JP5119001B2 - 試料ステージ - Google Patents
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Description
2 ステージ位置検出部
3 ステージ位置制御部
4 熱制御部
6 温度計測部
7 熱・変位解析システム
100 ベース
110 Xテーブル
111 Xガイド
112 駆動機構X
120 Yテーブル
121 Yガイド
122 駆動機構Y
130 試料ホルダ
131 ミラーX
132 ミラーY
140 制動機構
141 バネ
142 ブレーキパッド
150 面部材
151 インジウム
160 発熱体
161 断熱シート
Claims (5)
- 試料を所定方向に移動させるテーブルと、
当該テーブルを前記所定方向に移動させる駆動機構と、
前記テーブルに、押圧部材を介して接続される押圧部と、
前記押圧部材の押圧力によって前記押圧部が押圧される摺動部を備えた試料ステージであって、
前記摺動部の前記押圧部と接する面を加熱するための加熱部材を備え、当該加熱部材は、前記テーブルが停止するときに、
前記押圧部が接する前記摺動部の一部、当該押圧部が接する摺動部の一部と当該摺動部の一部に隣接する部分、或いは前記押圧部を加熱するように制御されることを特徴とする試料ステージ。 - 請求項1において、
前記加熱部材は、前記摺動部に、前記テーブルの移動方向に沿って複数配列されていることを特徴とする試料ステージ。 - 請求項2において、
前記加熱部材は、前記摺動部の下部に配列されていることを特徴とする試料ステージ。 - 請求項1において、
前記駆動機構を制御するステージ位置制御部を備え、当該ステージ位置制御部による前記テーブルの移動量が、所定のしきい値を超えたとき、或いはその移動量に応じて、前記押圧部が接する前記摺動部の一部、及び/又はその一部に隣接する部分の加熱を行うことを特徴とする試料ステージ。 - 請求項1において、
前記テーブルが複数積層され、前記試料をX−Y方向に移動するように構成されていることを特徴とする試料ステージ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008047031A JP5119001B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 試料ステージ |
US12/393,037 US7900896B2 (en) | 2008-02-28 | 2009-02-26 | Specimen stage |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008047031A JP5119001B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 試料ステージ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009205938A JP2009205938A (ja) | 2009-09-10 |
JP5119001B2 true JP5119001B2 (ja) | 2013-01-16 |
Family
ID=41012458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008047031A Expired - Fee Related JP5119001B2 (ja) | 2008-02-28 | 2008-02-28 | 試料ステージ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7900896B2 (ja) |
JP (1) | JP5119001B2 (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100674440B1 (ko) * | 2005-08-12 | 2007-01-25 | 주식회사 파이컴 | 프로브 카드 제조 방법 및 장치 |
JP5119001B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2013-01-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ステージ |
JP2009252809A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Hitachi High-Technologies Corp | ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法 |
WO2009142133A1 (ja) * | 2008-05-19 | 2009-11-26 | 株式会社アルバック | ステージ |
US8336179B2 (en) * | 2008-05-20 | 2012-12-25 | Seagate Technology | Fixture assembly |
JP2010060789A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Olympus Corp | 超音波電動ステージ |
JP5295855B2 (ja) * | 2009-04-28 | 2013-09-18 | 住友重機械工業株式会社 | 反力処理機構 |
US8763999B2 (en) * | 2009-10-27 | 2014-07-01 | Applied Materials Israel, Ltd. | Stage structure for operation in vacuum |
JP5544419B2 (ja) * | 2010-05-20 | 2014-07-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査型電子顕微鏡 |
WO2012040705A2 (en) * | 2010-09-24 | 2012-03-29 | Rudolph Technologies, Inc. | Support for semiconductor substrate |
KR101220380B1 (ko) * | 2010-12-08 | 2013-01-09 | 기아자동차주식회사 | 차량용 패널 지그장치 |
JP5881377B2 (ja) * | 2011-11-09 | 2016-03-09 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料位置決め装置、試料ステージ、荷電粒子線装置 |
FR2992518B1 (fr) * | 2012-06-22 | 2014-08-08 | Commissariat Energie Atomique | Agencement pour composant electronique a refroidir, enceinte comportant l'agencement, systeme a froid sous vide comportant l'enceinte, procede d'utilisation du systeme a froid sous vide |
US9700976B2 (en) * | 2013-02-15 | 2017-07-11 | GM Global Technology Operations LLC | Reconfigurable interface assembly, adaptable assembly line work-piece processor, and method |
EP2982472B1 (de) * | 2014-08-06 | 2017-09-13 | FESTO AG & Co. KG | Positioniersystem |
KR101520401B1 (ko) * | 2015-01-13 | 2015-05-15 | 재단법인차세대융합기술연구원 | 이동 가능한 테이블 시스템 |
US9905393B2 (en) * | 2015-03-26 | 2018-02-27 | Hitachi High-Technologies Corporation | Stage apparatus with braking system for lens, beam, or vibration compensation |
JP6846943B2 (ja) * | 2017-02-10 | 2021-03-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 塗布装置、および塗布方法 |
WO2020188759A1 (ja) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | 株式会社日立ハイテク | ステージ移動制御装置及び荷電粒子線システム |
US10825646B2 (en) * | 2019-03-28 | 2020-11-03 | Fei Company | Actuator-assisted positioning systems and methods |
TW202224834A (zh) * | 2020-12-29 | 2022-07-01 | 磁晶科技股份有限公司 | X-y滑台 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3578233A (en) * | 1968-07-11 | 1971-05-11 | Shell Oil Co | Apparatus for remotely joining underwater pipelines |
US4013280A (en) * | 1976-08-09 | 1977-03-22 | Anwar Chitayat | Workpiece positioning table |
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JP4863773B2 (ja) * | 2006-06-02 | 2012-01-25 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡装置およびブレーキ機構 |
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JP5119001B2 (ja) * | 2008-02-28 | 2013-01-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 試料ステージ |
-
2008
- 2008-02-28 JP JP2008047031A patent/JP5119001B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2009
- 2009-02-26 US US12/393,037 patent/US7900896B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009205938A (ja) | 2009-09-10 |
US20090218510A1 (en) | 2009-09-03 |
US7900896B2 (en) | 2011-03-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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