작업자 (P) 에 의한 노즐 (32) 의 메인터넌스를 한층 더 효율적으로 실시할 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 관리부 (4) 가 상기 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 상에 배치되고, 이동 기구 (34) 및 관리부 이동 기구 (46) 에 의해 도포부 (3) 를 관리부 (4) 상으로 이동시키는 것으로 했기 때문에, 노즐 (32) 의 메인터넌스시에 노즐 (32) 의 하방으로 관리부 (4) 를 이동시킬 수 있다. 노즐 (32) 과 기판 반송부 (2) 사이에 관리부 (4) 가 배치됨으로써, 예를 들어 노즐 (32) 의 청소 등의 메인터넌스 중에 노즐 (32) 로부터 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 상에 고화된 레지스트 등이 낙하되는 것을 방지할 수 있어, 기판 반송부 (2) 상을 청정하게 유지할 수 있다.

[제 2 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 2 실시형태를 설명한다. 제 1 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하였다. 또, 제 1 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 프레임부 (24) 의 구성 및 레일 부재 (35), 레일 부재 (47) 의 구성이 제 1 실시형태와 상이하기 때문에, 이 점을 중심으로 설명한다.

도 15 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 의 구성을 나타내는 사시도로서, 제 1 실시형태에 있어서의 도 1 에 대응하고 있다. 본 실시형태에서는, 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 에 있어서의 -X 방향의 단부 (T1) 가, 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 에 있어서의 -X 방향의 단부 (T2) 보다 -X 방향측으로 돌출된 상태로 되어 있다. 또, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 가 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 단부 (T1) 까지 형성된 구성으로 되어 있다. 다른 구성은, 제 1 실시형태와 동일하다.

도 15 에 나타내는 구성에서는, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 에 있어서의 -X 방향의 단부 (T2) 를 초과한 위치까지 이동할 수 있게 되어 있다. 예를 들어, 도 15 에 나타내는 바와 같이, 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 에 있어서의 -X 방향의 단부 (T1) 에 맞추어 작업대 (60) 를 설치한 경우, 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 은 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 상의 공간 중 -X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (60) 상의 공간이 된다. 따라서, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 는 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 까지 이동할 수 있게 형성되어 있게 된다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 기판 반송부 (2) 의 -X 방향의 단부 (T2) 를 초과하는 부분을 상기 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 으로 하여, 레일 부재 (35) 를 따라 도포부 (3) 를 이동시키는 것으로 했기 때문에, 기판 반송부 (2) 상에서 벗어난 위치에서 작업자에게 메인터넌스를 실시하게 할 수 있다. 이로써, 기판 반송부 (2) 상에 티끌이나 먼지, 레지스트 등이 부착되는 것을 보다 확실하게 방지할 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 레일 부재 (35) 만이 기판 반송부 (2) 의 -X 방향의 단부 (T2) 를 초과하여 연장되는 구성이라 하더라도, 동일한 효과를 얻을 수 있다.

[제 3 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 3 실시형태를 설명한다. 제 1 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하고 있다. 또한, 제 1 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 의 구성이 제 1 실시형태와 상이하기 때문에, 이 점을 중심으로 설명한다.

도 16 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 의 구성을 나타내는 사시도로서, 제 1 실시형태에 있어서의 도 1 에 대응하고 있다. 본 실시형태에서는, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 가 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향측의 단부에서부터 +X 방향측의 단부까지 형성된 구성으로 되어 있다. 다른 구성은 제 1 실시형태와 동일하다.

도 16 에 나타내는 구성에서는, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 에 있어서의 -X 방향측의 단부 및 반출측 스테이지 (28) 에 있어서의 +X 방향측의 단부까지 이동할 수 있게 형성되어 있다. 예를 들어, 도 16 에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향측의 단부를 따라 작업대 (60) 를 설치하는 경우, 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q1) 은, 기판 반송부 (2) 상의 공간 중 -X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (60) 상의 공간이다. 또, 예를 들어 반출측 스테이지 (28) 의 +X 방향측의 단부를 따라 작업대 (61) 를 설치한 경우, 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q2) 은, 기판 반송부 (2) 상의 공간 중 +X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (61) 상의 공간이다. 따라서, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 는 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q1 및 Q2) 까지 이동할 수 있게 형성되어 있게 된다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 가 작업자가 액세스할 수 있는 2 개의 영역 (Q1 및 Q2) 으로 이동할 수 있게 형성되는 것으로 했기 때문에, 노즐 (32) 의 청소 등의 메인터넌스시에는 도포 장치 (1) 의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 어느 쪽으로부터도 노즐 (32) 에 액세스할 수 있다. 이로써, 도포 장치 (1) 가 설치되는 환경에 따라 도포부 (3) 의 이동 위치를 유연하게 설정할 수 있게 된다.

[제 4 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 4 실시형태를 설명한다. 제 1 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하고 있다. 또, 제 1 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 도포부 (3) 의 구성, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 의 구성이 제 1 실시형태와 상이하기 때문에, 이 점을 중심으로 설명한다.

도 17 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1) 의 구성을 나타내는 사시도로서, 제 1 실시형태에 있어서의 도 1 에 대응하고 있다. 본 실시형태에서는, 도포부가 복수, 예를 들어 2 개 형성된 구성으로 되어 있고, 기판 반입 영역 (20) 측에는 도포부 (3a) 가, 기판 반출 영역 (22) 측에는 도포부 (3b) 가 각각 형성되어 있다.

또, 본 실시형태에서는, 제 3 실시형태와 마찬가지로, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 가 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 -X 방향측의 단부에서부터 +X 방향측의 단부까지 형성된 구성으로 되어 있다. 다른 구성은 제 1 실시형태와 동일하다.

도 17 에 나타내는 구성에서는, 도포부 (3a) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 에 있어서의 -X 방향측의 단부로 이동할 수 있게 형성되어 있고, 도포부 (3b) 가 반출측 스테이지 (28) 에 있어서의 +X 방향측의 단부까지 이동할 수 있게 형성되어 있다. 예를 들어, 도 17 에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향측의 단부를 따라 작업대 (60) 를 설치하는 경우, 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q1) 은, 제 3 실시형태와 마찬가지로, 기판 반송부 (2) 상의 공간 중 -X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (60) 상의 공간이다. 또, 예를 들어 반출측 스테이지 (28) 의 +X 방향측의 단부를 따라 작업대 (61) 를 설치한 경우, 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q2) 은, 제 3 실시형태와 마찬가지로, 기판 반송부 (2) 상의 공간 중 +X 방향의 단부를 포함한 공간 및 작업대 (61) 상의 공간이다. 따라서, 도포부 (3a) 는 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q1) 까지 이동할 수 있게 형성되어 있는 것이 되고, 도포부 (3b) 는 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q2) 까지 이동할 수 있게 형성되어 있게 된다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 도포부가 복수 형성되어 있는 경우에 있어서, 도포부 (3a) 를 기판 반입 영역 (20) 측으로 이동시키고, 도포부 (3b) 를 기판 반출 영역 (22) 측으로 이동시키는 것으로 했기 때문에, 도포부 (3a 및 3b) 를 기판 반입측 및 기판 반출측의 양측에서 동시에 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 메인터넌스에 필요로 하는 시간을 단축시킬 수 있다. 또, 기판 반입 영역 (20) 측에 설치된 작업대 (60), 기판 반출 영역 (22) 측에 설치된 작업대 (61) 에서, 각 작업자가 도포부 (3a 및 3b) 에 대하여 분담하여 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 효율을 향상시킬 수 있다.

또한, 본 실시형태에서는, 도포부가 2 개 형성된 구성으로 했으나, 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 도포부가 3 개 이상 형성된 구성으로 해도, 본 발명을 적용할 수 있다. 이 경우, 복수의 도포부 중 일부를 기판 반입 영역 (20) 측으로 이동시키고, 나머지를 기판 반출 영역 (22) 측으로 이동시키도록 하는 것이 바람직하다.

본 발명의 기술 범위는 상기 실시형태에 한정되지 않으며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경할 수 있다.

예를 들어, 도포부 (3) 를 작업자가 액세스할 수 있는 영역까지 이동시키는 수단으로서, 서보로 움직이게 하여, 엔코더 (리니어 스케일) 로 위치를 결정해도 되고, 또한 리미트 센서를 부가하거나 해도 된다. 또 도포부 (3) 를 이동시킨 후에, 기계적으로 유지하는 유지 기구를 설치해도 되고, 이 유지 기구로서, 도 18 에 나타내는 클램프 기구 (62) 를 설치하도록 해도 상관없다. 이 클램프 기구 (62) 는 지주 부재 (31a) 중 레일 부재 (35) 에 대향하는 위치에 설치되어 있고, 예를 들어 레일 부재 (35) 의 도면 중 좌우 방향의 양측, 즉, 도포부 (3) 의 이동 방향의 측방에 형성되어 있다. 도포부 (3) 가 원하는 위치로 이동된 후, 클램프 기구 (62) 가 돌출되어 레일 부재 (35) 에 맞닿고, 양측으로부터 레일 부재 (35) 를 사이에 끼움으로써 도포부 (3) 의 위치를 유지하도록 되어 있다.

이와 같이, 도포부 (3) 를 기판 반송부 (2) 상의 소정 위치에 유지하는 클램프 기구 (62) 를 가짐으로써, 도포부 (3) 의 위치를 보다 안정시킬 수 있다. 이로써, 작업자가 한층 더 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시하기 쉬워진다. 클램프 기구 (62) 를 관리부 (4) 의 유지 부재 (45) 에 설치하도록 해도 상관없다. 또, 클램프 기구 (62) 의 구성에 대해서는, 도 18 에 나타내는 구성에 한정되지 않고, 다른 구성이어도 물론 상관없다.

또, 예를 들어 도 19 에 나타내는 바와 같이, 노즐 (32) 이 작업자 (P) 측으로 기울어지게 회전할 수 있도록 형성된 구성이어도 상관없다. 이 구성에 의하면, 노즐 (32) 의 선단 (32c) 이 작업자 (P) 쪽을 향하기 때문에, 작업자 (P) 는 노즐 (32) 에 용이하게 엑세스할 수 있게 된다. 이로써, 메인터넌스의 효율이 향상되게 된다.

또, 도포 장치 (1) 의 전체 구성에 대해서는, 상기 실시형태에서는 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 -Y 방향측에 배치하는 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 +Y 방향측에 배치하는 구성이어도 상관없다. 또, 도 20 에 나타내는 바와 같이, 각 스테이지의 -Y 방향측에는 상기의 반송 기구 (23 ; 반송기 (23a), 진공 패드 (23b), 레일 (23c)) 를 배치하고, +Y 방향측에는 상기 반송 기구 (23) 와 동일한 구성의 반송 기구 (53 ; 반송기 (53a), 진공 패드 (53b), 레일 (53c)) 를 배치하여, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 상이한 기판을 반송할 수 있게 구성해도 상관없다. 예를 들어, 동 도면에 나타내는 바와 같이, 반송 기구 (23) 에는 기판 (S1) 을 반송시키고, 반송 기구 (53) 에는 기판 (S2) 을 반송시키도록 한다. 이 경우, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 기판을 교대로 반송할 수 있게 되기 때문에 처리량이 향상되게 된다. 또, 상기의 기판 (S, S1, S2) 의 절반 정도의 면적을 갖는 기판을 반송하는 경우에는, 예를 들어 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 1 장씩 유지하고, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 를 +X 방향으로 병진시킴으로써, 2 장의 기판을 동시에 반송시킬 수 있다. 이와 같은 구성에 의해 처리량을 향상시킬 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 이동 기구 (34) 의 레일 부재 (35) 및 관리부 이동 기구 (46) 의 레일 부재 (47) 가 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 상면에 형성된 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어 도 21 에 나타내는 바와 같이, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 가 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 내부에 형성된 구성으로 해도 상관없다.

도 21 에서는 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 에 홈부 (24c) 및 홈부 (24d) 가 X 방향을 따라 형성됨과 함께, 레일 부재 (35) 가 홈부 (24c) 내에 형성되고, 레일 부재 (47) 가 홈부 (24d) 에 형성된 구성으로 되어 있다. 또, 도포부 (3) 의 지주 부재 (31a) 의 -Z 방향의 단부가 홈부 (24c) 내에 삽입된 상태에서 지주 부재 (31a) 가 레일 (35) 상에 배치되어 있고, 관리부 (4) 의 유지 부재 (45) 의 -Z 방향의 단부가 홈부 (24d) 내에 삽입된 상태에서 유지 부재 (45) 가 레일 부재 (47) 상에 배치되어 있다.

또한, 도 21 에서는 홈부 (24c) 의 Z 방향의 치수가 홈부 (24d) 의 Z 방향의 치수보다 크게 되어 있는데, 물론 이것에 한정되지 않고, 예를 들어 홈부 (24d) 의 Z 방향의 치수가 홈부 (24c) 의 Z 방향의 치수보다 크게 되어 있어도 상관없고, 홈부 (24c) 와 홈부 (24d) 에서 Z 방향의 치수가 동일하게 되어 있어도 상관없다.

또, 상기 실시형태에서는 기판 (S) 을 부상시켜 반송하는 도포 장치 (1) 를 예로 들어 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 기판을 반송시키면서 도포를 실시하는 도포 장치라면 부상 반송형 이외의 도포 장치, 예를 들어 반송 롤러 등의 반송 기구에 의해 기판을 반송하는 도포 장치라 하더라도 본 발명을 적용할 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 작업자가 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시하는 구성만을 설명했는데, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어 관리부 (4) 를 액세스할 수 있는 영역 (Q) 으로 이동시켜 이 관리부 (4) 의 메인터넌스를 실시하도록 해도 상관없다. 또, 예를 들어, 도포부 (3) 및 관리부 (4) 를 작업자가 액세스할 수 있는 영역 (Q) 으로 이동시키고, 노즐 (32) 의 바로 아래에 관리부 (4) 가 배치된 상태에서 먼저 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시하고, 노즐 (32) 의 메인터넌스 종료 후에 도포부 (3) 를 도포 처리 영역 (21) 으로 이동시키고, 그 후 관리부 (4) 의 메인터넌스를 실시하도록 해도 상관없다. 이로써, 도포 장치 (1) 의 메인터넌스의 효율을 향상시킬 수 있다.

[제 5 실시형태]

본 발명의 제 5 실시형태를 도면에 기초하여 설명한다.

도 22 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 의 사시도이다.

도 22 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 는, 예를 들어 액정 패널 등에 사용되는 유리 기판 상에 레지스트를 도포하는 도포 장치로서, 기판 반송부 (2) 와, 도포부 (3) 와, 관리부 (4) 를 주요 구성 요소로 하고 있다. 이 도포 장치 (1a) 는 기판 반송부 (2) 에 의해 기판을 부상시켜 반송하면서, 도포부 (3) 에 의해 상기 기판 상에 레지스트가 도포되도록 되어 있고, 관리부 (4) 에 의해 도포부 (3) 의 상태가 관리되도록 되어 있다. 또, 이 도포 장치 (1a) 에는 도포부 (3) 에 형성되는 노즐 (도 23 등 참조) 에 대하여 작업자가 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구 (5) 가 설치되어 있다.

도 23 은 도포 장치 (1a) 의 정면도, 도 24 는 도포 장치 (1a) 의 평면도, 도 25 는 도포 장치 (1a) 의 측면도이다. 이들 도면을 참조하여, 도포 장치 (1a) 의 상세한 구성을 설명한다.

(기판 반송부)

먼저, 기판 반송부 (2) 의 구성을 설명한다.

기판 반송부 (2) 는 기판 반입 영역 (20) 과, 도포 처리 영역 (21) 과, 기판 반출 영역 (22) 과, 반송 기구 (23) 와, 이들을 지지하는 프레임부 (24) 를 갖고 있다.

이 기판 반송부 (2) 에서는, 반송 기구 (23) 에 의해 기판 (S) 이 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 으로 순서대로 반송되도록 되어 있다. 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 은 기판 반송 방향의 상류측에서부터 하류측으로 이 순서로 배열되어 있다. 반송 기구 (23) 는 기판 반입 영역 (20), 도포 처리 영역 (21) 및 기판 반출 영역 (22) 의 각 부에 걸치도록 상기 각 부의 일 측방에 설치되어 있다.

기판 반입 영역 (20) 은, 장치 외부로부터 반송되어 온 기판 (S) 을 반입하는 영역으로서, 반입측 스테이지 (25) 와, 리프트 기구 (26) 를 갖고 있다.

반입측 스테이지 (25) 는 프레임부 (24) 상의 Y 방향 중앙부에 형성되어 있고, 예를 들어 SUS 등으로 이루어지는 평면에서 보았을 때 직사각형의 판상 부재이다. 이 반입측 스테이지 (25) 는, X 방향이 길게 되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 에는 에어 분출 구멍 (25a) 과, 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 이 각각 복수 형성되어 있다. 이들 에어 분출 구멍 (25a) 및 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 를 관통하도록 형성되어 있다.

에어 분출 구멍 (25a) 은 반입측 스테이지 (25) 의 스테이지 표면 (25c) 상으로 에어를 분출하는 구멍으로서, 예를 들어 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 통과하는 영역에 평면에서 보았을 때 매트릭스상으로 배치되어 있다. 이 에어 분출 구멍 (25a) 에는 에어 공급 기구 (25e) 가 접속되어 있다. 이 제 5 실시형태에서 반입측 스테이지 (25) 와 에어 공급 기구 (25e) 는 일체로 설치되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 에서는, 에어 분출 구멍 (25a) 으로부터 분출되는 에어에 의해 기판 (S) 을 +Z 방향으로 부상시킬 수 있게 되어 있다.

승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 반입측 스테이지 (25) 중 기판 (S) 이 반입되는 영역에 형성되어 있다. 이 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 은, 스테이지 표면 (25c) 에 공급된 에어가 새어 나오지 않는 구성으로 되어 있다.

이 반입측 스테이지 (25) 중 Y 방향의 양 단부에는 얼라이먼트 장치 (25d) 가 1 개씩 설치되어 있다. 얼라이먼트 장치 (25d) 는 반입측 스테이지 (25) 에 반입된 기판 (S) 의 위치를 맞추는 장치이다. 각 얼라이먼트 장치 (25d) 는 기다란 구멍과 이 기다란 구멍 내에 형성된 위치 맞춤 부재를 갖고 있어, 반입측 스테이지 (25) 에 반입되는 기판을 양 측으로부터 기계적으로 사이에 끼우도록 되어 있다.

리프트 기구 (26) 는 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치의 이면측에 설치되어 있다. 이 리프트 기구 (26) 는 승강 부재 (26a) 와, 복수의 승강 핀 (26b) 을 갖고 있다. 승강 부재 (26a) 는, 도시하지 않은 구동 기구에 접속되어 있어, 이 구동 기구의 구동에 의해 승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동하도록 되어 있다. 복수의 승강 핀 (26b) 은, 승강 부재 (26a) 의 상면으로부터 반입측 스테이지 (25) 를 향하여 세워서 형성되어 있다. 각 승강 핀 (26b) 은, 각각 상기의 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 에 평면에서 보았을 때 겹치는 위치에 배치되어 있다. 승강 부재 (26a) 가 Z 방향으로 이동함으로써, 각 승강 핀 (26b) 이 승강 핀 출몰 구멍 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 상으로 출몰되도록 되어 있다. 각 승강 핀 (26b) 의 +Z 방향의 단부는 각각 Z 방향 상의 위치가 일치되도록 형성되어 있고, 장치 외부로부터 반송되어 온 기판 (S) 을 수평한 상태에서 유지할 수 있게 되어 있다.

제 5 실시형태에 있어서 프레임부 (24) 는 +Y 방향측에 배치된 프레임측부 (24a), -Y 방향측에 배치된 프레임측부 (24b) 및 중앙부에 배치된 프레임 중앙부 (24e) 를 갖고 있으며, 프레임 중앙부 (24e) 상에 반입측 스테이지 (25) 가 형성되어 있다. 프레임 중앙부 (24e) 상에는 변경 기구 (5) 가 설치되어 있다. 변경 기구 (5) 는, 예를 들어 프레임 중앙부 (24e) 상에 X 방향을 따라 형성된 레일상 부재로서, Y 방향으로 2 개 설치되어 있다. 변경 기구 (5) 는 반입측 스테이지 (25) 의 하면 (25f) 에 형성되는 홈부 (25g) 에 끼워맞춰진 상태 (도 25) 로 되어 있다.

반입측 스테이지 (25) 는 상기 변경 기구 (5) 를 따라 -X 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 는 작업자의 손으로 이동시키는 구성이어도 상관없고, 예를 들어 도시하지 않은 구동 기구를 장착함으로써 자동으로 이동시키는 구성이어도 상관없다. 구동 기구로는, 예를 들어 서보로 움직이게 하여, 엔코더 (리니어 스케일) 로 위치를 결정해도 되고, 또한 리미트 센서를 부가하거나 해도 된다. 구동 기구를 장착하는 경우에는, 이 구동 기구 및 레일상 부재가 변경 기구 (5) 에 포함되게 된다. 반입측 스테이지 (25) 가 -X 방향으로 이동함으로써, 상기 반입측 스테이지 (25) 와 기판 반송부 (2) 의 나머지 부분 (처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지) 이 X 방향으로 상대적으로 이동하도록 되어 있다. 도 22 ∼ 도 25 에서는, 반입측 스테이지 (25) 전체가 프레임 중앙부 (24e) 상에 지지된 상태로 되어 있어, 기판 (S) 을 반송할 수 있는 상태로 되어 있다. 이 상태가 기판을 반송하는 기판 반송 상태이다.

제 5 실시형태의 도포 처리 영역 (21) 은 레지스트의 도포가 이루어지는 부위로서, 기판 (S) 을 부상 지지하는 처리 스테이지 (27) 가 형성되어 있다.

처리 스테이지 (27) 는, 스테이지 표면 (27c) 이 예를 들어 경질 알루마이트를 주성분으로 하는 광 흡수 재료로 덮인 평면에서 보았을 때 직사각형의 판상 부재이며, 반입측 스테이지 (25) 에 대하여 +X 방향측에 형성되어 있다. 처리 스테이지 (27) 중 광 흡수 재료로 덮인 부분에서는, 레이저광 등의 광의 반사가 억제되도록 되어 있다. 이 처리 스테이지 (27) 는, Y 방향이 길게 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향의 치수는, 반입측 스테이지 (25) 의 Y 방향의 치수와 거의 동일하게 되어 있다. 처리 스테이지 (27) 에는 스테이지 표면 (27c) 상으로 에어를 분출하는 복수의 에어 분출 구멍 (27a) 과, 스테이지 표면 (27c) 상의 에어를 흡인하는 복수의 에어 흡인 구멍 (27b) 이 형성되어 있다. 이들 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 은, 처리 스테이지 (27) 를 관통하도록 형성되어 있다. 또, 처리 스테이지 (27) 의 내부에는, 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 을 통과하는 기체의 압력에 저항을 부여하기 위한 도시하지 않은 홈이 복수 형성되어 있다. 이 복수의 홈은, 스테이지 내부에서 에어 분출 구멍 (27a) 및 에어 흡인 구멍 (27b) 에 접속되어 있다.

처리 스테이지 (27) 에서는, 에어 분출 구멍 (27a) 의 피치가 반입측 스테이지 (25) 에 형성되는 에어 분출 구멍 (25a) 의 피치보다 좁아, 반입측 스테이지 (25) 에 비해 에어 분출 구멍 (27a) 이 조밀하게 형성되어 있다. 이 때문에, 이 처리 스테이지 (27) 에서는 다른 스테이지에 비해 기판의 부상량을 고정밀도로 조절할 수 있게 되어 있어, 기판의 부상량이 예를 들어 0㎛ 이상 100㎛ 이하, 바람직하게는 0㎛ 이상 50㎛ 이하가 되도록 제어할 수 있게 되어 있다.

이 제 5 실시형태의 기판 반출 영역 (22) 은, 레지스트가 도포된 기판 (S) 을 장치 외부로 반출하는 부위로서, 반출측 스테이지 (23) 와, 리프트 기구 (29) 를 갖고 있다. 이 반출측 스테이지 (28) 는 처리 스테이지 (27) 에 대하여 +X 방향측에 형성되어 있고, 기판 반입 영역 (20) 에 형성된 반입측 스테이지 (25) 와 거의 동일한 재질, 치수로 구성되어 있다. 반출측 스테이지 (28) 에는, 반입측 스테이지 (25) 와 마찬가지로, 에어 분출 구멍 (28a) 및 승강 핀 출몰 구멍 (28b) 이 형성되어 있다. 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 의 기판 반출 위치의 이면측에 설치되어 있고, 예를 들어 프레임부 (24) 에 지지되어 있다. 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 및 승강 핀 (29b) 은 기판 반입 영역 (20) 에 설치된 리프트 기구 (26) 의 각 부위와 동일한 구성으로 되어 있다. 이 리프트 기구 (29) 는, 반출측 스테이지 (28) 상의 기판 (S) 을 외부 장치로 반출할 때에, 기판 (S) 을 주고 받기 위해 승강 핀 (29b) 에 의해 기판 (S) 을 들어 올릴 수 있게 되어 있다.

반송 기구 (23) 는 반송기 (23a) 와, 진공 패드 (23b) 와, 레일 (23c) 을 갖고 있다. 반송기 (23a) 는 내부에 예를 들어 리니어 모터가 설치된 구성으로 되어 있어, 이 리니어 모터가 구동됨으로써 반송기 (23a) 가 레일 (23c) 상을 이동할 수 있게 되어 있다. 이 반송기 (23a) 는, 소정 부분 (23d) 이 평면에서 보았을 때 기판 (S) 의 -Y 방향의 단부와 겹치도록 배치되어 있다. 이 기판 (S) 과 겹치는 부분 (23d) 은, 기판 (S) 을 부상시켰을 때의 기판 이면의 높이 위치보다 낮은 위치에 형성되어 있다.

진공 패드 (23b) 는, 반송기 (23a) 중 상기 기판 (S) 과 겹치는 부분 (23d) 에 복수 배열되어 있다. 이 진공 패드 (23b) 는, 기판 (S) 을 진공 흡착시키는 흡착면을 갖고 있고, 이 흡착면이 상방을 향하도록 배치되어 있다. 진공 패드 (23b) 는, 흡착면이 기판 (S) 의 이면 단부를 흡착함으로써 기판 (S) 을 유지할 수 있게 되어 있다. 각 진공 패드 (23b) 는 반송기 (23a) 의 상면으로부터의 높이 위치를 조절할 수 있게 되어 있고, 예를 들어 기판 (S) 의 부상량에 따라 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 올리고 내릴 수 있게 되어 있다.

제 5 실시형태에서 레일 (23c) 은 프레임측부 (24a) 상에 형성되어 있고, 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 의 측방에 각 스테이지에 걸쳐 연장되어 있다. 이 레일 (23c) 을 슬라이딩함으로써 반송기 (23a) 가 상기 각 스테이지를 따라 이동할 수 있게 되어 있다.

(도포부)

다음으로, 도포부 (3) 의 구성을 설명한다.

도포부 (3) 는 기판 (S) 상에 레지스트를 도포하는 부분으로서, 문형 프레임 (31) 과, 노즐 (32) 을 갖고 있다.

문형 프레임 (31) 은 지주 부재 (31a) 와, 가교 부재 (31b) 를 갖고 있고, 처리 스테이지 (27) 를 Y 방향으로 걸치도록 형성되어 있다. 지주 부재 (31a) 는 처리 스테이지 (27) 의 Y 방향측에 1 개씩 형성되어 있고, 각 지주 부재 (31a) 가 프레임부 (24) 의 Y 방향측의 양 측면에 각각 지지되어 있다. 각 지주 부재 (31a) 는, 상단부의 높이 위치가 일치되도록 형성되어 있다. 가교 부재 (31b) 는 각 지주 부재 (31a) 의 상단부 사이에 가교되어 있고, 이 지주 부재 (31a) 에 대하여 승강할 수 있게 되어 있다.

이 문형 프레임 (31) 은 이동 기구 (34) 에 접속되어 있다. 이동 기구 (34) 는 레일 부재 (35) 및 구동 기구 (36) 를 갖고 있다. 제 5 실시형태에서 레일 부재 (35) 는 프레임측부 (24a) 및 프레임측부 (24b) 상에 1 개씩 형성되어 있고, 각각 X 방향으로 연장되어 있다. 레일 부재 (35) 는 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 에 걸치도록 형성되어 있다. 이 때문에, 도포부 (3) 가 이 레일 부재 (35) 를 따라 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 에 걸쳐 이동할 수 있게 되어 있다. 구동 기구 (36) 는, 문형 프레임 (31) 에 접속되고 도포부 (3) 를 레일 부재 (35) 를 따라 이동시키는 액추에이터이다. 또, 이 문형 프레임 (31) 은, 도시하지 않은 이동 기구에 의해 Z 방향으로도 이동할 수 있게 되어 있다.

노즐 (32) 은, 일 방향이 긴 장척상으로 구성되어 있고, 문형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 -Z 방향측의 면에 형성되어 있다. 이 노즐 (32) 중 -Z 방향의 선단에는, 자신의 길이 방향을 따라 슬릿상의 개구부 (32a) 가 형성되어 있고, 이 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 노즐 (32) 은, 개구부 (32a) 의 길이 방향이 Y 방향으로 평행하게 됨과 함께, 이 개구부 (32a) 가 처리 스테이지 (27) 에 대향하도록 배치되어 있다. 개구부 (32a) 의 길이 방향의 치수는 반송되는 기판 (S) 의 Y 방향의 치수보다 작게 되어 있어, 기판 (S) 의 주변 영역에 레지스트가 도포되지 않도록 되어 있다. 노즐 (32) 의 내부에는 레지스트를 개구부 (32a) 에 유통시키는 도시하지 않은 유통로가 형성되어 있고, 이 유통로에는 도시하지 않은 레지스트 공급원이 접속되어 있다. 이 레지스트 공급원은, 예를 들어 도시하지 않은 펌프를 갖고 있어, 이 펌프로 레지스트를 개구부 (32a) 로 밀어냄으로써 개구부 (32a) 로부터 레지스트가 토출되도록 되어 있다. 지주 부재 (31a) 에는 도시가 생략된 이동 기구가 설치되어 있고, 이 이동 기구에 의해 가교 부재 (31b) 에 유지된 노즐 (32) 이 Z 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 노즐 (32) 에는 도시가 생략된 이동 기구가 설치되어 있고, 이 이동 기구에 의해 노즐 (32) 이 가교 부재 (31b) 에 대하여 Z 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 문형 프레임 (31) 의 가교 부재 (31b) 의 하면에는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a), 즉, 노즐 (32) 의 선단 (32c) 과 이 노즐의 선단 (32c) 에 대향하는 대향면 사이의 Z 방향 상의 거리를 측정하는 센서 (33) 가 장착되어 있다. 이 센서 (33) 는 Y 방향을 따라 예를 들어 3 개 설치되어 있다.

(관리부)

관리부 (4) 의 구성을 설명한다.

관리부 (4) 는 기판 (S) 에 토출되는 레지스트 (액상체) 의 토출량이 일정해지도록 노즐 (32) 을 관리하는 부위로서, 기판 반송부 (2) 중 도포부 (3) 에 대하여 -X 방향측에 형성되어 있다. 이 관리부 (4) 는 예비 토출 기구 (41) 와, 딥조 (42) 와, 노즐 세정 장치 (43) 와, 이들을 수용하는 수용부 (44) 와, 이 수용부를 유지하는 유지 부재 (45) 를 갖고 있다.

예비 토출 기구 (41), 딥조 (42) 및 노즐 세정 장치 (43) 는 -X 방향측으로 이 순서로 배열되어 있다. 예비 토출 기구 (41) 는 레지스트를 예비적으로 토출하는 부분이다. 이 예비 토출 기구 (41) 는 도포부 (3) 가 도포 처리 영역 (21) 상에 배치되어 있는 상태에서 노즐 (32) 에 가장 가까워지는 위치에 설치되어 있다. 딥조 (42) 는 내부에 시너 등의 용제가 저류된 액체조이다. 노즐 세정 장치 (43) 는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 근방을 린스 세정하는 장치로서, Y 방향으로 이동하는 도시하지 않은 세정 기구와, 이 세정 기구를 이동시키는 도시하지 않은 이동 기구를 갖고 있다. 이 이동 기구는 세정 기구보다 -X 방향측에 설치되어 있다. 노즐 세정 장치 (43) 는, 이동 기구가 설치되는 만큼, 예비 토출 기구 (41) 및 딥조 (42) 에 비해 X 방향의 치수가 크게 되어 있다. 또한, 예비 토출 기구 (41), 딥조 (42), 노즐 세정 장치 (43) 의 배치에 대해서는, 본 실시형태의 배치에 한정되지 않고, 다른 배치이어도 상관없다.

수용부 (44) 의 Y 방향의 치수는 상기 문형 프레임 (31) 의 지주 부재 (31a) 간의 거리보다 작게 되어 있어, 상기 문형 프레임 (31) 이 수용부 (44) 를 넘어서 X 방향으로 이동할 수 있게 되어 있다. 또, 문형 프레임 (31) 은, 수용부 (44) 내에 설치되는 예비 토출 기구 (41), 딥조 (42) 및 노즐 세정 장치 (43) 에 대하여, 이들 각 부를 걸치도록 액세스할 수 있게 되어 있다.

유지 부재 (45) 는, 관리부 이동 기구 (46) 에 접속되어 있다. 관리부 이동 기구 (46) 는, 레일 부재 (47) 및 구동 기구 (48) 를 갖고 있다. 레일 부재 (47) 는, 프레임 측부 (24a) 및 프레임 측부 (24b) 상에 1 개씩 형성되어 있고, 각각 X 방향으로 연장되어 있다. 각 레일 부재 (47) 는, 도포부 (3) 의 문형 프레임 (31) 에 접속되는 2 개의 레일 부재 (35) 사이에 배치되어 있다. 레일 부재 (47) 는 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 를 걸치도록 형성되어 있다. 이 때문에, 관리부 (4) 는 상기 레일 부재 (47) 를 따라 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 에 걸쳐 이동할 수 있게 되어 있다. 구동 기구 (48) 는 유지 부재 (45) 에 접속되고, 관리부 (4) 를 레일 부재 (47) 상을 따라 이동시키는 액추에이터이다. 또, 각 레일 부재 (47) 가 레일 부재 (35) 사이에 배치되어 있기 때문에, 관리부 (4) 는 도포부 (3) 의 문형 프레임 (81) 을 통과하여 빠져 나가듯이 이동하게 된다.

(도포 동작)

다음으로, 상기과 같이 구성된 도포 장치 (1a) 의 동작을 설명한다.

도 5 ∼ 도 8 은 도포 장치 (1a) 의 동작 과정을 나타내는 평면도이다. 각 도면을 참조하여, 기판 (S) 에 레지스트를 도포하는 동작을 설명한다. 이 동작에서는, 기판 (S) 을 기판 반입 영역 (20) 에 반입하고, 상기 기판 (S) 을 부상시켜 반송하면서 도포 처리 영역 (21) 에서 레지스트를 도포하고, 이 레지스트를 도포한 기판 (S) 을 기판 반출 영역 (22) 으로부터 반출한다. 도 5 ∼ 도 8 에는 문형 프레임 (31) 및 관리부 (4) 의 윤곽만을 파선으로 나타내어, 노즐 (32) 및 처리 스테이지 (27) 의 구성을 판별하기 쉽게 하였다. 이하, 각 부분에 있어서의 상세한 동작을 설명한다.

기판 반입 영역 (20) 에 기판을 반입하기 전에, 도포 장치 (1a) 를 스탠바이시켜 둔다. 구체적으로는, 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 반송기 (23a) 를 배치시키고, 진공 패드 (23b) 의 높이 위치를 기판의 부상 높이 위치에 맞추어 둠과 함께, 반입측 스테이지 (25) 의 에어 분출 구멍 (25a), 처리 스테이지 (27) 의 에어 분출 구멍 (27a), 에어 흡인 구멍 (27b) 및 반출측 스테이지 (28) 의 에어 분출 구멍 (28a) 으로부터 각각 에어를 분출 또는 흡인하여, 각 스테이지 표면에 기판이 부상할 정도로 에어가 공급된 상태로 해 둔다.

이 상태에서, 예를 들어 도시하지 않은 반송 아암 등에 의해 외부로부터 도 5 에 나타내는 기판 반입 위치에 기판 (S) 이 반송되어 오면, 승강 부재 (26a) 를 +Z 방향으로 이동시켜, 승강핀 (26b) 을 승강핀 출몰 구멍 (25b) 으로부터 스테이지 표면 (25c) 에 돌출시킨다. 이 승강 부재 (26a) 의 동작에 의해, 기판 (S) 이 승강핀 (26b) 에 들어 올려져, 상기 기판 (S) 의 수취가 이루어진다.

또, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 기다란 구멍으로부터 위치 맞춤 부재를 스테이지 표면 (25c) 으로 돌출시켜 둔다.

기판 (S) 을 수취한 후, 승강 부재 (26a) 를 하강시켜 승강핀 (26b) 을 승강핀 출몰 구멍 (25b) 내에 수용한다. 이 때, 스테이지 표면 (25c) 에는 에어층이 형성되어 있기 때문에, 기판 (S) 은 상기 에어에 의해 스테이지 표면 (25c) 에 대하여 부상된 상태에서 유지된다. 기판 (S) 이 에어층의 표면에 도달했을 때, 얼라이먼트 장치 (25d) 의 위치 맞춤 부재에 의해 기판 (S) 의 위치 맞춤이 이루어지고, 기판 반입 위치의 -Y 방향측에 배치된 반송기 (23a) 의 진공 패드 (23b) 를 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부에 진공 흡착시킨다. 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부가 흡착된 상태를 도 5 에 나타낸다. 진공 패드 (23b) 에 의해 기판 (S) 의 -Y 방향측의 단부가 흡착된 후, 반송기 (23a) 를 레일 (23c) 을 따라 이동시킨다. 기판 (S) 이 부상된 상태로 되었기 때문에, 반송기 (23a) 의 구동력을 비교적 작게 해도 기판 (S) 은 레일 (23c) 을 따라 순조롭게 이동한다.

기판 (S) 의 반송 방향 선단이 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 의 위치에 도달하면, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 로부터 기판 (S) 을 향하여 레지스트를 토출한다. 레지스트의 토출은, 노즐 (32) 의 위치를 고정시키고 반송기 (23a) 에 의해 기판 (S) 을 반송시키면서 실시한다.

기판 (S) 의 이동에 수반하여, 도 7 에 나타내는 바와 같이 기판 (S) 상에 레지스트막 (R) 이 도포되어 간다. 기판 (S) 이 레지스트를 토출하는 개구부 (32a) 아래를 통과함으로써, 기판 (S) 의 소정의 영역에 레지스트막 (R) 이 형성된다.

레지스트막 (R) 이 형성된 기판 (S) 은, 반송기 (23a) 에 의해 반출측 스테이지 (28) 로 반송된다. 반출측 스테이지 (28) 에서는, 스테이지 표면 (28c) 에 대하여 부상된 상태에서, 도 8 에 나타내는 기판 반출 위치까지 기판 (S) 이 반송된다.

기판 (S) 이 기판 반출 위치에 도달하면, 진공 패드 (23b) 의 흡착을 해제하고, 리프트 기구 (29) 의 승강 부재 (29a) 를 +Z 방향으로 이동시킨다. 승강 부재 (29a) 의 이동에 의해, 승강핀 (29b) 이 승강핀 출몰 구멍 (28b) 으로부터 기판 (S) 의 이면으로 돌출되고, 기판 (S) 이 승강핀 (29b) 에 의해 들어 올려진다. 이 상태에서, 예를 들어 반출측 스테이지 (28) 의 +X 방향측에 형성된 외부의 반송 아암이 반출측 스테이지 (28) 에 액세스하여, 기판 (S) 을 수취한다. 기판 (S) 을 반송 아암에 건네준 후, 반송기 (23a) 를 다시 반입측 스테이지 (25) 의 기판 반입 위치까지 되돌려 놓고, 다음의 기판 (S) 이 반송될 때까지 대기시킨다.

다음의 기판 (S) 이 반송되어 올 때까지의 동안에, 도포부 (3) 에서는, 노즐 (32) 의 토출 상태를 유지하기 위한 예비 토출이 이루어진다. 도 9 에 나타내는 바와 같이, 레일 부재 (35) 에 의해 문형 프레임 (31) 을 관리부 (4) 의 위치까지 -X 방향으로 이동시킨다.

관리부 (4) 의 위치까지 문형 프레임 (31) 을 이동시킨 후, 문형 프레임 (31) 의 위치를 조정하여 노즐 (32) 의 선단을 노즐 세정 장치 (43) 에 액세스시키고, 이 노즐 세정 장치 (43) 에 의해 노즐의 선단 (32c) 을 세정한다.

노즐의 선단 (32c) 의 세정 후, 상기 노즐 (32) 을 예비 토출 기구 (41) 에 액세스시킨다. 예비 토출 기구 (41) 에서는, 개구부 (32a) 와 예비 토출면 사이의 거리를 측정하면서 노즐 (32) 선단의 개구부 (32a) 를 Z 방향 상의 소정의 위치로 이동시키고, 노즐 (32) 을 -X 방향으로 이동시키면서 개구부 (32a) 로부터 레지스트를 예비 토출한다.

예비 토출 동작을 실시한 후, 문형 프레임 (31) 를 원래의 위치로 되돌려 놓는다. 다음 기판 (S) 이 반송되어 오면, 도 10 에 나타내는 바와 같이 노즐 (32) 을 Z 방향 상의 소정의 위치로 이동시킨다. 이와 같이, 기판 (S) 에 레지스트막 (R) 을 도포하는 도포 동작과 예비 토출 동작을 반복하여 실시시킴으로써, 기판 (S) 에는 양질의 레지스트막 (R) 이 형성되게 된다.

또한, 필요에 따라, 예를 들어 관리부 (4) 에 소정 횟수 액세스할 때마다, 상기 노즐 (32) 을 딥조 (42) 내에 액세스시켜도 된다. 딥조 (42) 에서는, 노즐 (32) 의 개구부 (32a) 를 딥조 (42) 에 저류된 용제 (시너) 의 증기 분위기에 노출시킴으로써 노즐 (32) 의 건조를 방지한다.

(메인터넌스)

다음으로, 노즐 (32) 의 메인터넌스에 대하여 설명한다. 본 실시형태에서는, 노즐 (32) 의 메인터넌스의 중 노즐 (32) 의 청소에 대하여 설명한다. 노즐 (32) 의 청소는, 작업자가 노즐 (32) 을 수작업으로 닦아냄으로써 이루어진다.

메인터넌스를 실시하는 경우에는, 기판 반송부 (2) 를 기판 반송 상태에서 공간 형성 상태로 전환한다. 이하, 공간 형성 상태로의 전환 동작을 설명한다. 도 26 에 나타내는 바와 같이, 프레임 중앙부 (24e) 의 -X 방향측에 지지대 (70) 를 설치한다. 이 지지대 (70) 는, Y 방향의 치수가 적어도 반입측 스테이지 (25) 의 Y 방향의 치수보다 크게 되도록 형성되어 있고, 반입측 스테이지 (25) 를 Y 방향으로 커버하는 범위에 설치한다. 지지대 (70) 의 Z 방향의 치수에 대해서는, 프레임 중앙부 (24e) 의 Z 방향의 치수와 동일해지도록 설계해 둔다. 또한, 지지대 (70) 에 대해서는, 프레임부 (24) 중 어느 내부에 미리 배치해 두고 필요에 따라 출몰시키도록 해도 되고, 외부로부터 운반해 와 설치하도록 해도 상관없다.

지지대 (70) 를 설치한 후, 도 26 에 나타내는 바와 같이, 변경 기구 (5) 를 따라 반입측 스테이지 (25) 를 -X 방향으로 이동시킨다. 반입측 스테이지 (25) 의 이동에 의해, 반입측 스테이지 (25) 의 +X 방향의 단부와 도포 처리 스테이지 (27) 사이에 공간 (6) 이 형성된다. 이 공간 (6) 은, 노즐 (32) 에 액세스하는 작업자가 들어가는 작업자 출입 공간이 된다. 또, 반입측 스테이지 (25) 의 이동에 의해, 이 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향의 단부가 프레임부 (24) 로부터 -X 방향으로 돌출되게 된다. 당해 돌출된 부분은 지지대 (70) 에 의해 지지되어, 반입측 스테이지 (25) 전체가 안정적으로 지지되게 된다. 이와 같이, 작업자 출입 공간 (6) 이 기판 반송부 (2) 상에 형성된 상태가 공간 형성 상태이다.

반입측 스테이지 (25) 를 이동한 후, 도 27 에 나타내는 바와 같이, 작업자 (P) 가 프레임 중앙부 (24e) 상에 형성된 작업자 출입 공간 (6) 으로 들어간다. 이 때, 예를 들어 작업자 출입 공간 (6) 상에 관리부 (4) 가 배치되어 작업자 (P) 가 작업자 출입 공간 (6) 으로 들어갈 수 없는 경우에는, 상기 관리부 (4) 를 +X 방향 또는 -X 방향으로 이동시켜, 작업자 출입 공간 (6) 상을 비우게 한다. 작업자 출입 공간 (6) 에 들어간 후, 작업자 (P) 는 노즐 (32) 에 액세스하여, 노즐의 선단을 닦아내는 작업을 실시한다. 또, 작업자 (P) 가 노즐 (32) 에 액세스할 수 없는 경우, 예를 들어 작업자 (P) 의 손이 노즐 (32) 에 닿지 않거나 하는 경우에는, 노즐 (32) 을 작업자 (P) 의 손이 닿는 위치로 이동시키도록 한다. 노즐의 선단을 닦아낼 때에는, 고화된 레지스트가 기판 반송부 (2) 에 부착되는 것을 방지하기 위해 관리부 (4) 를 노즐 (32) 의 하방으로 이동시켜 두는 것이 바람직하다. 작업자 (P) 가 작업자 출입 공간 (6) 내에 들어가기 전에 노즐 (32) 의 위치를 미리 조절해 두도록 해도 상관없다.

작업이 종료된 후, 작업자 (P) 는 작업자 출입 공간 (6) 으로부터 퇴거한다. 작업자 (P) 가 퇴거한 후, 반입측 스테이지 (25) 를 +X 방향으로 이동시키고, 반입측 스테이지 (25) 를 기판 반송시의 위치에 되돌려 놓게 한다. 반입측 스테이지 (25) 의 위치를 되돌려 놓은 후, 지지대 (70) 를 철거 또는 수용하고, 도포 장치 (1a) 를 기판 반송 상태로 되돌려 놓는다. 도포 장치 (1a) 를 기판 반송 상태로 되돌려 놓은 후, 도 5 ∼ 도 8 에 나타내는 도포 동작을 실시한다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 기판 반송부 (2) 가, 노즐 (32) 에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간 (6) 이 형성되는 공간 형성 상태와, 기판 (S) 을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구 (5) 를 갖는 것으로 했기 때문에, 노즐 (32) 의 메인터넌스시에는 기판 반송부 (2) 를 공간 형성 상태로 하여, 작업자 출입 공간 (6) 내에서 작업자 (P) 에게 메인터넌스를 실시하게할 수 있다. 이로써, 작업자 (P) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 상에 직접 들어가는 것을 회피할 수 있기 때문에, 메인터넌스의 효율성을 향상시킬 수 있음과 함께 기판 반송부 (2) 상에 티끌이나 먼지 등이 부착되는 것을 방지할 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 변경 기구 (5) 가 적어도 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 를 이동시킬 수 있게 설치되어 있기 때문에, 기판 반송부 (2) 에 효율적으로 작업자 출입 공간 (6) 을 형성할 수 있다. 또, 변경 기구 (5) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 와, 기판 반송부 (2) 의 나머지 부분 (처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28)) 을 X 방향으로 상대적으로 이동시킬 수 있게 설치되어 있는 것으로 했기 때문에, 상기 기판 반송부 (2) 에 효율적으로 작업자 출입 공간 (6) 을 형성할 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 변경 기구 (5) 에 의해 이동할 수 있게 되는 부분이 기판 반송부 (2) 중 도포 처리 영역 (21) 에 대해 기판 반입측에 형성되는 반입측 스테이지 (25) 인 것으로 했기 때문에, 도포 처리 영역 (21) 을 이동시키지 않고 작업자 출입 공간 (6) 을 형성할 수 있다. 이로써, 도포 처리 영역 (21) 의 상태가 변화되는 것을 방지할 수 있어, 도포 상태를 안정시킬 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 도포부 (3) 가 +X 방향 및 -X 방향 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 것으로 했기 때문에, 작업자 출입 공간 (6) 의 형성 위치에 맞추어 도포부 (3) 를 원하는 위치로 이동시킬 수 있다. 이로써, 작업자 (P) 의 손이 닿는 범위에 편차가 있는 경우에도 확실하게 메인터넌스를 실시할 수 있다.

또, 본 실시형태에 의하면, 관리부 (4) 가 반입측 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28) 에 걸쳐 X 방향으로 이동할 수 있는 것으로 했기 때문에, 노즐 (32) 의 위치에 맞추어 관리부 (4) 를 이 노즐 (32) 의 바로 아래로 이동시킬 수 있다. 이로써, 고화된 레지스트 등의 이물질이 기판 반송부 (2) 상에 부착되는 것을 방지할 수 있다. 또, 반입측 스테이지 (25) 의 이동에 의해 관리부 (4) 와 겹치는 위치에 작업자 출입 공간 (6) 이 형성된 경우에는, 관리부 (4) 를 이동시킴으로써 작업자 출입 공간 (6) 상의 스페이스를 비울 수 있다.

[제 6 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 6 실시형태를 설명한다. 제 5 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하였다. 또, 제 5 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 반입측 스테이지 (25) 의 형상이 제 5 실시형태와 상이하기 때문에, 이 점을 중심으로 설명한다.

도 28a 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 의 구성을 나타내는 평면도이다. 도 28b 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 의 일부의 구성을 나타내는 정면도이다.

도 28a 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는 반입측 스테이지 (25) 의 형상이 평면에서 보았을 때 빗살 형상으로 되어 있다. 구체적으로는, 반입측 스테이지 (25) 에 복수의 홈부 (25b) 가 형성되어 있고, 이 홈부 (25b) 를 사이에 끼우도록 스테이지 부재 (25i) 가 독립적으로 형성된 상태로 되어 있다. 이 홈부 (25b) 에는, 외부 반송 기구로부터 기판 (S) 을 받을 때에 이 외부 반송 기구의 일부를 수용하거나, 예를 들어 반송 롤러 등을 배치하거나 할 수 있게 되어 있다. 홈부 (25b) 는, 반입측 스테이지 (25) 의 기판 (S) 의 반입 영역 중 -X 방향의 단부로부터 +X 방향을 향하여 거의 전체면에 형성되어 있고, Y 방향에 복수 형성되어 있다.

또, 도 28a 에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 의 X 방향의 치수는 기판 반입 영역에 있어서의 프레임 중앙부 (24e) 의 X 방향의 치수보다 작게 되어 있고, 프레임부 (24) 의 -X 방향의 단부가 반입측 스테이지 (25) 의 -X 방향의 단부보다 -X 방향측으로 돌출된 구성으로 되어 있다. 프레임 중앙부 (24e) 상에 형성된 2 개의 레일상의 변경 기구 (5) 에 대해서도, 중앙부 (24c) 의 -X 방향의 단부까지 형성되어 있고, 반입측 스테이지 (25) 로부터 돌출된 상태로 되어 있다. 이와 같은 구성에 있어서, 반입측 스테이지 (25) 가 변경 기구 (5) 를 따라 X 방향으로 이동할 수 있게 되어 있고, 이 이동에 의해 반입측 스테이지 (25) 가 기판 반송부 (2) 의 나머지 부분 (처리 스테이지 (27) 및 반출측 스테이지 (28)) 에 대해 상대적으로 이동하도록 되어 있다.

도 28b 는 반입측 스테이지 (25) 가 프레임 중앙부 (24e) 의 -X 방향의 단부까지 이동했을 때의 상태를 나타내고 있다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 가 이동한 상태에서, 이 반입측 스테이지 (25) 와 처리 스테이지 (27) 사이에 작업자 출입 공간 (6) 이 형성되게 된다. 또, 반입측 스테이지 (25) 전체가 프레임 중앙부 (24e) 의 -X 방향의 단부에 지지된 상태로 되어 있다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 반입측 스테이지 (25) 가 복수의 홈부 (25b) 를 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 구성으로 되어 있기 때문에, 반입측 스테이지 (25) 상에 기판 (S) 을 반입하기 쉽게 할 수 있다. 또, 홈부 (25b) 가 형성된 반입측 스테이지 (25) 의 X 방향의 치수가 기판 반송부 (2) 중 기판 반입 영역의 X 방향의 치수보다 작은 것으로 했기 때문에, 반입측 스테이지 (25) 를 상대 이동시킨 경우라 하더라도 반입측 스테이지 (25) 전체가 프레임 중앙부 (24e) 에 의해 지지되게 된다. 이로써, 작업자 출입 공간 (6) 을 형성하는 경우라 하더라도 안정적으로 반입측 스테이지 (25) 를 유지할 수 있다.

또한, 본 실시형태에서는, 반입측 스테이지 (25) 가 기판 반송부 (2) 의 나머지 영역에 대하여 이동할 수 있게 형성되어 있고, 반입측 스테이지 (25) 의 X 방향의 치수가 기판 반입 영역 (20) 에 있어서의 프레임 중앙부 (24e) 의 X 방향의 치수보다 작게 되어 있는 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 반출측 스테이지 (28) 가 기판 반송부 (2) 의 나머지 영역에 대해 이동할 수 있게 형성된 구성이어도 상관없다. 이에 더하여, 반출측 스테이지 (25) 의 X 방향의 치수가 기판 반출 영역 (21) 에 있어서의 프레임 중앙부 (24e) 의 X 방향의 치수보다 작게 되어 있는 구성으로 해도 상관없다. 이 경우, 반출측 스테이지 (28) 를 +X 방향으로 이동시킴으로써, 반출측 스테이지 (28) 와 처리 스테이지 (27) 사이에 작업자 출입 공간 (6) 이 형성되게 된다. 이 경우에도 상기 동일한 효과를 얻을 수 있다.

[제 7 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 7 실시형태를 설명한다. 제 5 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하였다. 또, 제 5 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 제 6 실시형태와 마찬가지로, 반입측 스테이지 (25) 가 평면에서 보았을 때 빗살 형상으로 형성되어 있는데, 변경 기구 (5) 의 구성이 제 6 실시형태와는 상이하다.

도 29a 및 도 29b 는 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 의 구성을 나타내는 평면도이다. 이들 도면에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는, 반입측 스테이지 (25) 가 홈부 (25b) 를 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 구성으로 되어 있고, 기판 반입 영역 (20) 측 프레임부 (24) 의 X 방향의 치수가 반입측 스테이지 (25) 의 X 방향의 치수와 거의 동일하게 되어 있다.

본 실시형태에서는, 프레임 중앙부 (24e) 상에는 레일상의 변경 기구 (5) 가 Y 방향을 따라 설치되어 있고, 변경 기구 (5) 상에 반입 스테이지 (25) 의 각 스테이지 부재 (25i) 가 독립적으로 이동할 수 있게 배치되어 있다. 이 구성에서는, 기판 반입 영역 (20) 중 Y 방향의 1 지점에 각 스테이지 부재 (25i) 를 모을 수 있게 되어 있다. 도 29b 에서는 +Y 방향의 단부에 각 스테이지 부재 (25i) 를 모은 상태로 되어 있다. 이 밖에, 예를 들어 -Y 방향의 단부에 각 스테이지 부재 (25i) 를 모은 상태로 할 수도 있고, Y 방향의 중앙부에 각 스테이지 부재 (25i) 를 모은 상태로 할 수도 있다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 변동 기구 (5) 가 기판 반송부 (2) 의 반입측 스테이지 (25) 를 변형할 수 있게 설치되어 있고, 게다가 복수의 홈부 (25b) 를 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 반입측 스테이지 (25) 중 평면에서 보았을 때 빗살 부분 (각 스테이지 부재 (25i)) 이, Y 방향 상의 소정의 지점에 모을 수 있게 형성되어 있기 때문에, 기판 반송부 (2) 상에 효율적으로 작업자 출입 공간 (6) 을 형성할 수 있다.

[제 8 실시형태]

다음으로, 본 발명의 제 8 실시형태를 설명한다. 제 5 실시형태와 마찬가지로, 이하의 도면에서는, 각 부재를 인식할 수 있는 크기로 하기 위해 축척을 적절히 변경하였다. 또, 제 5 실시형태와 동일한 구성 요소에 대해서는, 동일한 부호를 부여하고 그 설명을 생략한다. 본 실시형태에서는, 반입측 스테이지 (25) 의 구성 및 변경 기구 (5) 의 구성이 제 5 실시형태와 상이하기 때문에, 이 점을 중심으로 설명한다.

도 30 은 본 실시형태에 관련된 도포 장치 (1a) 의 일부의 구성을 나타내는 정면도이다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 의 +X 방향의 단부가 -Z 방향으로 절곡할 수 있게 형성되어 있다. 구체적으로는, 반입측 스테이지 (25) 의 +X 방향의 단부에는 절곡부 (25h) 가 형성되어 있고, 이 절곡부 (25h) 가 반입측 스테이지 (25) 의 스테이지 본체 (25k) 에 대하여 변경 기구 (5) 를 통하여 장착되어 있다. 이 변경 기구 (5) 는, 예를 들어 Y 방향으로 회전축을 갖는 경첩 기구를 구비하고 있고, 절곡부 (25h) 가 변경 기구 (5) 를 축으로 하여 -Z 방향으로 절곡되도록 되어 있다. 또, 이 절곡부 (25h) 가 절곡된 상태에서, 반입측 스테이지 (25) 와 처리 스테이지 (27) 사이에 작업자 출입 공간 (6) 이 형성되게 된다.

이와 같이, 본 실시형태에 의하면, 변경 기구 (5) 가 반입 스테이지 (25) 의 일부분인 절곡부 (25h) 를 나머지 부분인 스테이지 본체 (25k) 에 대해 절곡할 수 있게 형성되어 있는 것으로 했기 때문에, 효율적으로 작업자 출입 공간을 형성할 수 있다. 또한, 본 실시형태에서는, 변경 기구 (5) 의 회전축을 Y 방향으로 했는데, 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 X 방향의 회전축을 갖는 구성이어도 상관없다. 또, 절곡부 (25h) 의 절곡하는 방향을 -Z 방향으로 했는데, +Z 방향으로 절곡하는 구성이어도 상관없다.

본 발명의 기술 범위는 상기 실시형태에 한정되지 않으며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 적절히 변경할 수 있다.

예를 들어, 도 31 에 나타내는 바와 같이, 메인터넌스의 종료 후, 반입측 스테이지 (25) 를 +X 방향으로 이동시켜 기판 반송 상태로 되돌려 놓을 때의 위치 맞춤 기구를 갖는 구성이어도 상관없다. 구체적으로는, 동 도면에 나타내는 바와 같이, 반입측 스테이지 (25) 의 +X 방향의 단면에 볼록부 (25j) 를 형성하고, 처리 스테이지 (27) 의 -X 방향의 단면에 오목부 (27j) 를 형성하는 구성을 들 수 있다. 이 구성에서는, 볼록부 (25j) 및 오목부 (27j) 에 동일 각도의 경사면이 형성되어 있다. 반입측 스테이지 (25) 를 이동시킬 때, 경사면이 일치하도록 볼록부 (25j) 와 오목부 (27j) 를 끼워맞춤으로써, 처리 스테이지 (27) 사이의 위치를 정확하게 맞출 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 도포부 (3) 가 1 개만 형성된 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않으며, 도포부 (3) 를 복수 배치하는 구성이어도 상관없다. 예를 들어, 도 32 에서는 도포부 (3) 를 2 개 형성한 구성 (도포부 (3a) 및 도포부 (3b)) 을 나타내고 있다. 도포부를 복수 형성하는 경우, 일부의 도포부를 기판 반입 영역 (20) 측으로 이동시키고, 나머지 도포부를 기판 반출 영역 (22) 측으로 이동시키도록 하는 것이 바람직하다. 도 32 에서는, 2 개의 도포부 중 도포부 (3a) 를 기판 반입 영역 (20) 측으로, 도포부 (3b) 를 기판 반출 영역 (22) 측으로 이동할 수 있게 되어 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 이동 기구 (34) 의 레일 부재 (35) 및 관리부 이동 기구 (46) 의 레일 부재 (47) 가 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 상면에 형성된 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 도 21 에 나타내는 바와 같이, 레일 부재 (35) 및 레일 부재 (47) 가 각각 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 의 내부에 형성된 구성으로 해도 상관없다.

예를 들어, 도 33 에서는 프레임부 (24) 의 측부 (24a 및 24b) 에 홈부 (24c) 및 홈부 (24d) 가 X 방향을 따라 형성됨과 함께, 레일 부재 (35) 가 홈부 (24c) 내에 형성되고 레일 부재 (47) 가 홈부 (24d) 에 형성된 구성으로 되어 있다. 또, 도포부 (3) 의 지주 부재 (31a) 의 -Z 방향의 단부가 홈부 (24c) 내에 삽입된 상태에서 지주 부재 (31a) 가 레일 (35) 상에 배치되어 있고, 관리부 (4) 의 유지 부재 (45) 의 -Z 방향의 단부가 홈부 (24d) 내에 삽입된 상태에서 유지 부재 (45) 가 레일 부재 (47) 상에 배치되어 있다.

또한, 도 33 에서는, 홈부 (24c) 의 Z 방향의 치수가 홈부 (24d) 의 Z 방향의 치수보다 크게 되어 있는데, 물론 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 홈부 (24d) 의 Z 방향의 치수가 홈부 (24c) 의 Z 방향의 치수보다 크게 되어 있어도 상관없고, 홈부 (24c) 와 홈부 (24d) 에서 Z 방향의 치수가 동일하게 되어 있어도 상관없다.

또, 도포 장치 (1a) 의 전체 구성에 대해서는, 상기 실시형태에서는, 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 -Y 방향측에 배치하는 구성으로 했는데, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 반송 기구 (23) 를 각 스테이지의 +Y 방향측에 배치하는 구성이어도 상관없다. 또, 도 34 에 나타내는 바와 같이, 각 스테이지의 -Y 방향측에는 상기의 반송 기구 (23 ; 반송기 (23a), 진공 패드 (23b), 레일 (23c)) 를 배치하고, +Y 방향측에는 상기 반송 기구 (23) 와 동일한 구성의 반송 기구 (53 ; 반송기 (53a), 진공 패드 (53b), 레일 (53c)) 를 배치하여, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 상이한 기판을 반송할 수 있게 구성해도 상관없다. 예를 들어, 동 도면에 나타내는 바와 같이, 반송 기구 (23) 에는 기판 (S1) 을 반송시키고, 반송 기구 (53) 에는 기판 (S2) 을 반송시키도록 한다. 이 경우, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 기판을 교대로 반송할 수 있게 되기 때문에 처리량이 향상되게 된다. 또, 상기의 기판 (S1, S2) 의 절반 정도의 면적을 갖는 기판을 반송하는 경우에는, 예를 들어 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 로 1 장씩 유지하고, 반송 기구 (23) 와 반송 기구 (53) 를 +X 방향으로 병진시킴으로써, 2 장의 기판을 동시에 반송시킬 수 있다. 이와 같은 구성에 의해, 처리량을 향상시킬 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 기판 (S) 을 부상시켜 반송하는 도포 장치 (1a) 를 예를 들어 설명했는데, 이것에 한정되지 않으며, 기판을 반송시키면서 도포를 실시하는 도포 장치라면, 부상 반송형 이외의 도포 장치, 예를 들어 반송 롤러 등의 반송 기구에 의해 기판을 반송하는 도포 장치라 하더라도 본 발명을 적용할 수 있다.

또, 상기 각 실시형태에 있어서, 관리부 (4) 를 먼저 노즐 (32) 의 선단 (32c) 의 하방에 위치시켜 고정시킨 후, 공간 (6) 을 형성하도록 해도 된다. 또한, 상기 각 실시형태에서는 도포부 (3) 를 미리 고정시켜 메인터넌스를 실시하는 경우를 상정하고 있는데, 먼저 도포부 (3) 를 반입측 스테이지 (25) 상으로 이동시키고, 도포부 (3) 의 노즐 (32) 아래에 관리부 (4) 상에 위치시킨 후에, 작업자 (P) 가 작업을 실시하도록 해도 된다. 이들과 같이 관리부 (4) 를 노즐 (32) 의 하방에 위치시킴으로써, 메인터넌스시에 레지스트의 고화물이 낙하되었다 하더라도 반입 스테이지 (25), 처리 스테이지 (27) 등에 있어서의 오염을 방지할 수 있다.

또, 상기 실시형태에서는, 작업자 출입 공간 (6) 에서 노즐 (32) 의 메인터넌스를 실시하는 경우만을 설명했는데, 이것에 한정되지 않으며, 예를 들어 작업자 출입 공간 (6) 에서 관리부 (4) 의 메인터넌스를 실시하도록 해도 상관없다. 또, 예를 들어 작업자 출입 공간 (6) 의 +X 방향측으로 도포부 (3) 를 이동시키고, 작업자 출입 공간 (6) 의 -X 방향측으로 관리부 (4) 를 이동시킴으로써, 예를 들어 작업자는 우선 +X 방향을 향하여 도포부 (3) 의 메인터넌스를 실시하고, 그 후에 -X 방향을 향하여 관리부 (4) 의 메인터넌스를 실시할 수 있다. 이로써, 도포 장치 (1a) 의 메인터넌스의 효율을 향상시킬 수 있다.

이상, 본 발명의 바람직한 실시형태를 설명했는데, 본 발명은 이들 실시형태에 한정되지 않는다. 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 구성의 부가, 생략, 치환 및 그 밖의 변경이 가능하다. 본 발명은 상기 서술한 설명에 의해 한정되지 않으며, 첨부한 클레임의 범위에 의해서만 한정된다.

Claims (15)

1. 기판 반송부에 의해 기판을 반송시키면서 이 기판에 액상체를 도포하는 도포부를 구비하는 도포 장치로서,
   상기 도포부는 상기 액상체를 토출하는 노즐을 갖고,
   상기 기판 반송부는, 상기 노즐에 대하여 액세스하기 위한 작업자 출입 공간이 형성되는 공간 형성 상태와, 상기 기판을 반송시키는 기판 반송 상태를 변경할 수 있는 변경 기구를 갖는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 변경 기구는, 적어도 상기 기판 반송부의 일부분을 이동시킬 수 있게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
3. 제 1 항에 있어서,
   상기 변경 기구는, 상기 기판 반송부의 일부분과 상기 기판 반송부의 나머지 부분을 상기 기판의 반송 방향으로 상대적으로 이동시킬 수 있게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
4. 제 2 항에 있어서,
   상기 기판 반송부 중 상기 기판을 반입하는 기판 반입측에는 상기 기판 반송부의 일부분으로서, 복수의 스테이지 부재가 상기 기판의 반송방향에 교차하는 방향으로 각각 홈부를 사이에 두도록 배치되어 있고,
   상기 스테이지 부재의 상기 반송 방향의 치수는, 상기 기판 반송부 중 상기 기판 반입측의 상기 반송 방향의 치수보다 작은 것을 특징으로 하는 도포 장치.
5. 제 2 항에 있어서,
   상기 기판 반송부는, 상기 기판 반송부의 일부분을 지지하는 프레임을 갖고,
   상기 기판 반송부의 일부분 중 상기 이동에 의해 상기 프레임으로부터 기판의 반송 방향의 상류측으로 돌출된 부분을 지지하는 지지대를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 변경 기구는, 적어도 상기 기판 반송부의 일부분을 변형할 수 있게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 변경 기구는, 상기 기판 반송부의 일부분을 상기 기판 반송부의 나머지 부분에 대해 절곡할 수 있게 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
8. 제 6 항에 있어서,
   상기 기판 반송부는 복수의 홈을 갖는 평면에서 보았을 때 빗살 형상의 스테이지를 갖고,
   상기 스테이지 중 평면에서 보았을 때 빗살 부분은, 상기 기판 반송부의 일부분으로서 소정의 지점에 모을 수 있게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
9. 제 3 항에 있어서,
   상기 기판 반송부의 일부분과 상기 기판 반송부의 나머지 부분 사이의 위치를 맞추는 위치 맞춤 기구를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
10. 제 2 항에 있어서,
    상기 기판 반송부는, 상기 기판에 상기 액상체를 도포시키는 도포 영역을 갖고,
    상기 기판 반송부의 일부분은, 상기 기판 반송부 중 상기 도포 영역에 대해 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방측에 형성되는 부분인 것을 특징으로 하는 도포 장치.
11. 제 1 항에 있어서,
    상기 도포부는, 상기 기판의 반송 방향의 기판 반입측 및 기판 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
12. 제 1 항에 있어서,
    상기 도포부는 복수 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
13. 제 12 항에 있어서,
    복수의 상기 도포부 중 일부는 상기 기판의 반입측으로 이동할 수 있게 형성되고, 나머지는 상기 기판의 반출측으로 이동할 수 있게 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
14. 제 2 항에 있어서,
    상기 기판 반송부 상에 상기 노즐의 상태를 관리하는 관리부를 추가로 구비하고,
    상기 관리부는, 상기 기판 반송부의 일부분 및 상기 기판 반송부의 나머지 부분에 걸쳐 상기 기판의 반송 방향을 따라 기판의 반입측 및 기판의 반출측 중 적어도 일방으로 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
15. 제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 반송부는, 상기 기판을 부상시키는 부상 기구를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 도포 장치.
    

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