CN108417712A - 涂敷装置和涂敷方法 - Google Patents

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CN108417712A
CN108417712A CN201810116963.6A CN201810116963A CN108417712A CN 108417712 A CN108417712 A CN 108417712A CN 201810116963 A CN201810116963 A CN 201810116963A CN 108417712 A CN108417712 A CN 108417712A
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三根阳介
宫崎仁
宫崎一仁
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Abstract

本发明提供一种能够提高基片的位置控制性的涂敷装置。该涂敷装置，其使功能液的液滴在基片的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动，在基片上描绘功能液的描绘图案，包括：利用气体的风压使基片浮起在规定的高度的台部；液滴排出部，其向浮起在距台部规定的高度的基片滴注功能液的液滴；主扫描方向移动部，其保持浮起在距台部规定的高度的基片并且使该基片在主扫描方向上移动；和副扫描方向移动部，其使液滴排出部相对于浮起在距台部规定的高度的基片在副扫描方向上移动，在反复进行主扫描方向移动部使基片在主扫描方向上移动并且液滴排出部滴注液滴的处理期间，副扫描方向移动部使液滴排出部在副扫描方向上移动。

Description

涂敷装置和涂敷方法
技术领域
本发明涉及涂敷装置和涂敷方法。
背景技术
在现有技术中，已知作为利用有机EL(Electroluminescence)发光的发光二极管的有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)。使用了有机发光二极管的有机EL显示器，不仅具有薄型轻质并且低耗电量的优点，而且还具有在响应速度、视场角、对比度等方面优越等的优点。因此，近年来，作为新一代的平板显示器(FPD)引人注目。
有机发光二极管包括：形成在基片上的阳极；以阳极为基准设置于基片的背面侧的阴极；和设置在阳极与阴极之间的有机层。有机层例如从阳极侧向阴极侧去依次具有空穴注入层、空穴输送层、发光层、电子输送层、电子注入层。在发光层等的形成中，可以使用喷射方式的涂敷装置。
专利文献1中记载的涂敷装置包括：对工件以喷射方式进行描绘的多个功能液滴喷头；搭载工件的工件台；和使工件台在主扫描方向上移动的线性电机。工件台具有吸附工件的吸附板和用于对设置于吸附板的工件的位置在θ轴方向进行θ修正的θ板等。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004－177262号公报
发明内容
发明想要解决的技术问题
在现有技术中，保持基片的工件台重，使基片移动的驱动力大，对基片的位置控制性有改善的余地。
本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提供一种能够提高基片的位置控制性的涂敷装置。
用于解决技术问题的技术方案
为了解决上述课题，根据本发明的一个方面，提供一种涂敷装置，其使基片的功能液的液滴的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动，在上述基片上描绘上述功能液的描绘图案，上述涂敷装置的特征在于，包括：
利用气体的风压使上述基片浮起在规定的高度的台部；
液滴排出部，其向浮起在距上述台部规定的高度的上述基片滴注上述功能液的液滴；
主扫描方向移动部，其保持浮起在距上述台部规定的高度的上述基片并且使上述基片在上述主扫描方向上移动；和
副扫描方向移动部，其使上述液滴排出部相对于浮起在距上述台部规定的高度的上述基片在上述副扫描方向上移动，
反复进行上述主扫描方向移动部使上述基片在上述主扫描方向上移动并且上述液滴排出部滴注上述液滴的处理期间，上述副扫描方向移动部使上述液滴排出部在上述副扫描方向上移动。
发明效果
根据本发明的一个方面，提供一种能够提高基片的位置控制性的涂敷装置。
附图说明
图1是表示一个实施方式的有机EL显示器的平面图。
图2是表示一个实施方式的有机EL显示器的主要部分的截面图。
图3是表示一个实施方式的有机发光二极管的制造方法的流程图。
图4是表示一个实施方式的形成有涂敷层的基片的截面图。
图5是表示将图4的涂敷层减压干燥的基片的截面图。
图6是表示一个实施方式的基片处理系统的平面图。
图7是表示一个实施方式的涂敷装置的平面图。
图8是表示一个实施方式的涂敷装置的侧视图。
图9是表示一个实施方式的喷头排列的平面图。
图10是表示一个实施方式的X方向移动部的偏转修正部的平面图。
附图标记说明
10 基片
13 有机发光二极管
100 基片处理系统
123a 涂敷装置
140 控制装置
150 台部
160 液滴排出部
170 X方向移动部(主扫描方向移动部)
171 X轴导轨部(主扫描方向导轨部)
172 X轴滑块部(主扫描方向滑块部)
173 基片保持部
174 水平度修正部
180 Y方向移动部(副扫描方向移动部)
190 偏转修正部
具体实施方式
以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明。各附图中，对相同或者对应的结构以相同或者对应的附图标记标注，并省略说明。
＜有机EL显示器＞
图1是表示一个实施方式的有机EL显示器的平面图。在图1中，将一个单位电路11的电路放大表示。
有机EL显示器包括：基片10；排列在基片10上的多个单位电路11；设置在基片10上的扫描线驱动电路14；和设置在基片10上的数据线驱动电路15。在由与扫描线驱动电路14连接的多个扫描线16和与数据线驱动电路15连接多个数据线17所包围的区域，设置有单位电路11。单位电路11包含TFT层12和有机发光二极管13。
TFT层12具有多个TFT(Thin Film Transistor)。一个TFT具有作为开关元件的作用，另一TFT具有作为控制在有机发光二极管13中流动的电流量的电流控制用元件的作用。通过扫描线驱动电路14和数据线驱动电路15使TFT层12运作，向有机发光二极管13供给电流。TFT层12设置于每个单位电路11，能够独立地控制多个单位电路11。此外，TFT层12可以为一般的构成，也不限于图1所示的构成。
此外，有机EL显示器的驱动方式在本实施方式中为有源矩阵方式，但是也可以是无源矩阵方式。
图2是表示一个实施方式的有机EL显示器的主要部分的截面图。作为基片10，可以使用玻璃基片或者树脂基片等的透明基片。在基片10上形成有TFT层12。在TFT层12上形成有将由TFT层12形成的台阶平坦化的平坦化层18。
平坦化层18具有绝缘性。在贯通平坦化层18的接触孔中，形成有接触头19。接触头19与在平坦化层18的平坦面形成的作为像素电极的阳极21和TFT层12电连接。接触头19可以由与阳极21相同的材料同时形成。
有机发光二极管13形成在平坦化层18的平坦面上。有机发光二极管13包括：作为像素电极的阳极21；以像素电极为基准在基片10的背面侧设置的作为对置电极的阴极22；和在阳极21与阴极22之间形成的有机层23。通过使TFT层12运作，在阳极21与阴极22之间施加电压，有机层23发光。
阳极21由例如ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)等形成，透过来自有机层23的光。透过阳极21的光透过基片10，向外部出射。阳极21设置于每个单位电路11。
阴极22由例如铝等形成，将来自有机层23的光向有机层23反射。由阴极22反射的光透过有机层23、阳极21、基片10，向外部出射。阴极22是在多个单位电路11共通的部分。
有机层23例如从阳极21侧向阴极22侧去依次具有空穴注入层24、空穴输送层25、发光层26、电子输送层27和电子注入层28。在向阳极21与阴极22之间施加电压时，将空穴从阳极21注入到空穴注入层24，并且将电子从阴极22注入到电子注入层28。被注入到空穴注入层24的空穴，由空穴输送层25向发光层26输送。另外，被注入到电子注入层28的电子，由电子输送层27向发光层26输送。然后，在发光层26内空穴与电子再结合，发光层26的发光材料被激发，发光层26发光。
作为发光层26，例如形成有红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层。红色发光层由以红色来发光的红色发光材料形成，绿色发光层由以绿色发光的绿色发光材料形成，蓝色发光层由以蓝色发光的蓝色发光材料形成。红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层形成在隔堤30开口部31。
隔堤30将红色发光层的材料液、绿色发光层的材料液和蓝色发光层的材料液隔开，由此防止这些材料液混合。隔堤30具有绝缘性，并埋设贯通平坦化层18的接触孔。
＜有机发光二极管的制造方法＞
图3是表示一个实施方式的有机发光二极管的制造方法的流程图。
首先，在步骤S101中，进行作为像素电极的阳极21的形成。阳极21的形成例如使用蒸镀法。在平坦化层18的平坦面的每个单位电路11中形成阳极21。也可以与阳极21一同形成接触头19。
在接下来的步骤S102中，进行隔堤30的形成。使用例如光致抗蚀剂来形成隔堤30，通过光刻处理来描绘规定的图案。在隔堤30的开口部31，露出阳极21。
在接下来的步骤S103中，进行空穴注入层24的形成。在空穴注入层24的形成中，可以使用喷射法等。利用喷射法将空穴注入层24的材料液涂敷在阳极21上，由此形成如图4所示的涂敷层L。通过将涂敷层L干燥、烧结，来形成如图5所示的空穴注入层24。
在接下来的步骤S104中，进行空穴输送层25的形成。在空穴输送层25的形成中，与空穴注入层24的形成同样地可以使用喷射法等。利用喷射法将空穴输送层25的材料液涂敷在空穴注入层24上，由此形成涂敷层。通过将该涂敷层干燥、烧结，形成空穴输送层25。
在接下来的步骤S105中，进行发光层26的形成。在发光层26的形成中，与空穴注入层24或者空穴输送层25的形成同样地，能够使用喷射法等。利用喷射法就发光层26的材料液涂敷在空穴输送层25上，由此形成涂敷层。通过将该涂敷层干燥、烧结，形成发光层26。
作为发光层26例如形成于红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层。红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层形成在隔堤30的开口部31。隔堤30将红色发光层的材料液、绿色发光层的材料液和蓝色发光层的材料液隔开，由此防止这些的材料液混合。
在接下来的步骤S106中，进行电子输送层27的形成。在电子输送层27的形成中，能够使用例如蒸镀法等。电子输送层27可以是在多个单位电路11中共通的部分，因此可以不仅形成在隔堤30的开口部31内的发光层26上、还可以形成在隔堤30上。
在接下来的步骤S107中，进行电子注入层28的形成。在电子注入层28的形成中，可以使用例如蒸镀法等。电子注入层28形成于电子输送层27上。电子注入层28可以是在多个单位电路11中共通的部分。
在接下来的步骤S108中，进行阴极22的形成。在阴极22的形成中，可以使用例如蒸镀法等。阴极22形成在电子注入层28上。阴极22可以是在多个单位电路11中共通的部分。
此外，有机EL显示器的驱动方式不是有源矩阵方式，而是无源矩阵方式时，以规定的图案来描绘阴极22。
根据以上的步骤，能够制造有机发光二极管13。在有机层23中的空穴注入层24、空穴输送层25和发光层26的形成中，使用基片处理系统100。
＜基片处理系统＞
图6是表示一个实施方式的基片处理系统的平面图。基片处理系统100进行与图3的步骤S103～S105相当的各处理，在阳极21上形成空穴注入层24、空穴输送层25和发光层26。基片处理系统100包括搬入站110、处理站120、搬出站130和控制装置140。
搬入站110将收纳多个基片10的盒C从外部搬入，从盒C依次取出多个基片10。在各基片10预先形成有TFT层12、平坦化层18、阳极21、隔堤30等。
搬入站110具有：载置盒C的盒载置台111；设置在盒载置台111与处理站120之间的搬送路径112；和设置在搬送路径112的基片搬送体113。基片搬送体113在载置于盒载置台111的盒C与处理站120之间搬送基片10。
处理站120在阳极21上形成空穴注入层24、空穴输送层25和发光层26。处理站120包括形成空穴注入层24的空穴注入层形成部121、形成空穴输送层25的空穴输送层形成块122和形成发光层26的发光层形成部123。
空穴注入层形成部121将空穴注入层24的材料液涂敷在阳极21上而形成涂敷层，通过将该涂敷层干燥、烧结，形成空穴注入层24。空穴注入层24的材料液包含有机材料和溶剂。该有机材料可以为聚合体、单体的任一者。当该有机材料为单体时，也可以通过烧结而聚合，从而形成聚合体。
空穴注入层形成部121具有涂敷装置121a、缓冲装置121b、减压干燥装置121c、热处理装置121d和温度调节装置121e。涂敷装置121a将空穴注入层24的材料液的液滴向隔堤30的开口部31排出。缓冲装置121b暂时收纳等待处理的基片10。减压干燥装置121c对由涂敷装置121a涂敷的涂敷层进行减压干燥，并除去涂敷层所包含的溶剂。热处理装置121d对由减压干燥装置121c干燥的涂敷层进行加热处理。温度调节装置121e将由热处理装置121d进行了加热处理的基片10的温度调节为规定的温度，例如常温。
涂敷装置121a、缓冲装置121b、热处理装置121d和温度调节装置121e的内部被维持为大气气氛。减压干燥装置121c的内部的气氛在大气气氛与减压气氛之间切换。
此外，在空穴注入层形成部121中，涂敷装置121a、缓冲装置121b、减压干燥装置121c、热处理装置121d和温度调节装置121e的配置、个数、内部的气氛能够任意地选择。
另外，空穴注入层形成部121具有基片搬送装置CR1～CR3和交接装置TR1～TR3。基片搬送装置CR1～CR3分别向邻接的各装置搬送基片10。例如，基片搬送装置CR1向邻接的涂敷装置121a和缓冲装置121b搬送基片10。基片搬送装置CR2向邻接的减压干燥装置121c搬送基片10。基片搬送装置CR3向邻接的热处理装置121d和温度调节装置121e搬送基片10。交接装置TR1～TR3分别依次设置于搬入站110与基片搬送装置CR1之间、基片搬送装置CR1与基片搬送装置CR2之间、基片搬送装置CR2与基片搬送装置CR3之间，并在它们之间中继基片10。基片搬送装置CR1～CR3和交接装置TR1～TR3的内部被维持为大气气氛。
在空穴注入层形成部121的基片搬送装置CR3与空穴输送层形成块122的基片搬送装置CR4之间，设置有在它们之间中继基片10的交接装置TR4。交接装置TR4的内部被维持为大气气氛。
空穴输送层形成块122将空穴输送层25的材料液涂敷在空穴注入层24上以形成涂敷层，将该涂敷层干燥、烧结，由此形成空穴输送层25。
空穴输送层25的材料液包含有机材料和溶剂。该有机材料可以为聚合体、单体的任一者。在该有机材料为单体时，也可以通过烧结而聚合，从而形成聚合体。
空穴输送层形成块122包括涂敷装置122a、缓冲装置122b、减压干燥装置122c、热处理装置122d和温度调节装置122e。涂敷装置122a将空穴输送层25的材料液的液滴向隔堤30的开口部31排出。缓冲装置122b暂时收纳等待处理的基片10。减压干燥装置122c对由涂敷装置122a涂敷的涂敷层进行减压干燥，并除去涂敷层所包含的溶剂。热处理装置122d对由减压干燥装置122c干燥的涂敷层进行加热处理。温度调节装置122e将由热处理装置122d进行了加热处理的基片10的温度调节为所定的温度，例如常温。
涂敷装置122a和缓冲装置122b的内部被维持为大气气氛。另一方面，为了抑制空穴输送层25的有机材料的劣化，热处理装置122d和温度调节装置122e的内部被维持为低氧且低露点的气氛。减压干燥装置122c的内部的气氛在低氧且低露点的气氛与减压气氛之间切换。
在此，低氧的气氛是指比大气的氧浓度低的气氛，例如氧浓度在10ppm以下的气氛。另外，低露点的气氛是指比大气的露点温度低的气氛，例如露点温度在－10℃以下的气氛。低氧且低露点的气氛由例如氮气等的不活泼气体形成。
此外，在空穴输送层形成块122中，涂敷装置122a、缓冲装置122b、减压干燥装置122c、热处理装置122d和温度调节装置122e的配置、个数、内部的气氛能够任意地选择。
另外，空穴输送层形成块122具有基片搬送装置CR4～CR6和交接装置TR5～TR6。基片搬送装置CR4～CR6分别向邻接的各装置搬送基片10。交接装置TR5～TR6分别依次设置于基片搬送装置CR4与基片搬送装置CR5之间、基片搬送装置CR5与基片搬送装置CR6之间，并在它们之间中继基片10。
基片搬送装置CR4的内部被维持为大气气氛。另一方面，基片搬送装置CR5～CR6的内部被维持为低氧且低露点的气氛。这是由于与基片搬送装置CR5邻接的减压干燥装置122c的内部在低氧且低露点的气氛与减压气氛之间切换。另外，由于与基片搬送装置CR6相邻地设置的热处理装置122d、温度调节装置122e的内部被维持为低氧且低露点的气氛。
交接装置TR5是将其内部的气氛在大气气氛与低氧且低露点的气氛之间切换的真空进样装置。这是由于在交接装置TR6的下流侧相邻地设置减压干燥装置122c。另一方面，交接装置TR6的内部被维持为低氧且低露点的气氛。
在空穴输送层形成块122的基片搬送装置CR6与发光层形成部123的基片搬送装置CR7之间，设置有在它们之间中继基片10的交接装置TR7。基片搬送装置CR6的内部被维持为低氧且低露点的气氛，基片搬送装置CR7的内部被维持为大气气氛。因此，交接装置TR7是将其内部的气氛在低氧且低露点的气氛与大气气氛之间切换的真空进样装置。
发光层形成部123将发光层26的材料液涂敷在空穴输送层25上以形成涂敷层，将形成的涂敷层干燥、烧结，由此形成发光层26。发光层26的材料液包含有机材料和溶剂。该有机材料可以为聚合体、单体的任一者。在该有机材料为单体时，也可以通过烧结而聚合，从而形成聚合体。
发光层形成部123包括涂敷装置123a、缓冲装置123b、减压干燥装置123c、热处理装置123d和温度调节装置123e。涂敷装置123a将发光层26的材料液的液滴向隔堤30的开口部31排出。缓冲装置123b暂时收纳等待处理的基片10。减压干燥装置123c对由涂敷装置123a涂敷的涂敷层进行减压干燥，并除去涂敷层所包含的溶剂。热处理装置123d对由减压干燥装置123c干燥的涂敷层进行加热处理。温度调节装置123e对由热处理装置123d进行了加热处理的基片10的温度调节为规定的温度，例如常温。
涂敷装置123a和缓冲装置123b的内部被维持为大气气氛。另另一方面面，为了抑制发光层26的有机材料的劣化，热处理装置123d和温度调节装置123e的内部被维持为低氧且低露点的气氛。减压干燥装置123c的内部的气氛在低氧且低露点的气氛与减压气氛之间切换。
此外，在发光层形成部123中，涂敷装置123a、缓冲装置123b、减压干燥装置123c、热处理装置123d和温度调节装置123e的配置、个数、内部的气氛能够任意地选择。
另外，发光层形成部123具有基片搬送装置CR7～CR9和交接装置TR8～TR9。基片搬送装置CR7～CR9分别向邻接的各装置搬送基片10。交接装置TR8～TR9分别依次设置于基片搬送装置CR7与基片搬送装置CR8之间、基片搬送装置CR8与基片搬送装置CR9之间，并在它们之间中继基片10。
基片搬送装置CR7的内部被维持为大气气氛。另一方面，基片搬送装置CR8～CR9的内部被维持为低氧且低露点的气氛。这是由于与基片搬送装置CR8邻接的减压干燥装置123c的内部在低氧且低露点的气氛与减压气氛之间切换。另外，由于与基片搬送装置CR9相邻地设置的热处理装置123d、温度调节装置123e的内部被维持为低氧且低露点的气氛。
交接装置TR8是将其内部的气氛在大气气氛与低氧且低露点的气氛之间切换的真空进样装置。这是由于在交接装置TR8的下流侧相邻地设置减压干燥装置123c。交接装置TR9的内部被维持为低氧且低露点的气氛。
在发光层形成部123的基片搬送装置CR9与搬出站130之间，设置有在它们之间中继基片10的交接装置TR10。基片搬送装置CR9的内部被维持为低氧且低露点的气氛，搬出站130的内部被维持为大气气氛。因此，交接装置TR7是将其内部的气氛在低氧且低露点的气氛与大气气氛之间切换的真空进样装置。
搬出站130将多个基片10依次收纳在盒C，将盒C搬出到外部。搬出站130包括：载置盒C的盒载置台131；设置在盒载置台131与处理站120之间的搬送路径132；和设置在搬送路径132的基片搬送体133。基片搬送体133在处理站120于载置于盒载置台131的盒C之间搬送基片10。
控制装置140由包含CPU(Central Processing Unit，中央处理器)141和存储器等的存储介质142的计算机构成，通过在CPU141中执行存储于存储介质142的程序(也称为方案)，来实现各种处理。
控制装置140的程序存储在信息存储介质，从信息存储介质安装。作为信息存储介质，例如可以列举硬盘(HD)、软盘(FD)、光盘(CD)、磁光盘(MO)、存储卡等。此外，程序还可以经因特网从服务器下载进行安装。
接着，对使用了上述构成的基片处理系统100的基片处理方法进行说明。收纳有多个基片10的盒C被载置在盒载置台111上时，基片搬送体113从盒载置台111上的盒C将基片10依次取出，向空穴注入层形成部121搬送。
空穴注入层形成部121将空穴注入层24的材料液涂敷在阳极21上来形成涂敷层，将形成的涂敷层干燥、烧结，由此形成空穴注入层24。通过交接装置TR4，将形成有空穴注入层24的基片10从空穴注入层形成部121向空穴输送层形成块122交接。
空穴输送层形成块122将空穴输送层25的材料液涂敷在空穴注入层24上来形成涂敷层，将形成涂敷层干燥、烧结，由此形成空穴输送层25。通过交接装置TR7，将形成有空穴输送层25基片10从空穴输送层形成块122向发光层形成部123交接。
发光层形成部123将发光层26的材料液涂敷在空穴输送层25上来形成涂敷层，将形成的涂敷层干燥、烧结，由此形成发光层26。通过交接装置TR10，将形成有发光层26的基片10从发光层形成部123向搬出站130交接。
搬出站130的基片搬送体133将从交接装置TR10收取的基片10收纳在盒载置台131上的规定的盒C中。由此，基片处理系统100的一系列的基片10的处理结束。
在将基片10在收纳于盒C的状态下，从搬出站130向外部搬出。在被搬出到外部的基片10中形成电子输送层27、电子注入层28、阴极22等。
＜涂敷装置和涂敷方法＞
接着，参照图7～图8对发光层形成部123的涂敷装置123a进行说明。图7是表示一个实施方式的涂敷装置的平面图。图7中，以虚线表示基片10的搬入位置。图8是表示一个实施方式的涂敷装置的侧视图。在以下的附图中，X方向为主扫描方向，Y方向为副扫描方向，Z方向为垂直方向。X方向与Y方向为彼此正交的水平方向。此外，X方向与Y方向可以交叉，也可以不正交。
涂敷装置123a使基片10的功能液(例如发光层26的材料液)的液滴的着液位置在X方向和Y方向上移动，在基片10上描绘功能液的描绘图案。涂敷装置123a例如包括：通过气体的风压使基片10浮起在规定的高度的台部150；和液滴排出部160，其在浮起在距距台部150规定的高度的基片10滴注功能液的液滴。另外，涂敷装置123a包括：X方向移动部170，其保持浮起在距台部150规定的高度的基片10并且使该基片10在X方向上移动；和Y方向移动部200，使液滴排出部160相对于浮起在距台部150规定的高度的基片10在Y方向上移动。另外，涂敷装置123a具有维持部210，其进行用于维持液滴排出部160的功能的处理。
台部150在其上表面具有多个喷射气体的供气口151。台部150与向各供气口151供给气体的气体供给源152连接。使气体供给源152运作时，从台部150的各供气口151喷射气体，利用气体的风压而将基片10支承在距台部150的上表面一定的高度。
台部150在其上表面可以具有多个吸入气体的吸气口153。台部150与从各吸气口153吸入气体的气体吸入源154连接。使气体吸入源154运作时，从各吸气口153吸入气体。由此，能够使气体的吸入量与气体的喷射量平衡，能够降低基片10与台部150的间隙的偏差，能够不提高基片10的上表面的水平度。
如图8所示，台部150可以在X方向上被划分为3个区域X1、X2、X3，可以在X方向两端的区域X1、X3仅设置供气口151，在X方向中央的区域X2设置有供气口151和吸气口153这两者。在X方向中央的区域X2的上方，能够提高基片10的水平度，能够提高基片10的功能液的描绘图案的精度。此外，在X方向两端的区域X1、X3，也可以设置供气口151和吸气口153这两者。
台部150可以具有从其上表面突出、没入的升降销(未图示)。台部150在与机械手之间交接基片10时，升降销从台部150的上表面突出。另一方面，X方向移动部170使基片10移动并且液滴排出部160向基片10滴注功能液的液滴时，升降销没入台部150的上表面。作为使升降销升降的升降机构，例如气压缸等。
液滴排出部160向浮起在距台部150规定的高度的基片10排出功能液的液滴。液滴排出部160在Y方向上多个排列(例如图7中为10个)。多个液滴排出部160可以独立地在Y方向上移动，也可以一起在Y方向上移动。
各液滴排出部160具有多个喷头161(参照图8)。各喷头161在其下表面具有由在Y方向上排列的多个喷嘴构成的喷嘴列。各喷头161在其下表面具有多个喷嘴列。
关于各喷头161，每个喷嘴都具有压电元件。对压电元件施加电压时，压电元件变形从排出喷嘴排出液滴。除了压电元件，还可以使用加热器等。对加热器施加电压时，产生气泡，利用产生气泡的压力从排出喷嘴排出液滴。
各液滴排出部160也可以排出多种功能液。作为多种功能液，例如可以列举红色发光层的材料液、绿色发光层的材料液和蓝色发光层的材料液等。设置在相同的喷头161的多个喷嘴排出相同种类的功能液的液滴。
图9表示一个实施方式的喷头的排列的平面图。各液滴排出部160具有在Y方向上排列的2个喷头列162。各喷头列162由在X方向上阶梯状排列的6个喷头161构成。各喷头列162分别具有2个排出红色发光层的材料液的液滴的喷头161R、2个排出绿色发光层的材料液的液滴的喷头161G和2个排出蓝色发光层的材料液的液滴的喷头161B。
在本实施方式中，详细内容后面叙述，但是在基片10上描绘功能液的描绘图案中途，使液滴排出部160在Y方向上移动。因此，如图8所示，在各液滴排出部160，可以安装吸收各液滴排出部160的振动的振动吸收部168。由于能够吸收各液滴排出部160的振动，因此能够提高功能液的描绘图案的精度。
作为振动吸收部168，可以使用例如动力减震器。动力减震器具有吸收液滴排出部160的振动来进行振动的质量体。通过质量体代替液滴排出部160来振动，能够抑制液滴排出部160的振动。动力减震器可以包含使质量体的振动衰减的衰减器、设置在质量体与液滴排出部160之间的弹簧等。
Y方向移动部200使液滴排出部160相对于浮起在距台部150规定的高度的基片10在Y方向上移动。使液滴排出部160在Y方向上移动，如图9所示，是因为在排出相同种类的功能液的多个喷头161之间存在间隙ΔY。通过使液滴排出部160在Y方向上移动，能够使特定的种类的功能液的液滴在基片10的Y方向所有地方着液。
如图7所示，Y方向移动部200具有：架设在台部150的上方的一对Y轴梁201；敷设在一对Y轴梁201上的一对Y轴导轨202；和使液滴排出部160沿一对Y轴导轨202移动的一对Y轴线性电机。
Y方向移动部200使液滴排出部160在向浮起在距台部150规定的高度的基片10排出功能液的液滴位置与接收用于维持部210的功能维持的处理的位置之间移动。
维持部210进行维持液滴排出部160的功能的处理，以解除液滴排出部160的排出不良的状况。维持部210具有：擦拭喷嘴的排出口的周围的擦拭单元211；和从喷嘴的排出口吸入液滴的吸入单元212。吸入单元212起到塞住休止状态的喷嘴的排出口，抑制由于干燥而导致的堵塞的作用。
X方向移动部170使浮起在距台部150规定的高度的基片10在X方向上移动而通过液滴排出部160的下方。在基片10通过液滴排出部160的下方时，液滴排出部160向基片10排出液滴。
X方向移动部170例如具有：在X方向上延伸的X轴导轨部171；和使之(X方向移动部170)沿X轴导轨部171移动的X轴滑块部172。作为使X轴滑块部172沿X轴导轨部171移动的驱动源，可以使用线性电机等。
X方向移动部170例如具有一对X轴导轨部171，一对X轴导轨部171被设置为在Y方向上挟着台部150。在各X轴导轨部171，至少可移动地设置1个(图7等中为2个)X轴滑块部172。
X方向移动部170具有保持基片10的多个(例如4个)基片保持部173。各基片保持部173与X轴滑块部172一同移动，并且保持基片10。作为各基片保持部173，使用例如真空吸盘，也可以使用静电吸盘等。
如图8所示，X方向移动部170也可以具有水平度修正部174，其对由多个基片保持部173保持的基片10的水平度进行修正。由此，例如，能够使隔堤30的上表面水平地对齐，能够抑制来自隔堤30的开口部31的功能液的溢出。
水平度修正部174包含例如使多个基片保持部173独立地升降的多个升降部175。升降部175设置于每个基片保持部173。各升降部175例如包含伺服电机和将伺服电机的旋转运动变为直线运动的滚珠丝杆等的运动变换机构。
从铅垂方向看，X方向移动部170可以具有偏转修正部190(参照图10)，其使由多个基片保持部173保持的基片10旋转移动。基片10的旋转中心设置于基片10的中心部。由于基片10的偏转，与隔堤30的开口部31排列的方向与喷嘴列的延伸方向能够一致。
图10表示是一个实施方式的偏转修正部的平面图。在图10中，用虚线表示基片10的保持位置。另外，在图10中，对偏转修正部190进行放大表示。
偏转修正部190例如包括：多个旋转支持部191，其从铅垂方向看使多个基片保持部173能够独立地旋转；多个移动支持部192，其独立地在X方向和Y方向可移动地支承多个基片保持部173。
旋转支持部191和移动支持部192设置在每个基片保持部173。如图8所示，基片保持部173间隔旋转支持部191或着移动支持部192、升降部175，安装于X轴滑块部172等。
旋转支持部191由可旋转地支承与基片保持部173一同旋转的旋转轴的轴承等构成。移动支持部192具有：在X方向上延伸的X轴位置修正导轨193；沿X轴位置修正导轨193移动的X轴位置修正滑块194；在Y方向上延伸Y轴位置修正导轨195；和沿Y轴位置修正导轨195移动的Y轴位置修正滑块196。
例如，图10中左侧的旋转支持部191固定在Y轴位置修正滑块196。将该Y轴位置修正滑块196在Y方向上引导的Y轴位置修正导轨195，固定在X轴位置修正滑块194。将该X轴位置修正滑块194在X方向引导的X轴位置修正导轨193间隔升降部175安装于X轴滑块部172。
另外，图10中右侧的旋转支持部191固定在X轴位置修正滑块194。将该X轴位置修正滑块194在X方向上引导的X轴位置修正导轨193，固定在Y轴位置修正滑块196。将该Y轴位置修正滑块196在Y方向上引导的Y轴位置修正导轨195，隔着升降部175安装于X轴滑块部172。
偏转修正部190具有：使一部分的基片保持部173在X方向上移动所谓X轴驱动部197；和使另一部分的基片保持部173在Y方向上移动的Y轴驱动部198。X轴驱动部197使X轴位置修正滑块194沿X轴位置修正导轨193移动。Y轴驱动部198时Y轴位置修正滑块196沿Y轴位置修正导轨195移动。X轴驱动部197、Y轴驱动部198与升降部175同样地构成。
通过使X轴驱动部197和Y轴驱动部198运作，从铅垂方向看，偏转修正部190使由多个基片保持部173保持的基片10转动。此外，上述结构的偏转修正部190能够使由多个基片保持部173保持的基片10在X方向上平行移动或者在Y方向上平行移动。
偏转修正部190为了防止意图之外的基片10的偏转等，可以具有禁止X轴位置修正滑块194的移动、Y轴位置修正滑块196的移动、基片保持部173的旋转等的制动装置。制动装置根据需要，允许X轴位置修正滑块194的移动、Y轴位置修正滑块196的移动、基片保持部173的旋转等。
接着，对使用了上述结构的涂敷装置123a的涂敷方法进行说明。通过控制装置140控制涂敷装置123a的下述的动作。关于控制装置140，在图6中单独设置涂敷装置123a，但是也可以作为涂敷装置123a的一部来设置。
首先，机械手(未图示)将基片10从涂敷装置123a的外部搬入涂敷装置123a的内部时，台部150使升降销从台部150的上表面突出利用升降销从机械手接收基片10。之后，台部150使升降销下降，利用从供气口151喷射的气体的风压，使基片10从台部150的上表面浮起规定的高度。
接着，X方向移动部170通过多个基片保持部173保持基片10，并且基于对基片10的定位标记拍摄的图像来进行基片10的偏转。除了基片10的偏转之外，也可以进行向基片10的X方向或者Y方向的平行移动、基片10的水平度修正。
之后，X方向移动部170使浮起在距台部150规定的高度的基片10在X方向上移动，通过液滴排出部160的下方。基片10通过液滴排出部160的下方时，液滴排出部160向基片10排出液滴。
接着，Y方向移动部200使液滴排出部160相对于浮起在距台部150规定的高度的基片10在Y方向上移动。使液滴排出部160在Y方向移动，是由于如图9所示在排出相同种类的功能液的多个喷头161之间存在间隙ΔY。通过使液滴排出部160在Y方向上移动，能够使特定的种类的功能液的液滴在基片10的Y方向的所有地方着液。
之后，再次，X方向移动部170使浮起在距台部150规定的高度的基片10在X方向上移动，通过液滴排出部160的下方。基片10通过液滴排出部160的下方时，液滴排出部160向基片10排出液滴。
如此，涂敷装置123a通过交替地反复由X方向移动部170进行基片10的X方向移动和由液滴排出部160进行的液滴的滴注、由Y方向移动部200进行的液滴排出部160的Y方向移动，在基片10上描绘功能液的描绘图案。
在描绘结束后，台部150利用升降销搬起基片10，将基片10交接到机械手。之后，机械手将基片10从涂敷装置123a的内部向涂敷装置123a的外部搬出。
之后，机械手将下一个基片10从涂敷装置123a的外部向涂敷装置123a的内部搬入，涂敷装置123a反复进行如下动作：在基片10上描绘功能液的描绘图案，机械手将基片10从涂敷装置123a的内部向涂敷装置123a的外部搬出。
此外，在更换基片10的间歇等，适当地进行通过维持部210来维持液滴排出部160的功能的处理。
＜总结＞
如以上所说明的那样，根据本实施方式，涂敷装置123a为了利用气体的风压使基片10从台部150浮起规定的高度并在基片10上描绘功能液的描绘图案，能够降低使基片10移动的驱动力。由此，能够提高基片10的位置控制性，另外，能够使基片10的移动速度高速化。为了使之成为可能，涂敷装置123a包括：X方向移动部170，其利用气体的风压使浮起在距台部150规定的高度的基片10在X方向上移动；Y方向移动部200，其将液滴排出部160相对于浮起在距台部150规定的高度的基片10在Y方向上移动。X方向移动部170反复进行使基片10在X方向上移动并且液滴排出部160滴注液滴的动作时，Y方向移动部200使液滴排出部160在Y方向上移动。因此，在使基片10在X方向上移动而通过液滴排出部160的下方时，或者在Y方向上调整基片10的液滴的着液位置时，不需要更换基片10，而能够抑制由于更换等导致的基片10的位置偏移。
根据本实施方式，X方向移动部170包括：在X方向上延伸的X轴导轨部171；沿X轴导轨部171移动的X轴滑块部172；和与X轴滑块部172一同移动并保持基片10的多个基片保持部173。通过X轴导轨部171能够使各基片保持部173的X方向的移动稳定，能够使基片10的X方向的移动稳定。
根据本实施方式，从铅垂方向看，X方向移动部170具有使浮起在距台部150规定的高度的基片10旋转移动的偏转修正部190。由此，例如，能够使隔堤30的开口部31排列的方向与各喷嘴列的延伸方向(即，喷嘴排列的方向)一致。
根据本实施方式，X方向移动部170还具有对浮起在距台部150规定的高度的基片10的水平度进行修正的水平度修正部174。由此，例如，能够使隔堤30的上表面水平地一致，能够抑制来自隔堤30的开口部31的功能液的溢出。
根据本实施方式，在液滴排出部160安装有吸收液滴排出部160的振动的振动吸收部168。能够吸收在功能液的描画中由于使液滴排出部160在Y方向上移动而产生的振动，能够抑制收纳于液滴排出部160的内部的功能液的摇动，能够提高功能液的描绘图案的精度。
＜变形、改良＞
以上，对涂敷装置等的实施方式进行了说明，但是本发明不限于上述实施方式等，可以在专利申请的范围所记载的本发明的要旨的范围内进行各种变形、改良。
在上述实施方式中，对将本发明应用于发光层形成部123的涂敷装置123a的情况进行了说明，但本发明不限于此。本发明的涂敷装置可以是在基片描绘功能液的描绘图案的装置。例如，本发明也可以应用于空穴注入层形成部121的涂敷装置121a或者空穴输送层形成部122的涂敷装置122a。另外，空穴输送层形成部122的涂敷装置122a也可以形成与多种发光层26对应的多种空穴输送层25。能够提高发光层26与空穴输送层25的相合性。同样地，空穴注入层形成部121的涂敷装置121a，可以形成与多种的发光层26对应的多种的空穴注入层24。能够提高发光层26与空穴注入层24的相合性。
在上述实施方式中，发光层26的种类为红色发光层、绿色发光层、蓝色发光层这三种，但本发明不限于此。例如，除这三种发光层之外，还可以使用：黄色发光层，其包含以作为红色与绿色的中间色的黄色发光的黄色发光材料；和/或青色发光层，其包含作为绿色与蓝色的中间色的青色发光的青色发光材料。发光色的组合数越大，能够表示的颜色坐标的范围越广。
例如，有机EL显示器在上述实施方式中为将来自发光层26的光从基片10侧部出射的底出射方式，但是也可以为将来自发光层26的光从基片10的背面侧出射的顶出射方式。
在顶出射方式时，基片10可以不是透明基片，而是不透明基片。这是由于来自发光层26的光能够从基片10的相反侧出射。
在顶出射方式时，将作为透明电极的阳极21作为对置电极使用，将阴极22作为在每个单位电路11设置的像素电极使用。此时，阳极21与阴极22的配置相反，因此在阴极22上，依次形成电子注入层28、电子输送层27、发光层26、空穴输送层25和空穴注入层24。
在上述实施方式中，有机层23从阳极21侧向阴极22侧去依次具有空穴注入层24、空穴输送层25、发光层26、电子输送层27、电子注入层28，但是也可以至少具有发光层26。有机层23不限于图2所示的构成。

Claims (7)

1.一种涂敷装置，其使基片的功能液的液滴的着液位置在主扫描方向和副扫描方向上移动，在所述基片上描绘所述功能液的描绘图案，所述涂敷装置的特征在于，包括：
利用气体的风压使所述基片浮起在规定的高度的台部；
液滴排出部，其向浮起在距所述台部规定的高度的所述基片滴注所述功能液的液滴；
主扫描方向移动部，其保持浮起在距所述台部规定的高度的所述基片并且使所述基片在所述主扫描方向上移动；和
副扫描方向移动部，其使所述液滴排出部相对于浮起在距所述台部规定的高度的所述基片在所述副扫描方向上移动，
反复进行所述主扫描方向移动部使所述基片在所述主扫描方向上移动并且所述液滴排出部滴注所述液滴的处理期间，所述副扫描方向移动部使所述液滴排出部在所述副扫描方向上移动。
2.如权利要求1所述的涂敷装置，其特征在于：
所述主扫描方向移动部包括：在所述主扫描方向上延伸的主扫描方向导轨部；沿所述主扫描方向导轨部移动的主扫描方向滑块部；和与所述主扫描方向滑块部一同移动并保持所述基片的多个基片保持部。
3.如权利要求2所述的涂敷装置，其特征在于：
所述主扫描方向移动部还包括偏转修正部，从铅垂方向看，其使由多个所述基片保持部保持的所述基片旋转移动。
4.如权利要求2或3所述的涂敷装置，其特征在于：
所述主扫描方向移动部还包括水平度修正部，其对由多个所述基片保持部保持的所述基片的水平度进行修正。
5.如权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，其特征在于：
包括安装在所述液滴排出部的、吸收所述液滴排出部的振动的振动吸收部。
6.一种涂敷方法，其特征在于：
使用权利要求1～3中任一项所述的涂敷装置，在所述基片上描绘所述功能液的描绘图案。
7.如权利要求6所述的涂敷方法，其特征在于
所述功能液用于有机发光二极管的制造。
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