JP4252935B2

JP4252935B2 - 基板処理装置

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Publication number: JP4252935B2
Application number: JP2004183919A
Authority: JP
Inventors: 剛秀山下; 清次中島
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2004-06-22
Filing date: 2004-06-22
Publication date: 2009-04-08
Anticipated expiration: 2024-06-22
Also published as: TWI268587B; KR101016468B1; TW200605290A; KR20060049418A; US20050279281A1; JP2006012912A

Description

本発明は，基板処理装置に関する。

例えば半導体デバイスの製造工程におけるフォトリソグラフィー工程は，通常塗布現像処理装置を用いて行われている。近年，この塗布現像処理装置については，例えばそのケーシング内に，基板を搬入出するためのローダ・アンローダ部と，基板に対する各種検査を行うための検査部と，レジスト塗布処理，現像処理及び熱処理等の複数種類の処理を行うための処理部と，当該処理部と露光装置との間で基板の受け渡しを行うためのインターフェイス部とを直列的に備えたものが提案されている（例えば，特許文献１参照。）。検査部には，複数の検査ユニットが配置され，処理部には，複数の処理ユニットが配置されている。また，かかる塗布現像処理装置には，例えばケーシング内において，各部間又はユニット間において基板を搬送する複数の基板搬送ユニットが設けられている。

ところで，上述した塗布現像処理装置内のユニットに不具合が生じ，メンテナンスを行う場合，作業員がケーシングの外壁に設けられた外壁パネルを取り外し，その部分からケーシング内のユニットにアクセスすることによって行われている。このとき，例えば基板搬送ユニットの稼動中に作業員がケーシング内に手や顔を入れると危険である。また，稼動中の基板搬送ユニットに対し一般の作業員がアクセスできるような装置設計は，塗布現像処理装置の安全基準上認められていない。

作業員の安全を確保するため，また装置の安全基準を満たすために，従来より塗布現像処理装置には，外壁パネルが外れると，ケーシング内全体の電源が落ちてケーシング内の総ての動作を停止させるインターロック機構が設けられている。したがって，メンテナンス時に作業員が外壁パネルを外すと，総ての基板搬送ユニット，処理ユニット及び検査ユニットが強制的に停止するようになっていた。

しかしながら，塗布現像処理装置内において例えば複数の基板を処理している最中に，装置全体の動作が停止してしまうと，装置内にある処理途中の総ての基板が不良品に成りかねない。このため，従来より塗布現像処理装置の作動中に何らかの不具合が発生した場合には，塗布現像処理装置内の複数の基板の処理が総て終了しロータ・アンローダ部に戻されるまで待って，その後に作業員が外壁パネルを外して，装置内のメンテナンスを行うようにしていた。このため，塗布現像処理装置内に不具合が生じてメンテナンスを行うときに，その都度基板がロータ・アンロータ部に戻さるまでの待ち時間とメンテナンス時間が掛かっていた。

また，塗布現像処理装置内の一部の破損であってもメンテナンスを行うには装置全体を停止させる必要があったため，装置の稼働率が落ちて，基板の生産効率が著しく低下していた。特に，上述したような検査ユニットが搭載された塗布現像処理装置においては，検査ユニットに関する不具合が生じ易く，メンテナンスの回数が多くなるので，生産効率の低下が顕著であった。また，塗布現像処理装置には，インターロック機構の解除キーが設けられているものもあるが，このインターロック機構を解除し稼動中の装置内にアクセスできる者は規則上所定の資格を有するものに限られており，一般の作業員がメンテナンスを行う場合には，上述したように装置全体を停止させるしかなかった。

以上のように，従来の塗布現像処理装置においては，メンテナンスの作業員の安全を確保する一方で，装置内の不具合に対する復旧に多大な時間を要し，装置稼動率が低下していた。

特開２００２-２６１０７号公報

本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，メンテナンスを行う作業員の安全を確保しつつ，装置稼動効率を上げることができる基板処理装置を提供することをその目的とする。

上記目的を達成するために，本発明は，基板を収容可能な基板用ユニットと当該基板用ユニットに対し基板を搬送する基板搬送ユニットをケーシング内に備えた基板処理装置であって，前記基板用ユニットに対向する位置に，ケーシングに対して取り外し自在に設けられた外壁パネルと，前記ケーシング内において，前記外壁パネルを取り外すことによりケーシングの外部に対して開放される前記基板用ユニットの配置された第１の空間と，それ以外の前記基板搬送ユニットの配置された第２の空間とを遮断可能な遮断機構と，前記遮断機構を作動させて前記第１の空間と第２の空間を遮断させるための遮断機構作動部材と，前記外壁パネルが外れたときに，前記基板搬送ユニットを含めた前記ケーシング内の全体の動作を停止するインターロック機構と，前記遮断機構により前記第１の空間と第２の空間が遮断されたときに，前記インターロック機構を無効にするインターロック無効機構と，を備えたことを特徴とする。

本発明によれば，例えばケーシング内の基板用ユニットに不具合が生じた場合に，遮断機構作動部材により遮断機構を作動させ，ケーシング内の基板用ユニットのある第１の空間と第２の空間を遮断することができる。これにより，作業員によって外壁パネルが外されたときに基板用ユニットのある第１の空間と基板搬送ユニットのあるそれ以外の第２の空間が遮断されているので，仮に基板搬送ユニットが稼動していていも作業員の安全が確保される。また，このとき作業員が稼動中の基板搬送ユニットに対しアクセスできる状態にないので，装置の安全基準も満たすことができる。一方，第１の空間と第２の空間が遮断されると，インターロック機構が無効になるので，例えば第２の空間にある基板搬送ユニットを稼動した状態で，外壁パネルを外して基板用ユニットのメンテナンスを行うことができる。したがって，例えば基板用ユニットに対しメンテナンスを行いながら，その他のケーシング内の動作を継続することができる。この結果，基板処理装置の稼働率を向上できる。

前記第１の空間と第２の空間との間には，仕切板が設けられ，前記仕切板には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬入出口が設けられ，前記遮断機構は，前記基板搬入出口を開閉するシャッタと，当該シャッタを駆動するシャッタ駆動部を備えていてもよい。かかる場合，シャッタ駆動部によりシャッタを駆動し，仕切板の基板搬入出口を閉鎖することによって，第１の空間と第２の空間を適正に遮断することができる。

前記第１の空間と第２の空間との間には，仕切板が設けられ，前記仕切板には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬入出口が設けられ，前記基板用ユニットは，第１の空間内に設けられた筺体に収容され，前記筺体における前記基板搬入出口に対向する位置には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬送口が設けられ，前記遮断機構は，前記筺体を移動し前記基板搬送口の位置をずらし当該筺体の壁面によって前記基板搬入出口を閉鎖できる筺体移動装置を備えていてもよい。なお，前記筺体移動装置は，前記筺体を回転させる回転装置を備えていてもよい。

前記遮断機構作動部材は，前記外壁パネルに設けられていてもよい。かかる場合，例えば作業員が遮断機構作動部材により遮断機構を作動させ，その後直ちに外壁パネルを取り外してメンテナンスを行うことができる。

前記遮断機構作動部材は，前記遮断機構を電気的又は機械的に作動できてもよい。かかる場合，遮断機構を作動させる際に，ソフトウェアを介することがないので，遮断機構の誤作動がなく，作業員の安全性をさらに上げることができる。

前記遮断機構作動部材は，押下することによって遮断機構を作動させるスイッチ部材であり，前記スイッチ部材は，前記遮断機構と電気的に連動していてもよい。

前記基板処理装置は，前記第１の空間と第２の空間とが遮断されたことを確認する遮断確認部材を備えていてもよい。また，前記インターロック無効機構は，前記遮断確認部材による確認に起因して前記インターロック機構を無効にしてもよい。かかる場合，第１の空間と第２の空間が確実に遮断されてからインターロック機構が無効になるので，第１の空間にアクセスする作業員の安全性がさらに向上される。

別の観点による本発明は，基板を収容可能な基板用ユニットと当該基板用ユニットに対し基板を搬送する基板搬送ユニットをケーシング内に備えた基板処理装置であって，前記基板搬送ユニットと前記基板用ユニットの間の基板搬送通路と，前記基板搬送通路の前記基板用ユニットを挟んだ反対側におけるケーシングの壁面に形成された開口部と，前記基板搬送通路と開口部を開閉自在であり，前記開口部を開放する時には，少なくともその前に前記基板搬送通路を閉鎖するシャッタと，前記開口部が開放されたときに，前記基板搬送ユニットを含めたケーシング内の全体の動作を停止させるインターロック機構と，前記シャッタにより前記基板搬送通路が閉鎖されたときに，前記インターロック機構を無効にするインターロック無効機構と，を備えたことを特徴とする。

本発明によれば，例えばケーシング内の基板用ユニットに不具合が生じた場合に，シャッタによりケーシングの開口部を開放することによって作業員が基板搬送ユニットに対し作業を行うことができる。この際，基板用ユニットと基板搬送ユニットとの間の基板搬送通路側が閉鎖されているので，基板搬送ユニットが基板用ユニットに対しアクセスできなくなる。したがって，基板用ユニットをメンテナンスする際の作業員の安全が確保される。また，作業員が稼動中の基板搬送ユニットに対しアクセスできないので，装置の安全基準も満たすことができる。一方，シャッタにより基板搬送通路が閉鎖されると，インターロック機構が無効になるので，例えば基板搬送ユニットを稼動させた状態で，作業員が基板用ユニットのメンテナンスを行うことができる。したがって，例えば基板用ユニットに対しメンテナンスを行いながら，その他のケーシング内の動作を継続することができる。この結果，基板処理装置の稼働率を向上できる。

前記シャッタは，前記基板用ユニットの左右の両側に，前記基板搬送通路側から開口部側に渡って前記基板用ユニットの周囲を囲むように配置され，前記基板用ユニットの周囲に沿ってスライドできてもよい。また，前記シャッタは，前記開口部側において左右の両側に開いて前記開口部を開放できてもよい。

前記基板用ユニットは，基板を検査するための検査ユニットであってもよい。かかる場合，検査ユニットに対しメンテナンスが行われる際に，作業員の安全を確保しつつ，基板搬送ユニットなどのケーシング内の他の部分の動作を継続することができる。それ故，比較的メンテナンス回数が多い検査ユニットが基板処理装置に搭載されている場合であっても，メンテナンスによる装置稼働率の低下を抑制できる。

前記ケーシング内には，ケーシング内に基板を搬入出するための搬入出部と，基板を検査する検査部と，基板を処理する処理部とが順に並べて設けられ，前記検査部には，前記検査ユニットと前記基板搬送ユニットが設けられ，前記検査部の基板搬送ユニットは，前記搬入出部と前記処理部との間の基板の搬送を行うことができてもよい。かかる場合，基板検査ユニットをメンテナンスしているときに，基板搬送ユニットにより例えば処理部から搬入出部に基板を搬送することができる。この結果，基板検査ユニットをメンテナンスしていても，他の部間の基板の搬送を継続することができ，例えば処理部で行われる基板の処理を継続し，その処理が終了した基板を搬入出部に戻すことができる。

本発明によれば，基板処理装置に対してメンテナンスを行う作業員の安全を確保しつつ，基板処理装置の稼動効率を向上できる。

以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる基板処理装置としての塗布現像処理装置１の構成の概略を示す斜視図であり，図２は，塗布現像処理装置１の構成の概略を示す横断面の説明図であり，図３は，塗布現像処理装置１の正面図であり，図４は，塗布現像処理装置１の背面図である。

塗布現像処理装置１は，図１に示すように全体が外壁であるケーシング１ａにより覆われており，塗布現像処理装置１内が閉鎖されている。塗布現像処理装置１のケーシング１ａ内には，図１及び図２に示すように例えば２５枚のウェハＷをカセットＰ単位で外部から塗布現像処理装置１に対して搬入出したり，カセットＰに対してウェハＷを搬入出したりする搬入出部としてのカセットステーション２と，ウェハＷを検査する検査部としての検査ステーション３と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理部としての処理ステーション４と，処理ステーション４に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイス部５とが各ブロックに分かれて直列的に並設されている。カセットステーション２，検査ステーション３，処理ステーション４及びインターフェイス部５の各ブロックにおけるケーシング１ａの側壁には，ブロック内をメンテナンスするための外壁パネル１０，１１，１２，１３がそれぞれ設けられている。外壁パネル１０〜１３は，ケーシング１ａに対して例えば磁石で接着されており，取り外し自在になっている。

カセットステーション２では，図２に示すようにカセット載置台２０上の所定の位置に，複数のカセットＰをＸ方向（図２中の上下方向）に沿って一列に載置できる。カセットステーション２には，搬送路２１上をＸ方向に向かって移動可能なウェハ搬送ユニット２２が設けられている。ウェハ搬送ユニット２２は，上下方向にも移動可能であり，カセットＰ内に上下方向に配列されたウェハＷに対して選択的にアクセスできる。ウェハ搬送ユニット２２は，鉛直方向の軸周りのθ方向に回転可能であり，後述する検査ステーション３側の受け渡し装置４１に対してもアクセスできる。

図２に示すようにカセットステーション２に隣接した検査ステーション３の中央部には，基板搬送ユニットとしてのウェハ搬送ユニット４０が設けられている。ウェハ搬送ユニット４０は，例えば前後に進退自在な搬送アーム４０ａを有し，搬送アーム４０ａ上にウェハＷを保持してウェハＷを搬送できる。搬送アーム４０ａは，θ方向に回転でき，ウェハＷを所定の方向に搬送できる。また，搬送アーム４０ａは，上下方向にも移動でき，高さ調節もできる。

例えばウェハ搬送ユニット４０のカセットステーション２側には，受け渡し装置４１が設けられている。ウェハ搬送ユニット４０は，受け渡し装置４１に対してアクセスでき，受け渡し装置４１を介してカセットステーション２側にウェハＷを搬送できる。ウェハ搬送ユニット４０は，処理ステーション４内の後述する第３の処理ユニット群Ｇ３に対しても直接ウェハＷを搬送できる。

ウェハ搬送ユニット４０のＸ方向側の両側であって，外壁パネル１１の近傍には，所定の検査ユニットを収容する略直方体形状の筺体４２，４３が設けられている。例えば検査ステーション３の正面側（図２中の下方向：Ｘ方向負方向側）の第１の筺体４２には，基板用ユニットとしての検査ユニット，例えば図３に示すようにウェハＷ上に形成された膜の厚みやパターンの線幅を測定する膜厚・線幅検査ユニット５０と，ウェハ表面上のマクロ欠陥を検出するマクロ欠陥検査ユニット５１が下から順に２段に収容されている。検査ステーション３の背面側（図２中の上方向：Ｘ方向正方向側）の第２の筺体４３には，例えば図４に示すように露光の重ね合わせのずれを検出する重ね合わせ検査ユニット５２が収容されている。各筺体４２，４３におけるウェハ搬送ユニット４０側の壁面には，図２に示すようにウェハＷを搬送するための搬送口４２ａ，４３ａが各ユニットに対してそれぞれ形成されている。

ウェハ搬送ユニット４０と第１の筺体４２との間には，図２に示すように検査ステーション３内の第１の筺体４２側の第１の空間Ｌとウェハ搬送ユニット４０側の第２の空間Ｋとを仕切る仕切板６０が設けられている。仕切板６０には，第１の筺体４２の搬送口４２ａに対向する位置に搬入出口６０ａが形成されている。搬入出口６０ａには，シャッタ６１が設けられている。シャッタ６１は，例えば図５に示すようにシャッタ駆動部としてのシリンダ６２によって昇降し，搬入出口６０ａを開閉できる。これにより，ウェハ搬送ユニット４０側の第２の空間Ｋと第１の筺体４２側の第１の空間Ｌを物理的に遮断することができる。なお，本実施の形態においては，シャッタ６１とシリンダ６２によって遮断機構が構成されている。

第２の筺体４３側も第１の筺体４２側と同様に，図２に示すようにウェハ搬送ユニット４０と第２の筺体４２との間に，第２の空間Ｋと第２の筺体４３側の第１の空間Ｌを仕切る仕切板６０が設けられている。仕切板６０には，第２の筺体４３の搬送口４３ａに対向する位置に搬入出口６０ａが形成されている，搬入出口６０ａには，シリンダ６２により昇降するシャッタ６１が設けられている。このシャッタ６１により，ウェハ搬送ユニット４０側の第２の空間Ｋと第２の筺体４３側の第１の空間Ｌを遮断することができる。

ウェハ搬送ユニット４０は，シャッタ６１が開いた状態の搬入出口６０ａと搬送口４２ａ又は搬送口４３ａを通じて検査ユニット５０〜５２に対しウェハＷを搬送できる。以上のようにウェハ搬送ユニット４０は，検査ユニット５０〜５２，第３の処理ユニット群Ｇ３及び受け渡し装置４１間においてウェハＷを搬送できる。

検査ステーション３に隣接した処理ステーション４は，図２に示すように複数の処理ユニットが多段に配置された，例えば５つの処理ユニット群Ｇ１〜Ｇ５を備えている。処理ステーション４のＸ方向負方向側には，検査ステーション３側から第１の処理ユニット群Ｇ１，第２の処理ユニット群Ｇ２が順に配置されている。処理ステーション４のＸ方向正方向側には，検査ステーション３側から第３の処理ユニット群Ｇ３，第４の処理ユニット群Ｇ４及び第５の処理ユニット群Ｇ５が順に配置されている。第３の処理ユニット群Ｇ３と第４の処理ユニット群Ｇ４の間には，第１のウェハ搬送ユニット８０が設けられている。第１のウェハ搬送ユニット８０は，第１の処理ユニット群Ｇ１，第３の処理ユニット群Ｇ３及び第４の処理ユニット群Ｇ４内の各処理ユニットに対してウェハＷを搬送できる。第４の処理ユニット群Ｇ４と第５の処理ユニット群Ｇ５の間には，第２のウェハ搬送ユニット８１が設けられている。第２のウェハ搬送ユニット８１は，第２の処理ユニット群Ｇ２，第４の処理ユニット群Ｇ４及び第５の処理ユニット群Ｇ５内の各処理ユニットに対してウェハＷを搬送できる。

図３に示すように第１の処理ユニット群Ｇ１には，ウェハＷに所定の液体を供給して処理を行う液処理ユニット，例えばウェハＷにレジスト液を塗布するレジスト塗布ユニット９０，９１，９２，露光処理時の光の反射を防止する反射防止膜を形成するボトムコーティングユニット９３，９４が下から順に５段に重ねられている。第２の処理ユニット群Ｇ２には，液処理ユニット，例えばウェハＷを現像する現像処理ユニット１００〜１０４が下から順に５段に重ねられている。また，第１の処理ユニット群Ｇ１及び第２の処理ユニット群Ｇ２の最下段には，各処理ユニット群Ｇ１及びＧ２内の各液処理ユニットに各種処理液を供給するためのケミカル室１１０，１１１がそれぞれ設けられている。

例えば図４に示すように第３の処理ユニット群Ｇ３には，温調ユニット１２０，ウェハＷの受け渡しを行うためのトランジションユニット１２１，精度の高い温度管理下でウェハＷを加熱処理する高精度温調ユニット１２２〜１２４及びウェハＷを高温で加熱処理する高温度熱処理ユニット１２５〜１２８が下から順に９段に重ねられている。

第４の処理ユニット群Ｇ４には，例えば高精度温調ユニット１３０，レジスト塗布処理後のウェハＷを加熱処理するプリベーキングユニット１３１〜１３４及び現像処理後のウェハＷを加熱処理するポストベーキングユニット１３５〜１３９が下から順に１０段に重ねられている。

第５の処理ユニット群Ｇ５には，ウェハＷを熱処理する複数の熱処理ユニット，例えば高精度温調ユニット１４０〜１４３，露光後のウェハＷを加熱処理するポストエクスポージャーベーキングユニット１４４〜１４９が下から順に１０段に重ねられている。

図２に示すように第１のウェハ搬送ユニット８０のＸ方向正方向側には，複数の処理ユニットが配置されており，例えば図４に示すようにウェハＷを疎水化処理するためのアドヒージョンユニット１５０，１５１，ウェハＷを加熱する加熱ユニット１５２，１５３が下から順に４段に重ねられている。図２に示すように第２の搬送ユニット５１のＸ方向正方向側には，例えばウェハＷのエッジ部のみを選択的に露光する周辺露光ユニット１５４が配置されている。

インターフェイス部５には，例えば図２に示すようにＸ方向に向けて延伸する搬送路１６０上を移動するウェハ搬送ユニット１６１と，バッファカセット１６２が設けられている。ウェハ搬送ユニット１６１は，Ｚ方向に移動可能でかつθ方向にも回転可能であり，インターフェイス部５に隣接した図示しない露光装置と，バッファカセット１６２及び第５の処理ユニット群Ｇ５に対してアクセスしてウェハＷを搬送できる。

塗布現像処置装置１には，外壁パネル１０〜１３のいずれか一つが外れたときに例えばウェハ搬送ユニット２２，４０，８０，８１，１６１を初めとするケーシング１ａ内の総ての動作を強制的に停止させるインターロック機構Ｉが設けられている。このインターロック機構Ｉは，例えば外壁パネル１０〜１３がケーシング１ａに接着しているときに通電する回路がいずれかの外壁パネル１０〜１３が外れることによって断線し，その断線によってケーシング１ａ内への給電を停止させて，ケーシング１ａ内の動作を停止させるものである。このインターロック機構Ｉによって，塗布現像処理システム１に対しメンテナンスを行う作業員の安全が確保されている。

例えば塗布現像処理装置１における検査ステーション３の外壁パネル１１には，図１及び図２に示すようにシャッタ６１を作動させるための遮断機構作動部材としてのスイッチ部材１７０が設けられている。スイッチ部材１７０は，例えばシリンダ６２に対して電気的に接続されており，スイッチ部材１７０を押下することによってシリンダ６２に給電されシリンダ６２が駆動してシャッタ６１が作動するようになっている。

例えば図５に示すように仕切板６０の搬入出口６０ａには，シャッタ６１が降りると自動的に押圧される遮断確認部材としての確認ボタン１８０が取り付けられている。確認ボタン１８０は，例えば検査ステーション３の外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉを無効にするインターロック無効機構Ｒ（図２に示す）に接続されている。インターロック無効機構Ｒは，確認ボタン１８０が押されると，例えばインターロック機構Ｉに繋がる特定回路を形成し，当該特定回路の作用によってインターロック機構Ｉを無効にすることができる。したがって，スイッチ部材１７０が押され，シャッタ６１が閉じた後に，外壁パネル１１を取り外しても，インターロック機構Ｉが無効になっており，外壁パネル１１の取り外しにより開放される第１の空間Ｌ以外のケーシング１ａ内の領域では，ウェハ搬送ユニット４０を初めとする駆動機構の作動が継続される。

塗布現像処理装置１におけるウェハＷの搬送制御は，例えば処理ステーション４で処理されたウェハＷを検査ステーション３において検査し，その後カセットステーション２に戻すフローと，処理ステーション４で処理されたウェハＷを検査せずに検査ステーション３を通過させてカセットステーション２に戻すフローと，カセットステーション２のウェハＷを検査ステーション３で検査させ，その後カセットステーション２に戻すフローとを各ウェハ毎に独立に実行できるように設定されている。

以上のように構成された塗布現像処理装置１においては，先ず，図２に示すようにウェハ搬送ユニット２２によって，カセット載置台２０上のカセットＰ内のウェハＷが一枚取り出され，検査ステーション３の受け渡し装置４１に受け渡される。受け渡し装置４１に受け渡されたウェハＷは，ウェハ搬送ユニット４０によって処理ステーション４の第３の処理ユニット群Ｇ３に属する温調ユニット１２０に搬送される。温調ユニット１２０に搬送されたウェハＷは，温度調節された後，第１のウェハ搬送ユニット８０によって例えばボトムコーティングユニット９３に搬送され，反射防止膜が形成され，さらに，加熱処理ユニット１５２，高温度熱処理ユニット１２５，高精度温調ユニット１３０に順次搬送され，各処理ユニットにおいて所定の処理が施される。その後ウェハＷは，第１のウェハ搬送ユニット８０によってレジスト塗布ユニット９０に搬送され，レジスト塗布処理が施される。

レジスト塗布処理が終了すると，ウェハＷは，第１のウェハ搬送ユニット８０によってプリベーキングユニット１３１に搬送され，加熱処理が施された後，第２のウェハ搬送ユニット８１によって周辺露光ユニット１５４，高精度温調ユニット１４３に順次搬送され，各ユニットにおいて所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，ウェハ搬送ユニット１６１によってインターフェイス部５を介して図示しない露光装置に搬送され，レジスト膜に所定のパターンが露光される。露光処理の終了したウェハＷは，再びインターフェイス部５を介して処理ステーション４に戻され，第２のウェハ搬送ユニット８１によってポストエクスポージャーベーキングユニット１４４，高精度温調ユニット１４１に順次搬送され，所定の処理が施された後，現像処理ユニット１００に搬送されて現像処理が施される。

現像処理の終了したウェハＷは，第２のウェハ搬送ユニット８１によってポストベーキングユニット１３５に搬送され加熱処理が施された後，第１のウェハ搬送ユニット８０によって高精度温調ユニット１２２に搬送され冷却処理が施される。その後，ウェハＷは，第１のウェハ搬送ユニット８０によってトランジションユニット１２０に搬送される。トランジションユニット１２０に搬送されたウェハＷは，ウェハ搬送ユニット４０によって検査ステーション３の第１の筺体４２内の膜厚・線幅検査ユニット５０，マクロ欠陥検査ユニット５１に順次搬送され，所定の検査や測定が行われる。その後ウェハＷは，ウェハ搬送ユニット４０によって第２の筺体４３内の重ね合わせ検査ユニット５２に搬送されて，露光の重ね合わせずれが検査される。

検査ステーション３において検査が終了したウェハＷは，ウェハ搬送ユニット４０によって受け渡し装置４１に受け渡され，受け渡し装置４１からウェハ搬送ユニット２２によってカセットＰに戻されて，塗布現像処理装置１における一連のウェハ処理が終了する。

次に，以上のように構成された塗布現像処理装置１において，検査ステーション３内の検査ユニットに対してメンテナンスを行う際の塗布現像処理装置１の作用について説明する。

ウェハＷの処理中のように塗布現像処理装置１の通常の稼動中は，インターロック機構Ｉが有効になっている。したがって，外壁パネル１０〜１３のいずれかが外れると，塗布現像処理装置１の全体の電源が落ちて総ての動作が停止する。そして，例えば膜厚・線幅検査ユニット５０に不具合が生じ，膜厚・線幅検査ユニット５０が緊急停止して，作業員が膜厚・線幅検査ユニット５０に対してメンテナンスを行う場合には，先ず，作業員により外壁パネル１１のスイッチ部材１７０が押される。スイッチ部材１７０が押されると，シリンダ６２に給電されシャッタ６１が稼動する。これによりシャッタ６１が下降し搬入出口６０ａが閉鎖され，膜厚・線幅検査ユニット５０のある第１の空間Ｌとそれ以外のウェハ搬送ユニット４０のある第２の空間Ｋが遮断される。

シャッタ６１が下降し確認ボタン１８０が押されると，インターロック無効機構Ｒによって外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉが自動的に無効にされる。作業員によってスイッチ部材１７０が押された後，外壁パネル１１が外され，第１の空間Ｌ内の膜厚・線幅検査ユニット５０に対するメンテナンスが行われる。この間，第１の空間Ｌ以外の領域，つまり，カセットステーション２，処理ステーション４，インターフェイス部５及び検査ステーション３の第２の空間Ｋでは，インターロック機構Ｉが無効になっているので，各ウェハ搬送ユニットや処理ユニットなどの駆動機構の動作が継続される。例えば，処理ステーション３で処理されているウェハＷは，そのまま処理が継続され，処理終了後には，ウェハ搬送ユニット４０によって検査ステーション３を経由してカセットステーション２に戻される。また，カセットステーション２の未処理のウェハＷがウェハ搬送ユニット４０によって処理ステーション４側に搬送され，通常のウェハ処理が行われた後，再びカセットステーション２に戻される。なお，マクロ欠陥検査ユニット５１や重ね合わせ検査ユニット５２に不具合が生じたときにも，同様にメンテナンスを行うことができる。

以上の実施の形態によれば，検査ステーション３においてスイッチ部材１７０を押すことにより，仕切板６０のシャッタ６１が閉じて，メンテナンスされる検査ユニット５０〜５２のある第１の空間Ｌとウェハ搬送ユニット４０のある第２の空間Ｋとが完全に遮断されるので，検査ユニット５０〜５２にアクセスする作業員の安全を確保できる。また，作業員が稼動中のウェハ搬送ユニット４０に対しアクセスできる状態にないので，装置の安全基準も満たすことができる。

シャッタ６１が閉じて，ウェハ搬送ユニット４０側の第２の空間Ｋと検査ユニット５０〜５２側の第１の空間Ｌが遮断されたときに，第１の空間Ｌを開放する外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉが自動的に無効になるので，作業員が外壁パネル１１を外しても，塗布現像処理装置１内のウェハ搬送やウェハ処理を継続できる。したがって，検査ユニット５０〜５２をメンテナンスする際に，塗布現像処理装置１の動作が継続され，塗布現像処理装置１の稼働率を向上できる。

外壁パネル１１には，シャッタ６１に電気的に連動するスイッチ部材１７０が設けられたので，外壁パネル１１を外す前に作業員がスイッチ部材１７０を押すことによりシャッタ６１が降りて，メンテナンスを行う第１の空間Ｌとそれ以外の空間とを確実に遮断できる。特に，ソフトウェアを介することなくシャッタ６１とスイッチ部材１７０が電気的に連動するので，シャッタ６１の誤作動がなく，作業員の安全を確保できる。

仕切板６０の搬入出口６０ａには，確認ボタン１８０が設けられ，実際にシャッタ６１が降りた場合にのみインターロック機構Ｉが無効になるので，ウェハ搬送ユニット４０が稼動しさらにシャッタ６１が開いた状態で，作業員により外壁パネル１１が外されることがなく，作業員の安全が十分に確保される。

検査ユニット５０〜５２にアクセスするための外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉを無効にできるようにしたので，比較的メンテナンス回数が多い検査ユニット５０〜５２を塗布現像処理装置１に搭載した場合であっても，メンテナンスによる塗布現像処理装置１の稼働率の低下を抑制できる。

検査ステーション３のウェハ搬送ユニット４０は，隣接するカセットステーション２と処理ステーション４間のウェハＷの搬送を行うことができるので，例えば検査ユニット５０〜５２のメンテナンスを行っているときに，処理ステーション４側にあるウェハＷをカセットステーション２に戻したり，カセットステーション２のウェハＷを処理ステーション４側に搬送することができる。これにより，検査ユニット５０〜５２のメンテナンス時においても，塗布現像処理装置１において例えば通常のウェハ処理を継続することができる。

以上の実施の形態では，外壁パネル１１には，シャッタ６１を電気的に作動させるスイッチ部材１７０が設けられたが，シャッタ６１を機械的に作動させる部材，例えば図６に示すようなハンドル２００を設けてもよい。かかる場合，作業員によりハンドル２００が所定方向に回転することによって，例えば図示しない連動機構を介してシャッタ６１が閉じられる。この場合も，シャッタ６１の開閉がソフトウェアを介さずに行われるので，シャッタ６１の誤作動がなく，作業員の安全が確保される。なお，シャッタ６１を機械的に作動させる部材は，ハンドル２００に限られない。例えば外壁パネル１１にラッチが設けられる場合には，当該ラッチの留め外しによってシャッタ６１を作動させてもよい。

上記実施の形態では，筐体４２内に２つの検査ユニット５０，５１が収容されていたが，例えば図７に示すように第２の空間Ｌが水平仕切板２０５によって上下２段の第３の空間Ｌ１及び第４の空間Ｌ２に区画され，各空間Ｌ１，Ｌ２に各筐体２０６，２０７が配置され，さらに第３の空間Ｌ１の筐体２０６に検査ユニット５０が収容され，第４の空間Ｌ２の筐体２０７に検査ユニット５１が収容されるようにしてもよい。かかる場合，例えば外壁パネル１１は，各空間Ｌ１，Ｌ２毎に形成され，仕切板６０の搬入出口６０ａも各空間Ｌ１，Ｌ２毎に形成される。各外壁パネル１１には，上記実施の形態と同様にスイッチ部材１７０がそれぞれ設けられ，搬入出口６０ａにも，シャッタ６１，シリンダ６２からなる遮断機構と確認ボタン１８０がそれぞれ設けられる。

そして，例えば筐体２０６内の検査ユニット５０のメンテナンスを行う際には，第３の空間Ｌ１側のスイッチ部材１７０を押すことによって第３の空間Ｌ１側の搬入出口６０ａのみが閉鎖され，第３の空間Ｌ１側の外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉのみが無効になる。これにより，作業員は，第３の空間Ｌ１側の外壁パネル１１を取り外して検査ユニット５０のメンテナンスを行うことができる。また，このとき第４の空間Ｌ２側の搬入出口６０ａは解放されているので，ウェハ搬送ユニット４０は，検査ユニット５１に対してウェハＷを搬送し，検査ユニット５１における検査を継続できる。なお，かかる例では，第２の空間Ｌが上下の２段に区画されていたが，例えば検査ユニットが３以上の複数ある場合には，検査ユニットの数の分だけ第２の空間Ｌを区画し，当該各空間に，検査ユニットを収容した筺体をそれぞれ配置して，各検査ユニット毎に独立してメンテナンスをできるようにしてもよい。

以上の実施の形態では，仕切板６０のシャッタ６１によって搬入出口６０ａを閉鎖し，ウェハ搬送ユニット４０側の第２の空間Ｋと検査ユニット側の第１の空間Ｌとを遮断していたが，検査ユニット５０〜５２を収容した筺体４２，４３を移動させ，搬送口４２ａ，４３ａを仕切板６０の搬入出口６０ａに対してずらし，筺体４２，４３の壁面によって搬入出口６０ａを閉鎖してもよい。

かかる場合，例えば図８に示すように検査ステーション３の第１の空間Ｌ内には，Ｘ，Ｙ方向に水平に移動するＸ-Ｙステージ２１０が設けられる。例えばＸ-Ｙステージ２１０の上には，垂直軸周りに回転する回転装置としての回転テーブル２１１が設けられる。そして，回転テーブル２１１の上に例えば第１の筺体４２が設けられる。これにより，第１の筺体４２は，第１の空間Ｌ内において，Ｘ方向，Ｙ方向に移動自在でかつθ方向に回転できる。

Ｘ-Ｙステージ２１０及び回転テーブル２１１は，例えばスイッチ部材１７０に電気的に連動しており，スイッチ部材１７０が押されることによって，Ｘ-Ｙステージ２１０はＸ-Ｙ面内の所定の位置に移動し，回転テーブル２１１は所定角度回転する。これにより，第１の筺体４２は，スイッチ部材１７０が押されると，第１の筺体４２の壁面によって搬入出口６０ａが閉鎖されるような所定の位置に自動的に移動できる。なお，第２の筺体４３に対しても同様にＸ-Ｙステージ２１０と回転テーブル２１１が設けられ，スイッチ部材１７０が押されることによって所定の位置に移動し，搬入出口６０ａを閉鎖できる。本実施の形態では，Ｘ-Ｙステージ２１０及び回転テーブル２１０により筺体移動装置が構成されている。また，Ｘ-Ｙステージ２１０，回転テーブル２１０及び筺体４２，４３によって遮断機構が構成されている。

また，例えば仕切板６０の第１の空間Ｌ側の壁面には，筺体４２，４３の壁面によって搬入出口６０ａが閉鎖されたときに押される確認ボタン１８０が設けられる。筺体４２，４３の壁面によって確認ボタン１８０が押されると，インターロック無効機構Ｒにより外壁パネル１１に対するインターロック機構Ｉを無効にできる。

そして，例えば第１の筺体４２内の検査ユニット５０，５１のメンテナンスを行う際には，作業員によりスイッチ部材１７０が押されると，スイッチ部材１７０と電気的に連動したＸ-Ｙステージ２１０と回転テーブル２１１が作動し，第１の筺体４２の壁面によって搬入出口６０ａが閉鎖されるように第１の筺体４２が移動する。例えば，図９に示すように第１の筺体４２が９０°回転し，搬送口４２ａのない側壁面を搬入出口６０ａ側に向ける。その後，第１の筺体４２が搬入出口６０ａ側のＸ方向正方向側に移動し，第１の筺体４２の側壁面を搬入出口６０ａに密着させる。こうすることによって，搬入出口６０ａが閉鎖され，第１の空間Ｌと第２の空間Ｋが遮断される。第１の筺体４２の側壁面によって確認ボタン１８０が押され，インターロック機構Ｉが無効にされる。その後，作業員により外壁パネル１１が外され，第１の筺体４２内の検査ユニット５０，５１のメンテナンスが行われる。

かかる例においても，スイッチ部材１７０を押すことによって第１の空間Ｌと第２の空間Ｋが遮断されるので，作業員の安全が確保された上で，検査ユニット５０〜５２のメンテナンスを行うことができる。また，第１の空間Ｌと第２の空間Ｋの遮断後，インターロック機構Ｉが無効になるので，メンテナンスを行っている検査ユニット５０〜５２以外の領域でウェハ処理やウェハ搬送を継続することができる。

なお，上記例では，筺体４２，４３の側壁面によって搬入出口６０ａを閉鎖していたが，筺体４２，４３の他の部分の壁面によって搬入出口６０ａを閉鎖してもよい。例えば第１の筺体４２における搬送口４２ａの裏面側の壁面や，搬送口４２ａのない部分の正面側の壁面で搬入出口６０ａを閉鎖してもよい。この際，第１の筺体４２を１８０°回転させたり，Ｙ方向に移動させてもよい。また，第１の筺体４２の下部に昇降機構を設けて，第１の筺体４２を上下動させることによって，搬入出口６０ａと搬送口４２ａの位置をずらして搬入出口６０ａを閉鎖してもよい。

また，上記実施の形態では，第１の空間Ｌ内にＸ-Ｙステージ２１０と回転テーブル２１１の両方が設けられていたが，筺体４２，４３を移動させ当該筐体４２，４３の一部で搬入出口６０ａを閉鎖できるものであれば，Ｘ-Ｙステージ２１０と回転テーブル２１１のいずれか一方が設けられてもよい。

また，上記図７に示したように第２の空間Ｌが上下２段の空間Ｌ１，Ｌ２に区画され，各空間Ｌ１，Ｌ２に筐体と検査ユニットが設けられている場合にも，各空間の各筺体毎にＸ-Ｙステージ２１０や回転テーブル２１１を設けて，各空間において筺体を移動させ筐体の一部で搬入出口６０ａを閉鎖できるようにしてもよい。

上記実施の形態で記載した仕切板６０には，筐体に対し一つの搬入出口６０ａが形成されていたが，筐体内の各ユニットに対し一つの搬入出口６０ａが形成され，当該各搬入出口６０ａに対しシャッタ，シャッタ駆動部，確認ボタンが設けられていてもよい。

以上の実施の形態では，メンテナンスの行われる第１の空間Ｌと，ウェハ搬送ユニット４０のある第２の空間Ｋを遮断していたが，メンテナンスの行われる第１の空間がそれ以外の第２の空間に対して遮断されていればよく，第２の空間の範囲は，ウェハ搬送ユニット４０のある空間以外の空間を含むものであってもよい。

前記実施の形態では，ウェハ搬送ユニット４０と検査ユニット５０〜５２との間に仕切板６０を設け，例えばシャッタ６１により第１の空間Ｌと第２の空間Ｋを遮断していたが，例えば図１０に示すように検査ユニット５０〜５２の周囲にスライド式のシャッタ２２０，２２１を設けて，検査ユニット５０〜５２とウェハ搬送ユニット４０との間のウェハ搬送通路Ｍとケーシング１ａの側壁に形成された開口部Ｎとを開閉するようにしてもよい。

例えばケーシング１ａの第１の筺体４２に対向する位置に，作業員が第１の空間Ｌにアクセスするための開口部Ｎが形成される。第１の筺体４２の左右（Ｙ方向）の両側には，開口部Ｎ側から第１の筺体４２の側方を通ってウェハ搬送通路Ｍ側まで達するスライド式のシャッタ２２０，２２１が配置される。シャッタ２２０，２２１は，第１の筺体４２の周囲に沿ってスライドできる。シャッタ２２０，２２１は，開口部Ｎ側において左右（Ｙ方向）に開くように配置されている。シャッタ２２０，２２１は，互いに連動して開口部Ｎ側に移動し開口部Ｎ側で互いに重なることによって，開口部Ｎを閉鎖し，ウェハ搬送ユニット４０側のウェハ搬送通路Ｈを開放できる。また，シャッタ２２０，２２１は，ウェハ搬送通路Ｈ側に移動しウェハ搬送通路Ｈ側で互いに重なることによって，開口部Ｎを開放し，ウェハ搬送通路Ｈを閉鎖できる。

シャッタ２２０，２２１は，開口部Ｎを開放する時には，少なくともその前にウェハ搬送通路Ｈを閉鎖しているように形成されている。つまり，開口部Ｎを閉鎖した状態のシャッタ２２０，２２１をウェハ搬送通路Ｈ側にずらしたときに，先ずウェハ搬送通路Ｈが閉鎖され，その後に開口部Ｎが開放されるような長さにシャッタ２２０，２２１が形成されている。

また，例えばシャッタ２２０には，シャッタ２２０とシャッタ２２１がウェハ搬送通路Ｈ側で重なってウェハ搬送通路Ｈが閉鎖されたときに押される確認ボタン２２２が設けられている。確認ボタン２２２は，例えばインターロック解除機構Ｒに電気的に連動しており，確認ボタン２２２が押されると自動的にインターロック機構Ｉが無効される。なお，このときのインターロック機構Ｉは，シャッタ２２０，２２１が開けられ，開口部Ｎが開放されたときにケーシング１ａ内全体の動作を停止させるものである。第２の筺体４３側については，第１の筺体４２側と同様の構成であるので，その説明を省略する。

そして，塗布現像処理装置１の通常の稼動時には，図１０に示したように開口部Ｎが閉鎖され，ウェハ搬送通路Ｈが開放されている。それ故，ウェハ搬送ユニット４０は，ウェハ搬送通路Ｈを通じて検査ユニット５０〜５２にアクセスできる。そして，作業員によって検査ユニット５０〜５２のメンテナンスが行われるときには，作業員によって，開口部Ｎ側においてシャッタ２２０，２２１が左右の両側に開かれる。このとき，図１１に示すように開口部Ｎ側においてシャッタ２２０とシャッタ２２１が重なって開口部Ｎが閉鎖された状態のときに，ウェハ搬送通路Ｈが閉鎖される。つまり，シャッタ２２０，２２１を開く過程において，一時的に開口部Ｎとウェハ搬送通路Ｈの両方が閉鎖される。そして，このときに例えばシャッタ２２０により確認ボタン２２２が押され，インターロック機構Ｉが無効にされる。その後，シャッタ２２０とシャッタ２２１がさらに開かれると，図１２に示すように開口部Ｎが開放される。開口部Ｎが開放された後，作業員によって検査ユニット５０〜５２のメンテナンスが行われる。

かかる例においても，検査ユニット５０〜５２に対して作業員がアクセス可能な状態になったときには，ウェハ搬送通路Ｈが閉鎖され，ウェハ搬送ユニット４０のある空間と検査ユニット５０〜５２のある空間が遮断されているので，作業員の安全が確保される。また，装置の安全基準も満たすことができる。作業員がメンテナンスする際に，インターロック機構Ｉが無効になるので，メンテナンス中であっても，塗布現像処理装置１を引き続き稼動し，ウェハ処理やウェハ搬送を継続することができる。なお，この例におけるシャッタ２２０，２２１は，スライド式のものであったが，これに限られず，開口部Ｎを開放する時には，少なくともその前にウェハ搬送通路Ｈを閉鎖しているものであれば，他の構成のものであってもよい。

以上，本発明の実施の形態の一例について説明したが，本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば本実施の形態では，メンテナンスの対象となる検査ステーション３には，膜厚・線幅検査ユニット５０，マクロ欠陥検査ユニット５１，重ね合わせ検査ユニット５２が配置されていたが，ウェハＷの膜厚測定のみを行う膜厚測定ユニットなどの他の検査ユニットが配置されていてもよい。また，以上の実施の形態では，メンテナンスの対象となる基板用ユニットが検査ユニット５０〜５２であったが，基板用ユニットは，ケーシング１ａ内の他のユニットであってもよい。例えば基板用ユニットは，処理ステーション４内の処理ユニットであってもよい。また，本発明は，塗布現像処理装置１に限られず，エッチング装置，絶縁膜や電極膜などの成膜装置，洗浄装置などの他の基板処理装置にも適用できる。さらに本発明は，半導体ウェハ以外に，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用基板，フォトマスク用のガラス基板等の他の基板の処理装置にも適用できる。

本発明は，基板処理装置に対する作業の安全性を確保しつつ，当該作業による基板処理装置の稼働率の低下を抑制する際に有用である。

本実施の形態にかかる塗布現像処理装置の概略を示す斜視図である。塗布現像処理装置の構成の概略を示す横断面の説明図である。図２の塗布現像処理装置の正面図である。図２の塗布現像処理装置の背面図である。仕切板の構成を示す説明図である。ハンドルを設けた外壁パネルを示す説明図である。第２の空間を上下２段に区画した場合の検査ステーション内の構成を示す縦断面の説明図である。Ｘ-Ｙステージと回転テーブルを設けた検査ステーション内の構成を示す横断面の説明図である。筺体が回転した状態を示す検査ステーションの横断面の説明図である。スライド式のシャッタを設けた検査ステーション内の構成を示す横断面の説明図である。ウェハ搬送経路と開口部の両方が閉鎖された状態を示す検査ステーションの横断面の説明図である。開口部が開放された状態を示す検査ステーションの横断面の説明図である。

符号の説明

１塗布現像処理装置
１ａケーシング
３検査ステーション
１１外壁パネル
４０ウェハ搬送ユニット
４２第１の筺体
５０〜５２検査ユニット
６０仕切板
６０ａ搬入出口
６１シャッタ
１７０スイッチ部材
Ｉインターロック機構
Ｒインターロック無効機構
Ｌ第１の空間
Ｋ第２の空間
Ｗウェハ

Claims

基板を収容可能な基板用ユニットと当該基板用ユニットに対し基板を搬送する基板搬送ユニットをケーシング内に備えた基板処理装置であって，
前記基板用ユニットに対向する位置に，ケーシングに対して取り外し自在に設けられた外壁パネルと，
前記ケーシング内において，前記外壁パネルを取り外すことによりケーシングの外部に対して開放される前記基板用ユニットの配置された第１の空間と，それ以外の前記基板搬送ユニットの配置された第２の空間とを遮断可能な遮断機構と，
前記遮断機構を作動させて前記第１の空間と第２の空間を遮断させるための遮断機構作動部材と，
前記外壁パネルが外れたときに，前記基板搬送ユニットを含めた前記ケーシング内の全体の動作を停止するインターロック機構と，
前記遮断機構により前記第１の空間と第２の空間が遮断されたときに，前記インターロック機構を無効にするインターロック無効機構と，を備えたことを特徴とする，基板処理装置。
前記第１の空間と第２の空間との間には，仕切板が設けられ，
前記仕切板には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬入出口が設けられ，
前記遮断機構は，前記基板搬入出口を開閉するシャッタと，当該シャッタを駆動するシャッタ駆動部を備えたことを特徴とする，請求項１に記載の基板処理装置。
前記第１の空間と第２の空間との間には，仕切板が設けられ，
前記仕切板には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬入出口が設けられ，
前記基板用ユニットは，第１の空間内に設けられた筺体に収容され，
前記筺体における前記基板搬入出口に対向する位置には，前記基板搬送ユニットが前記基板用ユニットに対して基板を搬送するための基板搬送口が設けられ，
前記遮断機構は，前記筺体を移動し前記基板搬送口の位置をずらし当該筺体の壁面によって前記基板搬入出口を閉鎖できる筺体移動装置を備えたことを特徴とする，請求項１に記載の基板処理装置。
前記筺体移動装置は，前記筺体を回転させる回転装置を備えたことを特徴とする，請求項３に記載の基板処理装置。
前記遮断機構作動部材は，前記外壁パネルに設けられていることを特徴とする，請求項１，２，３又は４のいずれかに記載の基板処理装置。
前記遮断機構作動部材は，前記遮断機構を電気的又は機械的に作動できることを特徴とする，請求項１，２，３，４又は５のいずれかに記載の基板処理装置。
前記遮断機構作動部材は，押下することによって遮断機構を作動させるスイッチ部材であり，
前記スイッチ部材は，前記遮断機構と電気的に連動していることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５又は６のいずれかに記載の基板処理装置。
前記第１の空間と第２の空間とが遮断されたことを確認する遮断確認部材を備えたことを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６又は７のいずれかに記載の基板処理装置。
前記インターロック無効機構は，前記遮断確認部材による確認に起因して前記インターロック機構を無効にしていることを特徴とする，請求項８に記載の基板処理装置。
基板を収容可能な基板用ユニットと当該基板用ユニットに対し基板を搬送する基板搬送ユニットをケーシング内に備えた基板処理装置であって，
前記基板搬送ユニットと前記基板用ユニットの間の基板搬送通路と，
前記基板搬送通路の前記基板用ユニットを挟んだ反対側におけるケーシングの壁面に形成された開口部と，
前記基板搬送通路と開口部を開閉自在であり，前記開口部を開放する時には，少なくともその前に前記基板搬送通路を閉鎖するシャッタと，
前記開口部が開放されたときに，前記基板搬送ユニットを含めたケーシング内の全体の動作を停止させるインターロック機構と，
前記シャッタにより前記基板搬送通路が閉鎖されたときに，前記インターロック機構を無効にするインターロック無効機構と，を備えたことを特徴とする，基板処理装置。
前記シャッタは，前記基板用ユニットの左右の両側に，前記基板搬送通路側から開口部側に渡って前記基板用ユニットの周囲を囲むように配置され，前記基板用ユニットの周囲に沿ってスライドできることを特徴とする，請求項１２に記載の基板処理装置。
前記シャッタは，前記開口部側において左右の両側に開いて前記開口部を開放できることを特徴とする，請求項１１に記載の基板処理装置。
前記基板用ユニットは，基板を検査するための検査ユニットであることを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１又は１２のいずれかに記載の基板処理装置。
前記ケーシング内には，ケーシング内に基板を搬入出するための搬入出部と，基板を検査する検査部と，基板を処理する処理部とが順に並べて設けられ，
前記検査部には，前記検査ユニットと前記基板搬送ユニットが設けられ，
前記検査部の基板搬送ユニットは，前記搬入出部と前記処理部との間の基板の搬送を行うことができることを特徴とする，請求項１３に記載の基板処理装置。