JP6007171B2 - 基板処理システム、基板搬送方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents
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Description
10 カセットステーション
11 処理ステーション
12 インターフェイスステーション
13 露光装置
20 カセット載置台
21 カセット載置板
22 搬送路
23 ウェハ搬送装置
30 下部反射防止膜形成装置
31 レジスト塗布装置
32 上部反射防止膜形成装置
33 現像処理装置
40 熱処理装置
41 アドヒージョン装置
42 周辺露光装置
70 ウェハ搬送機構
71、72 ウェハ検査装置
73、74 ウェハ載置部
80 ウェハ搬送機構
90 ウェハ搬送機構
300 制御部
W ウェハ
D ウェハ搬送領域
C カセット
Claims (18)
- 基板を処理する基板処理システムであって、
基板を処理する複数の処理装置が設けられた処理ステーションと、
前記処理ステーションと、前記基板処理システムの外部に設けられ、複数の露光ステージを備えた露光装置との間で基板を受け渡すインターフェイスステーションと、
基板表面の検査を行う複数の基板検査装置と、
前記処理ステーション内の各処理装置と前記基板検査装置との間で基板を搬送する基板搬送機構と、
前記露光装置から搬出された基板の露光処理の際に用いられた露光ステージを前記複数の露光ステージの中から特定し、前記露光処理後の基板を、前記特定された露光ステージと予め対応づけられた基板検査装置に搬送するように、前記基板搬送機構を制御する制御部と、を有することを特徴とする、基板処理システム。 - 前記制御部は、前記露光処理後の基板を、前記特定された露光ステージと予め対応づけられた処理装置を経由して前記基板検査装置に搬送するように前記基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項1に記載の基板処理システム。
- 複数の基板を一時的に保管する基板載置部を有し、
前記制御部は、前記基板検査装置が使用中で当該基板検査装置に基板を搬送できない場合に、当該基板検査装置に搬送できなかった基板を前記基板載置部に一時的に保管するように前記基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項1または2のいずれか一項に記載の基板処理システム。 - 前記制御部は、前記基板載置部で保管される基板の枚数が保管容量の上限に達し、前記基板検査装置に搬送できなかった基板を前記基板載置部に保管できない場合は、前記基板載置部に保管できなかった基板及び当該基板載置部に保管できなかった基板と同一のロットの基板の前記基板検査装置での検査を中止することを特徴とする、請求項3に記載の基板処理システム。
- 複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間で基板を搬送する他の基板搬送機構を備えたカセットステーションをさらに有し、
前記制御部は、前記基板検査装置での検査が中止された場合、検査が中止された基板及び当該基板と同一のロットの基板を、前記基板検査装置をバイパスして前記カセットに搬送するように、前記基板搬送機構及び前記他の基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項4に記載の基板処理システム。 - 複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間で基板を搬送する他の基板搬送機構を備えたカセットステーションをさらに有し、
前記制御部は、前記基板検査装置が異常により使用できない場合、当該基板検査装置に対して予め対応づけられた露光ステージで露光処理された基板及び当該基板と同一のロットの基板を、前記基板検査装置をバイパスして前記カセットに搬送するように、前記基板搬送機構及び前記他の基板搬送機構を制御することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理システム。 - 前記基板検査装置は、オーバレイ誤差を測定する測定装置であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 前記基板検査装置は、前記処理ステーション内に配置されていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の基板処理システム。
- 基板を処理する基板処理システムにおける基板の搬送方法であって、
前記基板処理システムは、
複数の処理装置が設けられた処理ステーションと、
前記処理ステーションと、前記基板処理システムの外部に設けられ、複数の露光ステージを備えた露光装置との間で基板を受け渡すインターフェイスステーションと、
基板表面の検査を行う複数の基板検査装置と、
前記処理ステーション内の各処理装置と前記基板検査装置との間で基板を搬送する基板搬送機構と、を有し、
前記基板の搬送方法は、前記露光装置から搬出された基板の露光処理の際に用いられた露光ステージを前記複数の露光ステージの中から特定し、前記露光処理後の基板を、前記特定された露光ステージに対して予め対応づけられた基板検査装置に搬送することを特徴とする、基板搬送方法。 - 前記露光処理後の基板を、前記特定された露光ステージと予め対応づけられた処理装置を経由して前記基板検査装置に搬送することを特徴とする、請求項9に記載の基板搬送方法。
- 前記基板処理システムは、複数の基板を一時的に保管する基板載置部を有し、
前記基板検査装置が使用中で当該基板検査装置に基板を搬送できない場合、当該基板検査装置に搬送できなかった基板を前記基板載置部に一時的に保管することを特徴とする、請求項9または10のいずれか一項に記載の基板搬送方法。 - 前記基板載置部で保管される基板の枚数が保管容量の上限に達し、前記基板検査装置に搬送できなかった基板を前記基板載置部に保管できない場合、前記基板載置部に保管できなかった基板及び当該基板載置部に保管できなかった基板と同一のロットの基板の前記基板検査装置での検査を中止することを特徴とする、請求項11に記載の基板搬送方法。
- 前記基板処理システムは、複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間で基板を搬送する他の基板搬送機構を備えたカセットステーションをさらに有し、
前記基板検査装置での検査が中止された場合、検査が中止された基板及び当該基板と同一のロットの基板を、前記基板検査装置をバイパスして前記カセットに搬送することを特徴とする、請求項12に記載の基板搬送方法。 - 前記基板処理システムは、複数枚の基板を収容するカセットを載置するカセット載置部と、前記処理ステーションと前記カセット載置部との間で基板を搬送する他の基板搬送機構を備えたカセットステーションをさらに有し、
前記基板検査装置が異常により使用できない場合、当該基板検査装置に対して予め対応づけられた露光ステージで露光処理された基板及び当該基板と同一のロットの基板を、前記基板検査装置をバイパスして前記カセットに搬送することを特徴とする、請求項9〜13のいずれか一項に記載の基板搬送方法。 - 前記基板検査装置は、オーバレイ誤差を測定する測定装置であることを特徴とする、請求項9〜14のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
- 前記基板検査装置は、前記処理ステーション内に配置されていることを特徴とする、請求項9〜15のいずれか一項に記載の基板搬送方法。
- 請求項9〜16のいずかに記載の基板搬送方法を基板処理システムによって実行させるように、当該基板処理システムを制御する制御装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
- 請求項17に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
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