JP5570464B2 - 浮上式塗布装置 - Google Patents
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
[他の実施形態または変形例]
12 噴出口
14 吸引口
18 長尺型レジストノズル
16L,16R 搬送部
26L,26R ガイドレール
28L,28R スライダ
30L,30R 保持部
32 昇降アクチエータ
34 昇降支持部材
36 パッド高さ調整部
40 パッド支持部材
42 吸着パッド
46 ダミーパッド(被測定部材)
48 監視部
50 測定部
51 モニタ演算処理部
Claims (12)
- 矩形の被処理基板を気体の圧力で浮かせる浮上ステージと、
前記浮上ステージ上で空中に浮く前記基板に対して搬送方向の左右片側または両側の基板縁部に下から吸着可能な吸着パッドを有する実質的にたわまない保持部と、
前記保持部を搭載し、前記保持部に保持される前記基板を前記浮上ステージ上で搬送する搬送部と、
前記浮上ステージの上方に配置される長尺型のノズルを有し、前記基板上に処理液の塗布膜を形成するために前記ノズルの下を通過する前記基板に向けて前記ノズルより処理液を供給する処理液供給部と、
前記吸着パッドで保持された前記基板が前記ノズルの直下を通過する際の前記吸着パッドの高さ位置のプロファイルを監視する監視部と、
前記搬送部上の前記吸着パッドの高さ位置を調整するためのパッド高さ調整部と
を有する浮上式塗布装置。 - 前記搬送部が、
前記ステージの左右片側または両側で搬送方向に延びるガイドレールと、
前記保持部を支持し、前記ガイドレールに沿って移動する板状または棒状のスライダと、
前記スライダを前記ガイドレールに沿って直進駆動する搬送駆動部と
を有する、請求項1に記載の浮上式塗布装置。 - 前記保持部が、前記スライダに昇降可能に結合される搬送方向に延びる棒状または板状の第1の支持部材と、前記第1の支持部材に前記パッド高さ調整部を介して結合される搬送方向に延びる棒状または板状の第2の支持部材とを有し、前記第2の支持部材に前記吸着パッド取り付ける、請求項2に記載の浮上式塗布装置。
- 前記保持部が、前記基板の左右片側または両側の基板縁部に対応させて、前記基板の全長に亘り前記第2の支持部材に前記吸着パッドを一列に複数並べて取り付ける、請求項3に記載の浮上式塗布装置。
- 前記パッド高さ調整部が、搬送方向に間隔を空けて前記第1の支持部材と前記第2の支持部材との間に取り付けられる複数の垂直精密ステージを有する、請求項4に記載の浮上式塗布装置。
- 前記保持部が、前記第1の支持部材を昇降駆動するために前記スライダに取り付けられるアクチエータを有する、請求項3〜5のいずれか一項に記載の浮上式塗布装置。
- 前記監視部は、
前記吸着パッドの代わりに高さ位置の測定を受けるために前記第2の支持部材に取り付けられる被測定部材と、
前記ノズルの吐出口に近接する所定の監視点にてそこを通過するときの前記被測定部材の高さ位置を光学的に測定する測定部と
を有する、請求項3〜6のいずれか一項に記載の浮上式塗布装置。 - 前記測定部は、前記吸着パッドの吸着面に対応する前記被測定部材の上面の高さ位置を測定する、請求項7に記載の浮上式塗布装置。
- 前記被測定部材は、前記吸着パッドと同じ形状および同じ材質を有し、前記吸着パッドから見て前記第2の支持部材の外側の面に前記吸着パッドと同じ数だけ取り付けられる、請求項8に記載の浮上式塗布装置。
- 各々の前記被測定部材は、前記第2の支持部材に取り付けられた状態で、その上面がそれと対向する前記吸着パッドの上面と面一になるように加工される、請求項9に記載の浮上式塗布装置。
- 前記監視部は、前記ノズルの吐出口に近接する所定の監視点にてそこを通過するときの前記第2の支持部材の上面の高さ位置を上方から光学的に測定する測定部を有する、請求項3〜6のいずれか一項に記載の浮上式塗布装置。
- 前記監視部は、前記ノズルの吐出口に近接する所定の監視点にてそこを通過するときの前記吸着パッドの吸着面以外の部位の高さ位置を上方または下方から光学的に測定する測定部を有する、請求項3〜6のいずれか一項に記載の浮上式塗布装置。
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