JP6333065B2 - 塗布装置 - Google Patents
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Description
R 塗布液
S 貯留部
P 流路
E 吐出口
1 塗布装置
21 ステージ
22 第1の移動機構
30 スリットノズル
31 第1壁部
32 第2壁部
33 蓋部
34 ランド部
35 第3壁部
50 ノズル高さ測定部
51 本体部
52 ヘッド部
53 光伝送路
61 第1リップ部
62 第2リップ部
100 制御装置
101 制御部
102 記憶部
211 凹部
212 貫通孔
511 光源
512 処理部
521 レンズ
Claims (5)
- 上面において基板を吸着保持するステージと、
前記ステージよりも上方に配置され、前記ステージとの対向面にスリット状の吐出口を有するスリットノズルと、
前記ステージに埋設され、前記ステージの上面よりも下方の測定位置から前記基板の下面までの距離および前記測定位置から前記スリットノズルまでの距離を測定する測定部と
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記ステージは、
前記基板を吸引するための複数の吸引口と、
貫通孔と
を備え、
前記測定部は、
光源を含む本体部と、
前記本体部と別体に設けられ、レンズを含むヘッド部と、
前記光源からの光を前記ヘッド部へ供給する光伝送路と
を備え、
前記本体部、前記ヘッド部および前記光伝送路のうち、前記ヘッド部が前記ステージに埋設され、前記測定位置から前記基板の下面までの距離および前記測定位置から前記スリットノズルまでの距離を前記貫通孔を介して測定すること
を特徴とする請求項1に記載の塗布装置。 - 上面に基板が載置されるステージと、
前記ステージよりも上方に配置され、前記ステージとの対向面にスリット状の吐出口を有するスリットノズルと、
前記ステージの上面を挟んで前記基板と反対側に配置され、所定の測定位置から前記基板の下面までの距離および前記測定位置から前記スリットノズルまでの距離を前記ステージを介して測定する測定部と、
前記測定部から測定される前記測定位置から前記基板の下面までの距離および前記測定位置から前記スリットノズルまでの距離に基づき、前記ステージの上面から前記スリットノズルの下面までの距離を算出する処理を行う制御部と
を備えることを特徴とする塗布装置。 - 前記ステージと前記測定部とを前記スリットノズルに対して相対的に水平移動させる移動機構
を備え、
前記制御部は、
前記移動機構による水平移動中に前記測定部によって測定される値に基づき、前記測定位置から前記スリットノズルまでの距離を決定すること
を特徴とする請求項3に記載の塗布装置。 - 前記スリットノズルは、
前記吐出口を形成する第1リップ部と第2リップ部とを有し、
前記測定部は、
前記第1リップ部および前記第2リップ部の下面の幅よりも小さい光軸径を有すること
を特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の塗布装置。
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