JP6353487B2 - 投影露光装置及びその投影露光方法 - Google Patents

Description

本発明は、投影露光装置のスループットを向上させる技術に関し、特に、トータルの投影露光時間を減少させてスループットを向上させる技術に関する。

フォトリソグラフィ技術を用いて、フォトマスク（レチクル）上のパターンを、ウェハ又は基板等のワーク上に転写させる投影露光装置は、例えば、引用文献１あるいは引用文献２に開示されている。

引用文献１では、原板（レチクル：フォトマスク）上のパターンが、投影レンズを介して、Ｘ（横）−Ｙ（縦）−θ（回転）方向に移動可能なテーブル（又はステージ）上に戴置された１個の被露光体（ワーク）に投影される。被露光体（ワーク）のＸＹ各方向の位置は、レーザ干渉計を用いた位置検出手段により検出される。引用文献１では、ステップ露光におけるレチクルとウエハの位置合わせを高精度に行うためのステップ移動方向と、位置検出手段のレーザ干渉計に対するウエハの移動方向を開示している。

引用文献２では、１個のワークの戴置されるテーブル（又はステージ）がＸ（横）−Ｙ（縦）−θ（回転）方向に移動可能であるだけでなく、フォトマスク（レチクル）の戴置されるテーブルがＸ（横）−Ｙ（縦）−θ（回転）方向に移動可能になっている。引用文献２では、双方のテーブルのスキャン方向とスキャン速度等を個別に設定できることが開示されている。

特開２００１−２０３１６１号 特開平１１−２６０６９７号

しかしながら、ワークの材料としては、例えば結晶材料のように脆性を有する材料や、非結晶であってもガラス等のように脆性の材料が用いられる場合があり、取り扱いを慎重に、則ち比較的低速時間をかけて行う必要がある。そのため、ステージ上の露光可能領域内にワークをロード及びアンロードするために必要な時間は、例えば７０秒等のように非常に長い時間が必要である。

また、近年における転写パターンの高精細化により、投影露光装置でワーク上にパターンを転写させる際の、ステージ上のワークの位置検出についても高い精度が求められており、位置検出に必要な時間が増加する傾向にある。また、ステップ露光等のように複数の位置に移動させながら複数回の露光を実施する場合にはさらに多くの位置検出時間が必要になる。

特許文献１及び２のような従来の投影露光装置では、まず、ステージ上の所定位置にワークをロードし、次にそのワークのステージ上の位置を検出し、さらにその次に検出された位置に合わせてステージ又はフォトマスクの位置を各方向に調整してから露光を実施していた。つまり、従来の投影露光装置及びその投影露光方法では、各処理を１処理づつ個別に順番に実施しており、トータルの処理時間を短縮するには、個別の各処理に必要な時間を短縮するか、又は、各処理の間の切り換える時間を短縮するしか方法がなかった。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、投影露光工程におけるワークのロード／アンロード、ステージ上の戴置されたワークの位置検出、及び、ワークの位置に対応させた投影露光の各処理の少なくとも二つの並列実施を可能にすることにより、従来よりもトータルの処理時間を短縮することのできる投影露光装置及びその投影露光方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の投影露光装置は、フォトマスクの所定パターンをワーク上の所定位置に合わせて光源からの光で投影露光することでワーク上に所定パターンを形成する投影露光装置であって、ワークを載置する部位の最上面に、２個のワークが重ならないで同時に載置が可能なように２個の第1領域及び第２領域が形成されて交互に逆方向へ摺動及び各方向端部の所定の第１停止位置及び第２停止位置への一時停止が可能に構成された摺動テーブルと、摺動テーブルの各領域内へワークを各々個別にロード及びアンロードできる２個の第１ローダと、摺動テーブルが所定の第１停止位置に一時停止した場合に、摺動テーブルにおける第1領域の直上部に、当該第１領域内に載置されたワークの戴置位置を検出するように配置された第１位置検出手段と、摺動テーブルが所定の第２停止位置に一時停止した場合に、摺動テーブルにおける第２領域の直上部に、当該第２領域内に載置されたワークの戴置位置を検出するように配置された第２位置検出手段と、摺動テーブルが所定の第１停止位置に一時停止した場合に、摺動テーブルにおける第２領域の直上部であって、当該第２領域内に載置されたワークに投影露光でき、且つ、摺動テーブルが所定の第２停止位置に一時停止した場合に、摺動テーブルにおける第１領域の直上部であって、当該第１領域内に載置されたワークに投影露光できるように配置された光源、フォトマスク及び投影光学系と、摺動テーブルの摺動および各停止位置での停止と、第１ローダによる各領域内へのワークのロード及びアンロード、位置検出手段による各領域内のワークの戴置位置の検出、光源、フォトマスク及び投影光学系による各領域内のワークへの投影露光、の各処理を制御する制御部と、を有し、制御部が、第２領域内に載置されたワークに対して光源、フォトマスク及び投影光学系により投影露光する時に、第１領域内に載置されたワークの戴置位置を位置検出手段で検出し、逆に第１領域内に載置されたワークに対して光源、フォトマスク及び投影光学系により投影露光する時に、第２領域内に載置されたワークの戴置位置を位置検出手段で検出する並行処理を実施することを特徴とする投影露光装置。

好ましくは、本発明の投影露光装置は、投影露光装置が、1個のワークに対して、投影露光するパターンを複数ショットでステップ露光する露光装置であるようにするとよい。

好ましくは、本発明の投影露光装置は、位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、フォトマスクを縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含むようにするとよい。

好ましくは、本発明の投影露光装置は、位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、フォトマスクを露光光に対して直交面から角度を変更するチルト駆動手段を含むようにするとよい。

好ましくは、本発明の投影露光装置は、位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、摺動テーブルの下に配置されるステージを、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含むようにするとよい。

好ましくは、本発明の投影露光装置は、位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、投影光学系を、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含むようにするとよい。

上記目的を達成するために、本発明の投影露光装置を用いる投影露光方法は、フォトマスクの所定パターンをワーク上の所定位置に合わせて光源からの光で投影露光することでワーク上に所定パターンを形成し、ワークを載置する部位の最上面に、２個のワークが重ならないで同時に載置が可能なように２個の第1領域及び第２領域が形成されて交互に逆方向へ摺動及び各方向端部の所定の第１停止位置及び第２停止位置への一時停止が可能に構成された摺動テーブルを有する投影露光装置を用いる投影露光方法であって、（Ａ）摺動テーブルを摺動させて所定の第１停止位置に第１領域一時停止させるステップと、（Ｂ）摺動テーブルの第１領域内にワークをロードさせるステップと、（Ｃ）第１領域内のワークの戴置位置を検出するステップと、（Ｄ）摺動テーブルを再摺動させて所定の第２停止位置に第１領域一時停止させるステップと、（Ｅ）第１領域内のワークにフォトマスク上のパターンを投影露光するステップと、（Ｆ）摺動テーブルの第２領域内に投影露光が終了したワークがある場合には、（Ｅ）の投影露光処理と並行して、その第２領域内から投影露光が終了したワークをアンロードするステップと、（Ｇ）前記（Ａ）〜（Ｆ）の所定の第１停止位置の第１領域と所定の第２停止位置の第２領域を入れ替えて次のサイクルの処理を行い、以降のサイクルについては、第１領域と第２領域を交互に入れ替えて実施するステップと、を有する。

本発明の露光装置によれば、ワークを載置する部位の最上面に、複数のワークが重ならないで同時に載置が可能なように複数の領域が形成されて、摺動（スライド）及び所定の複数の停止位置への一時停止が可能に構成された往復運動型の摺動テーブルを設けると共に、ワークへフォトマスク上のパターンを投影する投影光学系を中心として、そのスライド方向で両側に、ワークの第１ローダ、摺動テーブル上のワークの位置検出手段、を摺動テーブル上の異なる領域に各々対応させて配置することで、各処理の並列実施が可能になる。これにより、従来よりもワークへのトータルの露光時間を短縮することのできる投影露光装置及びその投影露光方法を提供することできる。

（ａ）〜（ｃ）は本発明の第１の実施形態の露光装置の摺動テーブルが第１停止位置に停止した場合の概略構成を示す図であり、（ａ）が第１停止位置の場合の側面図、（ｂ）が第２停止位置の場合の側面図、（ｃ）が上面図である。 本発明の第１の実施形態の露光装置の動作フローチャートである。

＜第１実施形態＞
以下、本発明に係る第１の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。図１（ａ）、（ｂ）には、本発明の第１の実施形態の露光装置１の概略構成を示しており、ワーク用ステージ基台１４０の上に略矩形のワーク用摺動テーブル１２０が設置されている。

ワーク用摺動テーブル１２０上には、２個のワーク戴置用第１領域１１０及びワーク戴置用第２領域１１１が、当該摺動テーブル１２０の長辺の両端部に配置されている。ワーク戴置用第１領域１１０及びワーク戴置用第２領域１１１は、第１ワーク５１０及び第２ワーク５１１の各表面積よりも大きく、該各ワークを各々戴置するに充分な面積をそれぞれ有しており、また、各領域には、各ワークが干渉しない場所に位置の認識標章（ＩＤ）や位置測定の基準点を示すマーカー（不図示）が設けられていてもよい。

ワーク用摺動テーブル１２０は、ＸＹＺチルト駆動部１５０を介して、マイクロコンピュータや中央演算ユニット（ＣＰＵ）を含む制御部４１０に接続される。制御部４１０からの命令により、ＸＹＺチルト駆動部１５０から駆動用信号がワーク用摺動テーブル１２０に送出される。ワーク用摺動テーブル１２０は、不図示の駆動機構等により、精密に摺動テーブルの平面上における摺動する距離と停止位置を制御することができる。また、ワーク用摺動テーブル１２０は、不図示の電源と接続されて摺動に必要な電力が供給されている。

ワーク用ステージ基台１４０は、ワーク用摺動テーブル１２０をＸ、Ｙ、Ｚの各方向あるいはチルトさせるための基台であり、必要に応じて、駆動機構やガイドレール等を設けてもよい。本実施形態では、Ｘ方向のみに摺動させる場合を説明するが、所定パターンを露光させるための位置合わせ等で他の方向やチルトの機能を使用することができる。

ワーク戴置用第１領域１１０は、制御部４１０により制御されたＸＹＺチルト駆動部１５０を介してワーク用摺動テーブル１２０を摺動させることにより、第１停止位置６１０又は第２停止位置６１１まで移動し、その位置に停止することができる。露光されるパターンが詳細なパターンになるほど、摺動精度、停止精度を高くすると共に精密な制御が必要になる。第１停止位置６１０に一時停止した場合のワーク戴置用第１領域１１０の直上部には、例えば、第１位置検出部２１０が配置される。また、図１（ａ）では、第１ローダ３１０が、第１停止位置６１０に一時停止した場合のワーク戴置用第１領域１１０の領域の上部又は近傍に配置されている。第１ローダ３１０は、第１停止位置６１０に一時停止したワーク戴置用第１領域１１０から露光済みのワークをアンロードでき、未露光のワークをその領域からロードすることができる。ワーク用摺動テーブル１２０上から降ろされた露光済みワークを次の工程に送ったり、未露光ワークを第１ローダ３１０の近傍まで移動させるには、例えば、不図示のコンベア等を用いることができる。また、第２停止位置６１１の直上部には、露光用の投影光学系５０が配置される。

ワーク戴置用第２領域１１１も、制御部４１０により制御されたワーク用摺動テーブル１２０を摺動させることにより、第１停止位置６１０又は第２停止位置６１１まで移動し、その位置に停止することができる。第１停止位置６１０と第２停止位置６１１は、略矩形のワーク用摺動テーブル１２０の長辺の両端部に配置されているので、第１停止位置６１０に一時停止している時には、ワーク戴置用第１領域１１０の直上部に第１位置検出部２１０が配置され、ワーク戴置用第１領域１１０の領域の上部又は近傍には第１ローダ３１０が配置され、ワーク戴置用第２領域１１１の直上部には露光用の投影光学系５０が配置されるが、第２停止位置６１１に一時停止している時には、ワーク戴置用第２領域１１１の直上部に第２位置検出部２１１が配置され、ワーク戴置用第２領域１１１の領域の上部又は近傍には第２ローダ３１１が配置され、ワーク戴置用第１領域１１０の直上部には露光用の投影光学系５０が配置される。

露光用の投影光学系５０のさらに上部には、光源部１０、フォトマスク２０、マスク用ＸＹθステージ３０、マスク用チルトステージ４０が配置される。図１（ａ）の場合は、光源部１０からの露光光が、フォトマスク２０及び投影光学系５０を透過して、第１停止位置６１０に一時停止している時のワーク戴置用第２領域１１１に戴置された第２ワーク５１１を露光し、それにより、フォトマスク２０上の所定パターンを第２ワーク５１１上に転写する。

マスク用ＸＹθステージ３０は、マスク用ＸＹθステージ駆動部６０を介して、マイクロコンピュータや中央演算ユニット（ＣＰＵ）を含む制御部４１０に接続される。制御部４１０からの命令により、マスク用ＸＹθステージ駆動部６０から駆動用信号がマスク用ＸＹθステージ３０に送出される。マスク用ＸＹθステージ３０は、不図示のステージ平面上で、Ｘ方向（横方向）、Ｙ方向（縦方向）及びθ（回転）方向に移動させることができるマスク用ＸＹθステージ駆動部６０により、精密にステージ平面上のＸＹθ（縦、横、回転）方向の停止位置を制御することができる。また、マスク用ＸＹθステージ３０も、不図示の電源と接続されてＸＹθ（縦、横、回転）方向の移動に必要な電力が供給されている。

マスク用チルトステージ４０は、マスク用チルトステージ駆動部７０を介して、マイクロコンピュータや中央演算ユニット（ＣＰＵ）を含む制御部４１０に接続される。制御部４１０からの命令により、マスク用チルトステージ駆動部７０から駆動用信号がマスク用チルトステージ４０に送出される。マスク用チルトステージ４０は、不図示のステージ平面を光軸に垂直な角度から傾けてチルトさせることができるマスク用チルトステージ駆動部７０により、精密にステージ平面が傾いた（チルトさせた）状態の停止位置を制御することができる。また、マスク用チルトステージ４０も、不図示の電源と接続されてステージ平面をチルトさせるために必要な電力が供給されている。

制御部４１０は、フォトマスク２０上の所定パターンが、第２ワーク５１１上の所定の位置に正確に転写されるように、ワーク用摺動テーブル１２０、ワーク用ステージ基台１４０、マスク用ＸＹθステージ３０及びマスク用チルトステージ４０の平面上の位置と、平面上の角度及びチルト角度を制御する。その際には、例えば、不図示のフォトマスク用顕微鏡及びワーク用顕微鏡等を用いて、やはり不図示のフォトマスク上のマスクアライメントマークが、ワーク上のワークアライメントマークに合致するように制御を行うことができる。また、必要に応じて、投影光学系５０にも駆動部を設け、フォトマスク上の所定パターンをワーク上の所定位置に投影させるための制御に利用する事ができる。

次に図２を用いて本実施形態の動作を説明する。まず、処理を開始すると、摺動テーブル１２０が第１停止位置６１０に一時停止中であるか否かを確認する（Ｓ１）。摺動テーブル１２０が第１停止位置６１０に一時停止中であれば（Ｓ１：Ｙｅｓ）、摺動テーブル１２０のワーク戴置用第１領域１１０に未露光のワークが戴置されていないか否かを確認する（Ｓ２）。摺動テーブル１２０が第１停止位置６１０に一時停止中でなければ（Ｓ１：Ｎｏ）、摺動テーブル１２０は第２停止位置６１１に一時停止中ということになるので、ステップＳ７に進む。

摺動テーブル１２０のワーク戴置用第１領域１１０に未露光のワークが戴置されていない場合（Ｓ２：Ｙｅｓ）は、制御部４１０は第１ローダ３１０に未露光ワークをワーク戴置用第１領域１１０内にロードするように命令を出力する（Ｓ３）。ワーク戴置用第１領域１１０に未露光のワークが戴置されている場合（Ｓ２：Ｎｏ）は、未露光のワークをロードする必要が無いのでステップＳ４に進み、制御部４１の命令により第１位置検出部２１０で、ワーク戴置用第１領域１１０における第１ワーク５１０の位置を検出する（Ｓ４）。その際には、例えば、ステージ上のステージアライメントマークと、ワーク上のワークアライメントマークを、ワーク用顕微鏡で検出するようにしてもよい。

ワーク戴置用第１領域１１０における第１ワーク５１０の位置が検出できたら、制御部４１０はＸＹＺチルト駆動部１５０に、摺動テーブル１２０を第１停止位置６１０から第２停止位置６１１まで摺動させる命令を出力し（Ｓ５）、摺動テーブル１２０上のワーク戴置用第１領域１１０が第２停止位置６１１の場合の投影光学系５０の直下部に達したら一時停止する命令を出力する（Ｓ６）。

摺動テーブル１２０が第２停止位置６１１で一時停止したら、第１停止位置６１０の摺動テーブル１２０のワーク戴置用第２領域１１１内に露光済みのワークがあるか否かを確認する（Ｓ７）。ワーク戴置用第２領域１１１内に露光済みのワークがある場合（Ｓ７：Ｙｅｓ）には、制御部４１０は第２ローダ３１１に対して、その露光済みワークをワーク戴置用第２領域１１１からアンロードし（Ｓ８）、未露光のワークをワーク戴置用第２領域１１１にロードするように命令を出力する（Ｓ９）。ワーク戴置用第２領域１１１内に露光済みのワークが無い場合（Ｓ７：Ｎｏ）には、ワークをアンロードする必要は無いのでステップＳ９に進んで未露光のワークをワーク戴置用第２領域１１１にロードする（Ｓ９）。

ステップＳ７の処理以降にワーク戴置用第２領域１１１内にワークをロードするのと同時に並行して、ワーク戴置用第１領域１１０内の位置検出済みの第１ワーク５１０に対しては、第２停止位置６１１でフォトマスク２０の所定パターンの投影露光による第１ワーク５１０上への転写が実施される（Ｓ１０）。その所定パターンの転写が終了すると、制御部４１０はＸＹＺチルト駆動部１５０に再度摺動させる命令を出力し（Ｓ１１）、摺動テーブル１２０が第１停止位置６１０に達したら一時停止する命令を出力する（Ｓ１２）。

摺動テーブル１２０が第１停止位置６１０で一時停止したら、第１停止位置６１０の摺動テーブル１２０のワーク戴置用第１領域１１０内に露光済みのワークがあるか否かを確認する（Ｓ１３）。ワーク戴置用第１領域１１０内に露光済みのワークがある場合（Ｓ１３：Ｙｅｓ）には、制御部４１０は第１ローダ３１０に対して、その露光済みワークをワーク戴置用第１領域１１０からアンロードするように命令を出力し（Ｓ１４）、ステップＳ１６に進んで未露光のワークの残りが無いか否かを確認する（Ｓ１６）。ワーク戴置用第１領域１１０内に露光済みのワークが無い場合（Ｓ１３：Ｎｏ）には、ワークをアンロードする必要は無いのでステップＳ１６に進んで未露光のワークの残りが無いか否かを確認する（Ｓ１６）。

ステップＳ１２以降の第１停止位置６１０の摺動テーブル１２０のワーク戴置用第１領域１１０内に露光済みのワークがあるか否かを確認するのと同時に並行して、ワーク戴置用第２領域１１１内の位置検出済みの第２ワーク５１１に対しては、第２停止位置６１１でフォトマスク２０の所定パターンの投影露光による第２ワーク５１１上への転写が実施され（Ｓ１５）、制御部４１０が未露光のワークの残りが無いか否かを確認する（Ｓ１６）。

未露光のワークの残りが無い場合には（Ｓ１６：Ｙｅｓ）、処理を終了し、未露光のワークの残りがある場合には（Ｓ１６：Ｎｏ）、ステップＳ１に戻ってワーク戴置用第１領域１１０が第１停止位置６１０に一時停止中であるか否かを確認（Ｓ１）し、以降の処理を繰り返す。

従って、本実施形態の投影露光装置１は、フォトマスク２０の所定パターンをワーク５１０、５１１上の所定位置に合わせて光源からの光で投影露光することでワーク５１０、５１１上に所定パターンを形成する投影露光装置１であって、ワーク５１０、５１１を載置する部位の最上面に、２個のワーク５１０、５１１が重ならないで同時に載置が可能なように２個の第１領域１１０及び第２領域１１１が形成されて交互に逆方向へ摺動及び各方向端部の所定の第１停止位置６１０及び第２停止位置６１１への一時停止が可能に構成された摺動テーブル１２０と、摺動テーブル１２０の各領域内へワーク５１０、５１１を各々個別にロード及びアンロードできる２個の第１ローダ３１０及び第２ローダ３１１と、摺動テーブル１２０が所定の第１停止位置６１０に一時停止した場合に、摺動テーブル１２０における第１領域１１０の直上部に、当該第１領域１１０内に載置されたワーク５１０又は５１１の戴置位置を検出するように配置された第１位置検出手段２１０と、摺動テーブル１２０が所定の第２停止位置６１１に一時停止した場合に、摺動テーブル１２０における第２領域１１１の直上部に、当該第２領域１１１内に載置されたワーク５１０又は５１１の戴置位置を検出するように配置された第２位置検出手段２１１と、摺動テーブル１２０が所定の第１停止位置６１０に一時停止した場合に、摺動テーブル１２０における第２領域１１１の直上部であって、当該第２領域１１１内に載置されたワーク５１０、５１１に投影露光でき、且つ、摺動テーブル１２０が所定の第２停止位置６１１に一時停止した場合に、摺動テーブル１２０における第１領域１１０の直上部であって、当該第１領域１１０内に載置されたワーク５１０、５１１に投影露光できるように配置された光源１０、フォトマスク２０及び投影光学系５０と、摺動テーブル１２０の摺動および各停止位置６１０、６１１での停止と、第１ローダ３１０による各領域内へのワーク５１０、５１１のロード及びアンロード、位置検出手段２１０，２１１による各領域内のワーク５１０、５１１の戴置位置の検出、光源１０、フォトマスク２０及び投影光学系５０による各領域内のワーク５１０、５１１への投影露光、の各処理を制御する制御部４１０と、を有し、制御部４１０が、第２領域１１１内に載置されたワーク５１１に対して光源１０、フォトマスク２０及び投影光学系５０により投影露光する時に、第１領域１１０内に載置されたワーク５１０の戴置位置を位置検出手段２１０で検出し、逆に第１領域１１０内に載置されたワーク５１０に対して光源１０、フォトマスク２０及び投影光学系５０により投影露光する時に、第２領域１１１内に載置されたワーク５１１の戴置位置を位置検出手段２１１で検出する並行処理を実施することができる。

また、本実施形態の投影露光装置１は、1個のワーク５１０又は５１１に対して、投影露光するパターンを複数ショットでステップ露光する露光装置であることができる。また、上記した各実施形態の投影露光装置１では、位置検出されたワーク５１０、５１１の位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、フォトマスク２０を縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段６０を含むことができ、及び／又は、位置検出されたワーク５１０、５１１の位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、フォトマスク２０を露光光に対して直交面から角度を変更するチルト駆動手段４０、７０を含むことができ、及び／又は、位置検出されたワーク５１０、５１１の位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、摺動テーブル１２０の下に配置されるステージを、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段１５０を含むことができ、及び／又は、位置検出されたワーク５１０、５１１の位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、投影光学系５０を、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含むことができる。

また、本実施形態の投影露光装置１１の投影露光方法は、フォトマスク２０の所定パターンをワーク５１０、５１１上の所定位置に合わせて光源１０からの光で投影露光することでワーク５１０、５１１上に所定パターンを形成し、ワーク５１０、５１１を載置する部位の最上面に、２個のワーク５１０、５１１が重ならないで同時に載置が可能なように２個の第１領域１１０及び第２領域１１１が形成されて交互に逆方向へ摺動及び各方向端部の所定の第１停止位置６１０及び第２停止位置６１１への一時停止が可能に構成された摺動テーブル１２０を有する投影露光装置１を用いる投影露光方法であって、（Ａ）摺動テーブル１２０を摺動させて所定の第１停止位置６１０に第１領域１１０一時停止させるステップと、（Ｂ）摺動テーブル１２０の第１領域１１０内にワーク５１０、５１１をロードさせるステップと、（Ｃ）第１領域１１０内のワーク５１０、５１１の戴置位置を検出するステップと、（Ｄ）摺動テーブル１２０を再摺動させて所定の第２停止位置６１１に第１領域１１０一時停止させるステップと、（Ｅ）第１領域１１０内のワーク５１０、５１１にフォトマスク２０上のパターンを投影露光するステップと、（Ｆ）摺動テーブル１２０の第２領域１１１内に投影露光が終了したワーク５１０、５１１がある場合には、（Ｅ）の投影露光処理と並行して、その第２領域１１１内から投影露光が終了したワーク５１０、５１１をアンロードするステップと、（Ｇ）前記（Ａ）〜（Ｆ）の所定の第１停止位置６１０の第１領域１１０と所定の第２停止位置６１１の第２領域１１１を入れ替えて次のサイクルの処理を行い、以降のサイクルについては、第１領域１１０と第２領域１１１を交互に入れ替えて実施するステップと、を有する。

以上のように第1実施形態では、投影光学系５０、第１位置検出部２１０、第２位置検出部２１１、第１ローダ３１０及び第２ローダ３１１は、第１又は第２の各停止位置で一時停止した場合に、ワーク戴置用第１又は第２の異なる領域上の異なるワークに対して、ワークのロード／アンロードと位置検出、又は、投影露光と、異なる処理を同時に並行実施することができる。従って、各処理を同じ場所で連続してシリーズに実施する従来の場合と比較して、本実施形態では並行処理が可能になることから処理時間を短縮することができる。

１ 投影露光装置１
１０ 光源部
２０ フォトマスク（レチクル）
３０ マスク用ＸＹθステージ
４０ マスク用チルトステージ
５０ 投影光学系
６０ マスク用ＸＹθステージ駆動部
７０ マスク用チルトステージ駆動部
１１０ ワーク戴置用第１領域
１１１ ワーク戴置用第２領域
１２０ ワーク用摺動テーブル
１４０ ワーク用ステージ基台
１５０ ＸＹＺチルト駆動部
２１０ 第１位置検出部
２１１ 第２位置検出部
３１０ 第１ローダ
３１１ 第２ローダ
４１０ 制御部
５１０ 第１ワーク
５１１ 第２ワーク
６１０ 第１停止位置
６１１ 第２停止位置

Claims (5)

1. フォトマスクの所定パターンをワーク上の所定位置に合わせて光源からの光で投影露光することで前記ワーク上に前記所定パターンを形成する投影露光装置であって、
   前記ワークを載置する部位の最上面に、２個のワークが重ならないで同時に載置が可能なように２個の第1領域及び第２領域が形成されて交互に逆方向へ摺動及び前記各方向端部の所定の第１停止位置及び第２停止位置への一時停止が可能に構成された摺動テーブルと、
   前記摺動テーブルの前記各領域内へ前記ワークを各々個別にロード及びアンロードできる２個の第１ローダと、
   前記摺動テーブルが前記所定の第１停止位置に一時停止した場合に、前記摺動テーブルにおける前記第1領域の直上部に、当該第１領域内に載置されたワークの戴置位置を検出するように配置された第１位置検出手段と、
   前記摺動テーブルが前記所定の第２停止位置に一時停止した場合に、前記摺動テーブルにおける前記第２領域の直上部に、当該第２領域内に載置されたワークの戴置位置を検出するように配置された第２位置検出手段と、
   前記摺動テーブルが前記所定の第１停止位置に一時停止した場合に、前記摺動テーブルにおける前記第２領域の直上部であって、当該第２領域内に載置された前記ワークに投影露光でき、且つ、前記摺動テーブルが前記所定の第２停止位置に一時停止した場合に、前記摺動テーブルにおける前記第１領域の直上部であって、当該第１領域内に載置された前記ワークに投影露光できるように配置された光源、フォトマスク及び投影光学系と、
   前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段と、
   前記摺動テーブルの摺動および各停止位置での停止と、第１ローダによる各領域内へのワークのロード及びアンロード、前記位置検出手段による各領域内のワークの戴置位置の検出、前記光源、フォトマスク及び投影光学系による各領域内のワークへ前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせての投影露光、の各処理を制御する制御部と、
   を有し、
   前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、フォトマスクを縦（Ｙ）、横（Ｘ）、高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段と、フォトマスクを露光光に対して直交面から角度を変更するチルト駆動手段とを含み、
   前記制御部が、前記第２領域内に載置されたワークに対して前記光源、フォトマスク及び投影光学系により投影露光する時に、前記第１領域内に載置されたワークの戴置位置を前記位置検出手段で検出し、逆に前記第１領域内に載置されたワークに対して前記光源、フォトマスク及び投影光学系により投影露光する時に、前記第２領域内に載置されたワークの戴置位置を前記位置検出手段で検出する並行処理を実施する
   ことを特徴とする投影露光装置。
2. 前記投影露光装置が、1個のワークに対して、投影露光するパターンを複数ショットでステップ露光する露光装置である
   請求項1に記載の投影露光装置。
3. 前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、前記摺動テーブルの下に配置されるステージを、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含む
   請求項１又は２に記載の投影露光装置。
4. 前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせる手段が、前記投影光学系を、縦（Ｙ）横（Ｘ）高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させる駆動手段を含む
   請求項１又は２に記載の投影露光装置。
5. フォトマスクの所定パターンをワーク上の所定位置に合わせて光源からの光で投影露光することで前記ワーク上に前記所定パターンを形成し、前記ワークを載置する部位の最上面に、２個のワークが重ならないで同時に載置が可能なように２個の第1領域及び第２領域が形成されて交互に逆方向へ摺動及び前記各方向端部の所定の第１停止位置及び第２停止位置への一時停止が可能に構成された摺動テーブルを有する投影露光装置を用いる投影露光方法であって、
   （Ａ）前記摺動テーブルを摺動させて前記所定の第１停止位置に前記第１領域一時停止させるステップと、
   （Ｂ）前記摺動テーブルの前記第１領域内に前記ワークをロードさせるステップと、
   （Ｃ）前記第１領域内の前記ワークの戴置位置を検出するステップと、
   （Ｄ）前記摺動テーブルを再摺動させて前記所定の第２停止位置に前記第１領域一時停止させるステップと、
   （Ｅ）前記第１領域内の前記ワークにフォトマスク上のパターンを、前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせて投影露光するステップと、
   （Ｆ）前記摺動テーブルの前記第２領域内に投影露光が終了した前記ワークがある場合には、前記（Ｅ）の投影露光処理と並行して、その第２領域内から投影露光が終了した前記ワークをアンロードするステップと、
   （Ｇ）前記（Ａ）〜（Ｆ）の前記所定の第１停止位置の前記第１領域と前記所定の第２停止位置の前記第２領域を入れ替えて次のサイクルの処理を行い、
   以降のサイクルについては、前記第１領域と前記第２領域を交互に入れ替えて実施するステップと、
   を有し、
   前記位置検出されたワークの位置に投影露光するパターンの位置を合わせて投影露光するステップでは、フォトマスクを縦（Ｙ）、横（Ｘ）、高さ（Ｚ）方向の少なくとも１方向に直線的に移動させることと、フォトマスクを露光光に対して直交面から角度を変更することを含む、
   ことを特徴とする投影露光方法。

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