JP4673180B2 - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の塗布方法は、ステージ上に搬送方向に沿って、被処理基板を前記ステージに搬入するための搬入領域と、前記搬送方向に移動する基板上に上方の長尺形ノズルより処理液を供給して塗布膜を形成するための塗布領域と、塗布処理後の前記基板を前記ステージから搬出するための搬出領域とをこの順に一列に設け、前記ステージの上面より噴出する気体の圧力で前記基板を浮かせて、前記塗布領域では前記基板にほぼ均一な浮上力を与え、前記ノズル昇降部から独立して前記ステージと前記ノズルとの間の距離間隔を測定して、前記ノズルの取付位置精度を検査し、前記検査で前記ノズルの取付位置精度が正常であると判断したときは、前記基板を前記搬入領域から前記搬出領域まで搬送する途中、前記塗布領域で前記処理液を塗布される直前の前記基板について、前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを測定し、前記基板の厚みの測定値および前記浮上高さの測定値がそれぞれ所定の範囲内にあることを確認してから、前記基板に対する塗布処理を実行する。
そこで、上記第1の観点における塗布装置は、床に固定されている固定支持部材と前記ノズル支持体との間に取り付けられたリニアスケールを有し、第1の光学式距離センサの測定精度を検査するために、ノズル支持体の高さ位置を該リニアスケールを用いて測定する第2の測定部を備えている。固定支持部材が堅牢で床にしっかり固定されている限り、該リニアスケールの測定精度が狂うことは殆ど無いので、第2の測定部によりノズル支持体の高さ位置を正確に測定し、ひいては第1の光学式距離センサの測定精度を適確に管理することができる。
D=Le−Ld ・・・・(1)
Hb=Lb−Le ・・・・(2)
Za−Zd=La−(S+D+Hb) ・・・・(3)
[Lf]=Ld−(Za−Zd)
=Ld−La+(S+D+Hb) ・・・・(4)
75 ノズル昇降機構
76 ステージ
78 レジストノズル
84 基板搬送部
88 噴出口
90 吸引口
93 レジスト液供給源
100 搬送駆動部
102 保持部
104 吸着パッド
126 ステージ基板浮上部
134 ノズル支持体
162 光学式距離センサ
164 リニアスケール
166 接触式距離センサ
170 コントローラ
174 光学式距離センサ
M1 搬入領域
M3 塗布領域
M5 搬出領域
Claims (23)
- 被処理基板を気体の圧力で浮かせる第1の浮上領域を有するステージと、
浮上状態の前記基板を所定の搬送方向に搬送して前記第1の領域を通過させる基板搬送部と、
前記第1の浮上領域の上方に昇降可能に配置されるノズルを有し、前記第1の浮上領域を通過する前記基板上に処理液を塗布するために前記ノズルより前記処理液を吐出させる処理液供給部と、
前記ノズルを昇降移動させるために、前記ノズルを支持してこれと一体に昇降移動するノズル支持体を有するノズル昇降部と、
前記ステージまたは前記基板の上面との距離間隔を測定するために前記ノズル支持体に取り付けられた第1の光学式距離センサを有し、前記第1の浮上領域で前記処理液を塗布される直前の前記基板について、前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを前記第1の光学式距離センサを用いて測定する第1の測定部と、
床に固定されている固定支持部材と前記ノズル支持体との間に取り付けられたリニアスケールを有し、前記第1の光学式距離センサの測定精度を検査するために、前記ノズル支持体の高さ位置を前記リニアスケールを用いて測定する第2の測定部と
を有する塗布装置。 - 被処理基板を気体の圧力で浮かせる第1の浮上領域を有するステージと、
浮上状態の前記基板を所定の搬送方向に搬送して前記第1の領域を通過させる基板搬送部と、
前記第1の浮上領域の上方に昇降可能に配置されるノズルを有し、前記第1の浮上領域を通過する前記基板上に処理液を塗布するために前記ノズルより前記処理液を吐出させる処理液供給部と、
前記ノズルを昇降移動させるためのノズル昇降部と、
前記第1の浮上領域で前記処理液を塗布される直前の前記基板について、前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを測定する第1の測定部と、
前記ノズルの取付位置精度を検査するために、前記ノズル昇降部から独立して前記ステージと前記ノズルとの間の距離間隔を測定する第3の測定部と
を有する塗布装置。 - 前記第1の測定部より得られた前記基板の厚みの測定値および前記浮上高さの測定値がそれぞれ所定の範囲内にあることを確認してから、前記基板に対する塗布処理を実行する、請求項1または請求項2に記載の塗布装置。
- 前記基板の厚みの測定値および前記浮上高さの測定値がそれぞれ所定の範囲内にあることを確認した後に、前記ノズルの吐出口と前記基板の上面との間に塗布処理用のギャップを形成するために前記ノズル昇降部により前記ノズルを降ろし、前記第1の光学式距離センサにより前記基板の上面との距離間隔を測定して前記ギャップを確認する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 塗布処理中に、前記第1の光学式距離センサにより前記基板の上面との距離間隔を測定しながら、前記ノズル昇降部により前記ノズルの高さ位置を可変調整して、前記ギャップのサイズを設定値に保つ、請求項4に記載の塗布装置。
- 床に固定されている固定支持部材と前記ノズル支持体との間に取り付けられたリニアスケールを有し、前記第1の光学式距離センサの測定精度を検査するために、前記ノズル支持体の高さ位置を前記リニアスケールを用いて測定する第2の測定部を有する、請求項2に記載の塗布装置。
- 前記第1の光学式距離センサの測定精度に係る検査を行う前に予め測定治具を用いて前記ノズルを所定の基準高さ位置に実測で合わせたときに前記第1の光学式距離センサより得られる第1の測定値と前記第2の測定部より得られる第2の測定値とを記憶し、前記検査では前記測定治具を用いずに前記第2の測定部より前記第2の測定値が得られるときに前記第1の光学式距離センサより得られる測定値が前記第1の測定値に所定の許容範囲内で一致ないし近似するか否かを判定する、請求項1または請求項6に記載の塗布装置。
- 前記第1の光学式距離センサの測定精度に係る検査は、前記基板に対する前記第1の測定部の測定処理に先立って行われる、請求項6または請求項7に記載の塗布装置。
- 前記ノズルの取付位置精度を検査するために、前記ノズル昇降部から独立して前記ステージと前記ノズルとの間の距離間隔を測定する第3の測定部を有する、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記第3の測定部が、前記ステージ側に設けられ、前記ノズルの下端に触針を当てて距離を測定する接触式距離センサを有する、請求項2または請求項9に記載の塗布装置。
- 前記第3の測定部が、前記ステージ側に設けられ、前記ノズルの下端に光ビームを当てて距離を測定する第2の光学式距離センサを有する、請求項2または請求項9に記載の塗布装置。
- 前記ノズルの取付位置精度に係る検査は、前記基板に対する前記第1の測定部の測定処理に先立って行われる、請求項2または請求項9〜11のいずれか一項記載の塗布装置。
- 前記第1の測定部が、前記基板の厚みを測定するために前記ノズル支持体に取り付けられた第3の光学式距離センサを有する、請求項1〜12のいずれか一項記載の塗布装置。
- 前記第1の測定部が、前記基板の厚みを測定するために前記ステージ側に設けられた第4の光学式距離センサを有する、請求項1〜12のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第1の測定部が、前記ステージに対する前記基板の浮上高さを測定するために前記ステージ側に設けられた第5の光学式距離センサを有する、請求項1〜14のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記ステージの第1の浮上領域内に多数設けられた気体を噴出する噴出口と、
前記ステージの第1の浮上領域内に前記噴出口と混在して多数設けられた気体を吸い込む吸引口と、
前記第1の浮上領域を通過する前記基板に対して前記噴出口より加えられる垂直上向きの圧力と前記吸引口より加えられる垂直下向きの圧力とのバランスを制御する浮揚制御部と
を有する請求項1〜15のいずれか一項に記載の塗布装置。 - 前記ステージが、前記搬送方向において前記第1の浮上領域の上流側に前記基板を浮かせる第2の浮上領域を有する、請求項1〜16のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第2の浮上領域内に、前記基板を搬入するための搬入部が設けられる、請求項17に記載の塗布装置。
- 前記基板搬送部が、前記基板を前記第2の浮上領域から前記第1の浮上領域に向けて搬送し、前記基板上の前端部に設定された塗布開始位置が前記ノズルの直下に来たところで前記基板を一時停止させ、
前記第1の測定部が、一時停止中の前記基板について前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを測定する、
請求項17または請求項18に記載の塗布装置。 - 前記ステージが、前記搬送方向において前記第1の浮上領域の下流側に前記基板を浮かせる第3の浮上領域を有する、請求項1〜19のいずれか一項に記載の塗布装置。
- 前記第3の浮上領域内に、前記基板を搬出するための搬出部が設けられる、請求項20に記載の塗布装置。
- 前記基板搬送部が、
前記基板の移動する方向と平行に延びるように前記ステージの片側または両側に配置されるガイドレールと、
前記ガイドレールに沿って移動可能なスライダと、
前記スライダを前記ガイドレールに沿って移動するように駆動する搬送駆動部と、
前記スライダから前記ステージの中心部に向かって延在し、前記基板の側縁部を着脱可能に保持する保持部と
を有する、請求項1〜21のいずれか一項に記載の塗布装置。 - ステージ上に搬送方向に沿って、被処理基板を前記ステージに搬入するための搬入領域と、前記搬送方向に移動する基板上に上方の長尺形ノズルより処理液を供給して塗布膜を形成するための塗布領域と、塗布処理後の前記基板を前記ステージから搬出するための搬出領域とをこの順に一列に設け、
前記ステージの上面より噴出する気体の圧力で前記基板を浮かせて、前記塗布領域では前記基板にほぼ均一な浮上力を与え、
前記ノズル昇降部から独立して前記ステージと前記ノズルとの間の距離間隔を測定して、前記ノズルの取付位置精度を検査し、
前記検査で前記ノズルの取付位置精度が正常であると判断したときは、前記基板を前記搬入領域から前記搬出領域まで搬送する途中、前記塗布領域で前記処理液を塗布される直前の前記基板について、前記基板の厚みと前記ステージに対する前記基板の浮上高さとを測定し、
前記基板の厚みの測定値および前記浮上高さの測定値がそれぞれ所定の範囲内にあることを確認してから、前記基板に対する塗布処理を実行する、
塗布方法。
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