JP2009018917A - 塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板搬送部の搬入側ステージ及び搬出側ステージに外部搬送機構との間で基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部がそれぞれ設けられているので、外部搬送機構の一部を収容させる際に基板の受け渡しを行うことができる。これにより、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、その分のコストを低下させることができる。また、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、処理タクトを短縮化することが可能となる。
【選択図】図5
Description
本発明によれば、基板搬入領域及び基板搬出領域のうち収容部が設けられた領域においては、当該収容部を除く領域に、基板を浮上させるための気体を噴出する気体噴出口が設けられているので、基板搬入領域及び基板搬出領域の全面に気体を噴出させる必要は無い。これにより、全面に気体を噴出させる場合に比べて、気体噴出に要するコストを低下させることができる。
本発明によれば、収容部が所定の間隔で複数設けられているので、異なる構成の外部搬送機構であっても幅広く当該外部搬送機構の一部を収容させることができる。
本発明によれば、収容部が搬送方向に沿った方向に設けられているので、基板の受け渡し後、スムーズに当該基板の搬送を行うことができる。
本発明によれば、収容部が少なくとも基板搬入領域に設けられており、当該基板搬入領域のうち収容部が設けられた領域の周囲には、塗布部による塗布位置に対応するように基板の位置を調節する第1アライメント機構が設けられているので、基板の搬入後、スムーズに当該基板の搬送へとつなげることができる。また、その後も基板上の的確な位置に液状体を塗布することができるため、適切な塗布動作へとつなげることができる。
本発明によれば、収容部が少なくとも基板搬出領域に設けられており、基板搬出領域のうち収容部が設けられた領域の周囲には、基板の搬出に用いられる外部搬送機構の位置に対応するように基板の位置を調節する第2アライメント機構が設けられているので、基板の搬出の際には、スムーズに外部搬送機構に基板を渡すことができる。
本発明によれば、基板搬入領域では基板の位置が塗布部による塗布位置に対応するようにアライメントを行うので、基板の搬入後、スムーズに当該基板の搬送へとつなげることができる。また、その後も基板上の的確な位置に液状体を塗布することができるため、適切な塗布動作へとつなげることができる。
本発明によれば、基板搬出領域では前記基板の位置が当該基板の搬出に用いられる外部搬送機構の位置に対応するようにアライメントを行うので、基板の搬出の際には、スムーズに外部搬送機構に基板を渡すことができる。
本発明によれば、基板の受け渡しの際、基板搬送部で基板の移動を規制することとしたので、基板の搬送前に当該基板がずれるのを防ぐことができる。
本発明によれば、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、当該塗布装置を使用する際の全体のコストを低下させることができる。また、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、処理タクトを短縮化することが可能となる。
図1は本実施形態に係る塗布装置1の斜視図である。
図1に示すように、本実施形態に係る塗布装置1は、例えば液晶パネルなどに用いられるガラス基板上にレジストを塗布する塗布装置であり、基板搬送部2と、塗布部3と、管理部4とを主要な構成要素としている。この塗布装置1は、基板搬送部2によって基板を浮上させて搬送しつつ塗布部3によって当該基板上にレジストが塗布されるようになっており、管理部4によって塗布部3の状態が管理されるようになっている。基板搬送部2には、本実施形態の特徴的構成要素である収容部25b、28bが設けられている。
まず、基板搬送部2の構成を説明する。
基板搬送部2は、基板搬入領域20と、塗布処理領域21と、基板搬出領域22と、搬送機構23と、これらを支持するフレーム部24とを有している。この基板搬送部2では、搬送機構23によって基板Sが基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22へと順に搬送されるようになっている。基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22は、基板搬送方向の上流側から下流側へこの順で配列されている。搬送機構23は、基板搬入領域20、塗布処理領域21及び基板搬出領域22の各部に跨るように当該各部の一側方に設けられている。
搬入側ステージ25は、フレーム部24の上部に設けられており、例えばSUSなどからなる平面視で矩形の板状部材である。この搬入側ステージ25は、X方向が長手になっている。搬入側ステージ25には、エア噴出孔25aと、収容部25bとがそれぞれ複数設けられている。
処理ステージ27は、ステージ表面27cが例えば硬質アルマイトを主成分とする光吸収材料で覆われた平面視で矩形の板状部材であり、搬入側ステージ25に対して+X方向側に設けられている。処理ステージ27のうち光吸収材料で覆われた部分では、レーザ光などの光の反射が抑制されるようになっている。この処理ステージ27は、Y方向が長手になっている。処理ステージ27のY方向の寸法は、搬入側ステージ25のY方向の寸法とほぼ同一になっている。処理ステージ27には、ステージ表面27c上にエアを噴出する複数のエア噴出孔27aと、ステージ表面27c上のエアを吸引する複数のエア吸引孔27bとが設けられている。これらエア噴出孔27a及びエア吸引孔27bは、処理ステージ27を貫通するように設けられている。
次に、塗布部3の構成を説明する。
塗布部3は、基板S上にレジストを塗布する部分であり、門型フレーム31と、ノズル32とを有している。
門型フレーム31は、支柱部材31aと、架橋部材31bとを有しており、処理ステージ27をY方向に跨ぐように設けられている。支柱部材31aは処理ステージ27のY方向側に1つずつ設けられており、各支柱部材31aがフレーム部24のY方向側の両側面にそれぞれ支持されている。各支柱部材31aは、上端部の高さ位置が揃うように設けられている。架橋部材31bは、各支柱部材31aの上端部の間に架橋されており、当該支柱部材31aに対して昇降可能となっている。
管理部4の構成を説明する。
管理部4は、基板Sに吐出されるレジスト(液状体)の吐出量が一定になるようにノズル32を管理する部位であり、基板搬送部2に平面視で重なるように塗布部3に対して−X方向側(基板搬送方向の上流側)に設けられている。この管理部4は、予備吐出機構41と、ディップ槽42と、ノズル洗浄装置43と、これらを収容する収容部44と、当該収容部を保持する保持部材45とを有している。保持部材45は、移動機構45aに接続されている。当該移動機構45aにより、収容部44がX方向に移動可能になっている。
次に、上記のように構成された塗布装置1の動作を説明する。
図5〜図10は、塗布装置1の動作過程を示す図である。各図を参照して、基板Sにレジストを塗布する動作を説明する。この動作では、外部搬送機構によって基板Sを基板搬入領域20に搬入し、当該基板Sを浮上させて搬送しつつ塗布処理領域21でレジストを塗布し、当該レジストを塗布した基板Sを基板搬出領域22から搬出する。図6〜図9には門型フレーム31及び管理部4の輪郭のみを破線で示し、ノズル32及び処理ステージ27の構成を判別しやすくした。以下、各部分における詳細な動作を説明する。
塗布装置1の全体構成については、上記実施形態では、搬送機構23を各ステージの−Y方向側に配置する構成としたが、これに限られることは無い。例えば、搬送機構23を各ステージの+Y方向側に配置する構成であっても構わない。また、図13に示すように、各ステージの−Y方向側には上記の搬送機構23(搬送機23a、真空パッド23b、レール23c)を配置し、+Y方向側には当該搬送機構23と同一の構成の搬送機構53(搬送機53a、真空パッド53b、レール53c)を配置して、搬送機構23と搬送機構53とで異なる基板を搬送できるように構成しても構わない。例えば、同図に示すように搬送機構23には基板S1を搬送させ、搬送機構53には基板S2を搬送させるようにする。この場合、搬送機構23と搬送機構53とで基板を交互に搬送することが可能となるため、スループットが向上することになる。また、上記の基板S、S1、S2の半分程度の面積を有する基板を搬送する場合には、例えば搬送機構23と搬送機構53とで1枚ずつ保持し、搬送機構23と搬送機構53とを+X方向に並進させることによって、2枚の基板を同時に搬送させることができる。このような構成により、スループットを向上させることができる。
Claims (11)
- 基板を浮上させて搬送する基板搬送部と、前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の表面に液状体を塗布する塗布部と、を備える塗布装置であって、
前記基板搬送部には、前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域とが設けられており、
前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち少なくとも一方には、外部搬送機構との間で前記基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部が設けられている
ことを特徴とする塗布装置。 - 前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち前記収容部が設けられた領域においては、前記収容部を除く領域に、前記基板を浮上させるための気体を噴出する気体噴出口が設けられている
ことを特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 前記収容部は、所定の間隔で複数設けられている
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の塗布装置。 - 前記収容部は、搬送方向に沿った方向に設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 前記収容部が少なくとも前記基板搬入領域に設けられており、
前記基板搬入領域のうち前記収容部が設けられた領域の周囲には、前記塗布部による塗布位置に対応するように前記基板の位置を調節する第1アライメント機構が設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 前記収容部が少なくとも前記基板搬出領域に設けられており、
前記基板搬出領域のうち前記収容部が設けられた領域の周囲には、前記基板の搬出に用いられる外部搬送機構の位置に対応するように前記基板の位置を調節する第2アライメント機構が設けられている
ことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の塗布装置。 - 基板を浮上させて搬送する基板搬送部と前記基板搬送部に搬送させつつ前記基板の表面に液状体を塗布する塗布部とを備える塗布装置と、前記基板を保持して搬送する外部搬送機構との間で基板の受け渡しを行う基板の受け渡し方法であって、
前記基板搬送部には、前記基板を搬入する基板搬入領域と、前記基板を搬出する基板搬出領域とが設けられており、前記基板搬入領域及び前記基板搬出領域のうち少なくとも一方には、外部搬送機構との間で前記基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部が設けられており、
前記外部搬送機構の一部を前記収容部に収容させ、前記基板を前記基板搬送部に載置することで前記基板の受け渡しを行う
ことを特徴とする基板の受け渡し方法。 - 前記基板搬入領域では前記基板の位置が前記塗布部による塗布位置に対応するようにアライメントを行う
ことを特徴とする請求項7に記載の基板の受け渡し方法。 - 前記基板搬出領域では前記基板の位置が当該基板の搬出に用いられる外部搬送機構の位置に対応するようにアライメントを行う
ことを特徴とする請求項7及び請求項8に記載の基板の受け渡し方法。 - 前記基板の受け渡しの際、前記基板搬送部で前記基板の移動を規制する
ことを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の基板の受け渡し方法。 - 請求項7から請求項10のいずれか1項に記載の基板の受け渡し方法により前記基板の受け渡しを行う
ことを特徴とする塗布方法。
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