JP2013509692A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

露光装置は、ウエハ（Ｗ）を保持し、所定の外部装置との間で露光のための用力の伝達を行う可撓性を有するフラットチューブ（Ｔａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２））の一端が接続され、ＸＹ平面に沿って移動可能なウエハステージ（ＷＳＴ１（ＷＳＴ２））と、ウエハステージのＸ軸方向の一側に配置され、フラットチューブの他端が接続され、ウエハステージの動きに応じてＸＹ平面に沿って移動するとともに、ウエハステージがＸ軸方向の一側に移動する際には、Ｘ軸方向の他側に移動するチューブキャリア（ＴＣａ_１（ＴＣｂ_１））と、を備える。これにより、フラットチューブからの抗力（引張力）をウエハステージが殆ど受けることがないとともに、フラットチューブのＸ軸方向外側へのはみ出しも抑制することができる。

Description

本発明は、露光装置及びデバイス製造方法に係り、更に詳しくは、光学系を介してエネルギビームにより物体を露光する露光装置、及び該露光装置を用いるデバイス製造方法に関する。

従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。

この種の露光装置で用いられる、露光対象となるウエハ又はガラスプレート等の基板は、次第に（例えばウエハの場合、１０年おきに）大型化している。現在は、直径３００ｍｍの３００ｍｍウエハが主流となっているが、今や直径４５０ｍｍの４５０ｍｍウエハ時代の到来が間近に迫っている。４５０ｍｍウエハに移行すると、１枚のウエハから採れるダイ（チップ）の数が現行の３００ｍｍウエハの２倍以上となり、コスト削減に貢献する。

一方、ウエハのサイズが４５０ｍｍにもなると、１枚のウエハから採れるダイ（チップ）の数が多くなる分、１枚のウエハの露光処理に要する時間が増加してスループットが低下する。そこで、スループットの低下を極力抑制する方法として、１つのウエハステージ上のウエハに対する露光処理と、別のウエハステージ上でのウエハ交換、アライメントなどの処理とを、並行して行う、ツインステージ方式（例えば特許文献１〜３等）の採用が考えられる。

しかるに、４５０ｍｍウエハに対応するウエハステージが大型化し、装置のフットプリントが増大化する。特に、ツインステージ方式では、フットプリントがさらに増大する。これに加え、その大型化したウエハステージの可動範囲は、従来に比べて広くなり、このため、ウエハステージの移動に応じて伸び縮みする、ウエハステージに用力を供給するためのチューブの引っ張り力によりウエハステージの移動が妨害されるおそれがあった。また、そのチューブの変形を阻害しないために、ステージ装置の側方にスペースを確保する必要があり、これによりさらにスループットが低下するおそれがあった。

米国特許第６，５９０，６３４号明細書 米国特許第５，９６９，４４１号明細書 米国特許第６，２０８，４０７号明細書

本発明の第１の態様によれば、エネルギビームの照射により物体を露光する露光装置であって、前記物体を保持し、所定の外部装置との間で前記露光のための用力の伝達を行う際の伝達路を形成する可撓性を有する用力伝達部材の一端が接続され、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む所定の二次元平面に平行な第１平面に沿って移動可能な移動体と、前記移動体に対して前記第１軸に平行な方向の一側に配置され、前記用力伝達部材の他端が接続され、前記移動体の動きに応じて前記二次元平面に平行な第２平面に沿って移動するとともに、前記移動体が前記第１軸に平行な方向の一側に移動する際には、前記第１軸に平行な方向の他側に移動する補助移動体と、を備える露光装置が、提供される。

これによれば、物体を保持する移動体が、第１軸に平行な方向の一側に移動する際には、移動体に用力伝達部材を介して露光のための用力の伝達を行うための補助移動体が第１軸に平行な方向の他側に移動する。このため、用力伝達部材による抗力（引張力）を移動体が殆ど受けることがないとともに、用力伝達部材の第１軸に平行な方向のはみ出しも抑制することができる。

本発明の第２の態様によれば、本発明の露光装置を用いて物体を露光することと、露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法が、提供される。

一実施形態に係る露光装置の構成を概略的に示す図である。 図２は、図１の露光装置の平面図である。 図３は、図１の露光装置を＋Ｙ側から見た側面図である。 図４（Ａ）はウエハステージの平面図、図４（Ｂ）は図４（Ａ）内のＢ−Ｂ線断面の端面図、図４（Ｃ）は図４（Ａ）内のＣ−Ｃ線断面の端面図である。 図５（Ａ）及び図５（Ｂ）は、それぞれ、チューブキャリアの構成を示す平面図及び側面図である。 図６（Ａ）〜図６（Ｄ）は、チューブキャリアのウエハステージに対する追従駆動を説明するための図である。 図７は、微動ステージ位置計測系の構成を示す図である。 図８は、図１の露光装置が備える主制御装置の入出力関係を説明するためのブロック図である。

以下、本発明の一実施形態について、図１〜図８に基づいて説明する。

図１には、一実施形態に係る露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では、投影光学系ＰＬが設けられており、以下においては、この投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する平面内でレチクルとウエハとが相対走査される方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向とし、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ、θｙ、及びθｚ方向として説明を行う。

露光装置１００は、図１に示されるように、ベース盤１２上の＋Ｙ側端部近傍に配置された露光ステーション２００、ベース盤１２上の−Ｙ側端部近傍に配置された計測ステーション３００、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を含むステージ装置５０、及びこれらの制御系等を備えている。図１において、露光ステーション２００には、ウエハステージＷＳＴ１が位置しており、ウエハステージＷＳＴ１上にウエハＷが保持されている。また、計測ステーション３００には、ウエハステージＷＳＴ２が位置しており、ウエハステージＷＳＴ２上に別のウエハＷが保持されている。

露光ステーション２００は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ、及び投影ユニットＰＵ等を備えている。

照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系、及びレチクルブラインド等（いずれも不図示）を有する照明光学系と、を含む。照明系１０は、レチクルブラインド（マスキングシステムとも呼ばれる）で規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを、照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。照明光ＩＬとしては、一例として、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。

レチクルステージＲＳＴ上には、そのパターン面（図１における下面）に回路パターンなどが形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図８参照）によって、走査方向（図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向）に所定のストローク、所定の走査速度で駆動可能であるとともに、Ｘ軸方向にも微小駆動可能となっている。

レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、「レチクル干渉計」という）１３によって、レチクルステージＲＳＴに固定された移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡（あるいは、レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１３の計測値は、主制御装置２０（図１では不図示、図８参照）に送られる。なお、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書などに開示されているように、エンコーダシステムによってレチクルステージＲＳＴの位置情報を計測しても良い。

レチクルステージＲＳＴの上方には、例えば米国特許第５，６４６，４１３号明細書などに詳細に開示されるような、ＣＣＤ等の撮像素子を有し、露光波長の光（本実施形態では照明光ＩＬ）をアライメント用照明光とする画像処理方式の一対のレチクルアライメント系ＲＡ_１，ＲＡ_２（図１では、レチクルアライメント系ＲＡ_２は、レチクルアライメント系ＲＡ_１の紙面奥側に隠れている）が配置されている。一対のレチクルアライメント系ＲＡ_１，ＲＡ_２は、投影光学系ＰＬの直下に微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）上の後述する計測プレートが位置する状態で、主制御装置２０（図８参照）により、レチクルＲに形成された一対のレチクルアライメントマーク（図示省略）の投影像と対応する計測プレート上の一対の第１基準マークとを投影光学系ＰＬを介して検出することで、投影光学系ＰＬによるレチクルＲのパターンの投影領域の中心と計測プレート上の基準位置、すなわち一対の第１基準マークの中心との位置関係を検出するために用いられる。レチクルアライメント系ＲＡ_１，ＲＡ_２の検出信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図８参照）。なお、レチクルアライメント系ＲＡ_１，ＲＡ_２は設けなくても良い。この場合、例えば米国特許出願公開第２００２／００４１３７７号明細書などに開示されるように、後述する微動ステージに光透過部（受光部）が設けられる検出系を搭載して、レチクルアライメントマークの投影像を検出することが好ましい。

投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方に配置されている。投影ユニットＰＵは、不図示の支持部材によって水平に支持されたメインフレーム（メトロロジーフレームとも呼ばれる）ＢＤによってその外周部に固定されたフランジ部ＦＬＧを介して支持されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感応剤）が塗布されたウエハＷ上の前記照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）との同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域ＩＡ（照明光ＩＬ）に対してウエハＷを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルＲのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、投影光学系ＰＬによってウエハＷ上にレチクルＲのパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ上にそのパターンが形成される。ここで、投影ユニットＰＵはメインフレームＢＤに保持され、本実施形態では、メインフレームＢＤが、それぞれ防振機構を介して設置面（床面など）に配置される複数（例えば３つ又は４つ）の支持部材によってほぼ水平に支持されている。なお、その防振機構は各支持部材とメインフレームＢＤとの間に配置しても良い。また、例えば国際公開第２００６／０３８９５２号に開示されているように、投影ユニットＰＵの上方に配置される不図示のメインフレーム部材、あるいはレチクルベースなどに対してメインフレームＢＤ（投影ユニットＰＵ）を吊り下げ支持しても良い。

計測ステーション３００は、メインフレームＢＤに設けられたアライメント装置９９を備えている。アライメント装置９９は、例えば米国特許出願公開第２００８／００８８８４３号明細書などに開示されているように、図２に示される５つのアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２₁〜ＡＬ２₄を含む。詳述すると、図２に示されるように、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ、本実施形態では前述の露光領域ＩＡの中心とも一致）を通りかつＹ軸と平行な直線（以下、基準軸と呼ぶ）ＬＶ上で、光軸ＡＸから−Ｙ側に所定距離隔てた位置に、検出中心が位置する状態でプライマリアライメント系ＡＬ１が配置されている。プライマリアライメント系ＡＬ１を挟んで、Ｘ軸方向の一側と他側には、基準軸ＬＶに関してほぼ対称に検出中心が配置されるセカンダリアライメント系ＡＬ２₁，ＡＬ２₂と、ＡＬ２₃，ＡＬ２₄とがそれぞれ設けられている。すなわち、５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２₁〜ＡＬ２₄はその検出中心が、プライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心で、基準軸ＬＶと垂直に交差するＸ軸に平行な直線（以下、基準軸と呼ぶ）Ｌａに沿って配置されている。なお、図１では、５つのアライメント系ＡＬ１，ＡＬ２₁〜ＡＬ２₄及びこれらを保持する保持装置（スライダ）を含んでアライメント装置９９として示されている。セカンダリアライメント系ＡＬ２₁〜ＡＬ２₄は、例えば米国特許出願公開第２００９／０２３３２３４号明細書などに開示されているように、可動式のスライダを介してメインフレームＢＤの下面に固定されており（図１参照）、図示しない駆動機構により、少なくともＸ軸方向に関してそれらの検出領域の相対位置が調整可能となっている。

本実施形態では、アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４のそれぞれとして、例えば画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられている。アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４の構成については、例えば国際公開第２００８／０５６７３５号などに詳細に開示されている。アライメント系ＡＬ１，ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４それぞれからの撮像信号は、不図示の信号処理系を介して主制御装置２０（図８参照）に供給される。

ステージ装置５０は、図１に示されるように、ベース盤１２、ベース盤１２の上方に配置された一対の定盤１４Ａ、１４Ｂ（図１では、定盤１４Ｂは、定盤１４Ａの紙面奥側に隠れている。）、一対の定盤１４Ａ，１４Ｂの上面によって規定されるＸＹ平面に平行なガイド面に沿って移動する２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２それぞれに配管・配線系（以下、便宜上フラットチューブと呼ぶ）Ｔａ_２、Ｔｂ_２（図１では不図示、図２、図３参照）を介して接続されたチューブキャリア装置ＴＣａ、ＴＣｂ（チューブキャリア装置ＴＣｂは図１では不図示。図２、図３等参照）、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置情報を計測する計測系などを備えている。ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれに、フラットチューブＴａ_２、Ｔｂ_２（及び後述するフラットチューブＴａ_１、Ｔｂ_１）を介して、外部から各種センサ類、モータ、あるいは静電チャック機構などの電源電力（電流）、モータを冷却するための冷却媒体、エアベアリング用の加圧気体等が、供給される。なお、以下では、電源電力（電流）、加圧気体等をまとめて用力とも呼ぶ。真空吸引力が必要な場合には、これも用力に含まれる。また、各種センサ類からの出力信号及びモータ等への制御信号を転送するための配線も、フラットチューブＴａ_２、Ｔｂ_２（及び後述するフラットチューブＴａ_１、Ｔｂ_１）に含まれる。

ベース盤１２は、平板状の外形を有する部材から成り、図１に示されるように、床面１０２上に防振機構（図示省略）を介してほぼ水平に（ＸＹ平面に平行に）支持されている。ベース盤１２の上面のＸ軸方向に関する中央部には、図３に示されるように、Ｙ軸に平行な方向に延びる凹部１２ａ（凹溝）が形成されている。ベース盤１２の上面側（ただし、凹部１２ａが形成された部分を除く）には、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイルを含む、コイルユニット（図示省略）が収容されている。

定盤１４Ａ、１４Ｂのそれぞれは、図２に示されるように、平面視で（上方から見て）Ｙ軸方向を長手方向とする矩形板状の部材から成り、基準軸ＬＶの−Ｘ側、＋Ｘ側にそれぞれ配置されている。定盤１４Ａと定盤１４Ｂとは、基準軸ＬＶに関して対称に、Ｘ軸方向に関して僅かの間隙を隔てて配置されている。定盤１４Ａ，１４Ｂそれぞれの上面（＋Ｚ側の面）は、平坦度が非常に高く仕上げられており、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２それぞれがＸＹ平面に沿って移動する際のガイド面として機能する。

定盤１４Ａ、１４Ｂは、図３に示されるように、凹部１２ａの両側のベース盤１２上に、不図示のエアベアリング（又は転がり軸受）を介して、支持されている。

定盤１４Ａ、１４Ｂは、上記ガイド面がその上面に形成された比較的厚さの薄い板状の第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ_１と、該第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ_１の下面それぞれに、一体的に固定された比較的厚くＸ軸方向寸法が短い板状の第２部分１４Ａ_２、１４Ｂ_２と、をそれぞれ有している。定盤１４Ａの第１部分１４Ａ_１の＋Ｘ側の端部は、第２部分１４Ａ_２の＋Ｘ側の端面から幾分＋Ｘ側に張り出しており、定盤１４Ｂの第１部分１４Ｂ_１の−Ｘ側の端部は、第２部分１４Ｂ_２の−Ｘ側の端面から幾分−Ｘ側に張り出している。

第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ_１それぞれの内部には、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイルを含むコイルユニット（図示省略）が収容されている。各コイルユニットを構成する複数のコイルそれぞれに供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０（図８参照）によって制御される。

定盤１４Ａの第２部分１４Ａ_２の内部（底部）には、ベース盤１２の上面側に収容されたコイルユニットに対応して、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された、複数の永久磁石（及び図示しないヨーク）から成る磁石ユニット（図示省略）が収容されている。磁石ユニットは、ベース盤１２のコイルユニットと共に、例えば米国特許出願公開第２００３／００８５６７６号明細書などに開示される電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータから成る定盤駆動系６０Ａ（図８参照）を構成している。定盤駆動系６０Ａは、定盤１４ＡをＸＹ平面内の３自由度方向（Ｘ、Ｙ、θｚ）に駆動する駆動力を発生する。

同様に、定盤１４Ｂの第２部分１４Ｂ_２の内部（底部）にも、ベース盤１２のコイルユニットと共に、定盤１４ＢをＸＹ平面内の３自由度方向に駆動する平面モータから成る定盤駆動系６０Ｂ（図８参照）を構成する、複数の永久磁石（及び図示しないヨーク）から成る磁石ユニット（図示省略）が収容されている。なお、定盤駆動系６０Ａ，６０Ｂそれぞれを構成する平面モータのコイルユニット及び磁石ユニットの配置は、上記（ムービングマグネット式）の場合と逆（ベース盤側に磁石ユニット、定盤側にコイルユニットをそれぞれ有するムービングコイル式）でも良い。

定盤１４Ａ，１４Ｂの３自由度方向の位置情報は、例えばエンコーダシステムを含む第１及び第２定盤位置計測系６９Ａ，６９Ｂ（図８参照）によってそれぞれ独立に計測される。第１及び第２定盤位置計測系６９Ａ，６９Ｂそれぞれの出力は、主制御装置２０（図８参照）に供給され、主制御装置２０は、定盤位置計測系６９Ａ，６９Ｂの出力に基づいて、定盤駆動系６０Ａ，６０Ｂのコイルユニットを構成する各コイルに供給する電流の大きさ及び方向を制御し、定盤１４Ａ，１４ＢそれぞれのＸＹ平面内の３自由度方向の位置を、必要に応じて制御する。主制御装置２０は、定盤１４Ａ，１４Ｂが、後述するカウンタマスとして機能した際に、定盤１４Ａ，１４Ｂの基準位置からの移動量が所定範囲に収まるように、その基準位置に戻すため、定盤位置計測系６９Ａ，６９Ｂの出力に基づいて、定盤駆動系６０Ａ，６０Ｂを介して定盤１４Ａ，１４Ｂを駆動する。すなわち、定盤駆動系６０Ａ，６０Ｂは、トリムモータとして使用される。

第１及び第２定盤位置計測系６９Ａ，６９Ｂの構成は、特に限定されないが、例えば第２部分１４Ａ_２，１４Ｂ_２それぞれの下面に配置されたスケール（例えば二次元グレーティング）に計測ビームを照射して得られる反射光（二次元グレーティングからの回折光）を用いて、定盤１４Ａ，１４ＢそれぞれのＸＹ平面内の３自由度方向の位置情報を計測するエンコーダヘッドがベース盤１２に配置された（又は第２部分１４Ａ_２，１４Ｂ_２にエンコーダヘッド、ベース盤１２にスケールがそれぞれ配置された）エンコーダシステムを用いることができる。なお、定盤１４Ａ、１４Ｂの位置情報は、例えば光干渉計システム、あるいは光干渉計システムとエンコーダシステムを組み合わせた計測系により計測しても良い。

一方のウエハステージＷＳＴ１は、図２に示されるように、ウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１と、微動ステージＷＦＳ１の周囲を囲む矩形枠状の粗動ステージＷＣＳ１とを備えている。他方のウエハステージＷＳＴ２は、図２に示されるように、ウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ２と、微動ステージＷＦＳ２の周囲を囲む矩形枠状の粗動ステージＷＣＳ２とを備えている。図２から明らかなように、ウエハステージＷＳＴ２は、ウエハステージＷＳＴ１に対し左右が反転した状態で配置されている点を除き、その駆動系、位置計測系などを含み、全く同様に構成されている。従って、以下では、代表的にウエハステージＷＳＴ１を取り上げて説明するものとし、ウエハステージＷＳＴ２に関しては、特に説明が必要な場合にのみ説明する。

粗動ステージＷＣＳ１は、図４（Ａ）に示されるように、Ｙ軸方向に関して離れて互いに平行に配置され、それぞれＸ軸方向を長手方向とする直方体状の部材から成る一対の粗動スライダ部９０ａ、９０ｂと、それぞれＹ軸方向を長手方向とする直方体状の部材から成り、Ｙ軸方向の一端と他端とで一対の粗動スライダ部９０ａ、９０ｂを連結する一対の連結部材９２ａ、９２ｂとを有している。すなわち、粗動ステージＷＣＳ１は、中央部にＺ軸方向に貫通する矩形の開口部を有する矩形枠状に形成されている。

粗動スライダ部９０ａ、９０ｂそれぞれの内部（底部）には、図４（Ｂ）及び図４（Ｃ）に示されるように、磁石ユニット９６ａ、９６ｂが収容されている。磁石ユニット９６ａ、９６ｂは、定盤１４Ａ、１４Ｂの第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ_１それぞれの内部に収容されたコイルユニットに対応して、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数の磁石から成る。磁石ユニット９６ａ、９６ｂは、定盤１４Ａ、１４Ｂのコイルユニットと共に、例えば米国特許出願公開第２００３／００８５６７６号明細書などに開示される、粗動ステージＷＣＳ１に対して６自由度方向に駆動力を発生可能な電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータから成る粗動ステージ駆動系６２Ａ（図８参照）を構成している。また、これと同様に、ウエハステージＷＳＴ２の粗動ステージＷＣＳ２（図２参照）が有する磁石ユニットと、定盤１４Ａ、１４Ｂのコイルユニットとにより、平面モータから成る粗動ステージ駆動系６２Ｂ（図８参照）が構成されている。

なお、本実施形態の粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２は、粗動スライダ部９０ａ、９０ｂのみが平面モータの磁石ユニットを有する構成であるが、これに限らず、連結部材９２ａ、９２ｂにも併せて磁石ユニットを配置しても良い。また、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２を駆動するアクチュエータとしては、電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータに限らず、例えば可変磁気抵抗駆動方式の平面モータなどを用いても良い。また、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２の駆動方向は、６自由度方向に限られず、例えばＸＹ平面内の３自由度方向（Ｘ，Ｙ、θｚ）のみであっても良い。この場合、例えば気体静圧軸受（例えばエアベアリング）により粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２を定盤１４Ａ，１４Ｂ上で浮上させると良い。また、本実施形態では、粗動ステージ駆動系６２Ａ，６２Ｂとして、ムービングマグネット式の平面モータが用いられるが、これに限らず、定盤に磁石ユニットが配置され、粗動ステージにコイルユニットが配置されるムービングコイル式の平面モータを用いても良い。

粗動スライダ部９０ａの−Ｙ側の側面、及び粗動スライダ部９０ｂの＋Ｙ側の側面それぞれには、微動ステージＷＦＳ１を微少駆動する際のガイドとして機能するガイド部材９４ａ、９４ｂが固定されている。ガイド部材９４ａは、図４（Ｂ）に示されるように、Ｘ軸方向に延設された断面Ｌ字状の部材から成り、その下面は粗動スライダ部９０ａの下面と同一面上に配置されている。ガイド部材９４ｂは、ガイド部材９４ａに対して左右対称ではあるが、同様に構成され、同様に配置されている。

ガイド部材９４ａの内部（底面）には、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイルをそれぞれ含む一対のコイルユニットＣＵａ、ＣＵｂが、Ｘ軸方向に関して所定間隔で収容されている（図４（Ａ）参照）。一方、ガイド部材９４ｂの内部（底部）には、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向としてマトリックス状に配置された複数のコイルを含む一つのコイルユニットＣＵｃが収容されている（図４（Ａ）参照）。コイルユニットＣＵａ〜ＣＵｃを構成する各コイルに供給される電流の大きさ及び方向は、主制御装置２０（図８参照）によって制御される。

連結部材９２ａは、中空に形成されており、その内部に微動ステージＷＦＳ１に用力を供給するための図示しない配管部材、配線部材などが収容されている。連結部材９２ａ及び／又は９２ｂの内部に、各種光学部材（例えば、空間像計測器、照度むら計測器、照度モニタ、波面収差計測器など）を収容しても良い。

ここで、ウエハステージＷＳＴ１が粗動ステージ駆動系６２Ａを構成する平面モータによって定盤上１４Ａ上で加減速を伴ってＹ軸方向に駆動される際（例えば、露光ステーション２００と計測ステーション３００との間を移動する際）に、定盤１４Ａは、前述した定盤駆動系６０ＡがＹ軸方向に関して駆動力を発生していない場合には、ウエハステージＷＳＴ１の駆動による反力の作用により、いわゆる作用反作用の法則（運動量保存の法則）に従ってウエハステージＷＳＴ１と反対の方向に駆動される。

また、ウエハステージＷＳＴ２が、定盤上１４Ｂ上でＹ軸方向に駆動される際に、前述した定盤駆動系６０ＢがＹ軸方向に関して駆動力を発生していない場合には、定盤１４Ｂも、ウエハステージＷＳＴ２の駆動力の反力の作用により、いわゆる作用反作用の法則（運動量保存の法則）に従ってウエハステージＷＳＴ２と反対の方向に駆動される。すなわち、定盤１４Ａ、１４Ｂがカウンタマスとして機能し、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２及び定盤１４Ａ、１４Ｂの全体から成る系の運動量が保存され、重心移動が生じない。従って、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＹ軸方向の移動によって定盤１４Ａ，１４Ｂに偏加重が作用するなどの不都合が生じることがない。

また、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＸ軸方向の駆動力の反力の作用によって、定盤１４Ａ，１４Ｂが、カウンタマスとして機能する。

微動ステージＷＦＳ１は、図４（Ａ）及び図４（Ｂ）に示されるように、平面視矩形の部材から成る本体部８０と、本体部８０の＋Ｙ側の側面に固定された一対の微動スライダ部８４ａ、８４ｂと、本体部８０の−Ｙ側の側面に固定された微動スライダ部８４ｃとを備えている。

本体部８０は、熱膨張率の比較的小さい材料、例えばセラミックスあるいはガラスなどで形成され、その底面が粗動ステージＷＣＳ１の底面と同一平面上に位置する状態で、粗動ステージＷＣＳ１によって非接触で支持されている。本体部８０は、軽量化のために中空とされても良い。

本体部８０の上面中央には、ウエハＷを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が配置されている。本実施形態では、例えば環状の凸部（リム部）内に、ウエハＷを支持する複数の支持部（ピン部材）が形成される、いわゆるピンチャック方式のウエハホルダが用いられ、一面（表面）がウエハ載置面となるウエハホルダの他面（裏面）側に後述する二次元グレーティングＲＧなどが設けられる。なお、ウエハホルダは、微動ステージＷＦＳ１（本体部８０）と一体に形成されていても良いし、本体部８０に対して、例えば静電チャック機構あるいはクランプ機構等の保持機構を介して着脱可能に固定されていても良い。この場合、グレーティングＲＧは、本体部８０の裏面側に設けられることになる。また、ウエハホルダは、接着等により本体部８０に固定されていても良い。

また、本体部８０の上面の＋Ｘ側かつ＋Ｙ側のコーナーの近傍には、計測プレートＦＭ１がウエハＷの表面とほぼ同じ高さに配置されている。計測プレートＦＭ１の上面には、前述した一対のレチクルアライメント系ＲＡ_１，ＲＡ_２（図１、図８参照）のそれぞれにより検出される一対の第１基準マーク、及びプライマリアライメント系ＡＬ１により検出される第２基準マーク（いずれも図示せず）が形成されている。ウエハステージＷＳＴ２の微動ステージＷＦＳ２には、図２に示されるように、本体部８０の上面の−Ｘ側かつ＋Ｙ側のコーナーの近傍に計測プレートＦＭ１と同様の計測プレートＦＭ２がウエハＷの表面とほぼ同一面となる状態で固定されている。

微動ステージＷＦＳ１の本体部８０の下面の中央部には、図４（Ｂ）に示されるように、ウエハホルダ（ウエハＷの載置領域）と計測プレートＦＭ１(又は微動ステージＷＦＳ２では計測プレートＦＭ２）とをカバーする程度の大きさの所定形状の薄板状のプレートが、その下面がその他の部分（周囲の部分）とほぼ同一面上に位置する（プレートの下面の方が、周囲の部分より下方に突出することはない）状態で配置されている。プレートの一面(上面（又は下面）)には、二次元グレーティングＲＧ（以下、単にグレーティングＲＧと呼ぶ）が形成されている。グレーティングＲＧは、Ｘ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｘ回折格子）と、Ｙ軸方向を周期方向とする反射型回折格子（Ｙ回折格子）と、を含む。プレートは、例えばガラスによって形成され、グレーティングＲＧは、回折格子の目盛りを、例えば１３８ｎｍ〜４μｍの間のピッチ、例えば１μｍピッチで刻んで作成されている。なお、グレーティングＲＧは、本体部８０の下面の全体をカバーしていても良い。また、グレーティングＲＧに用いられる回折格子の種類は、溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであっても良い。

一対の微動スライダ部８４ａ、８４ｂは、図４（Ａ）に示されるように、平面視略正方形の板状部材であり、本体部８０の＋Ｙ側の側面に、Ｘ軸方向に関して所定距離隔てて配置されている。微動スライダ部８４ｃは、平面視Ｘ軸方向に細長い長方形の板状部材であり、その長手方向の一端と他端とが、微動スライダ部８４ａ、８４ｂの中心とほぼ同一のＹ軸に平行な直線上に位置する状態で、本体部８０の−Ｙ側の側面に固定されている。

一対の微動スライダ部８４ａ、８４ｂは、それぞれ前述したガイド部材９４ａに支持され、微動スライダ部８４ｃは、ガイド部材９４ｂに支持されている。すなわち、微動ステージＷＦＳ１（ＷＦＳ２）は、粗動ステージＷＣＳ１（ＷＣＳ２）に対して、同一直線上に無い３箇所で支持されている。

微動スライダ部８４ａ〜８４ｃそれぞれの内部には、粗動ステージＷＣＳ１のガイド部材９４ａ、９４ｂが有するコイルユニットＣＵａ〜ＣＵｃに対応して、ＸＹ二次元方向を行方向、列方向とするマトリックス状に配置された複数の永久磁石（及び図示しないヨーク）から成る磁石ユニット９８ａ、９８ｂ、９８ｃが収容されている。磁石ユニット９８ａは、コイルユニットＣＵａと共に、磁石ユニット９８ｂは、コイルユニットＣＵｂと共に、磁石ユニット９８ｃは、コイルユニットＣＵｃと共に、それぞれ、例えば米国特許出願公開第２００３／００８５６７６号明細書などに開示される、Ｘ，Ｙ，Ｚ軸方向に駆動力を発生可能な電磁力（ローレンツ力）駆動方式の３つの平面モータを構成し、これら３つの平面モータにより微動ステージＷＦＳ１を６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ及びθｚ）に駆動する微動ステージ駆動系６４Ａ（図８参照）が構成されている。

ウエハステージＷＳＴ２においても、同様に粗動ステージＷＣＳ２の有するコイルユニットと、微動ステージＷＦＳ２の有する磁石ユニットとから成る３つの平面モータが構成され、これらの３つの平面モータにより微動ステージＷＦＳ２を６自由度方向（Ｘ、Ｙ、Ｚ、θｘ、θｙ及びθｚ）に駆動する微動ステージ駆動系６４Ｂが構成されている（図８参照）。

微動ステージＷＦＳ１は、Ｘ軸方向に関しては、Ｘ軸方向に延設されたガイド部材９４ａ、９４ｂに沿って、その他の５自由度方向に比べて長ストロークでの移動が可能になっている。微動ステージＷＦＳ２も同様である。

本実施形態では、主制御装置２０は、粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）を、加減速を伴って、Ｘ軸方向に関して大きく駆動する際（例えば、露光中にショット領域間のステッピング動作を行う際など）には、粗動ステージ駆動系６２Ａ（又は６２Ｂ）を構成する平面モータにより粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）をＸ軸方向に駆動するのと併せて、微動ステージ駆動系６４Ａ（又は６４Ｂ）を介して微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）に粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）と同一方向の初速を与える（微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）を粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）と同一方向に駆動する）。これにより、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）をいわゆるローカルカウンタマスとして機能させることができ、結果的に粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）のＸ軸方向の移動に伴う（駆動力の反力に起因する）微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の反対方向への移動距離を短くすることができる。特に、粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）が、Ｘ軸方向へのステップ移動を含む動作を行う、すなわち、粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）が、Ｘ軸方向への加速と減速とを交互に繰り返す動作を行う場合には、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の移動に必要なＸ軸方向に関するストロークを最も短くすることができる。このとき、主制御装置２０は、微動ステージと粗動ステージとを含むウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）の系全体の重心がＸ軸方向に関して等速運動をするような初速を、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）に与えると良い。このようにすると、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）は、粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）の位置を基準として、所定の範囲内で往復運動をする。従って、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸ軸方向の移動ストロークとして、その所定の範囲に幾分のマージンを加えた距離を用意しておけば良い。かかる詳細については、例えば、米国特許出願公開第２００８／０１４３９９４号明細書などに開示されている。

また、前述のように、微動ステージＷＦＳ１は、粗動ステージＷＣＳ１によって同一直線上に無い３箇所で支持されているので、主制御装置２０は、例えば微動スライダ部８４ａ〜８４ｃそれぞれに作用させるＺ軸方向の駆動力（推力）を適宜制御することにより、微動ステージＷＦＳ１（すなわちウエハＷ）をＸＹ平面に対してθｘ及び／又はθｙ方向に任意の角度（回転量）で傾けることができる。また、主制御装置２０は、例えば微動スライダ部８４ａ、８４ｂそれぞれに＋θｘ方向（図４（Ｂ）で紙面左回り方向）の駆動力を作用させるとともに、微動スライダ部８４ｃに−θｘ方向（図４（Ｂ）で紙面右回り方向）の駆動力を作用させることによって、微動ステージＷＦＳ１の中央部を＋Ｚ方向に（凸状に）撓ませることができる。また、主制御装置２０は、例えば微動スライダ部８４ａ、８４ｂそれぞれに−θｙ、＋θｙ方向（ぞれぞれ＋Ｙ側から見て左回り、右回り）の駆動力を作用させることによっても、微動ステージＷＦＳ１の中央部を＋Ｚ方向に（凸状に）撓ませることができる。主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２に対しても、同様のことを行うことができる。

なお、本実施形態では、微動ステージ駆動系６４Ａ、６４Ｂとして、ムービングマグネット式の平面モータが用いられるが、これに限らず、微動ステージの微動スライダ部にコイルユニットが配置され、粗動ステージのガイド部材に磁石ユニットが配置されるムービングコイル式の平面モータを用いても良い。

粗動ステージＷＣＳ１の連結部材９２ａと微動ステージＷＦＳ１の本体部８０との間には、図４（Ａ）に示されるように、外部から微動ステージＷＦＳ１に用力を供給するための一対のチューブ８６ａ、８６ｂが架設されている。なお、図４（Ａ）を含み、各図面では図示が省略されているが、実際には、一対のチューブ８６ａ、８６ｂは、それぞれ複数本のチューブによって構成されている。チューブ８６ａ、８６ｂそれぞれの一端は、連結部材９２ａの＋Ｘ側の側面に接続され、他端は、本体部８０の上面に−Ｘ側の端面から＋Ｘ方向に所定の長さで形成された所定深さを有する一対の凹部８０ａ（図４（Ｃ）参照）をそれぞれ介して本体部８０の内部に接続されている。チューブ８６ａ、８６ｂは、図４（Ｃ）に示されるように、微動ステージＷＦＳ１の上面よりも上方に突出しないようになっている。粗動ステージＷＣＳ２の連結部材９２ａと微動ステージＷＦＳ２の本体部８０との間にも、図２に示されるように、外部から微動ステージＷＦＳ２に用力を供給するための一対のチューブ８６ａ、８６ｂが架設されている。

ウエハステージＷＳＴ１の一対のチューブ８６ａ、８６ｂは、例えば図２に示されるように、連結部材９２ａを介して、それぞれ一対のフラットチューブＴａ_２に接続されている。より正確には、連結部材９２ａ内で、チューブ８６ａ，８６ｂ内に束ねられた複数のチューブ（配管・配線部材）が、それぞれ、フラットチューブＴａ_２内にその幅方向に一列に配列された同数のチューブ（配管・配線部材）に接続されている。同様に、ウエハステージＷＳＴ２の一対のチューブ８６ａ，８６ｂも、連結部材９２ａ内を介して、それぞれ一対のフラットチューブＴｂ_２に接続されている。

フラットチューブＴａ_２，Ｔｂ_２及び後述するフラットチューブＴａ_１，Ｔｂ_１（内部の配管・配線部材を含む）は、後述するように、曲げたり、捻ったりすることができる。

一対のフラットチューブＴａ_２は、図２及び図３に示されるように、一端がウエハステージＷＳＴ１（連結部材９２ａ）の側面に接続され、他端がベース盤１２の−Ｘ側に配置されたチューブキャリア装置ＴＣａの一部を構成するチューブキャリアＴＣａ_１を介して一対のフラットチューブＴａ_１に接続されている。一対のフラットチューブＴａ_２は、そのフラットな面の一端部と他端部とが、ＸＹ平面にほぼ平行となる状態で、その中央が折り曲げられてウエハステージＷＳＴ１（連結部材９２ａ）の側面及びチューブキャリアＴＣａ_１にそれぞれ接続されている。

一対のフラットチューブＴｂ_２は、その一端及び他端が、それぞれ、上述と同様にして、ウエハステージＷＳＴ２（連結部材９２ａ）の側面、及びベース盤１２の＋Ｘ側に配置されたチューブキャリア装置ＴＣｂの一部を構成するチューブキャリアＴＣｂ_１を介して一対のフラットチューブＴｂ₁に接続されている。なお、一対のフラットチューブをそれぞれ分離して、一方をフラットチューブＴａ_１、Ｔｂ_１として、チューブキャリアＴＣａ_１、ＴＣｂ_１に接続し、他方をフラットチューブＴａ_２、Ｔｂ_２として、チューブキャリアＴＣａ_１、ＴＣｂ_１に接続する構成を採用することとしても良い。

フラットチューブＴａ_１，Ｔｂ_１は、それぞれベース盤１２の−Ｘ端及び＋Ｘ端に沿ってあるいはベース盤１２の内部を通って、例えば電源、ガスタンク、コンプレッサ、バキュームポンプ等の各種用力源（不図示）に接続されている。用力源（不図示）から、用力が、一対のフラットチューブＴａ_１、チューブキャリアＴＣａ_１、一対のフラットチューブＴａ_２、粗動ステージＷＣＳ１の連結部材９２ａ、及び一対のチューブ８６ａ、８６ｂを、順次介して微動ステージＷＦＳ１へ供給される。同様に、用力源（不図示）から、用力が、一致のフラットチューブＴｂ_１、チューブキャリアＴＣｂ_１、一対のフラットチューブＴｂ_２、粗動ステージＷＣＳ２の連結部材９２ａを、及び一対のチューブ８６ａ、８６ｂを、順次介して微動ステージＷＦＳ２へ供給される。

チューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂは、図２及び図３に示されるように、それぞれ、ベース盤１２の−Ｘ側及び＋Ｘ側に配置されている。ここで、チューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂは、同様に構成されているので、以下では、チューブキャリア装置ＴＣａを取り上げて、その構成等を説明する。

図５（Ａ）には、チューブキャリア装置ＴＣａの平面図が示され、図５（Ｂ）には、チューブキャリア装置ＴＣａの側面図（−Ｙ方向から見た図）が示されている。これら図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、チューブキャリア装置ＴＣａは、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２を保持し、ウエハステージＷＳＴ１の動きに合わせてＹ軸方向に移動するチューブキャリア（Ｙスライダ）ＴＣａ_１と、チューブキャリアＴＣａ_１の移動の際のガイドを構成するとともに、Ｘ軸方向に移動するＸスライダＴＣａ_２と、該ＸスライダＴＣａ_２の長手方向の一端部と他端部を下方から支持してＸ軸方向に案内する一対の支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４と、を備えている。

チューブキャリアＴＣａ_１は、図５（Ａ）に示されるように、Ｙ軸方向を長手とする直方体状の部材から成る。ここで、チューブキャリアＴＣａ_１の長手方向の長さは、ウエハステージＷＳＴ１の連結部材９２ａのＹ軸方向の長さにほぼ等しい（図２参照）。チューブキャリアＴＣａ_１の長手方向の両端近傍の＋Ｘ側の面及び−Ｘ側の面に、各一対のフラットチューブＴａ_１、Ｔａ_２が接続されている。

一対のフラットチューブＴａ_１は、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示されるように、一端部近傍が平面視で１本の紐状の部材に見えるように、チューブキャリアＴＣａ_１との接続部の近傍にて９０度捻られ、かつその紐のように見える部分が平面視で略Ｕ字状に折り曲げられている。

チューブキャリアＴＣａ_１を支持するＸスライダＴＣａ_２は、図２及び図５（Ａ）に示されるように、Ｙ軸方向を長手方向として定盤１４Ａの−Ｘ側に配置され、その両端が、Ｙ軸方向に関して定盤１４Ａを挟むように床面上に設置された一対の支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４により支持されている。ここで、ＸスライダＴＣａ_２の上面（＋Ｚ面）が、チューブキャリアＴＣａ_１の移動の際のガイド面の役割を担う。ＸスライダＴＣａ_２の長手方向（Ｙ軸方向）の長さは、定盤１４ＡのＹ軸方向の長さより幾分長い（図２参照）。

支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４は、Ｘ軸方向を長手方向とする部材から成り、床面上に設置されている（図３、図５（Ｂ）等参照）。支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４は、それらの上面（＋Ｚ面）がＸスライダＴＣａ_２の移動の際のガイド面の役割を担う。なお、支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４の長手方向の長さは、実際には、ウエハステージＷＳＴ１のＸ軸方向の移動距離にほぼ等しいが、図５（Ａ）、図４（Ｂ）、及びその他の図では、作図の便宜上から、その長手方向の寸法が実際より短く描かれている。

チューブキャリア装置ＴＣａを構成するチューブキャリアＴＣａ_１及びＸスライダＴＣａ_２は、それぞれ、チューブキャリア駆動系ＴＤＡ（図８参照）が備える第１、第２駆動装置ＴＤａ_１、ＴＤａ_２（図５（Ｂ）参照）により駆動される。

第１駆動装置ＴＤａ_１は、図５（Ｂ）に示されるように、チューブキャリアＴＣａ_１に設けられた複数の永久磁石（又は複数のコイル）を含む可動子ＴＤａ_１１とＸスライダＴＣａ_２に設けられた複数のコイル（又は複数の永久磁石）を含む固定子ＴＤａ_１２とを有するリニアモータを含む。ここで、固定子ＴＤａ_１２は、Ｙ軸方向に、少なくともウエハステージＷＳＴ１の移動ストロークと同程度の範囲内に延設されている。第１駆動装置ＴＤａ_１により、チューブキャリアＴＣａ_１が、ＸスライダＴＣａ_２上でウエハステージＷＳＴ１の移動ストロークにほぼ等しいストロークでＹ軸方向に駆動される。なお、チューブキャリアＴＣａ_１は、エアベアリング（不図示）を介してＸスライダＴＣａ_２上に非接触で支持されている。

第２駆動装置ＴＤａ_２は、図５（Ｂ）に示されるように、ＸスライダＴＣａ_２の±Ｙ端に設けられた一対の可動子ＴＤａ_２１と、該一対の可動子ＴＤａ_２１のそれぞれに対応して支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４のそれぞれに設けられた固定子ＴＤａ_２２とを有する一対のリニアモータを含む。可動子ＴＤａ_２１は、複数の永久磁石（又は複数のコイル）を含み、固定子ＴＤａ_２２は、複数のコイル（又は複数の永久磁石）を含む。固定子ＴＤａ_２２は、Ｘ軸方向に、ウエハステージＷＳＴ１の移動ストロークと同程度の範囲内に延設されている。第２駆動装置ＴＤａ_２により、ＸスライダＴＣａ_２が、支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４上でウエハステージＷＳＴ１の移動ストロークにほぼ等しいストロークでＸ軸方向に駆動される。なお、ＸスライダＴＣａ_２の両端は、エアベアリング（不図示）を介して支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４上に非接触で支持されている。

ＸスライダＴＣａ_２に対するチューブキャリアＴＣａ_１のＹ軸方向に関する位置情報、及び支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４のそれぞれに対するＸスライダＴＣａ_２の±Ｙ端のＸ軸方向に関する位置情報は、チューブキャリア位置計測系ＴＥＡ（図８参照）を構成する第１、第２計測部ＴＥａ_１、ＴＥａ_２（図８参照）により計測される。

第１計測部ＴＥａ_１は、図５（Ａ）に示されるように、チューブキャリアＴＣａ_１の底部に設けられたヘッド部ＴＨａ_１２と、チューブキャリアＴＣａ_１の底面に対向するＸスライダＴＣａ_２の上面に配置されたＹスケールＴＳａ_２と、を有するＹリニアエンコーダを含む。ここで、ＹスケールＴＳａ_２の表面には、Ｙ軸方向を周期方向とするグレーティングが形成されている。第１計測部ＴＥａ_１（図８参照）では、ヘッド部ＴＨａ_１２がＹスケールＴＳａ_２に計測ビームを照射し、ＹスケールＴＳａ_２の表面にて発生する複数の回折光を受光して、ＹスケールＴＳａ_２に対するヘッド部ＴＨａ_１２のＹ軸方向に関する位置情報、すなわちＸスライダＴＣａ_２に対するチューブキャリアＴＣａ_１のＹ軸方向に関する位置情報を計測する。

一方、第２計測部ＴＥａ_２（図８参照）は、図５（Ａ）に示されるように、ＸスライダＴＣａ_２の±Ｙ端の底部に設けられた一対のヘッド部ＴＨａ_２３，ＴＨａ_２４と、ＸスライダＴＣａ_２の±Ｙ端の底面に対向する支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４のそれぞれの上面に設けられた一対のＸスケールＴＳａ_３，ＴＳａ_４と、を有する一対のＸリニアエンコーダを含む。ここで、一対のＸスケールＴＳａ_３，ＴＳａ_４それぞれの表面には、Ｘ軸方向を周期方向とするグレーティングが形成されている。第２計測部ＴＥａ_２では、ヘッド部ＴＨａ_２３が、ＸスケールＴＳａ_３に計測ビームを照射し、ＸスケールＴＳａ_３にて発生する複数の回折光を受光し、この受光結果に基づいて、ＸスケールＴＳａ_３に対するヘッド部ＴＨａ_２３のＸ軸方向に関する位置情報、すなわち支持部ＴＣａ_３に対するＸスライダＴＣａ_２の−Ｙ端部のＸ軸方向に関する位置情報を計測する。同様に、第２計測部ＴＥａ_２では、ヘッド部ＴＨａ_２４が、ＸスケールＴＳａ_４に計測ビームを照射し、ＸスケールＴＳａ_４にて発生する複数の回折光を受光し、この受光結果に基づいて、ＸスケールＴＳａ_４に対するヘッド部ＴＨａ_２４のＸ軸方向に関する位置情報、すなわち支持部ＴＣａ_４に対するＸスライダＴＣａ_２の＋Ｙ端部のＸ軸方向に関する位置情報を計測する。主制御装置２０（図８参照）は、２つのヘッドの計測結果より、ＸスライダＴＣａ_２のＸ軸方向及びθｚ方向に関する位置情報を求める。

チューブキャリア位置計測系ＴＥＡ（第１及び第２計測部ＴＥａ_１，ＴＥａ_２）の計測結果は、主制御装置２０（図８参照）に送信される。主制御装置２０は、受信した計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１に追従するようにチューブキャリアＴＣａ_１及びＸスライダＴＣａ_２の位置を制御する。

次に、本実施形態で行われるウエハステージＷＳＴ１に対するチューブキャリアＴＣａ_１の追従駆動の一例について、図６（Ａ）〜図６（Ｄ）に基づいて説明する。

主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１をＹ軸方向、例えば−Ｙ方向に駆動する際、第１駆動装置ＴＤａ_１（図５（Ｂ）参照）を制御して、ウエハステージＷＳＴ１に追従するように、図６（Ａ）中の−Ｙ方向（ハッチング付き矢印の方向）に、チューブキャリアＴＣａ_１を駆動する。このようにして、チューブキャリアＴＣａ_１のＹ位置は、常時、ウエハステージＷＳＴ１とほぼ同じＹ位置に維持される。そのため、ウエハステージＷＳＴ１に接続されているフラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２も、ウエハステージＷＳＴ１に追従して、−Ｙ方向（ハッチング付き矢印の方向）に移動する。

さらに、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１をＸ軸方向、例えば図６（Ｂ）中の黒塗り矢印でされるように−Ｘ方向に駆動する際、第２駆動装置ＴＤａ_２（図５（Ｂ）参照）を制御して、ＸスライダＴＣａ_２をウエハステージＷＳＴ１とは反対の方向、すなわち＋Ｘ方向（黒塗り矢印の方向）に駆動することで、チューブキャリアＴＣａ_１を＋Ｘ方向に駆動する。ここで、主制御装置２０は、ＸスライダＴＣａ_２（すなわちチューブキャリアＴＣａ_１）をウエハステージＷＳＴ１のＸ軸方向の移動距離とほぼ同じ距離、ウエハステージＷＳＴ１とは反対の方向に駆動する。

このように、本実施形態に係るステージ装置５０（図１参照）では、ウエハステージＷＳＴ１が−Ｘ方向に移動すると、これに応じてチューブキャリアＴＣａ_１が＋Ｘ方向に移動する、すなわち、図６（Ｂ）に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１がフラットチューブＴａ_２を−Ｘ方向に押し出すのに対し、チューブキャリアＴＣａ_１がフラットチューブＴａ_２を＋Ｘ方向に引っ張ることにより、フラットチューブＴａ_２のＸ軸方への変位が相殺され、チューブキャリアＴＣａ_１のＸ位置が固定である場合などとは異なり、上記フラットチューブＴａ_２の−Ｘ方向への張り出しが回避される。従って、露光装置１００が大型化することがない。これに対し、チューブキャリアＴＣａ_１のＸ位置が固定である場合には、ウエハステージＷＳＴ１が−Ｘ方向に移動すると、フラットチューブＴａ_２が、その屈曲部（Ｕ字状に折り曲げられる部分）の位置を変えながら−Ｘ方向に張り出すので、ステージ装置５０には、フラットチューブＴａ_２と他の部材との接触を回避するためのスペースが必要になる。

一方、フラットチューブＴａ_１については、ＸスライダＴＣａ_２（それに支持されるチューブキャリアＴＣａ_１）が、例えば＋Ｘ方向に駆動されることにより、図６（Ａ）に示されるように、平面視における略Ｕ字状の折り曲げ部の対向する一対の対向面同士が接近する。そのため、フラットチューブＴａ_１は、略Ｕ字状の折り曲げ部より＋Ｘ側（用力源（不図示）に接続された側）の領域がＸ軸方向に動くことがない。

ここで、本実施形態のチューブキャリア装置ＴＣａでは、図６（Ｂ）に示されるように、ＸスライダＴＣａ_２（及びチューブキャリアＴＣａ_１）が＋Ｘ方向に駆動されると、ＸスライダＴＣａ_２は、定盤１４Ａの下方に位置する（例えば、図３参照）。主制御装置２０（図８参照）は、ウエハステージＷＳＴ１を、図６（Ｄ）に示されるように＋Ｘ方向（黒塗り矢印の方向）に駆動する際には、第２駆動装置ＴＤａ_２（図５（Ｂ）参照）を制御して、ＸスライダＴＣａ_２をウエハステージＷＳＴ１とは反対の方向、すなわち−Ｘ方向（黒塗り矢印の方向）に駆動することにより、チューブキャリアＴＣａ_１を−Ｘ方向に駆動する。ここでも、主制御装置２０は、ＸスライダＴＣａ_２を、ウエハステージＷＳＴ１のＸ軸方向の移動距離とほぼ同じ距離、ウエハステージＷＳＴ１とは反対の方向に駆動する。これにより、ウエハステージＷＳＴ１が＋Ｘ方向に移動する際に、フラットチューブＴａ_２と定盤１４Ａとが接触することを防止する。

一方、フラットチューブＴａ_１については、ＸスライダＴＣａ_２（それに支持されるチューブキャリアＴＣａ_１）が−Ｘ方向に駆動されることにより、図６（Ｃ）に示されるように、略Ｕ字状の折り曲げ部の互いに対向する一対の対向面同士が離間する。そのため、フラットチューブＴａ_１は、折り曲げ部より＋Ｘ側（用力源（不図示）に接続された側）の領域がＸ軸方向に動くことがない。

本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１の動きに応じて、上述の如く、チューブキャリア装置ＴＣａを駆動制御することにより、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２から引張力（抗力）を受けることなく、さらに露光装置１００内でフラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２が占有する空間を拡げることもなく、ウエハステージＷＳＴ１を駆動制御することが可能となる。

上述のチューブキャリア装置ＴＣａと同様に、もう１つのチューブキャリア装置ＴＣｂも、フラットチューブＴｂ_１，Ｔｂ_２を保持してＹ軸方向に移動するチューブキャリアＴＣｂ_１と、チューブキャリアＴＣｂ_１を支持してＸ軸方向に移動するＸスライダＴＣｂ_２と、ＸスライダＴＣｂ_２の両端を支持する一対の支持部ＴＣｂ_３，ＴＣｂ_４から構成される。チューブキャリアＴＣｂ_１及びＸスライダＴＣｂ_２は、前述のチューブキャリア駆動系ＴＤＡ（第１、第２駆動装置ＴＤａ_１、ＴＤａ_２）と同様に構成されたチューブキャリア駆動系ＴＤＢ（図８参照）により駆動される。また、ＸスライダＴＣｂ_２に対するチューブキャリアＴＣｂ_１のＹ軸方向に関する位置、及び支持部ＴＣｂ_３，ＴＣｂ_４のそれぞれに対するＸスライダＴＣｂ_２の±Ｙ端のＸ軸方向に関する位置は、チューブキャリア位置計測系ＴＥＡ（第１、第２計測部ＴＥａ_１、ＴＥａ_２）と同様に構成されたチューブキャリア位置計測系ＴＥＢ（図８参照）により計測される。すなわち、チューブキャリア位置計測系ＴＥＢは、図２に示されるように、ヘッド部ＴＨｂ_１２とＹスケールＴＳｂ_２とを含み、チューブキャリアＴＣｂ_１のＹ位置情報を計測する第１計測部ＴＥｂ_１（図８参照）と、ヘッド部ＴＨｂ_２３，ＴＨｂ_２４とＸスケールＴＳｂ_３，ＴＳｂ_４とを含み、ＸスライダＴＣｂ_２のＸ位置情報（θｚ位置情報を含む）を計測する第２計測部ＴＥｂ_２（図８参照）と、を有する。

チューブキャリア位置計測系ＴＥＢの計測結果は、主制御装置２０（図８参照）に送信される。主制御装置２０は、受信した計測結果に基づいて、前述のチューブキャリア装置ＴＣａと同様に、ウエハステージＷＳＴ２の位置に応じてチューブキャリア装置ＴＣｂ（チューブキャリア（Ｙスライダ）ＴＣｂ_１及びＸスライダＴＣｂ_２）を駆動制御する。これにより、フラットチューブＴｂ_１，Ｔｂ_２から引張力（抗力）を受けることなく、さらに露光装置１００内でフラットチューブＴｂ_１，Ｔｂ_２が占有する空間を拡げることもなく、ウエハステージＷＳＴ２を駆動制御することが可能となる。

次にウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の位置情報を計測する計測系について説明する。露光装置１００は、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の位置情報を計測する微動ステージ位置計測系７０（図８参照）と、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２それぞれの位置情報を計測する粗動ステージ位置計測系６８Ａ，６８Ｂ（図８参照）と、を有している。

微動ステージ位置計測系７０は、図１に示される計測バー７１を有している。計測バー７１は、図３に示されるように、一対の定盤１４Ａ、１４Ｂそれぞれの第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ_１の下方に配置されている。計測バー７１は、図１及び図３から明らかなように、Ｙ軸方向を長手方向とする断面矩形の梁状部材から成り、その長手方向の両端部が吊下部材７４をそれぞれ介してメインフレームＢＤに吊り下げ状態で固定されている。すなわち、メインフレームＢＤと計測バー７１とは、一体である。計測バー７１は、＋Ｚ側半部（上半部）が定盤１４Ａ、１４Ｂそれぞれの第２部分１４Ａ_２、１４Ｂ_２相互の間に配置され、−Ｚ側半部（下半部）がベース盤１２に形成された凹部１２ａ内に収容されている。また、計測バー７１と、定盤１４Ａ，１４Ｂ及びベース盤１２それぞれとの間には、所定のクリアランスが形成されており、計測バー７１は、メインフレームＢＤ以外の部材に対しては、非接触な状態となっている。計測バー７１は、熱膨張率が比較的低い材料（例えばインバー、又はセラミックスなど）によって形成されている。

計測バー７１には、図７に示されるように、投影ユニットＰＵの下方に位置する微動ステージ（ＷＦＳ１又はＷＦＳ２）の位置情報を計測する際に用いられる第１計測ヘッド群７２と、アライメント装置９９の下方に位置する微動ステージ（ＷＦＳ１又はＷＦＳ２）の位置情報を計測する際に用いられる第２計測ヘッド群７３と、が設けられている。なお、図面をわかりやすくするため、図７ではアライメント系ＡＬ１、ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４が仮想線（二点鎖線）で示されている。また、図７では、アライメント系ＡＬ２_１〜ＡＬ２_４についての符号は図示が省略されている。

第１計測ヘッド群７２は、図７に示されるように、投影ユニットＰＵの下方に配置され、Ｘ軸方向計測用１次元エンコーダヘッド（以下、Ｘヘッド又はエンコーダヘッドと略述する）７５ｘと、一対のＹ軸方向計測用１次元エンコーダヘッド（以下、Ｙヘッド又はエンコーダヘッドと略述する）７５ｙａ、７５ｙｂと、３つのＺヘッド７６ａ、７６ｂ、７６ｃと、を含む。

Ｘヘッド７５ｘ、Ｙヘッド７５ｙａ、７５ｙｂ、及び３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃは、計測バー７１の内部に、その位置が変化しない状態で配置されている。Ｘヘッド７５ｘは、基準軸ＬＶ上に配置され、Ｙヘッド７５ｙａ、７５ｙｂが、Ｘヘッド７５ｘの−Ｘ側、＋Ｘ側にそれぞれ同じ距離離れて配置されている。本実施形態では、３つのエンコーダヘッド７５ｘ、７５ｙａ、７５ｙｂのそれぞれとして、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号明細書などに開示されるエンコーダヘッドと同様の、光源、受光系（光検出器を含む）、及び各種光学系がユニット化された構成の回折干渉型のヘッドが用いられている。

Ｘヘッド７５ｘ、Ｙヘッド７５ｙａ、７５ｙｂのそれぞれは、ウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）が投影光学系ＰＬ（図１参照）の直下に位置する際、定盤１４Ａと定盤１４Ｂとの間の空隙、又は定盤１４Ａ，１４Ｂそれぞれの第１部分１４Ａ_１、１４Ｂ₁に形成された光透過部（例えば開口）を介して、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の下面に配置されたグレーティングＲＧ（図４（Ｂ）参照）に計測ビームを照射するとともに、グレーティングＲＧからの回折光を受光することにより、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報も含む）を計測する。すなわち、グレーティングＲＧが有するＸ回折格子を用いて微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸ軸方向の位置を計測するＸヘッド７５ｘによって、Ｘリニアエンコーダ５１（図８参照）が構成され、グレーティングＲＧのＹ回折格子を用いて微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＹ軸方向の位置を計測する一対のＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂによって、一対のＹリニアエンコーダ５２、５３（図８参照）が構成されている。Ｘヘッド７５ｘ、Ｙヘッド７５ｙａ、７５ｙｂそれぞれの計測値は、主制御装置２０（図８参照）に供給され、主制御装置２０は、Ｘヘッド７５ｘの計測値に基づいて、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸ軸方向の位置を、一対のＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂの計測値の平均値に基づいて、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＹ軸方向の位置をそれぞれ計測（算出）する。また、主制御装置２０は、一対のＹリニアエンコーダ５２、５３それぞれの計測値を用いて、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のθｚ方向の位置（Ｚ軸回りの回転量）を計測（算出）する。

ここで、Ｘヘッド７５ｘから射出される計測ビームのグレーティングＲＧ上における照射点（検出点）は、ウエハＷ上の露光領域ＩＡ（図１参照）の中心である露光位置に一致する。また、一対のＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂそれぞれから射出される計測ビームのグレーティングＲＧ上の一対の照射点（検出点）の中点は、Ｘヘッド７５ｘから射出される計測ビームのグレーティングＲＧ上の照射点（検出点）と一致する。主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＹ軸方向の位置情報を２つのＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂの計測値の平均に基づいて算出するので、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＹ軸方向に関する位置情報は、実質的にウエハＷに照射される照明光ＩＬの照射領域（露光領域）ＩＡの中心である露光位置で計測される。すなわち、Ｘヘッド７５ｘの計測中心、及び２つのＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂの実質的な計測中心は、露光位置に一致する。従って、主制御装置２０は、Ｘリニアエンコーダ５１及びＹリニアエンコーダ５２、５３を用いることで、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）の計測を、常に露光位置の直下（裏側）で行うことができる。

Ｚヘッド７６ａ〜７６ｃとしては、例えば、ＣＤドライブ装置などで用いられる光ピックアップと同様の光学式の変位センサのヘッドが用いられる。３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃは、二等辺三角形（又は正三角形）の各頂点に対応する位置に配置されている。Ｚヘッド７６ａ〜７６ｃそれぞれは、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の下面に対し下方からＺ軸に平行な計測ビームを照射し、グレーティングＲＧが形成されたプレートの表面（又は反射型回折格子の形成面）によって反射された反射光を受光して、各照射点における微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の面位置（Ｚ軸方向の位置）を計測する面位置計測系５４（図８参照）を構成している。３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃそれぞれの計測値は、主制御装置２０（図８参照）に供給される。

また、３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃそれぞれから射出される計測ビームのグレーティングＲＧ上における３つの照射点を頂点とする二等辺三角形（又は正三角形）の重心は、ウエハＷ上の露光領域ＩＡ（図１参照）の中心である露光位置に一致する。従って、主制御装置２０は、３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃの計測値の平均値に基づいて、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＺ軸方向の位置情報（面位置情報）の計測を、常に露光位置の直下で行うことができる。また、主制御装置２０は、３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃの計測値に基づいて、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＺ軸方向の位置に加えて、θｘ方向及びθｙ方向の回転量を計測（算出）する。

第２計測ヘッド群７３は、Ｘリニアエンコーダ５５（図８参照）を構成するＸヘッド７７ｘ、一対のＹリニアエンコーダ５６、５７（図８参照）を構成する一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂ、及び面位置計測系５８（図８参照）を構成する３つのＺヘッド７８ａ、７８ｂ、７８ｃを有している。Ｘヘッド７７ｘを基準とする、一対のＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂ及び３つのＺヘッド７８ａ〜７８ｃそれぞれの位置関係は、前述のＸヘッド７５ｘを基準とする、一対のＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂ及び３つのＺヘッド７６ａ〜７６ｃそれぞれの位置関係と同様となっている。Ｘヘッド７７ｘから射出される計測ビームのグレーティングＲＧ上における照射点（検出点）は、プライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心に一致する。すなわち、Ｘヘッド７７ｘの計測中心、及び２つのＹヘッド７７ｙａ、７７ｙｂの実質的な計測中心は、プライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心に一致する。従って、主制御装置２０は、微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）のＸＹ平面内の位置情報、及び面位置情報の計測を、常にプライマリアライメント系ＡＬ１の検出中心で行うことができる。

なお、本実施形態のＸヘッド７５ｘ、７７ｘ、及びＹヘッド７５ｙａ、７５ｙｂ、７７ｙａ、７７ｙｂは、それぞれ図示しない光源、受光系（光検出器を含む）、及び各種光学系がユニット化されて計測バー７１の内部に配置されているが、エンコーダヘッドの構成は、これに限らず、例えば、光源及び受光系が計測バーの外部に配置されていても良い。この場合、計測バーの内部に配置された光学系と、光源及び受光系とを、例えば光ファイバなどを介してそれぞれ接続する。また、エンコーダヘッドを計測バーの外部に配置し、計測ビームのみを計測バーの内部に配置した光ファイバを介してグレーティングに案内する構成でも良い。また、ウエハのθｚ方向の回転情報は、一対のＸリニアエンコーダを用いて計測しても良い（この場合、Ｙリニアエンコーダは一つで良い）。また、微動ステージの面位置情報は、例えば光干渉計を用いて計測しても良い。また、第１計測ヘッド群７２、第２計測ヘッド群７３の各ヘッドの代わりに、Ｘ軸方向及びＺ軸方向を計測方向とするＸＺエンコーダヘッドと、Ｙ軸方向及びＺ軸方向を計測方向とするＹＺエンコーダヘッドとを、少なくとも各１つ含む合計で３つのエンコーダヘッドを、前述のＸヘッド、及び一対のＹヘッドと同様の配置で設けても良い。

粗動ステージ位置計測系６８Ａ（図８参照）は、ウエハステージＷＳＴ１が定盤１４Ａ上で露光ステーション２００と計測ステーション３００との間を移動する際に、粗動ステージＷＣＳ１（ウエハステージＷＳＴ１）の位置情報を計測する。粗動ステージ位置計測系６８Ａの構成は特に限定されず、エンコーダシステム、あるいは光干渉計システム（光干渉計システムとエンコーダシステムとを組み合わせても良い）を含む。粗動ステージ位置計測系６８Ａがエンコーダシステムを含む場合には、例えばウエハステージＷＳＴ１の移動経路に沿ってメインフレームＢＤに吊り下げ状態で固定された複数のエンコーダヘッドから、粗動ステージＷＣＳ１の上面に固定（又は形成）されたスケール（例えば二次元グレーティング）に計測ビームを照射し、その回折光を受光して粗動ステージＷＣＳ１の位置情報を計測する構成とすることができる。粗動ステージ位置計測系６８Ａが光干渉計システムを含む場合には、Ｘ軸及びＹ軸に平行な測長軸をそれぞれ有するＸ光干渉計、Ｙ光干渉から粗動ステージＷＣＳ１の側面に測長ビームを照射し、その反射光を受光してウエハステージＷＳＴ１の位置情報を計測する構成とすることができる。

粗動ステージ位置計測系６８Ｂ（図８参照）は、粗動ステージ位置計測系６８Ａと同様の構成を有し、粗動ステージＷＣＳ２（ウエハステージＷＳＴ２）の位置情報を、計測する。主制御装置２０は、粗動ステージ位置計測系６８Ａ、６８Ｂの計測値に基づいて、粗動ステージ駆動系６２Ａ、６２Ｂを個別に制御し、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２（ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２）それぞれの位置を制御する。

また、露光装置１００は、粗動ステージＷＣＳ１と微動ステージＷＦＳ１との相対位置、及び粗動ステージＷＣＳ２と微動ステージＷＦＳ２との相対位置を、それぞれ計測する相対位置計測系６６Ａ，６６Ｂをも備えている（図８参照）。相対位置計測系６６Ａ，６６Ｂの構成は、特に限定されないが、例えば静電容量センサを含むギャップセンサにより構成することができる。この場合、ギャップセンサは、例えば粗動ステージＷＣＳ１（又はＷＣＳ２）に固定されたプローブ部と、微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）に固定されたターゲット部と、により構成することができる。なお、相対位置計測系の構成は、これに限られず、例えばリニアエンコーダシステム、光干渉計システムなどを用いて、相対位置計測系を構成しても良い。

図８には、露光装置１００の制御系を中心的に構成し、構成各部を統括制御する主制御装置２０の入出力関係を示すブロック図が示されている。主制御装置２０は、ワークステーション（又はマイクロコンピュータ）等を含み、定盤駆動系６０Ａ，６０Ｂ、粗動ステージ駆動系６２Ａ，６２Ｂ、微動ステージ駆動系６４Ａ，６４Ｂ、及びチューブキャリア駆動系ＴＤＡ，ＴＤＢなど、露光装置１００の構成各部を統括制御する。

以上のようにして構成された露光装置１００では、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を交互に用いて、所定ロット数又は所定枚数のウエハに対する露光が行われる。すなわち、主制御装置２０により、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の一方に保持されたウエハに対する露光動作が行われているのと並行して、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の他方上でのウエハ交換、ウエハアライメントの少なくとも一部が行われ、上記の並行処理動作が、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を交互に用いて、通常のツインウエハステージタイプの露光装置と同様にして行われる。露光装置１００では、通常のツインウエハステージタイプの露光装置と、同様の動作が行われるので、詳細説明は省略する。

ただし、露光装置１００では、上述の並行処理動作に際して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に駆動する際に、ウエハステージの動きに対応して、前述のようにして、チューブキャリア駆動系ＴＤＡ，ＴＤＢを介して、チューブキャリアＴＣａ_１，ＴＣｂ_１を駆動する。この場合において、ウエハステージＷＳＴ１は、その中心が基準軸ＬＶの＋Ｘ側に位置する位置と定盤１４Ａ上の−Ｘ端部との間で、Ｘ軸方向に関して移動する。また、ウエハステージＷＳＴ２は、その中心が基準軸ＬＶの−Ｘ側に位置する位置と定盤１４Ｂ上の＋Ｘ端部との間で、Ｘ軸方向に関して移動する。しかし、主制御装置２０により、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）がＸ軸方向に駆動される際には、その駆動量と同一量だけチューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）が反対向きに駆動されるので、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）がＸ軸方向に関して大きく移動しても、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２）に作用する張力はほぼ一定になるとともに、フラットチューブＴａ_２（Ｔｂ_２）のＸ軸方向外側へのはみ出し量もほぼ一定となる。すなわち、フラットチューブＴａ_２（Ｔｂ_２）には、常に一定の曲率のＵ字状の折り曲げ部が形成される。

以上詳細に説明したように、本実施形態の露光装置１００には、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）に用力を供給するフラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２）を保持してＹ軸方向に移動するチューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）と、チューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）を支持してＸ軸方向に移動するＸスライダＴＣａ_２（ＴＣｂ_２）と、ＸスライダＴＣａ_２（ＴＣｂ_２）の両端を支持する一対の支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４（ＴＣｂ_３，ＴＣｂ_４）と、を有するチューブキャリア装置ＴＣａ（ＴＣｂ）が、設けられている。そして、主制御装置２０により、チューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）が、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）のＹ軸方向の動きに合わせてＹ軸方向に駆動され、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）のＸ軸方向の動きに合わせて相対する方向（反対の方向）にＸスライダＴＣａ_２（ＴＣｂ_２）と一体で駆動される。このため、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）が、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２）から抗力（引張力）を殆ど受けることが無くなり、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）を精度良く駆動することが可能となる。また、チューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）の短ストロークの移動方向であるＸ軸方向へのウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）の移動の際に、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２）が外側にはみ出すことがない。

また、本実施形態の露光装置１００によると、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２のＸＹ平面に平行な計測面に、計測ビームを照射し、その計測面に配置されたグレーティングＲＧからの光を受光するエンコーダヘッド７５ｘ，７５ｙａ，７５ｙｂの少なくとも一部が、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２（ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の移動の際のガイド面（定盤１４Ａ，１４Ｂの上面）に対して投影光学系ＰＬとは反対側（−Ｚ側）に配置された計測バー７１に配置されている。また、露光動作時、及びウエハアライメント時（主としてアライメントマークの計測時）において、ウエハＷを保持する微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の位置情報（ＸＹ平面内の位置情報、及び面位置情報）の計測には、計測バー７１に固定された第１計測ヘッド群７２、第２計測ヘッド群７３がそれぞれ用いられる。そして、第１計測ヘッド群７２を構成するエンコーダヘッド７５ｘ、７５ｙａ、７５ｙｂ及びＺヘッド７６ａ〜７６ｃ、並びに第２計測ヘッド群７３を構成するエンコーダヘッド７７ｘ、７７ｙａ、７７ｙｂ及びＺヘッド７８ａ〜７８ｃは、それぞれ微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）の底面に配置されたグレーティングＲＧに対して、真下から最短距離で計測ビームを照射することができる。このため、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の周辺雰囲気の温度揺らぎ、例えば空気揺らぎに起因するエンコーダヘッド７５ｘ，７５ｙａ，７５ｙｂ等の計測誤差が小さくなり、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の位置情報の高精度な計測が可能となる。従って、微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２が大型化しても、微動ステージ位置計測系７０によって微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の位置情報が高精度に計測され、その計測情報、すなわち高精度に計測された微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の位置情報に基づいて、主制御装置２０によって微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２の位置が、高精度に制御される。

また、第１計測ヘッド群７２は、実質的にウエハＷ上の露光領域ＩＡの中心である露光位置に一致する点で微動ステージＷＦＳ１（又はＷＦＳ２）のＸＹ平面内の位置情報及び面位置情報を計測し、第２計測ヘッド群７３は、実質的にプライマリアライメント系ＡＬ１の検出領域の中心に一致する点で微動ステージＷＦＳ２（又はＷＦＳ１）のＸＹ平面内の位置情報及び面位置情報を計測する。従って、計測点と露光位置とのＸＹ平面内における位置誤差に起因するいわゆるアッベ誤差の発生が抑制され、この点においても、微動ステージＷＦＳ１又はＷＦＳ２の位置情報の高精度な計測が可能になる。

なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）の移動に応じて、主制御装置２０が、チューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）を駆動する、すなわち微動ステージ位置計測系７０、粗動ステージ位置計測系６８Ａ（６８Ｂ）、及びチューブキャリア位置計測系ＴＥＡ（ＴＥＢ）の計測情報に基づいて、チューブキャリアＴＣａ_１（ＴＣｂ_１）を駆動する場合について説明した。しかし、チューブキャリアの位置制御の要求精度は、ウエハステージに比べて低いので、位置情報の計測を行うことなく、チューブキャリアを、例えば電流値の制御などで、ウエハステージＷＳＴ１（ＷＳＴ２）の移動に連動させても良い。

なお、上記実施形態におけるチューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂに替えて、チューブキャリアＴＣａ_１，ＴＣｂ_１が、フラットチューブＴａ_１，Ｔａ_２（Ｔｂ_１，Ｔｂ_２）を保持して、定盤１４Ａ，１４Ｂ又はベース盤１２上でＸＹ方向に移動する構成を採用することも可能である。この場合において、チューブキャリアＴＣａ_１，ＴＣｂ_１の底部に可動子を設け、この可動子と定盤１４Ａ，１４Ｂ又はベース盤１２内に設けられた固定子とから構成される平面モータ（電磁力（ローレンツ力）駆動方式、可変磁気抵抗駆動方式等の平面モータ）を、チューブキャリアＴＣａ_１，ＴＣｂ_１の駆動装置として採用することができる。

また、上記実施形態では、チューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂの位置情報、すなわちＸスライダＴＣａ_２，ＴＣｂ_２に対するチューブキャリアＴＣａ_１，ＴＣｂ_１のＹ軸方向に関する位置情報、及び支持部ＴＣａ_３，ＴＣａ_４及びＴＣｂ_３，ＴＣｂ_４のそれぞれに対するＸスライダＴＣａ_２，ＴＣｂ_２の±Ｙ端のＸ軸方向に関する位置情報を、エンコーダ（第１及び第２計測部ＴＥａ_１，ＴＥａ_２）を用いて計測する構成を採用した。ここで、チューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂの位置計測器として、エンコーダに替えて、例えば干渉計等を採用することも可能である。

また、上記実施形態では、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を備える露光装置１００において、２つのステージのそれぞれにチューブキャリア装置ＴＣａ，ＴＣｂを付設したが、１つのウエハステージのみあるいは３以上のウエハステージを備える露光装置１００において、同様の構成のチューブキャリアを付設することも可能である。

なお、上記実施形態の露光装置は、２つのウエハステージに対応して２つの定盤を有していたが、定盤の数はこれに限らず、例えば一つでも良い。また、例えば米国特許出願公開第２００７／０２０１０１０号明細書に開示されるような、例えば、空間像計測器、照度むら計測器、照度モニタ、波面収差計測器などを有する計測ステージが定盤上に配置されても良い。

また、上記実施形態では、計測バー７１は、長手方向の両端部がメインフレームＢＤに吊り下げ支持されたが、これに限らず、例えば、米国特許出願公開第２００７／０２０１０１０号明細書に開示されるような自重キャンセラにより長手方向の中間部分（複数箇所でも良い）がベース盤上で支持されていても良い。

また、定盤１４Ａ，１４Ｂをベース盤１２上で駆動するモータとしては、電磁力（ローレンツ力）駆動方式の平面モータに限らず、例えば可変磁気抵抗駆動方式の平面モータ（又はリニアモータ）でも良い。また、モータは、平面モータに限らず、定盤の側面に固定された可動子と、ベース盤に固定された固定子とを含むボイスコイルモータでも良い。また、定盤は、例えば米国特許出願公開第２００７／０２０１０１０号明細書などに開示されるような自重キャンセラを介してベース盤上で支持されても良い。さらに、定盤の駆動方向は、６自由度方向に限られず、例えばＹ軸方向のみ、あるいはＸＹ２軸方向のみであっても良い。この場合、気体静圧軸受（例えばエアベアリング）などにより定盤をベース盤の上で浮上させても良い。また、定盤の移動方向がＹ軸方向のみで良い場合、定盤は、例えばＹ軸方向に延設されたＹガイド部材上にＹ軸方向に移動可能に搭載されても良い。

また、上記実施形態では、微動ステージの下面、すなわち定盤の上面に対向する面にグレーティングが配置されたが、これに限らず、微動ステージの本体部を光が透過可能な中実部材とし、グレーティングを本体部の上面に配置しても良い。この場合、上記実施形態に比べ、ウエハとグレーティングとの距離が接近するので、露光点を含むウエハの被露光面と、エンコーダ５１，５２，５３による微動ステージの位置計測の基準面（グレーティングの配置面）とのＺ軸方向の差に起因して生じるアッベ誤差を小さくすることができる。また、グレーティングは、ウエハホルダの裏面に形成されても良い。この場合、露光中にウエハホルダが膨張したり、微動ステージに対する装着位置がずれたりした場合であっても、これに追従してウエハホルダ（ウエハ）の位置を計測することができる。

また、上記実施形態では、一例としてエンコーダシステムが、Ｙヘッドと一対のＸヘッドを備える場合について説明したが、これに限らず、例えばＸ軸方向及びＹ軸方向の２方向を計測方向とする二次元ヘッド（２Ｄヘッド）を、１つ又は２つ計測バー内に配置しても良い。２Ｄヘッドを２つ設ける場合には、それらの検出点がグレーティング上で露光位置を中心として、Ｘ軸方向に同一距離離れた２点になるようにしても良い。

また、上記実施形態では、エンコーダヘッドから射出される計測ビーム、Ｚヘッドから射出される計測ビームは、それぞれ２つの定盤の間の隙間、あるいは各定盤に形成された光透過部を介して微動ステージのグレーティングに照射されるものとした。この場合、光透過部としては、例えば、各計測ビームのビーム径よりも幾分大きめの孔などを、定盤１４Ａ，１４Ｂのカウンタマスとしての移動範囲を考慮して、定盤１４Ａ，１４Ｂにそれぞれ形成し、計測ビームがこれら複数の開口部を通過するようにしても良い。また、例えば各エンコーダヘッド、各Ｚヘッドとして、ペンシル型のヘッドを用い、各定盤にこれらのヘッドが挿入される開口部を形成しても良い。

また、ドライタイプの露光装置に対して上記実施形態を適用した場合について説明したが、それに限らず、例えば国際公開第９９／４９５０４号、米国特許出願公開第２００５／０２５９２３４号明細書などに開示されるウェットタイプ（液浸型）の露光装置に対して適用することも可能である。

なお、上記実施形態では、露光装置がスキャニング・ステッパである場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置であっても良い。ステッパなどであっても、露光対象の物体が搭載されたステージの位置をエンコーダで計測することにより、空気揺らぎに起因する位置計測誤差の発生を殆ど零にすることができ、エンコーダの計測値に基づいて、ステージを高精度に位置決めすることが可能になり、結果的に高精度なレチクルパターンの物体上への転写が可能になる。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置にも上記実施形態は適用することができる。

また、上記実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍系及び拡大系のいずれでも良いし、投影光学系は屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。

また、照明光ＩＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）に限らず、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）などの紫外光や、Ｆ₂レーザ光（波長１５７ｎｍ）などの真空紫外光であっても良い。例えば米国特許第７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。

また、上記実施形態では、露光装置の照明光ＩＬとしては波長１００ｎｍ以上の光に限らず、波長１００ｎｍ未満の光を用いても良いことはいうまでもない。例えば、軟Ｘ線領域（例えば５〜１５ｎｍの波長域）のＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を用いるＥＵＶ露光装置に上記実施形態を適用することができる。その他、電子線又はイオンビームなどの荷電粒子線を用いる露光装置にも、上記実施形態は適用できる。

また、上記実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。かかる可変成形マスクを用いる場合には、ウエハ又はガラスプレート等が搭載されるステージが、可変成形マスクに対して走査されるので、このステージの位置をエンコーダシステムを用いて計測することで、上記実施形態と同等の効果を得ることができる。

また、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているように、干渉縞をウエハＷ上に形成することによって、ウエハＷ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも上記実施形態を適用することができる。

さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを、投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも上記実施形態を適用することができる。

なお、上記実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものでなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど他の物体でも良い。

露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置や、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも上記実施形態を適用できる。

なお、これまでの説明で引用した露光装置などに関する全ての公報、国際公開、米国特許出願公開明細書及び米国特許明細書の開示を援用して本明細書の記載の一部とする。

半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。

以上説明したように、本発明の露光装置は、エネルギビームにより物体を露光するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、電子デバイスを製造するのに適している。

Claims (8)

1. エネルギビームの照射により物体を露光する露光装置であって、
   前記物体を保持し、所定の外部装置との間で前記露光のための用力の伝達を行う際の伝達路を形成する可撓性を有する用力伝達部材の一端が接続され、互いに直交する第１軸及び第２軸を含む所定の二次元平面に平行な第１平面に沿って移動可能な移動体と、
   前記移動体に対して前記第１軸に平行な方向の一側に配置され、前記用力伝達部材の他端が接続され、前記移動体の動きに応じて前記二次元平面に平行な第２平面に沿って移動するとともに、前記移動体が前記第１軸に平行な方向の一側に移動する際には、前記第１軸に平行な方向の他側に移動する補助移動体と、
   を備える露光装置。
2. 前記第１平面と前記第２平面とは、前記二次元平面に直交する第３軸に平行な方向の位置が異なる請求項１に記載の露光装置。
3. 前記補助移動体は、前記移動体が前記第２軸に平行な方向に移動する際には、前記移動体と同方向に移動する請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記用力伝達部材は、前記第１軸に平行な方向に関して折り返して、前記移動体と前記補助移動体とに接続されている請求項１〜３のいずれか一項に記載の露光装置。
5. 前記補助移動体を前記第２軸に平行な方向に移動可能に支持する第１支持部材と、前記第１支持部材を前記第１軸に平行な方向に移動可能に支持する第２支持部材と、前記補助移動体を前記第１支持部材に沿って駆動する第１モータと、前記第１支持部材を前記第２支持部材に沿って駆動する第２モータとを含み、前記補助移動体を前記第１軸及び第２軸に平行な方向に駆動する駆動系をさらに備える請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置。
6. 前記補助移動体の前記第１支持部材に対する前記第２軸に平行な方向に関する位置情報を計測する第１計測系と、前記第２支持部材に対する前記第１支持部材の前記第１軸に平行な方向に関する位置情報を計測する第２計測系とを含み、前記補助移動体の位置情報を計測する補助計測系をさらに備える請求項５に記載の露光装置。
7. 前記移動体の前記二次元平面内の位置情報を計測する計測系と、
   前記計測系及び前記補助計測系の計測情報に基づいて、前記補助移動体を駆動制御する制御系をさらに備える請求項６に記載の露光装置。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光装置を用いて物体を露光することと、
   露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。

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